JPH07134407A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメントInfo
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- JPH07134407A JPH07134407A JP19503693A JP19503693A JPH07134407A JP H07134407 A JPH07134407 A JP H07134407A JP 19503693 A JP19503693 A JP 19503693A JP 19503693 A JP19503693 A JP 19503693A JP H07134407 A JPH07134407 A JP H07134407A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 密着性、テント強度及び剥離性に優れた感光
性樹脂組成物を提供する。 【構成】 （Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポ
リマー、 （Ｂ）光重合開始剤及び （Ｃ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する光重合性化合物を含み、前記（Ｃ）
成分が次の一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子又はメチル基
を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を表す）
で示される化合物を必須成分として含有する感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメント。
性樹脂組成物を提供する。 【構成】 （Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポ
リマー、 （Ｂ）光重合開始剤及び （Ｃ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する光重合性化合物を含み、前記（Ｃ）
成分が次の一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子又はメチル基
を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を表す）
で示される化合物を必須成分として含有する感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメント。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感光性樹脂組成物及びこ
れを用いた感光性エレメントに関する。
れを用いた感光性エレメントに関する。
【０００２】
【従来の技術】印刷配線板の製造、金属の精密加工等の
分野において、エッチング、めっき等の基材の化学的、
電気的手法を用いる際にレジスト材料として感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントを使用するこ
とが知られている。感光性エレメントとしては支持体上
に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使用されてい
る。
分野において、エッチング、めっき等の基材の化学的、
電気的手法を用いる際にレジスト材料として感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントを使用するこ
とが知られている。感光性エレメントとしては支持体上
に感光性樹脂組成物を積層したものが広く使用されてい
る。
【０００３】この感光性樹脂組成物は光で硬化し、未硬
化部は炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液で溶解するも
のが使用されている。このアルカリ水溶液で溶解する感
光性樹脂組成物にはカルボン酸、無水カルボン酸、スル
ホン酸、フェノール性又はアルコール性ヒドロキシル基
等の水／アルカリ媒体中への溶解を可能にする基を有す
る重合体又は共重合体が使用されている（特公昭３５−
１４０６５号公報、特公昭３９−１１１２号公報等）。
しかし、これらの組成物では現在、印刷配線板に要求さ
れている高精度のレリーフ像作成は不可能であり、実用
に供しない。
化部は炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液で溶解するも
のが使用されている。このアルカリ水溶液で溶解する感
光性樹脂組成物にはカルボン酸、無水カルボン酸、スル
ホン酸、フェノール性又はアルコール性ヒドロキシル基
等の水／アルカリ媒体中への溶解を可能にする基を有す
る重合体又は共重合体が使用されている（特公昭３５−
１４０６５号公報、特公昭３９−１１１２号公報等）。
しかし、これらの組成物では現在、印刷配線板に要求さ
れている高精度のレリーフ像作成は不可能であり、実用
に供しない。
【０００４】特公昭５８−１２５７７号公報には可撓性
金属への付着性、感光性エレメントをロール状に保存す
る際のレジストの冷間流れ（コールドフロー）または端
部からの浸み出し（エッジフュージョン）の低下を目的
とする組成物が提案されているが、長鎖のメタアクリレ
ートを共重合しているため剥離時間が長く、半田めっき
をしたのちにアルカリ水溶液で剥離する際に半田が脱落
するなどの問題がある。
金属への付着性、感光性エレメントをロール状に保存す
る際のレジストの冷間流れ（コールドフロー）または端
部からの浸み出し（エッジフュージョン）の低下を目的
とする組成物が提案されているが、長鎖のメタアクリレ
ートを共重合しているため剥離時間が長く、半田めっき
をしたのちにアルカリ水溶液で剥離する際に半田が脱落
するなどの問題がある。
【０００５】特公平１−３６９２４号公報には優れたエ
ッチングまたはめっきレジストとして、また冷間流れ性
の少ない感光性エレメントが示されている。しかし、こ
れらの樹脂組成物は早い現像性や剥離性を得るために吸
水率の高い共重合体を使用するために光硬化した部分も
膨潤し、テント破れ、ラインのギザつき等の問題があ
る。
ッチングまたはめっきレジストとして、また冷間流れ性
の少ない感光性エレメントが示されている。しかし、こ
れらの樹脂組成物は早い現像性や剥離性を得るために吸
水率の高い共重合体を使用するために光硬化した部分も
膨潤し、テント破れ、ラインのギザつき等の問題があ
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解消し、優れた密着性とテント強度、剥離性を得ら
