JPH11218915A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント

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JPH11218915A
JPH11218915A JP10019555A JP1955598A JPH11218915A JP H11218915 A JPH11218915 A JP H11218915A JP 10019555 A JP10019555 A JP 10019555A JP 1955598 A JP1955598 A JP 1955598A JP H11218915 A JPH11218915 A JP H11218915A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 耐めっき性(特に耐金めっき性)、耐薬品性
等に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エ
レメントを提供する。 【解決手段】 A)メタクリル酸又はアクリル酸8〜1
2重量%及び単量体88〜92%からなるアクリル系モ
ノマーを含むビニルモノマーを共重合して得られる平均
分子量10,000〜40,000のアルカリ可溶なビ
ニル系共重合物を含むバインダーポリマーを40〜80
部、(B)アクリレート化合物を含み分子内に重合可能
なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を20〜
60部及び(C)光重合開始剤を(A)と(B)成分1
00に対して0.01〜5部含有してなる感光性樹脂組
成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、印刷配線板の製造、金属の精密加
工等の分野において、エッチング、めっき等に用いられ
るレジスト材料としては、感光性樹脂組成物及び感光性
フィルムが広く用いられている。また、印刷配線板の製
造方法としては、近年印刷配線板が高密度化、パターン
が細線化しているため、めっき法が主流になりつつあ
る。
【0003】このめっき法は、チップ搭載のためのスル
ーホール及び電気回路を除いてレジストを被覆し、電気
めっきによりスルーホール及び電気回路を作製し、その
後、レジスト剥離、エッチングによって電気回路の作製
を行う方法である。めっき法におけるめっき液には、ピ
ロリン酸銅、硫酸銅、はんだ、ニッケル、パラジウム、
金等が用いられる。
【0004】耐めっき性を向上したレジストとしては、
例えばスチレン系単量体を共重合したポリマーを用いた
ものが知られている。(特公昭55−38961号公
報、特公昭54−25957号公報、特開平2−289
607号公報、特開平4−347859号公報、特開平
4−285960号公報)しかしながら、このレジスト
においては、耐めっき性が不十分である。また、その他
の耐めっき性向上手法として、下地金属(主に銅が用い
られている)と感光性フィルムとの密着性を増大させる
ため、感光性樹脂組成物に添加剤を配合する方法が知ら
れている。この添加剤としては、複素環状化合物(特開
昭53−702号公報)、イミダゾール又はその誘導体
(特開昭55−65203号公報)、フタラゾン又はそ
の誘導体(特開昭55−65202号公報)、テトラゾ
ール又はその誘導体(特開昭59−125726号公
報)、ロフィン(特開昭59−125727号公報)が
知られている。
【0005】しかし、これらの添加剤を用いてもピロリ
ン酸銅めっき、金めっき等のめっきとして非常に過酷な
処理を行う場合には、レジスト膜のはがれ、持ち上が
り、めっきのもぐり(レジストの下にめっきが析出する
現象)等が発生する問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題を解決し、耐めっき性(特に耐金めっき性)、
耐薬品性等に優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いた
感光性エレメントを提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)メタク
リル酸又はアクリル酸8〜12重量%及び一般式(I)
で表される単量体88〜92重量%からなるアクリル系
モノマーを含むビニルモノマーを共重合して得られる重
量平均分子量10,000〜40,000のアルカリ可
溶なビニル系共重合物を含むバインダーポリマーを40
〜80重量部、 CH2=C(R1)−COOR2 (I) (式中、R1は水素原子又はメチル基を意味し、R2は炭
素数1〜12のアルキル基を意味する。) (B)一般式(II)で表されるアクリレート化合物 CH2=CRCOO(CH2CH(CH3)O)m(CH2CH2O)n− −(CH2CH(CH3)O)mCOCR=CH2 (II) (式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、m及びnは
各々1〜30の整数である。)を含み分子内に重合可能
なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を20〜
60重量部及び(C)光重合開始剤を(A)と(B)成
分の総量100重量部に対して0.01〜5重量部含有
してなる感光性樹脂組成物に関する。
【0008】また、本発明は、前記感光性樹脂組成物の
層を支持体上に積層してなる感光性エレメントに関す
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳述する。
【0010】本発明に(A)成分として用いられるバイ
ンダポリマーとしては、メタクリル酸又はアクリル酸8
〜12重量%及び前記一般式(I)で表される単量体8
8〜92重量%からなるアクリル系モノマーを含むビニ
ルモノマーを共重合して得られる重量平均分子量10,
000〜40,000のアルカリ可溶なビニル系共重合
物を含むものである。ビニル系共重合物の重量平均分子
量が10,000未満では硬化後の膜強度が低下し、4
0,000を超えると現像時間及び剥離時間が長くな
る。好ましい重量平均分子量は20,000〜35,0
00である。なお重量平均分子量はGPCを用いて標準
