JPH07129998A - 光ディスク原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 円形基板２４状に形成されたフォトレジスト
膜２５に、記録データに基づいて変調されたレーザ光Ｌ
１（Ｌ２）を照射して、記録データに基づいたデータパ
ターンを露光記録することにより、光ディスク原盤を作
製するレーザカッティング装置において、グルーブ光学
系５からのグルーブ形成用レーザビームと、ピット光学
系１０からのピット形成用レーザビームとのビーム間隔
を、光学素子１９を挿入することによって、基準ディス
クから輝度パターン検出部３０が検出した輝度パターン
を基に設定する。 【効果】 ピット形成用レーザビームと、グルーブ形成
用レーザビームとのビーム間隔を容易にかつ正確に設定
できる。このため、高性能の光ディスク原盤を作製する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク基板上に形
成されたレジスト膜に記録データに基づいて変調された
光ビームを照射して、光変調器に入力された記録データ
に基づいたデータパターンを露光記録することにより、
光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光ディスクの原盤を作製する場
合においては、レーザ光を用いた光学記録装置、いわゆ
るレーザカッティング装置が使用されている。

【０００３】従来、この光ディスクの原盤を作製するレ
ーザカッティング装置は、例えば、図５に示すように、
気体を増幅媒質とするガスレーザ光源５１と、このガス
レーザ光源５１から出射されたレーザ光Ｌを、後段の光
学系に導くミラー５２と、このミラー５２を介して導か
れたレーザ光Ｌを、入力される記録信号Ｓ_Wに応じて強
度変調する電気光学変調器（Erectro Optic Modulato
r；以下、単にＥＯＭと記す）５３と、ＥＯＭ５３にて
強度変調されたレーザ光Ｌを、対物レンズ５４に導くミ
ラー５５及び５６とから構成されている。対物レンズ５
４及びミラー５６は、円形基板５７上に形成されたフォ
トレジスト膜５８上に所定間隔をもって対向して配さ
れ、既知の移動機構によって、円形基板５７の径方向に
移動する。

【０００４】ここで、上記ＥＯＭ５３は、電気光学効果
（印加される信号電界によって媒質の屈折率が変化する
現象であって、特に、誘起される屈折率変化量が電界の
１乗に比例する効果であり、ポッケルス効果とも呼ぶ）
による媒質の屈折率変化を利用した光変調器である。即
ち、入射されたレーザ光（通常、ブリュースター窓によ
って直線偏光されている）Ｌの媒質中における２つの直
交偏光成分間の光学的位相差を、印可される信号電界で
制御して、上記レーザ光の偏光状態を変えるものであ
る。このＥＯＭ５３を透過したレーザ光Ｌは、楕円偏光
となるため、後段の１／４波長板及び検光子からなるア
ナライザ５９にて強度変調光に変換される。

【０００５】このＥＯＭ５３を用いた場合、変調帯域が
広くとれ、高速変調が可能であり、しかもレーザ光Ｌの
ビーム形状が変化しないため、フォトレジスト膜５８に
照射されるレーザ光Ｌのスポット径が一定となり、記録
されるパターンの先幅にばらつきがなくなる。

【０００６】また、他の従来例に係るレーザカッティン
グ装置としては、図６に示すように、上記図５で示すレ
ーザカッティング装置のＥＯＭ５３の代わりに音響光学
変調器（Acousto Optic Modulator；以下、単にＡＯＭ
と記す）６０を配置したものがある。すなわち、レーザ
光源５１から出射された平行光束のレーザ光Ｌは、ビー
ム縮小レンズ６１によって、そのビーム径が縮小されて
ＡＯＭ６０に入射され、このＡＯＭ６０において、供給
される超音波（記録信号に基づいて変調されている）Ｗ
に応じてその光強度が変調される。このＡＯＭ６０にて
強度変調されたレーザ光Ｌは、後段のビーム拡大レンズ
６２によって、そのビーム径が復元されて平行光とな
り、その後、ミラー５５及び５６並びに対物レンズ５４
を介してフォトレジスタ膜５８に照射される。

【０００７】ここで、ＡＯＭ６０は、ブラッグ回折にお
ける一次回折光強度が超音波パワーにほぼ比例すること
を利用したものであり、超音波パワーを記録信号に基づ
いて変調してレーザ光Ｌの光変調を行う。このＡＯＭ６
０は、供給される超音波Ｗにより生じた結晶中の位相回
折格子のブラッグ回折を利用するため、温度依存性がな
く、動作点が安定であるという長所がある。