れ、高精度のレリーフ像の形成を可能とする感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントを提供するも
のである。
を解消し、優れた密着性とテント強度、剥離性を得ら
れ、高精度のレリーフ像の形成を可能とする感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントを提供するも
のである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、 （Ａ）カルボキシル基を有するバインダポリマー、 （Ｂ）光重合開始剤及び （Ｃ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエレチン性
不飽和結合を有する光重合性化合物を含み、前記（Ｃ）
成分が一般式（Ｉ）
不飽和結合を有する光重合性化合物を含み、前記（Ｃ）
成分が一般式（Ｉ）
【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子又はメチル基
を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を表す）
で示される化合物を必須成分として含有する感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントに関する。
を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を表す）
で示される化合物を必須成分として含有する感光性樹脂
組成物及びこれを用いた感光性エレメントに関する。
【０００８】以下、本発明について詳述する。本発明に
（Ａ）成分として用いられるカルボキシル基を有するバ
インダポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸
アルキルエステル〔（メタ）アクリル酸とはメタクリル
酸及びアクリル酸を意味する。以下同じ〕と（メタ）ア
クリル酸とこれらと共重合しうるビニルモノマーとの共
重合体等を挙げられる。これらの共重合体は、単独で又
は２種以上を組み合わせて用いられる。
（Ａ）成分として用いられるカルボキシル基を有するバ
インダポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸
アルキルエステル〔（メタ）アクリル酸とはメタクリル
酸及びアクリル酸を意味する。以下同じ〕と（メタ）ア
クリル酸とこれらと共重合しうるビニルモノマーとの共
重合体等を挙げられる。これらの共重合体は、単独で又
は２種以上を組み合わせて用いられる。
【０００９】（メタ）アクリル酸アルキルエステルとし
ては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、
（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル
酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキ
シルエステル等が挙げられる。また、（メタ）アクリル
酸アルキルエステルや（メタ）アクリル酸と共重合しう
るビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル
酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）
アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピ
ル（メタ）アクリレートアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられ
る。
ては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、
（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル
酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキ
シルエステル等が挙げられる。また、（メタ）アクリル
酸アルキルエステルや（メタ）アクリル酸と共重合しう
るビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル
酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）
アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピ
ル（メタ）アクリレートアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられ
る。
【００１０】本発明に（Ｂ）成分として用いられる光重
合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′
−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，
４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−
ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキ
ノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチ
ルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、ベン
ジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−
クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−
メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フ
ルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４
−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾ
ール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
チルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾー
ル二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス
（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘
導体などが挙げられる。これらは単独で又は２種以上を
