JPH0712744A - 異物検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペリクル表面の平面度を測定する手段を設け
て、表面のへこみやふくらみが許容範囲を超えるペリク
ルの異物検査を回避することのできるような異物検査装
置を提供することを目的とする。 【構成】 本発明は、レチクルにフレームを介して装着
されたペリクルの表面上に付着した異物を検査する異物
検査装置において、ペリクル表面の平面度を測定するた
めの平面度測定手段を備えていることを特徴とする。平
面度測定手段は、共焦点型の光学系と、ペリクル表面と
光学的に共役な位置に設けられた遮光手段１０と、該遮
光手段１０を通過した光を受光するための受光手段１１
とを備え、ペリクル表面１００からの戻り光の光量に基
づいてペリクル表面の平面度を測定することを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は異物検査装置に関し、特
に半導体露光工程に用いられるレチクルやマスク（以
下、「レチクル」と総称する）に異物付着防止のために
フレームを介して装着される薄膜（以下、「ペリクル」
と総称する）の表面上に付着した異物を検査する装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体露光工程において、レチクルやペ
リクル等に塵埃等の異物が付着することがあり、これら
の付着した異物がウェハ上に転写され、製造されるウェ
ハの欠陥の原因となることがある。このため、回路パタ
ーンを有する被検査物の表面に付着した異物を光学的に
検査する装置が提案されている（例えば、特公昭第６３
−６４７３８号公報等）。

【０００３】前記提案された従来の装置では、被検査物
の表面に光ビームを斜めに入射し、表面と光ビームとを
相対的に移動することによって、被検査物の表面上を光
ビームで二次元的に走査可能となる。被検査面からの反
射光を複数の光電手段（フォトマルチプライヤー等）に
よって受光し、光電手段からの各光電信号に基づいて、
欠陥の有無および大きさを検査していた。さらに詳細に
は、パターンからの反射光は指向性が強い回折光である
のに対し、異物からの反射光は指向性の弱い散乱光であ
ることに着目し、すべての光電信号が所定の大きさ以上
のときには異物が存在すると判定し、その異物の大きさ
を光電信号の大きさに基づいて求めていた。

【０００４】一方、レチクルにフレームを介して装着さ
れるペリクルの表面が全体的にへこんだりふくらんだり
して所定の平面度を保持していない場合、後述する理由
により上記従来の異物検査装置では検査を行うことがで
きなかった。ペリクルはまず、ペリクル内外の気圧差に
起因してへこんだりふくらんだりする。たとえば、ペリ
クルをレチクルに装着したときよりも外気圧が高くなる
と、ペリクルとレチクルとで密閉された空間の圧力（す
なわち装着したときの気圧）が周囲の気圧より低くなる
ためペリクルは全体的にへこむ。反対に、ペリクルをレ
チクル装着したときよりも外気圧が低くなると、ペリク
ルは全体的にふくらむ。

【０００５】ペリクルはさらに、ペリクルとレチクルと
の間の静電気による電位差に起因してへこむ。ペリクル
の材質等によってはペリクル自体が静電気を帯びやす
い。特に冬のように空気が乾燥している季節において
は、使用する場所がたとえクリーンルームのような場所
であっても室内の湿度は低下するので、ペリクルが静電
気を帯び易い。レチクルもまた静電気を帯びる場合があ
る。特に５インチサイズのレチクルよりも６インチサイ
ズのレチクルの方が、体積が大きい分だけ帯びる電荷量
も大きくなる。ペリクルの材質として静電気を帯びにく
い材質を選定したとしても、レチクルが帯びた静電気に
誘因されてペリクルが表裏面で分極し、ペリクルがレチ
クルに引っ張られる。すなわち、ペリクルの表面が全体
的にへこんでしまう。当然、ペリクルおよびレチクルの
双方が静電気を帯び、その電位差に基づきペリクル表面
が全体的にへこむこともある。