【０００８】また、上記円形基板５７は、例えば図示し
ない回転駆動系にてＣＡＶ方式で回転駆動されており、
記録信号に基づいて強度変調されたレーザ光Ｌがフォト
レジスト膜５８に照射されることにより、フォトレジス
ト膜５８には、円形基板５７の同心円に沿って、あるい
は螺旋形に沿って上記記録信号に応じた記録パターンが
描画されることになる。

【０００９】即ち、フォトレジスト膜５８は、その描画
された記録パターンに沿って感光され、その感光された
部分が次の現像工程における現像液にて溶解することに
なる。従って、その後の現像処理において、その感光さ
れた部分が除去され、フォトレジスタ膜５８によるマス
クが形成される。その後、無電解めっき、ニッケルめっ
き並びに洗浄工程等が行われることにより、光ディスク
用の原盤が作製される。

【００１０】また、上述したようなレーザカッティング
装置に適用される光ディスク原盤製造方法を発展させ
て、光ディスク上のピット部とグルーブ部とを同時に露
光記録し、光ディスク原盤を作製する方法も考えられて
いる。

【００１１】この場合、ガスレーザ光源からのレーザ光
を２つのビームに分離し、これら２ビームを円形基板に
形成されたフォトレジスト膜に照射させている。ここ
で、これらピット部とグルーブ部とのディスクの半径方
向の位置関係は、該ディスク上で規則的な等間隔で配置
されなければならない。このため、ピット部とグルーブ
部の形成にそれぞれ用いられる２つのビームは、正確に
分離されなければならない。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな、ピット部とグルーブ部とを同時に露光記録し、光
ディスク原盤を作製する方法では、ピット部とグルーブ
部の形成にそれぞれ用いられる２つのビーム、すなわ
ち、ピット形成用レーザビームと、グルーブ形成用レー
ザビームとの分離量を正確に設定することができなかっ
た。

【００１３】このため、ピット部とグルーブ部の同時露
光により、ディスクを作成した後に、ディスク上でのピ
ット部とグルーブ部との位置関係を２次的な検査方法で
確認することが行われていた。

【００１４】これら２次的な検査方法による確認は、例
えば、原盤上で光学顕微鏡により、ピット部、グルーブ
部のずれを確認する方法、この原盤によって形成された
スタンパ上で電子顕微鏡によりそれらのずれを確認する
方法、及び例えばポリカーボネート（ＰＣ）成形品によ
り信号評価を行う方法によって、行われてきた。

【００１５】そして、これらの方法によって、確認され
たピット部とグルーブ部とのずれ量をフィードバックし
ながら上記２つのビームの分離量を確定していた。

【００１６】しかし、このようにして２つのビームの分
離量を確定していたのでは、多くの時間を費やすことに
なり、効率的な光ディスクの原盤の作製を行うことがで
きない。

【００１７】また、ピッチの異なる光ディスクの原盤を
作製する場合には、ピット変調度、グルーブコンディシ
ョン等も異なってくるので、なおさら、上記２つのビー
ムの分離量の設定（変更）は手間がかかることになる。

【００１８】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
あり、ピット形成用レーザビームと、グルーブ形成用レ
ーザビームとの分離量を多くの時間を費やすことなく、
容易にかつ正確に設定でき、また、ピッチの異なる光デ
ィスクの原盤を作製する際にも、それらの分離量を容易
に変更することができ、その結果、効率的に光ディスク
原盤を作製することができる光ディスク原盤の製造方法
の提供を目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、所定のピット
及びグルーブに対応する輝度分布を有する基準ディスク
に対して平行光束を照射し、輝度分布パターンを得た
後、ピット形成用レーザビームとグルーブ形成用レーザ
ビームのビーム間隔を前記輝度分布パターンと対照して
設定し、光ディスク原盤を露光することを特徴とする。

【００２０】

【作用】本発明に係る光ディスク原盤の製造方法は、所
定のピット及びグルーブに対応する輝度分布を有する基
準ディスクに対して平行光束を照射することによって、
この基準ディスク上のピット部とグルーブ部の位置関係
を輝度分布パターンとして得ることができ、この輝度分
布パターンと対照させて、光ディスク原盤のピット形成
用レーザビームとグルーブ形成用レーザビームのビーム
間隔を設定するので、多くの時間を費やすことなく、容
易にかつ正確にそれらのビーム間隔を設定でき、また、
ピッチの異なる光ディスクの原盤を作製する際にも、そ
れらの分離量を容易に変更することができる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明に係る光ディスク原盤の製造方
法を光ディスクの原盤を作製するレーザカッティング装
置に適用し、これを実施例として図面を参照しながら説
明する。