組み合わせて用いられる。
合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′
−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，
４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−
ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキ
ノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチ
ルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、ベン
ジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−
クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−
メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フ
ルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４
−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾ
ール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
チルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾー
ル二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス
（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘
導体などが挙げられる。これらは単独で又は２種以上を
組み合わせて用いられる。
【００１１】本発明に成分（Ｃ）として用いられる少な
くとも一つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する
光重合性化合物のうち、必須成分として含まれる一般式
（Ｉ）で示される化合物としては、例えば、ユニレジン
ＮＯＤ−１０Ｅ（一般式（Ｉ）でＲ1はメチル基、Ｒ2は
水素原子、ｍが１０、ｎが９、新中村化学株式会社、商
品名）、ユニレジンＮＯＤ−４Ｅ（一般式（Ｉ）でＲ1
はメチル基、Ｒ2は水素原子、ｍが４、ｎが９、新中村
化学株式会社、商品名）等が用いられる。
くとも一つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する
光重合性化合物のうち、必須成分として含まれる一般式
（Ｉ）で示される化合物としては、例えば、ユニレジン
ＮＯＤ−１０Ｅ（一般式（Ｉ）でＲ1はメチル基、Ｒ2は
水素原子、ｍが１０、ｎが９、新中村化学株式会社、商
品名）、ユニレジンＮＯＤ−４Ｅ（一般式（Ｉ）でＲ1
はメチル基、Ｒ2は水素原子、ｍが４、ｎが９、新中村
化学株式会社、商品名）等が用いられる。
【００１２】また、成分（Ｃ）として、必須成分である
一般式（Ｉ）で示される化合物以外の化合物としては、
例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロー
ルプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメ
タントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタ
ンテトラ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜
１４のもの）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート等の多価アルコールにα、β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物、ビスフェノールＡ
ジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノ
ールＡトリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノールＡデカオキシエチレンジ（メタ）アクリレ
ート等のビスフェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリルレート、ビスフェノールＡジグリ
シジルエーテルアクリレート等のグリシジル基含有化合
物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合
物、無水フタル酸等の多価カルボン酸とβ−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート等の水酸基及びエチレン性
不飽和基を有する物質とのエステル化物、（メタ）アク
リル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエス
テル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）ア
クリル酸２−エチルヘキシルエステル等の（メタ）アク
リル酸のアルキルエステルなどが挙げられる。
一般式（Ｉ）で示される化合物以外の化合物としては、
例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロー
ルプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメ
タントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタ
ンテトラ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜
１４のもの）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート等の多価アルコールにα、β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物、ビスフェノールＡ
ジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノ
ールＡトリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノールＡデカオキシエチレンジ（メタ）アクリレ
ート等のビスフェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリルレート、ビスフェノールＡジグリ