【０００６】ペリクル内外の気圧差に起因したペリクル
のへこみやふくらみは、たとえばペリクルフレームに予
め穴を設けて通気性をもたせることにより未然に防止す
ることができる。しかしながら、静電気によるペリクル
表面のへこみは、イオナイザ等の除電手段（静電気を除
去するための手段）を使用しなければ解消することがで
きない。以上のような理由により、ペリクル表面が許容
範囲を超えて全体的にへこんだりふくらんだりしている
場合、従来の異物検査装置を使用して異物検査を行うと
次のような検査不良が生じる。

【０００７】 ペリクル表面上に付着した異物を検査
する場合、たとえば光ビームをペリクル表面上に集光
し、ペリクル表面上に付着した異物からの散乱光の強度
が所定の基準値より大きいとき異物有りとして検査して
いる。このとき、光ビームの焦点深度以上にペリクル表
面がへこんだりふくらんだりしている場合、ペリクル表
面上の光ビームの輝度（単位面積当たりの光量）が減る
ため、異物から得られる散乱光の光量が減って正常状態
（ペリクル表面が平面の状態）において検出されるべき
サイズの異物も検出することができなくなる。すなわ
ち、検出感度が低下する。

【０００８】 また、光ビームがペリクル表面に対し
て斜入射している場合、ペリクル表面のへこみやふくら
みによるペリクル表面の高さ変化（表面に直交する方向
の変化）をΔＺとし、光ビームの入射角をθとすると、
ΔＹ＝ΔＺ・ｔａｎθだけ走査線のずれが発生する。へ
こみやふくらみに基づく高さ変化ΔＺはペリクルフレー
ム近傍ではほとんどないためΔＺ＝０とみなせるが、ペ
リクルの中央部では高さ変化ΔＺが最大になる。したが
って、走査線のずれΔＹもペリクルフレーム近傍ではΔ
Ｙ＝０であり、ペリクルの中央部ではΔＹは最大にな
る。すなわち、ペリクル表面が平面である正常状態では
直線である走査線が、ペリクル表面が全体的にふくらん
だりへこんだりするとほぼ円弧状に湾曲するため、検出
した異物の位置情報が走査方向と直交する方向にずれて
しまう。

【０００９】さらに、このとき厳密には、走査方向（Ｘ
方向）にも検出異物の位置がずれるが、たとえば図１の
構成で光ビーム走査するとき走査レンズ１０９の光軸に
対して走査角度範囲が大きくない場合には、このＸ方向
のずれ量はＹ方向のずれ量に比べて小さくなる。すなわ
ち一般には、走査レンズ１０９を通る走査ビーム１１２
はテレセントリック（走査レンズ１０９の光軸に対し走
査ビーム１１２が常に平行）でないまでも、走査レンズ
１０９に対し走査線の両端においても走査ビーム１１２
は１０°程度の角度しかないため、走査線の両端ではふ
くらみやへこみ量は走査線の中央（ペリクル中央）に比
べて少ないということとあわせて、Ｘ方向のずれ量は小
さくなる。したがって、本発明ではＹ方向のみの位置ず
れを問題として掲げておく。

【００１０】 さらに受光レンズ１１４を介して走査
線と共役な位置に走査線上の光情報のみを検出器１１６
に通すようにスリット１１５を設ける場合には、前記
で記述した走査線のＹ方向にずれによりスリット１１５
で光情報が遮光されてしまうという問題もある。以上
乃至の問題の程度を数値例を用いて説明すると、ペリ
クル上のレーザビームの大きさがＸ方向で３０μｍ程度
で、４５°の入射角で斜入射するとき、ペリクルが０．
５ｍｍふくらむと、およびの影響でペリクル中央部
の異物の検出光量が平坦なペリクルのときに比べ約１／
２程度に低下し、により検出位置もＹ方向に０．５ｍ
ｍ（ペリクル中央部）ずれる。この場合は、０．３ｍｍ
程度がペリクルのふくらみ（またはへこみ）の許容値と
なる。したがって、ペリクルの平坦度を測定し、許容値
内であるか否かを判定する必要がある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、レチク
ルにフレームを介して装着されるペリクルの表面が全体
的にへこんだりふくらんだりして所定の平面度を保持し
ていない場合、従来の異物検査装置では所望の異物検査
を行うことができない。換言すれば、所定の平面度を保
持していないペリクル表面を従来の異物検査装置で異物
検査しても、実際に付着している所定サイズ以上の異物
を位置ずれなく検出することができず、ペリクルに付着
した異物がウェハ上に転写され製造されるウェハの欠陥
の原因となるという不都合があった。本発明は、前述の
課題に鑑みてなされたものであり、ペリクル表面の平面
度を測定する手段を設けて、表面のへこみやふくらみが
許容範囲を超えるペリクルの異物検査を回避することの
できるような異物検査装置を提供することを目的とす
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、レチクルにフレームを介して装
着されたペリクルの表面上に付着した異物を検査する異
物検査装置において、ペリクル表面の平面度を測定する
ための平面度測定手段を備えていることを特徴とする装
置を提供する。好ましい態様によれば、前記平面度測定
手段は、測定された平面度が許容範囲内であるか否かを
判定するための判定手段と、該判定手段の結果を表示す
るための表示手段とを備え、さらに好ましくは、前記レ
チクルおよびペリクルの帯電を除去するための除電手段
を備えている。