【００２２】本発明に係る光ディスク原盤の製造方法
は、大別して二つの工程からなっている。すなわち、所
定のピット及びグルーブに対応する輝度分布を持つ基準
ディスクに対して平行光束を照射し輝度分布パターンを
得る工程と、ピット形成用レーザビームとグルーブ形成
用レーザビームのビーム間隔を前記輝度パターンと対照
させて設定し、光ディスク原盤を露光する工程とからな
っている。

【００２３】本実施例に係るレーザカッティング装置
は、上述した二つの工程からなる光ディスクの原盤の製
造方法を１つの装置で行うものである。以下、このレー
ザカッティング装置の構成を図１を参照しながら説明す
る。

【００２４】先ず、このレーザカッティング装置は、図
１に示すように、気体を増幅媒質とするガスレーザ光源
１と、このガスレーザ光源１から出射されたレーザ光Ｌ
を、入力される信号電界に応じて強度変調する電気光学
変調器（Erectro Optic Modulator ；以下、単にＥＯＭ
と記す）２と、このＥＯＭ２からのレーザ光Ｌを、２つ
の光成分に分けるハーフミラー４と、このハーフミラー
４にて反射された１つの光成分Ｌ１が入射されるグルー
ブ描画用の光学系（以下、グルーブ光学系と記す）５
と、上記ハーフミラー４を透過した他方の光成分Ｌ２が
ミラー９を介して入射されるピット描画用の光学系（以
下、ピット光学系と記す）１０と、これらグルーブ光学
系５及びピット光学系１０からのレーザ光Ｌ１及びＬ２
がそれぞれ入射されて各レーザ光Ｌ１及びＬ２を１つの
光路に導く偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）１４と、こ
のＰＢＳ１４からのレーザ光（Ｌ１，Ｌ２）を対物レン
ズ１５に導くミラー１６とを有して構成されている。

【００２５】上記ＥＯＭ２は、例えばＡＤＰやＫＤＰの
結晶で構成されており、このＥＯＭ２の電極間に図示し
ない可変直流電源が接続されている。通常、この可変直
流電源からは、一定レベルの直流電圧Ｖが出力される。
そして、ＥＯＭ２に入射された直線偏光のレーザ光Ｌ、
特に媒質中における２つの直交偏光成分間の光学的位相
差Δφが、上記可変直流電源からの直流電圧Ｖの供給に
よって制御され、この制御により、レーザ光Ｌの偏光状
態が変化する。

【００２６】このＥＯＭ２を透過したレーザ光Ｌは、楕
円偏光となるため、後段の１／４波長板及び検光子から
なるアナライザ３にて強度変調光に変換される。即ち、
ＥＯＭ２から出力された楕円偏光のレーザ光Ｌは、先
ず、１／４波長板にて直線偏光のレーザ光Ｌに戻される
が、入射光に比べて電気ベクトルの振動面が直流電圧Ｖ
に比例した角度Δφ／２だけ回転しているため、次に検
光子によって強度変調光に変換される。

【００２７】また、上記グルーブ光学系５とＰＢＳ１４
間には、グルーブ光学系５からのレーザ光Ｌ１をＰＢＳ
に導く２枚のミラー１７及び１８と、これらミラー１７
とミラー１８との間に位置するように例えば焦点距離ｆ
＝７０〜１００ｍｍ程度の光学素子１９が挿入されてい
る。

【００２８】また、上記ピット光学系１０とＰＢＳ１４
間には、ピット光学系１０からのレーザ光Ｌ２をＰＢＳ
１４に導くと共に円形基板２４上から反射されＰＢＳ１
４を透過してきた反射レーザ光を透過するハーフミラー
２０と、１／２波長板２１とが設けられている。

【００２９】上記対物レンズ１５とミラー１６は、円形
基板２４上に形成されたフォトレジスト膜２５上に所定
間隔をもって対向して配され、既知の移動機構によっ
て、円形基板２４の径方向に移動する。ここで、フォト
レジスト膜２４の感光材料がポジ型の場合、上記レーザ
光Ｌとしては、Ａｒレーザでは４５８ｎｍ、Ｈｅ−Ｃｄ
レーザでは４４２ｎｍの発振波長のものが選定される。
なお、最近では、４００ｎｍ付近の発振波長を有するＫ
ｒレーザも使用される場合がある。また、これらのガス
レーザは、ブリュースター窓により直線偏光のレーザ光
Ｌとして出射される。