ポリスチレン換算で測定したものを用いた。
【0011】ビニル系共重合物の共重合に用いられる前
記アクリル系モノマーにおけるメタクリル酸又はアクリ
ル酸の使用割合は8〜12重量%であり、この割合が8
重量%未満であると、現像時間や剥離時間が長くなり、
現像残りや剥離残りが生じ、12重量%を超えると耐金
めっき性が低下する。
【0012】ビニル系共重合物の共重合に用いられる前
記一般式(I)で表される単量体としては、例えば、
(メタ)アクリル酸アルキルエステル[(メタ)アクリ
ル酸とはメタクリル酸及びアクリル酸を意味する。以下
同じ]が挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルエス
テルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチルエス
テル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)ア
クリル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチ
ルヘキシルエステル等が挙げられる。
【0013】また、ビニル系共重合物の共重合にはメタ
クリル酸又はアクリル酸と一般式(I)で表される単量
体からなるアクリル系モノマーと共重合しうる他のビニ
ルモノマーを用いることができる。このような他のビニ
ルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸テト
ラヒドロフルフリルエステル、(メタ)アクリル酸ジメ
チルアミノエチルエステル、(メタ)アクリル酸ジエチ
ルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジルエス
テル、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリ
レート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メ
タ)アクリレート、アクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。
これらの他のビニルモノマーは、ビニル系共重合物の共
重合に用いられるビニルモノマー中に好ましくは0〜2
0重量%用いられる。
【0014】上記ビニル系共重合物は、単独で又は2種
類以上を組み合わせて用いることができ、(A)成分の
バインダーポリマー中に50〜100重量%含まれてい
ることが好ましい。
【0015】本発明に(B)成分として用いられる分子
内に重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化
合物は、一般式(II)で表されるアクリレート化合物
を含むものである。 CH2=CRCOO(CH2CH(CH3)O)m(CH2CH2O)n− −(CH2CH(CH3)O)mCOCR=CH2 (II) (式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、m及びnは
各々1〜30の整数である) 一般式(II)中、mは2〜10とすることが好まし
く、3〜8とすることがより好ましく、5〜6とするこ
とが特に好ましい。mが2未満ではレジスト形状が悪化
する傾向があり、10を超えると解像度が悪化する傾向
にある。また、nは1〜10とすることが好ましく、4
〜9とすることがより好ましく、5〜8とすることが特
に好ましい。nが1未満では解像度が悪化する傾向があ
り、10を超えるとレジスト形状が悪化する傾向があ
る。
【0016】よって、mとnの和は5〜30とすること
が好ましく、10〜25とすることがより好ましく、1
5〜20とすることが特に好ましい。mとnの和が5未
満ではレジスト形状が悪化する傾向があり、30を超え
ると解像度が悪化する傾向がある。また、m及びnが3
0を超えると、得られるレジストが脆くなる傾向があ
る。
【0017】一般式(II)における(CH2CH(C
3)O)及び(CH2CH2O)は、必ずしもそれぞれ
この位置でm個連続及びn個連続して存在する必要はな
く、すなわち、ランダムに存在してもよい。
【0018】一般式(II)で表されるアクリレート化
合物の具体例としては、例えば2つのRがメチル基、m
が6、nが6であるメタクリレート化合物(新中村化学
工業社製、商品、PEG−700−6E)及び2つのR
が水素原子、mが2、nが2であるアクリレート化合物
(第一工業製薬社製、商品名、EP−22)等が挙げら
れる。
【0019】本発明における(B)分子内に重合可能な
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物は、必ず一
般式(II)で表されるアクリレート化合物を含有して
いれば、それ以外の成分を含有していてもよい。
【0020】一般式(II)で表されるアクリレート化
合物以外の光重合性化合物としては、例えば、多価アル
コールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られ
る化合物、2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエト
キシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタ
クリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン、グリシ
ジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を反応さ
せて得られる化合物、アクリル酸アルキルエステル、メ
タクリル酸アルキルエステル、ウレタンアクリレート等
が挙げられる。
【0021】多価アルコールとしては、例えば、オキシ
エチレン基の数が2〜14であるポリエチレングリコー
ルジアクリレート、オキシエチレン基の数が2〜14で
あるポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラ
メチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタン
テトラメタクリレート、オキシプロピレン基の数が2〜
14であるポリプロピレングリコールジアクリレート、
オキシプロピレン基の数が2〜14であるポリプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート
等が挙げられる。
【0022】α,β−不飽和カルボン酸としては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。
【0023】2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエ
トキシ)フェニル]プロパンとしては、例えば、2,2
−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フェニル]プ
ロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシトリエトキ
シ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリ
ロキシペンタエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−
ビス[4−(アクリロキシデカエトキシ)フェニル]プ
ロパン等が挙げられる。
【0024】2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリ
エトキシ)フェニル]プロパンとしては、例えば、2,
2−ビス[4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニ
ル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキシト
リエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−
(メタクリロキシペンタエトキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2−ビス[4−(メタクリロキシデカエトキ
シ)フェニル]プロパン等が挙げられ、2,2−ビス
[4−(メタクリロキシペンタエトキシ)フェニル]プ
ロパンとしては、BPE−500(新中村化学工業社
製)等が挙げられる。
【0025】グリシジル基含有化合物としては、例え
ば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルト
リアクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジ
ルエーテルトリメタクリレート、ビスフェノールAビス
(ジグリシジルエーテルアクリレート)、ビスフェノー
ルAビス(ジグリシジルエーテルメタクリレート)等が
挙げられる。
【0026】アクリル酸アルキルエステルとしては、例
えば、アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエ
ステル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エ
チルヘキシルエステル等が挙げられる。
【0027】メタクリル酸アルキルエステルとしては、
例えば、メタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸エ
チルエステル、メタクリル酸ブチルエステル、メタクリ
ル酸2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
【0028】ウレタンアクリレートとしては、例えば、
ウレタンアクリレートビスコート#831(大阪有機化
学工業社製)、ポリエーテル型ウレタンアクリレートB
TG−A(共栄社油脂化学工業社製)、ポリエステル型
ウレタンアクリレート(共栄社油脂化学工業社製)、ウ
レタンアクリレートフォトマー6008(サンノプコ社
製)、ウレタンジアリレートケムリンク9503(サー
トマ社製)等のウレタン(メタ)アクリレートが挙げら
れる。これらは単独で又は、2種類以上を組み合わせて
使用される。
【0029】また、下記一般式(III)で表される化
合物が挙げられる。
【0030】
【化1】 (式中、2つのR3はそれぞれ独立に水素原子又はメチ
ル基であり、Xは−CH2CH2O−、Yは−CH2CH
(CH3)O−を表し、n、p、q、mはそれぞれ独立
に1〜14の整数である。) 本発明における(C)成分として用いられる光重合性開
始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、N,N−テト
ラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラ
ーズケトン)、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、2−エチルアントラキノン、フェナント
レキノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エ
チルベンゾイン等のベンゾイン、ベンジルジメチルケタ
ール等のベンジル誘導体、2,2′−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−
1,2′−ビイミダゾール、2−(o−クロロフェニ
ル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフ
ェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェ
ニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−
(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5
−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−メ
トキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量体、
2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカプト
フェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等
の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、9−
フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′−アクリ
ジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられ
る。これらは単独で又は、2種類以上組み合わせて使用
される。
【0031】本発明の感光性樹脂組成物において、
(A)成分の配合量は、塗膜性と光硬化性のバランスの
点から、(A)成分及び(B)成分の総量100重量部
に対して、40〜80重量部であり、50〜70重量部
とすることが好ましく、55〜65重量部とすることが
より好ましい。
【0032】この配合量が、40重量部未満では、得ら
れる感光性エレメントが塗膜性に劣り、80重量部を超
えると、光硬化性が不十分となる。
【0033】本発明の感光性樹脂組成物において、
(B)成分中の一般式(II)で表されるアクリレート
化合物の配合量は、(B)成分の総量100重量部に対
し、10〜90重量部とすることが好ましく、25〜7
5重量部とすることがより好ましく、40〜60重量部
とすることが特に好ましい。この配合量が、10重量部
未満では、レジスト形状が悪化する傾向があり、90重
量部を超えると、解像度が悪化する傾向にある。
【0034】本発明における感光性樹脂組成物におい
て、(B)成分の配合量の総量は、(A)成分と(B)
成分の総量100重量部に対して、20〜60重量部で
あり、30〜50重量部とすることが好ましく、35〜
45重量部とすることがより好ましい。
【0035】この配合量が20重量部未満では、光硬化
性が不十分となり、60重量部を超えると、塗膜性が悪
化する。
【0036】本発明の感光性樹脂組成物における(C)
成分の配合量は、感度と解像度バランスの点から、
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、0.01〜5重量部であり、0.05〜4重量部と
することが好ましく、0.1〜3重量部とすることがよ
り好ましい。この配合量が0.01重量部未満では、感
度が不十分となり、5重量部を超えると解像度が悪化す
る。
【0037】本発明の感光性樹脂組成物には、上記した
(A)成分、(B)成分及び(C)成分以外に、必要に
応じて、染料、顔料、発色剤、可塑剤、安定剤、密着性
付与剤等の添加剤を含有させてもよい。染料、顔料、発
色剤としては、例えば、ロイコクリスタルバイオレッ
ト、マラカイトグリーン等が挙げられる。可塑剤として
は、例えば、p−トルエンスルホン酸アミド等が挙げら
れる。安定剤としては、例えば、アンテージ500(川
口化学工業社製)等が挙げられる。密着性付与剤として
は、例えば、ベンゾトリアゾール等が挙げられる。これ
らの添加量は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用することができる。
【0038】本発明の感光性エレメントは、前記本発明
の感光性樹脂組成物の層を支持体上に積層したものであ
る。
【0039】本発明の感光性樹脂組成物の層を支持体上
に積層する方法としては、例えば、前記本発明の感光性
樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、支持体上に塗布し、
乾燥させる方法が挙げられる。有機溶剤としては、例え
ば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、クロロホルム、塩化メチレン、ジメチルホルムアミ
ド、メタノール、エタノール等が挙げられ、これらは、
単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
【0040】支持体としては、感光性エレメントの製造
時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有しているものであれば
特に限定されず、公知のフィルムを使用できる。このよ
うな支持体としては、例えば、重合体フィルム(ポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム
等)などが挙げられ、これらの重合体フィルムの中で
は、透明性の点からポリエチレンテレフタレートフィル
ムが好ましい。これらの重合フィルムは、後の工程で感
光層(感光性樹脂組成物)から除去可能でなくてはなら
ないため、使用される重合体フィルムは、除去が不可能
となるような材質であったり、表面処理が施されていな
いことが必要である。
【0041】塗工方法としては特に制限はなく公知の方
法が使用でき、例えば、ナイフコート法、ローリーコー
ト法、スレーコート法等が挙げられる。乾燥は、例え
ば、支持体上への塗布操作の後、乾燥機を用いて加熱す
ることによって行うことができる。加熱温度は、50〜
175℃とすることが好ましく、70〜110℃とする
ことがより好ましい。加熱温度が、50℃未満では、感
光層の中に多量の有機溶剤が残存する傾向があり、17
5℃を超えると感光層が変色する傾向がある。加熱時間
は、30〜900秒とすることが好ましく、30〜60
0秒とすることがより好ましい。加熱時間が30秒未満
では、感光層の中に多量の有機溶剤が残存する傾向があ
り、900秒を超えると感光層が変色する傾向がある。
また、感光層中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機
溶剤の拡散を防止する点から、2重量%以下とすること
が好ましい。
【0042】感光層の厚さは、用途により適宜選択され
るが感光層の厚さで、10〜100μm程度とされる。
【0043】本発明の感光性エレメントは、支持体上の
感光層に対する外部からの損傷や異物の付着等を防止す
るため、感光層が保護フィルム等で被覆されたものであ
ることが好ましい。保護フィルムとしては、感光層と支
持体との接着よりも、感光層と保護フィルムとの接着力
の方が小さいものであれば特に限定はなく、公知のもの
が使用でき、例えば、ポリオレフィンフィルム(ポリエ