【００１３】

【作用】本発明は、ペリクル表面の全体的なへこみやふ
くらみといった同一ペリクル表面の各部における相対的
高さ方向ずれの問題を解決するものである。また、ペリ
クル表面の全体的なへこみやふくらみが許容範囲を超え
るか否かを判定し、そのままでは正常な異物検査を行う
ことができない場合、異物検査を回避することにより誤
った異物検査が防止できる。

【００１４】そこで、本発明の異物検査装置では、ペリ
クル表面の平面度を測定するための平面度測定手段が従
来の装置に付設されている。平面度測定手段は、たとえ
ば共焦点型の光学系と、ペリクル表面と光学的に共役な
位置に設けられた遮光手段と、該遮光手段を通過した光
を受光するための受光手段とからなり、ペリクル表面か
らの戻り光の光量に基づいてペリクル表面の平面度を測
定する。一般的にペリクル表面に全体的なへこみやふく
らみがある場合、ペリクル中央部では高さ方向ずれが最
も大きく、逆にペリクル周辺部では高さ方向ずれが最も
小さい。したがって、ペリクル表面の中央部における高
さ位置と周辺部における高さ位置との少なくとも２点を
測定して比較すれば、その高さ位置の差からへこみまた
はふくらみの程度がわかる。本発明では、前記乃至
で規定される許容範囲を、測定した高さ位置の差が超え
ていない場合のみペリクルの異物検査を行うので、異常
検査が確実に回避される。

【００１５】

【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の実施例にかかる異物検査装置の
異物検査部の構成を模式的に説明する斜視図である。図
示の異物検査部において、ペリクル１００が矩形状のフ
レーム１０１を介してレチクル１０２と平行に支持され
ている。すなわち、被検査物であるペリクル１００の表
面は、理想的にはレチクル１０２からフレーム１０１の
高さ量だけ離れ且つ図中ＸＹ平面とほぼ平行な平面に沿
って広がっている。ステージ１０３は駆動部１０４によ
り図中Ｙ方向に往復移動可能であり、その移動量はたと
えばリニアエンコーダのような測長器１０５により計測
可能なように構成されている。

【００１６】一方、たとえばレーザ光源等の光源（不図
示）から射出された光ビーム１０６は、ビームエキスパ
ンダ等のビーム径拡大手段（不図示）により所定のビー
ム径に調整される。そして、光ビーム１０６は、ガルバ
ノスキャナまたはポリゴンミラー等のスキャナ１０７に
より偏向され、図中レチクル１０２上をＸ方向に偏向走
査される。偏向走査された光ビーム１０８は、たとえば
ｆθレンズのような走査レンズ１０９によりペリクル１
００上に収束した光ビーム１１２となって入射角θ（た
とえば４５°）でペリクル１００上に斜入射し、Ｘ方向
にほぼ平行な走査線１１０を形成する。このように、Ｘ
方向の光ビーム走査と駆動部１０４によるペリクル１０
０のＹ方向移動とにより、被検査面であるペリクル１０
０の全面に亘り二次元的な光ビームの走査が可能になっ
ている。ちなみに、このペリクル１００の表面上のジグ
ザグ走査をラスター走査と呼ぶ。また、ぺリクル１００
のＹ方向移動速度は、光ビーム１１２のＸ方向走査速度
に比して極めて小さく設定されている。