シジルエーテルアクリレート等のグリシジル基含有化合
物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合
物、無水フタル酸等の多価カルボン酸とβ−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート等の水酸基及びエチレン性
不飽和基を有する物質とのエステル化物、（メタ）アク
リル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエス
テル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）ア
クリル酸２−エチルヘキシルエステル等の（メタ）アク
リル酸のアルキルエステルなどが挙げられる。
【００１３】本発明において、成分（Ａ）の配合量は、
成分（Ａ）及び成分（Ｃ）の合計量１００重量部に対し
て４０〜８０重量部の範囲とすることが好ましい。４０
重量部未満では光硬化物が脆くなり易く、また感光性フ
ィルムとして用いた場合、塗膜性に劣る傾向があり、８
０重量部を超えると感度が不充分となる傾向がある。
成分（Ａ）及び成分（Ｃ）の合計量１００重量部に対し
て４０〜８０重量部の範囲とすることが好ましい。４０
重量部未満では光硬化物が脆くなり易く、また感光性フ
ィルムとして用いた場合、塗膜性に劣る傾向があり、８
０重量部を超えると感度が不充分となる傾向がある。
【００１４】また、成分（Ｃ）の配合量は、成分（Ａ）
及び成分（Ｃ）の合計量１００重量部に対し、２０〜６
０重量部の範囲とすることが好ましい。この配合量が２
０重量部未満では感度が不充分となる傾向があり、６０
重量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
及び成分（Ｃ）の合計量１００重量部に対し、２０〜６
０重量部の範囲とすることが好ましい。この配合量が２
０重量部未満では感度が不充分となる傾向があり、６０
重量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
【００１５】（Ｃ）成分中の必須成分である一般式
（Ｉ）で示されるモノマーの配合量は、（Ｃ）成分１０
０重量部に対して１０〜１００重量部であることが好ま
しい。この配合量が１０重量部未満では剥離時間が長く
なる傾向がある。
（Ｉ）で示されるモノマーの配合量は、（Ｃ）成分１０
０重量部に対して１０〜１００重量部であることが好ま
しい。この配合量が１０重量部未満では剥離時間が長く
なる傾向がある。
【００１６】一般式（Ｉ）におけるｍ及びｎは、１〜２
０の整数とされる。ｍが２０を超えると、感度、強度が
劣る。また、ｎが２０を超えると感度、密着性が劣る。
０の整数とされる。ｍが２０を超えると、感度、強度が
劣る。また、ｎが２０を超えると感度、密着性が劣る。
【００１７】光重合開始剤成分（Ｂ）の配合量は、成分
（Ａ）及び成分（Ｃ）の合計量１００重量部に対して
０．１〜２０重量部の範囲とすることが好ましい。０．
１重量部未満では感度が不充分となる傾向があり、２０
重量部を超えると露光の際に組成物の表面での吸収が増
大して内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
（Ａ）及び成分（Ｃ）の合計量１００重量部に対して
０．１〜２０重量部の範囲とすることが好ましい。０．
１重量部未満では感度が不充分となる傾向があり、２０
重量部を超えると露光の際に組成物の表面での吸収が増
大して内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
【００１８】本発明の感光性樹脂組成物には、染料、発
色剤、可塑剤、顔料、難燃剤、安定剤、密着性付与剤等
を必要に応じて添加してもよい。
色剤、可塑剤、顔料、難燃剤、安定剤、密着性付与剤等
を必要に応じて添加してもよい。
【００１９】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアル
コール等に溶解、混合させることにより、均一な溶液と
できる。
を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアル
コール等に溶解、混合させることにより、均一な溶液と
できる。
【００２０】本発明の感光性樹脂組成物は、これを支持
体上に塗布、乾燥し、感光性エレメントとして使用する
こともできる。支持体としては、重合体フィルム、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン等からなるフィルムが用いられ、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが好ましい。これらの重合体
フィルムは、後に感光層から除去可能でなくてはならな
いため、除去が不可能となるような表面処理が施された
ものであったり、材質であったりしてはならない。これ
らの重合体フィルムの厚さは、通常５〜１００μｍ、好
ましくは１０〜３０μｍである。これらの重合体フィル
ムの一つは感光層の支持フィルムとして、他の一つは感
光層の保護フィルムとして感光層の両面に積層してもよ
い。
体上に塗布、乾燥し、感光性エレメントとして使用する
こともできる。支持体としては、重合体フィルム、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン等からなるフィルムが用いられ、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが好ましい。これらの重合体
フィルムは、後に感光層から除去可能でなくてはならな
いため、除去が不可能となるような表面処理が施された
ものであったり、材質であったりしてはならない。これ
らの重合体フィルムの厚さは、通常５〜１００μｍ、好
ましくは１０〜３０μｍである。これらの重合体フィル
ムの一つは感光層の支持フィルムとして、他の一つは感
光層の保護フィルムとして感光層の両面に積層してもよ
い。
【００２１】本発明の感光性エレメントを用いてフォト
レジスト画像を製造するに際しては、前記の保護フィル
ムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感
光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層す
る。積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制
限はない。感光層の加熱、圧着は、通常、９０〜１３０
℃、圧着圧力３kg/cm2で行われるが、これらの条件には
特に制限はない。感光層を前記のように加熱すれば予め