【００３０】そして、上記グルーブ光学系１０は、ハー
フミラー４にて反射したレーザ光（平行光束）Ｌ１のビ
ーム径を絞るビーム縮小レンズ６と、グルーブ記録信号
にて変調された超音波に基づいて、上記ビーム縮小レン
ズ６からのレーザ光Ｌ１を強度変調する音響光学変調器
（Acousto Optic Modulator ；以下、単にＡＯＭと記
す）７と、このＡＯＭ７からの強度変調されたレーザ光
（拡散光束）を平行光束に変換して元のビーム径に戻す
ビーム拡大レンズ８とで構成されている。

【００３１】また、上記ピット光学系１０は、ミラー９
にて反射したレーザ光（平行光束）Ｌ２のビーム径を絞
るビーム縮小レンズ１１と、ピット記録信号にて変調さ
れた超音波に基づいて、上記ビーム縮小レンズ１１から
のレーザ光Ｌ２を強度変調するＡＯＭ１２と、このＡＯ
Ｍ１２からの強度変調されたレーザ光（拡散光束）を平
行光束に変換して元のビーム径に戻すビーム拡大レンズ
１３とで構成されている。

【００３２】ＡＯＭ７及び１２は、例えばＴｅＯ₂結晶
から構成されており、超音波発生回路からの超音波供給
によりその結晶中に生じた屈折率変化による位相回折格
子を用いて、そのブラッグ回折の１次回折光を信号記録
に使用するものである。回折光の強度は、超音波パワー
で決まり、回折方向はキャリア周波数で決まる。

【００３３】また、上記ＰＢＳ１４とミラー１６間に
は、ＰＢＳ１４から入射されるレーザ光（Ｌ１，Ｌ２）
の焦点距離を可変にする収束レンズ素子２２と、１／４
波長板２３が配置されている。

【００３４】ここで、本実施例に係るレーザカッティン
グ装置は、所定のピット及びグルーブに対応する輝度分
布を持つ上記基準ディスクに対して平行光束を照射し、
輝度分布パターンを得る工程を行うための輝度パターン
検出部３０も有している。

【００３５】この輝度パターン検出部３０は、ハーフミ
ラー２０を透過してきた円形基板２４上からの反射レー
ザ光を反射するミラー３１と、このミラー３１によって
反射された反射レーザ光を収束するレンズ３２と、この
レンズ３２で収束された反射レーザ光を受光する受光素
子３５と、この受光素子３５に上記レンズ３２で収束さ
れた反射レーザ光を導くためのミラー３３及び３４と、
上記受光素子３５で受光された反射レーザ光による輝度
分布パターンをモニタ表示するためのモニタ装置３６と
を有して構成されている。

【００３６】次に、このような構成のレーザカッティン
グ装置の動作を新たに図２〜図４を参照しながら説明す
る。

【００３７】先ず、図１において上記グルーブ光学系５
とＰＢＳ１４間の、さらにミラー１７とミラー１８間に
挿入された例えば焦点距離ｆ＝７０〜１００ｍｍの光学
素子１９は、グルーブ光学系５からのレーザ光Ｌ１を図
２に示すように対物レンズ１５の瞳面に集光させる。す
ると、対物レンズ１５から被照射面４０に照射されるレ
ーザ光束は、平行光束となり、上記被照射面４０に対し
て均一に照射される。

【００３８】この状態、すなわち、光学素子１９をグル
ーブ光学系５とＰＢＳ１４間の、さらにミラー１７とミ
ラー１８間に挿入し、対物レンズ１５から被照射面４０
に平行光束を照射している状態で、ピット部とグルーブ
部のディスク半径方向の位置関係すなわち間隔が基準と
なるような等間隔な輝度分布を持つ基準ディスクを上記
被照射面４０の位置に設置（以後、基準ディスク４０と
する）する。すると、基準ディスク４０のピット部とグ
ルーブ部のパターンは、対物レンズ１５及び収束レンズ
素子２２及び３２で拡大され、上記受像素子３５上に結
像する。すなわち、対物レンズ１５と上記受光素子３５
をフォーカスさせると、該受光素子３５の受光面上に
は、基準間隔でパターニングされた基準ディスク４０の
被照射面の輝度分布像が得られることになる。