【００１７】図示のように、ペリクル１００の走査線１
１０上に異物１１１が付着している場合、光ビーム１１
２の照射を受けた異物１１１から散乱光１１３が発生す
る。散乱光１１３は、受光レンズの光軸１２０が理想的
なペリクル表面（フレーム１０１の高さとほぼ平行な平
面）に対して所定角度β（たとえば４５°）だけ傾き、
かつ光軸１２０のペリクル面への正射影と走査線１１０
とが角度α（たとえば３０°）だけ傾くように適宜配置
された受光レンズ１１４により集光され、さらに走査線
１１０と光学的にほぼ共役な空間に設けられたスリット
１１５を透過する。スリット１１５を透過した散乱光１
１３は、スリット１１５の後方に配設されたたとえばフ
ォトマルチプライヤーやシリコンダイオード等の光電検
出器１１６で受光される。光電検出器１１６は、受光光
量にほぼ比例した光電信号を出力する。スリット１１５
は、走査線１１０上の光情報以外の光、たとえば光ビー
ム１１２がペリクル１１０を透過してレチクル１０２を
照射したときにレチクル１０２の表面および裏面から発
生する光や、レチクル１０２の表面および裏面で多重反
射した光がフレーム１０１の内壁に当たって散乱する光
等を遮光するためのものである。

【００１８】上述したラスター走査中に光電検出器１１
６が散乱光を受光したとき、測長器１０５で計測された
Ｙ方向位置からペリクル１００上の異物１１１のＹ方向
座標が求められ、偏向器１０７の偏向角度出力から異物
１１１のＸ方向座標が求まる。なお、通常ガルバノスキ
ャナーにおいては偏向角は入力電圧に比例するので、ガ
ルバノスキャナーへの入力電圧を測定すれば偏向角度が
求まる。また、異物１１１のサイズが大きいほど発生す
る散乱光１１３の光量が大きいため、光電検出器１１６
の光電信号の大きさに基づいて異物１１１のサイズを求
めることができる。こうして測定した異物の位置情報お
よびサイズ情報を、たとえば表形式でプリントしたり、
ＣＲＴ上に二次元マップとして表示したりすることがで
きる。

【００１９】図２は、本発明の実施例にかかる異物検査
装置の平面度測定部の構成を概略的に説明する図であ
る。図示の平面度測定部は、ＬＥＤやレーザ等の光源１
を備えている。光源１から発した光ビームはレンズ２に
よってほぼ平行な光ビーム３となってハーフミラー４に
入射する。ハーフミラー４で反射した光ビームは集光レ
ンズ５により集光され、光ビーム６となってレチクル１
０２にフレームを介して装着されたペリクル１００に入
射する。このように、光ビーム１０６がペリクル表面上
で集光するように、光学系に対してペリクル１００が位
置決めされている。

【００２０】ペリクル１００で反射した光ビームは、入
射光ビーム６と同光路を通ってハーフミラー４に入射し
透過する。ハーフミラー４をそのまま透過した光ビーム
７は、ハーフミラー８により分岐される。ハーフミラー
８を透過した光ビームはレンズ９により集光され、集光
位置に設けられたピンホール１０を通りシリコンダイオ
ード（ＳＰＤ）等の受光素子１１に入射する。一方、ハ
ーフミラー８で反射した光ビームは、集光レンズ１２に
より集光されＳＰＤ等の受光素子１３に入射する。ペリ
クル１００の表面が全体的にへこんだりふくらんだりし
ていて照射する表面の位置におけるＺ方向の高さが変化
すると、ピンホール１０上でデフォーカスして光ビーム
が部分的にピンホール１０を通過することができないた
め、受光素子１１に入射する光ビームの光量は変化す
る。上述したように、ピンホール１０とペリクル１００
の理想的な平面（フレーム１０１の高さとほぼ平行な平
面）とが光学的に共役関係になるように位置決めされて
いるので、ペリクル１００の照射面が理想的な平面と同
じレベルにあれば、ピンホール１０上で光ビームがベス
トフォーカスとなり、受光素子１１の受光光量が最大に
なる。