基板を予熱処理することは必要でないが、積層性をさら
に向上させるために基板の予熱処理を行うこともでき
る。
レジスト画像を製造するに際しては、前記の保護フィル
ムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感
光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層す
る。積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制
限はない。感光層の加熱、圧着は、通常、９０〜１３０
℃、圧着圧力３kg/cm2で行われるが、これらの条件には
特に制限はない。感光層を前記のように加熱すれば予め
基板を予熱処理することは必要でないが、積層性をさら
に向上させるために基板の予熱処理を行うこともでき
る。
【００２２】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光
に画像的に露光される。この際感光層上に存在する重合
体フィルムが透明の場合には、そのまま露光してもよ
く、また、不透明の場合には、当然除去する必要があ
る。感光層の保護という点からは、重合体フィルムは透
明で、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通
して露光することが好ましい。
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光
に画像的に露光される。この際感光層上に存在する重合
体フィルムが透明の場合には、そのまま露光してもよ
く、また、不透明の場合には、当然除去する必要があ
る。感光層の保護という点からは、重合体フィルムは透
明で、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通
して露光することが好ましい。
【００２３】活性光は、公知の活性光源、例えば、カー
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、その他
から発生する光が用いられる。感光層に含まれる光開始
剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大であるの
で、その場合は活性光源は紫外線を有効に放射するもの
にすべきである。もちろん、光開始剤が可視光線に感受
するもの、例えば、９，１０−フェナンスレンキノン等
である場合には、活性光としては可視光が用いられ、そ
の光源としては前記のもの以外に写真用フラッド電球、
太陽ランプなども用いられる。
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、その他
から発生する光が用いられる。感光層に含まれる光開始
剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大であるの
で、その場合は活性光源は紫外線を有効に放射するもの
にすべきである。もちろん、光開始剤が可視光線に感受
するもの、例えば、９，１０−フェナンスレンキノン等
である場合には、活性光としては可視光が用いられ、そ
の光源としては前記のもの以外に写真用フラッド電球、
太陽ランプなども用いられる。
【００２４】次いで、露光後、感光層上に重合体フィル
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッビング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、リチウム、ナトリウムあるいはカリウムの水酸化物
等の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウムあるいはカ
リウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸
カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸
塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のア
ルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特に、炭酸ナ
トリウムの水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水
溶液のｐＨは、好ましくは９〜１１の間であり、また、
その温度は感光層の現像性に合わせて調節される。該ア
ルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進
させるための少量の有機溶剤などを混入させてもよい。
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッビング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、リチウム、ナトリウムあるいはカリウムの水酸化物
等の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウムあるいはカ
リウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸
カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸
塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のア
ルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特に、炭酸ナ
トリウムの水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水
溶液のｐＨは、好ましくは９〜１１の間であり、また、
その温度は感光層の現像性に合わせて調節される。該ア
ルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進
させるための少量の有機溶剤などを混入させてもよい。
【００２５】さらに、印刷配線板を製造するに際して
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露光
している基板の表面をエッチング、めっき等の公知方法
で処理する。次いで、フォトレジスト画像は、通常、現
像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の水
溶液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液として