【００３９】ここで、基準ディスク４０の基準間隔は、
必要とする２つのビームすなわち、ピット形成用レーザ
ビームとグルーブ形成用レーザビームとのビーム間隔Δ
もしくはピッチ分の間隔毎にパターニングされた反射率
の高い物体を使用することが望ましい。

【００４０】上記受光素子３５の受光面上に結像された
基準ディスク４０の被照射面の輝度分布像は、上記モニ
タ装置３６で確認することができる。ここまでが、上述
した輝度分布パターンを得る工程となる。

【００４１】このような輝度分布パターン検出工程で得
られた上記基準ディスク４０の輝度分布パターンは、上
記基準ディスク４０におけるピット部とグルーブ部のデ
ィスク半径方向の位置関係を示すものである。

【００４２】したがって、ここで得られた輝度分布パタ
ーンに対照させて、円形基板２４のフォトレジスタ膜２
５に照射するピット形成用レーザビームと、グルーブ形
成用レーザビームとの分離量を例えばＰＢＳ１４を調整
して設定すればよい。これは、上記２つのビームのビー
ム分離量設定上についても、上記基準ディスク４０の被
照射面と上記受光素子３５との光学的な結像関係が変化
しないため、上記光学素子１９を除くことによって、同
一の確認が行える構成となるためである。

【００４３】このようにすれば、図３に示すように、グ
ルーブ形成用のレーザビームとピット形成用のレーザビ
ームは、フォトレジスト膜２５上にそれぞれのスポット
Ｇと、Ｐを一定のビーム間隔Δで形成することになる。

【００４４】すなわち、図３において、ＰＢＳ１４に
は、ミラー１８により反射された光学素子１９を介さな
いグルーブ光学系５からの平行なレーザビームと、ピッ
ト光学系１０からの平行なレーザビームとが入射する。
ミラー１８により反射されたグルーブ光学系５からの平
行なレーザビームは、該ＰＢＳ１４で反射され、該ＰＢ
Ｓ１４を透過したピット光学系１０からの平行なレーザ
ビームと共に収束レンズ２２に向かう。この収束レンズ
２２で収束された２つのレーザビームは、対物レンズ１
５によって、フォトレジスト膜２５上に、一定のビーム
間隔Δになるように分離されて照射される。

【００４５】この照射の結果、すなわち、上記基準ディ
スク４０を用いた輝度分布パターン検出工程で得られた
輝度分布パターンに対照させて、上記露光工程によって
円形基板２４のフォトレジスト膜２５に２つのレーザビ
ームを照射し、その後、現像工程等を経て得られたグル
ーブ部とピット部は、図４の拡大像で示すように、正確
に同一の波形像を繰り返している。ここで、図４のＡ
は、ピッチが１．６μｍで、ピッ部トとグルーブ部との
距離が０．８μｍの場合を、また、図４のＢは、ピッチ
ポが１．３μｍで、ピット部とグルーブ部との距離が
０．６５μｍの場合の波形像を示している。

【００４６】このようにして、２つのレーザビームを一
定のビーム間隔Δとなるように設定しながら、それぞれ
のレーザビームすなわち、ピット形成用レーザビームと
グルーブ形成用レーザビームをＰＢＳ１４を介して円形
基板２４上のフォトレジスト膜２５に照射すれば、ピッ
ト部とグルーブ部のディスク半径方向の位置関係を正確
に保ちながら、ピット部とグルーブ部の露光を同時に行
うことができる。

【００４７】すなわち、グルーブ部とピット部のディス
ク半径方向の位置関係は、正確に保たれながら、グルー
ブ光学系５からのレーザ光Ｌ１は、ＰＢＳ１４の偏光面
にて反射されて対物レンズ１５側に誘導され、ピット光
学系１０からのレーザ光Ｌ２は、偏光ビームスプリッタ
１４の偏光面をそのまま透過して対物レンズ１５側に誘
導される。各レーザ光Ｌ１及びＬ２は、最終的にこの対
物レンズ１５によって集光されて、フォトレジスト膜２
５上に照射される。