【００２１】しかしながら、光源１の光ビームの波長に
対するペリクル１００の反射率はその種類によってまち
まちであるため、ペリクル１００の反射光量もその反射
率によってひいてはその種類によって変化する。そのた
め、ペリクル１００の反射率の変化に基づく反射光量の
変化と、ペリクル１００の照射面の高さ方向ずれに基づ
く反射光量の変化とを混同することがないように、受光
素子１３の受光光量と受光素子１１の受光光量とを比較
するのが好ましい。受光素子１３にはピンホール１０の
ような遮光手段を介することなくペリクル１００の反射
光が入射するので、受光素子１３の受光光量はペリクル
１００の反射率の変化には依存するがペリクル１００の
照射面の高さ方向ずれには依存しない。こうして、受光
素子１１の出力信号と受光素子１３の出力信号の比をと
れば、ペリクル１００の照射面の高さ方向ずれにのみ依
存するペリクル１００の平面度情報を得ることができ
る。受光素子１１の出力信号と受光素子１３の出力信号
との比の変化に対するペリクル１００の高さ方向のずれ
の関係は、予め求めておくものとする。

【００２２】図３は、本発明の実施例にかかる異物検査
装置の全体構成を模式的に説明する図である。図示の異
物検査装置２０は、図１に示す異物検査部２８と図２に
示す平面度測定部２５とを備え、さらに図中破線で示す
搬送部２４を備えている。搬送部２４は、レチクルにフ
レームを介して装着されたペリクル１００を図中Ｙ方向
に往復移動させる。異物検査装置２０はＣＲＴ等の表示
装置２１に接続され、この表示装置２１は異物検査結果
等を表示するようになっている。

【００２３】以下、図１乃至図３を参照して本発明の異
物検査装置の動作を説明する。レチクルに装着されたペ
リクル１００はレチクル格納部２３から搬送部２４によ
って取り出される。搬送部２４は、ペリクル１００の表
面を図中ＸＹ平面と平行に支持してＹ方向に往復移動可
能である。レチクル格納部２３から取り出されたペリク
ル１００は搬送部２４によって図中Ｙ方向上方に移動
し、ペリクル１００は図２に示す平面度測定部２５を通
過する。このとき、平面度測定部２５は通過するペリク
ル１００の表面を光ビーム６でＹ方向に走査してその平
面度を測定する。すなわち、ペリクル１００の一方の端
部が平面度測定部２５を通過するポジション２６からペ
リクル１００の他方の端部が平面度測定部２５を通過す
るポジション２７にかけて連続的または断続的に測定す
る。平面度測定部２５で測定するペリクル１００上の位
置は最低２点であるのが好ましく、その場合ペリクルフ
レーム近傍およびペリクル中央部で測定するのがよい。
なぜなら、ペリクル１００は等方的（中心部からみて均
一に）ふくらんだりへこんだりするからである。

【００２４】このとき、受光素子１１の出力信号と受光
素子１３の出力信号との比による２点の差が、光ビーム
１１２の前記乃至で規定される許容値とに基づいて
規定される許容範囲内であるならば、ペリクル１００は
異物検査部２８に送給される。そうでない場合、表示装
置２１にはたとえば「ペリクル平面度異常」の警告表示
がなされ、搬送部２４が図中Ｙ方向下方に移動してペリ
クル１００を異物検査することなくレチクル格納部２３
に戻す。なお、受光素子１１の出力信号と受光素子１３
の出力信号の比で決まる高さ方向のずれの半分の位置に
ペリクル１００の中央部がくるように、ペリクル１００
を下方に移動してもよい。たとえば、ペリクル１００の
中央部とフレーム近傍部との高さずれが０．４ｍｍと
し、ビームの焦点深度が０．３ｍｍとし、ペリクルフレ
ームに焦点が合っているとすると、ペリクル中央部をビ
ームの焦点位置から０．２ｍｍずれるように高さ位置を
調整することにより、ペリクル全面を光ビームの焦点深
度内にすることができる。