は、例えば、１〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶液等
が用いられる。
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露光
している基板の表面をエッチング、めっき等の公知方法
で処理する。次いで、フォトレジスト画像は、通常、現
像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の水
溶液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液として
は、例えば、１〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶液等
が用いられる。
【００２６】
【実施例】次に、本発明を実施例により詳しく説明する
が、本発明はこれらにより制限されるものではない。 実施例１〜２及び比較例１〜３ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル
／メタクリル酸エチル（重合比２２／４５／２７／６
（重量比）、重量平均分子量１１万）の４０重量％メチ
ルセロソルブ／トルエン（重量比６／４）溶液１５０ｇ
（固形分６０ｇ）（（Ａ）成分）、トリブロモメチルフ
ェニルスルフォン１．０ｇ、ロイコクリスタルバイオレ
ット１ｇ、マラカイトグリーン０．０５ｇ、メチルエチ
ルケトン１０ｇ、トルエン１０ｇ、メタノール３ｇ、ベ
ンゾフェノン４．５ｇ（（Ｂ）成分）及びＮ，Ｎ′−テ
トラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（（Ｂ）成分）０．２ｇを配合し溶液を得た。
が、本発明はこれらにより制限されるものではない。 実施例１〜２及び比較例１〜３ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル
／メタクリル酸エチル（重合比２２／４５／２７／６
（重量比）、重量平均分子量１１万）の４０重量％メチ
ルセロソルブ／トルエン（重量比６／４）溶液１５０ｇ
（固形分６０ｇ）（（Ａ）成分）、トリブロモメチルフ
ェニルスルフォン１．０ｇ、ロイコクリスタルバイオレ
ット１ｇ、マラカイトグリーン０．０５ｇ、メチルエチ
ルケトン１０ｇ、トルエン１０ｇ、メタノール３ｇ、ベ
ンゾフェノン４．５ｇ（（Ｂ）成分）及びＮ，Ｎ′−テ
トラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（（Ｂ）成分）０．２ｇを配合し溶液を得た。
【００２７】この溶液に表１に示す（Ｃ）成分を溶解さ
せて感光性樹脂組成物の溶液を得た。次いで、この感光
性樹脂組成物の溶液を２５μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対
流式乾燥機で約１０分間乾燥して感光性エレメントを得
た。感光性樹脂組成物層の乾燥後の膜厚は、５０μｍで
あった。
せて感光性樹脂組成物の溶液を得た。次いで、この感光
性樹脂組成物の溶液を２５μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対
流式乾燥機で約１０分間乾燥して感光性エレメントを得
た。感光性樹脂組成物層の乾燥後の膜厚は、５０μｍで
あった。
【００２８】一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業社製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を＃６００
相当のブラシを持つ研磨機（三啓社製）を用いて研磨
し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層板を
８０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組成物
層を１２０℃に加熱しながらラミネートした。
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業社製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を＃６００
相当のブラシを持つ研磨機（三啓社製）を用いて研磨
し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層板を
８０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組成物
層を１２０℃に加熱しながらラミネートした。
【００２９】次に、高圧水銀灯ランプを有する露光機
（オーク（株）製）ＨＭＷ−２０１Ｂを用いてネガとし
てストーファー２１段ステップタブレットを試験片の上
に置いて６０mJ/cm2露光した。次にポリエチレンテレフ
タレートフィルムを剥離し、３０℃で１重量％炭酸ナト
リウム水溶液を６０秒間スプレーすることにより、未露
光部分を除去した。さらに、銅張り積層板上に形成され
た光硬化膜のステップタブレットの段数を測定すること
により、感光性樹脂組成物の光感度を評価した。その結
果を表１に示す。光感度は、ステップタブレットの段数
で示され、このステップタブレットの段数が高いほど、
光感度が高いことを示す。
（オーク（株）製）ＨＭＷ−２０１Ｂを用いてネガとし
てストーファー２１段ステップタブレットを試験片の上
に置いて６０mJ/cm2露光した。次にポリエチレンテレフ
タレートフィルムを剥離し、３０℃で１重量％炭酸ナト
リウム水溶液を６０秒間スプレーすることにより、未露
光部分を除去した。さらに、銅張り積層板上に形成され
た光硬化膜のステップタブレットの段数を測定すること
により、感光性樹脂組成物の光感度を評価した。その結
果を表１に示す。光感度は、ステップタブレットの段数
で示され、このステップタブレットの段数が高いほど、
光感度が高いことを示す。
【００３０】別の試験片を６０mJ/cm2で露光し、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムを除去し、クロスカット
試験（ＪＩＳ Ｋ−５４００）を行った。また、５cm×
５cmの試験片を６０mJ/cm2で露光後６０秒現像した後５
０℃に加温した３重量％ＮａＯＨに浸漬し、レジストが
剥離する時間を測定し、剥離片の大きさも同時に測定し
た。
チレンテレフタレートフィルムを除去し、クロスカット
試験（ＪＩＳ Ｋ−５４００）を行った。また、５cm×
５cmの試験片を６０mJ/cm2で露光後６０秒現像した後５
０℃に加温した３重量％ＮａＯＨに浸漬し、レジストが
剥離する時間を測定し、剥離片の大きさも同時に測定し
た。
【００３１】また１００μｍライン＆スペースのネガを
用いて上記と同様に露光、現像し、塩化第２銅エッチィ