【００４８】円形基板２４は、図示しないスピンドルモ
ータによって一方向に例えばＣＡＶ方式で回転制御され
ており、また、ミラー１８及び対物レンズ１５が既知の
移動機構によって、円形基板２４の径方向に移動するこ
とから、例えば各ＡＯＭ７及び１２における超音波発生
回路の入力端子に、光ディスク用のグルーブ記録信号及
びピット記録信号を供給することによって、円形基板２
４上のフォトレジスト膜２５にその信号に基づいた記録
パターンが円形基板２４の同心円に沿って、あるいは螺
旋形に沿って描画される。

【００４９】そして、グルーブ部とピット部とのディス
ク径方向の位置関係が正確に保たれながら、上記露光工
程により記録パターンが描画されたフォトレジスト膜２
５は、その描画された記録パターンに沿って感光され、
その感光された部分が次の現像工程における現像液にて
溶解することになる。したがって、その後の現像処理に
おいて、その感光された部分が除去され、フォトレジス
ト膜２５によるマスクが形成される。その後は、通常の
原盤作製工程に基づいて、無電解めっき、ニッケルめっ
き並びに洗浄工程等が行われることにより、光ディスク
の原盤が作製される。

【００５０】以上に説明したように、本実施例に係るレ
ーザカッティング装置は、所定のピット及びグルーブに
対応する輝度分布を有する基準ディスクに対して平行光
束を照射することによって、この基準ディスク上のピッ
ト部とグルーブ部の位置関係を輝度分布パターンとして
得ることができ、この輝度分布パターンと対照させて、
光ディスク原盤のピット形成用レーザビームとグルーブ
形成用レーザビームのビーム間隔を設定している。この
ため、多くの時間を費やすことなく、容易にかつ正確に
それらのビーム間隔を設定できるので、得られるピット
部とグルーブ部とは、正確な位置関係にあり、正確なア
ドレス設定ができる。また、ピッチの異なる光ディスク
の原盤を作製する際にも、それらの分離量を容易に変更
することができるので、例えば、狭トラックピッチ化が
進んでも、クロストーク量の影響を抑えることができ
る。

【００５１】なお、本発明に係るレーザカッティング装
置の実施例では、グルーブ光学系５側に光学素子１９を
挿入したが、ピット光学系１０側に挿入しても、本実施
例と同様に基準ディスク４０の輝度分布パターンを得る
ことができる。

【００５２】

【発明の効果】上述のように、本発明に係る光ディスク
原盤の製造方法によれば、所定のピット及びグルーブに
対応する輝度分布を有する基準ディスクに対して平行光
束を照射し、輝度分布パターンを得た後、ピット形成用
レーザビームとグルーブ形成用レーザビームのビーム間
隔を前記輝度分布パターンと対照して設定し、光ディス
ク原盤を露光するので、ピット形成用レーザビームと、
グルーブ形成用レーザビームとの分離量を多くの時間を
費やすことなく、容易にかつ正確に設定できる。このた
め、ピット部とグルーブ部のディスクの半径方向の位置
関係を正確に保つことができ、高性能の光ディスク原盤
を作製することができる。また、ピッチの異なる光ディ
スクの原盤を作製する際にも、それらの分離量を容易に
変更することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光ディスクの製造方法の実施例と
なるレーザカッティング装置の構成図である。

【図２】実施例となるレーザカッティング装置で基準デ
ィスクの輝度分布パターンを得る原理を説明するための
図である。

【図３】実施例となるレーザカッティング装置で発生す
る２つのレーザビーム間の分離量を説明するための図で
ある。

【図４】実施例となるレーザカッティング装置で得られ
たピット部とグルーブ部との拡大波形を示す図である。

【図５】従来例に係るレーザカッティング装置の構成図
である。

【図６】他の従来例に係るレーザカッティング装置の構
成図である。

【符号の説明】

１・・・・・レーザ光源 ２・・・・・ＥＯＭ ５・・・・・グルーブ光学系 ７、１２・・ＡＯＭ １０・・・・ピット光学系 １４・・・・ＰＢＳ １５・・・・対物レンズ ２４・・・・円形基板 ２５・・・・フォトレジスト膜 ３０・・・・輝度パターン検出部 ３５・・・・受光素子 ３６・・・・モニタ装置

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定のピット及びグルーブに対応する輝
   度分布を有する基準ディスクに対して平行光束を照射
   し、輝度分布パターンを得た後、 ピット形成用レーザビームとグルーブ形成用レーザビー
   ムのビーム間隔を前記輝度分布パターンと対照して設定
   し、光ディスク原盤を露光することを特徴とする光ディ
   スク原盤の製造方法。