【００２５】さらに、レチクル格納部２３と異物検査部
２８との間の搬送経路中にイオナイザ等の除電手段２９
を設けるのが好ましい。この場合、平面度測定部２５で
「平面度異常」と判定されたペリクルおよびレチクルが
帯びている静電気を除去した後、再度平面度測定部２５
によって除電したペリクル１００の平面度を測定するこ
ともできる。測定の結果、平面度が許容範囲内であれば
異物検査部２８に送給し、そうでなければ異物検査する
ことなくレチクル格納部２３に戻す。なお、ペリクルと
レチクルとを貼り合わせるペリクル貼付け部と異物検査
部とを併せ備えた異物検査装置においては、平面度測定
部および除電手段は異物検査部とペリクル貼付け部との
間の任意の位置に設けることが可能であり、たとえばペ
リクル貼付け部側に設けてもよい。

【００２６】図４は、平面度測定部の第２の実施例（変
形例）の構成を概略的に示す斜視図である。図示の平面
度測定部は、図１の異物検査部の斜入射光ビーム１１２
の反射光を利用するものであり、図１の異物検査部と基
本的構成は同じである。しかしながら、平面度測定部に
固有の構成要素として、光ビーム１１２の反射光の位置
を検出するための一次元ＣＣＤのような一次元位置検出
素子４６乃至４８がＸＺ平面に平行な所定の受光面内に
配設されている。図４では明瞭化のために、参照符号１
０３（ステージ）乃至１１６（光電検出器）で示す共通
要素の図示を省略している。

【００２７】斜入射光ビーム４０（光ビーム１１２と同
一）が、図中ＸＹ平面に平行に支持されたペリクル１０
０の表面上に入射する。ペリクル１００の表面が完全な
平面であれば、光ビーム４０は直線状の走査線４１（破
線）を形成し、ペリクル１００の反射光も上記受光面で
は直線状の軌跡４２（破線）を描く。一方、ペリクル１
００がたとえば全体的にふくらんでいる場合は、上述し
たようにペリクル１００の表面上の走査線４３（実線）
は円弧状に湾曲し、その反射光４４も上記受光面におい
て円弧状の軌跡４５（実線）を描く。

【００２８】上記受光面には一次元位置検出素子４６乃
至４８が配設されているので、上記円弧状に軌跡４５に
対応する反射光のＺ方向のずれを測定することができ
る。この測定した反射光のＺ方向ずれは、ペリクル１０
０の表面の測定点におけるへこみまたはふくらみの量に
一対一対応している。したがって、一次元位置検出素子
４６乃至４８の位置出力信号からペリクル１００の平面
度を測定することができる。一般に、ペリクル１００の
レチクル１０２に対する高さ位置がフレームの高さ等に
依存して変化するので、ペリクル中央部およびペリクル
フレーム近傍の少なくとの２点で測定するのが好まし
い。しかしながら、ペリクル１００のレチクル１０２に
対する高さ位置ずれがほとんどない場合には、ペリクル
中央部の反射光を受光する一次元位置検出素子４７だけ
を用いてペリクル１００の平面度を検出することも可能
である。

【００２９】図３の異物検査装置２０において、光ビー
ム４０（すなわち図１の光ビーム１１２）がペリクル１
００の中央部分を照射することができるようなＹ方向位
置までペリクルを搬送し、光ビーム４０を偏向器１０７
で少なくとも一回だけＸ方向に走査する。そして、一次
元位置検出素子４６乃至４８の位置出力信号に基づき、
ペリクル１００の平面度を測定する。測定した平面度が
すでに上述した許容範囲内であれば、レチクル１００を
異物検査部２８に送給し、そうでなければ異物検査する
ことなくレチクル格納部２３に戻す。さらに、必要に応
じて除電手段によりペリクルの静電気を除去した後、再
度平面度を測定することもできる。測定の結果、平面度
が許容範囲内であれば異物検査部２８に送給し、そうで
なければ異物検査することなくレチクル格納部２３に戻
す。