ング液をサンケー製スプレーエッチィング装置によりス
プレー圧力３kgf/cm2で６０秒間スプレーし、試験片を
エッチィングし、レジストを剥離後ラインのギザを観察
した。
用いて上記と同様に露光、現像し、塩化第２銅エッチィ
ング液をサンケー製スプレーエッチィング装置によりス
プレー圧力３kgf/cm2で６０秒間スプレーし、試験片を
エッチィングし、レジストを剥離後ラインのギザを観察
した。
【００３２】さらにクロスカット試験後のサンプルをエ
ッチィングし、切断部のエッチィング液の浸み込みを観
察した。
ッチィングし、切断部のエッチィング液の浸み込みを観
察した。
【００３３】次に１．６mm厚の銅張積層板に直径６mmの
穴を１００個あけた基材に感光性樹脂組成物の積層体を
両面に積層し、６０mJ/cm2露光し、６０秒間現像した。
穴を１００個あけた基材に感光性樹脂組成物の積層体を
両面に積層し、６０mJ/cm2露光し、６０秒間現像した。
【００３４】次にこの穴の強度を直径１．５mmの挿入径
の円柱を用いてレオメーター（ＦＵＤＯＨ社製）により
破断までの強度と伸びを測定した。これらの結果をまと
めて表１に示した。
の円柱を用いてレオメーター（ＦＵＤＯＨ社製）により
破断までの強度と伸びを測定した。これらの結果をまと
めて表１に示した。
【００３５】
【表１】
【００３６】表１から明らかなように、一般式（Ｉ）で
示される化合物を必須成分として含む（Ｃ）成分配合す
ることにより、密着性に優れ、テント強度が強く、剥離
時間も短く、剥離片の大きさも小さな感光性樹脂組成物
を得ることができる。
示される化合物を必須成分として含む（Ｃ）成分配合す
ることにより、密着性に優れ、テント強度が強く、剥離
時間も短く、剥離片の大きさも小さな感光性樹脂組成物
を得ることができる。
【００３７】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントは、金属への密着性、テント強
度、剥離性等に優れたものである。
いた感光性エレメントは、金属への密着性、テント強
度、剥離性等に優れたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/18 Ｄ 7511−4Ｅ
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）カルボキシル基を有するバインダ
ポリマー、 （Ｂ）光重合開始剤及び （Ｃ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する光重合性化合物 を含み、前記（Ｃ）成分が一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に水素原子又はメチル基
を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を表す）
で示される化合物を必須成分として含有する感光性樹脂
組成物。 - 【請求項２】 （Ｃ）成分中の一般式（Ｉ）で示される
エチレン性不飽和化合物の含有量が、（Ｃ）成分１００
重量部に対して１０〜１００重量部である請求項１記載
の感光性樹脂組成物。 - 【請求項３】 （Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分の使用割
合が、 （Ａ）４０〜８０重量部 （Ｂ）（Ａ）及び（Ｃ）の合計量１００重量部に対して
０．１〜２０重量部及び （Ｃ）２０〜６０重量部 （但し（Ａ）及び（Ｃ）の合計量を１００重量部とす
る）である請求項１、２又は３記載の感光性樹脂組成
物。 - 【請求項４】 請求項１、２又は３記載の感光性樹脂組
成物を支持体上に塗布、乾燥した感光性エレメント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19503693A JPH07134407A (ja) | 1993-05-24 | 1993-08-06 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12030693 | 1993-05-24 | ||
| JP5-120306 | 1993-05-24 | ||
| JP19503693A JPH07134407A (ja) | 1993-05-24 | 1993-08-06 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07134407A true JPH07134407A (ja) | 1995-05-23 |
Family
ID=26457916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19503693A Pending JPH07134407A (ja) | 1993-05-24 | 1993-08-06 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07134407A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11218915A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| WO2005022260A1 (ja) * | 2003-08-28 | 2005-03-10 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法 |
-
1993
- 1993-08-06 JP JP19503693A patent/JPH07134407A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11218915A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| WO2005022260A1 (ja) * | 2003-08-28 | 2005-03-10 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法 |
| US7736834B2 (en) | 2003-08-28 | 2010-06-15 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element employing it, resist pattern forming method, process for manufacturing printed circuit board and method for removing photocured product |
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