【００３０】なお、処理時間を短縮するためには、各処
理を行う際のレチクルの移動距離を極力短くすることが
重要である。したがって、本実施例のように平面度測定
部で使用する光ビームと異物検査部の走査光ビームとを
共通に使用する場合、除電手段も異物検査部の内部の設
けるのがよい。なお、本実施例では、平面度測定部で使
用する光ビームと異物検査部の走査光ビームとを共通に
使用する例を示したが、別の光ビームを使用する平面度
測定部を異物検査部と全くは別個に設け、その間に除電
手段を設ける構成をとってもよい。また、以上の実施例
では光ビームを走査させるタイプの異物検査装置につい
て説明したが、特開昭５７−８０５４６号公報等に開示
されているような、斜めからペリクルを照射して帯状の
照射領域を一括して形成し、照射領域とペリクルとを相
対移動して異物検査を行うタイプの異物検査装置に本発
明を適用してもよい。

【００３１】

【効果】以上説明したごとく、本発明の異物検査装置で
は、ペリクルの平面度を測定することができる。したが
って、ペリクル表面のへこみやふくらみが大きくて平面
度が許容範囲を超えるようなペリクルの検査を確実に回
避することができるので、異物検査の信頼性が著しく向
上する。また、本発明の好ましい実施態様によれば除電
手段を備えているので、平面度が許容範囲を超えるよう
なペリクルおよびレチクルの静電気を取り除くことがで
きる。したがって、一旦平面度異常と判定されたペリク
ルを所望の平面度に矯正して異物検査を行うことができ
るのでスループットが著しく向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例にかかる異物検査装置の異物検
査部の構成を模式的に説明する斜視図である。

【図２】本発明の実施例にかかる異物検査装置の平面度
測定部の構成を概略的に説明する図である。

【図３】本発明の実施例にかかる異物検査装置の全体構
成を模式的に説明する図である。

【図４】平面度測定部の第２の実施例（変形例）の構成
を概略的に示す斜視図である。

【符号の説明】

１００ ペリクル １０２ レチクル １０３ ステージ １０６ 光ビーム １０７ 偏向器 １１３ 異物 １１４ 受光レンズ １１６ 光電検出器 １ 光源 ４、８ ハーフミラー １０ ピンホール １１ 受光素子 １３ 受光素子

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レチクルにフレームを介して装着された
   ペリクルの表面上に付着した異物を検査する異物検査装
   置において、 ペリクル表面の平面度を測定するための平面度測定手段
   を備えていることを特徴とする装置。
2. 【請求項２】 前記平面度測定手段は、測定された平面
   度が許容範囲内であるか否かを判定するための判定手段
   と、該判定手段の結果を表示するための表示手段とを備
   えていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 【請求項３】 前記レチクルおよびペリクルの帯電を除
   去するための除電手段を備えていることを特徴とする請
   求項１または２に記載の装置。
4. 【請求項４】 前記平面度測定手段は、共焦点型の光学
   系と、ペリクル表面と光学的に共役な位置に設けられた
   遮光手段と、該遮光手段を通過した光を受光するための
   受光手段とを備え、ペリクル表面からの戻り光の光量に
   基づいてペリクル表面の平面度を測定することを特徴と
   する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
5. 【請求項５】 前記平面度測定手段は、ペリクル表面を
   光ビームで走査するための光ビーム走査手段と、ペリク
   ル表面からの反射光の位置を検出するための位置検出手
   段とを備えていることを特徴とする請求項１乃至３のい
   ずれか１項に記載の装置。
6. 【請求項６】 前記平面度測定手段は、前記ペリクルの
   ほぼ中心部と周辺部との少なくとも２点の高さ位置を検
   出し、該少なくとも２点の高さ位置に基づいて前記ペリ
   クルの平面度を測定することを特徴とする請求項１に記
   載の装置。
7. 【請求項７】 前記平面度測定手段は、前記ペリクル表
   面の平面度が許容値内であれば異物検査を続行し、許容
   値外であれば異物検査を中止するための判定手段を備え
   ていることを特徴とする請求項１に記載の装置。