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等)、ポリエ
ステルフィルムなどが挙げられる。
【0044】本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレ
メントを用いることにより、本発明の感光性樹脂組成物
の層を基板上に積層することができる。本発明の感光性
樹脂組成物の層を基板上に積層する方法としては、本発
明の感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、直後基板
に塗布し乾燥させる方法。本発明の感光性エレメントを
用いて保護フィルムが存在する場合には、それを除去し
た後、感光層を加熱しながら基板に圧着させる方法等が
挙げられる。
【0045】基板としては、例えば、銅基板、ニッケル
基板、クロム基板等が挙げられる。
【0046】本発明の感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶
解させ、直後、基板に塗布し乾燥させる方法において、
使用される有機溶剤としては、前記感光性エレメント作
製時に使用される有機溶剤等が挙げられる。
【0047】塗布方法としては、特に制限はなく公知の
方法が使用でき、例えば、ディップコート法、フローコ
ート法等が挙げられる。
【0048】乾燥は、例えば基板上への塗布操作の後、
乾燥機を用いて加熱することによって行うことができ
る。加熱温度及び時間は、前記感光性エレメント作製時
の塗布操作後の乾燥操作での加熱温度及び時間に従うこ
とができる。また、感光層の厚さや感光層中の残存有機
溶剤量も、前記感光性エレメント作製時の感光層の厚さ
や、感光層中の残存有機溶剤量と同様である。更に、得
られた感光層には、前記感光性エレメント作製の場合と
同様に、感光層を保護フィルム等で被覆することが好ま
しい。
【0049】本発明の感光性エレメントを用いて、保護
フィルムが存在する場合には、それを除去した後、感光
層を加熱しながら基板に圧着させる方法において、感光
層の加熱温度は、通常、90〜130℃とされ、圧着圧
力は、通常、3kgf/cm 2とされるが、これらの条
件には特に制限はない。
【0050】感光層を前記のように加熱すれば、予め基
板を予熱処理することは必要でないが、積層性を更に向
上させるために、基板を予熱処理することが好ましい。
【0051】基板上に積層された感光層は、ネガフィル
ム又はポジフィルムを通じて活性光線で画像的に露光さ
れる。その際、感光層上に存在する支持体が透明である
場合は、そのまま露光してもよいが、不透明である場合
は、露光前に支持体を除去することが必要である。な
お、感光層の保護という点からは、支持体は透明でこの
支持体を残存させたまま、それを通じて感光層を露光さ
せることが好ましい。
【0052】活性光線としては公知の活性光線が利用で
き、通常、波長300〜450nmの光が使用される。
光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気ア
ーク灯、キセノンアーク灯等が使用される。
【0053】なお、感光層に含まれる光重合性開始剤の
感受性は、通常、紫外線領域において最大であるので、
紫外線領域において感受性の高い光重合性開始剤を用い
る場合は、活性光源として紫外線を有効に放射するもの
であることが好ましい。これに対し、可視光線において
感受性の高い光重合性開始剤を組み合わせて用いる場合
(例えば、9,10−フェナンスレンキノン)は、活性
光源としては可視光が好ましく、その光源としては、前
記のもの以外に、写真用フラッド電球、太陽ランプ等が
挙げられる。
【0054】露光後、感光層上に支持体が存在している
場合には、これを除去した後現像する。現像液として
は、安全かつ安定であり、操作性が良好なものであれば
特に制限はないが、環境への影響が少ない点から、アル
カリ性水溶液を使用することが好ましい。
【0055】アルカリ性水溶液としては、例えば、水酸
化アルカリ(リチウムの水酸化物、ナトリウムの水酸化
物、カリウムの水酸化物)、炭酸アルカリ(リチウムの
炭酸塩又は重炭酸塩、ナトリウムの炭酸塩又は重炭酸
塩、カリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等)、アルカリ金属
リン酸塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等)、ア
ルカリ金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリウム、ピロ
リン酸カリウム等)などが用いられ、その中でも炭酸ナ
トリウムが好ましい。アルカリ性水溶液のpHは、未露
光部の感光層が除去され、露光部の感光層がレジストと
して基板上に残る適切なpHの範囲とする必要があるこ
とから、9〜11とすることが好ましく、また、その温
度は、感光層の現像性に合わせて調整される。また、ア
ルカリ性水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促
進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【0056】現像方法は、特に限定されるものではな
く、公知の現像方法が使用できる。このような現像方法
としては、例えば、ディップ方式、バトル方式、高圧ス
プレー方式、ブラッシング、スクラッビング等が挙げら
れるが、解像度が良好という点から、高圧スプレー方式
が好ましい。
【0057】現像後に行われるめっき法としては、例え
ば、銅めっき(硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっき
等)、はんだめっき(ハイスローはんだめっき等)、ニ
ッケルめっき(ワット浴(硫酸ニッケル−塩化ニッケ
ル)めっき、スルファミン酸ニッケルめっき等)、金め
っき(ハード金めっき、ソフト金めっき等)などが挙げ
られる。
【0058】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0059】実施例1〜4及び比較例1〜4 表1に示す材料((C)成分、添加剤及び溶剤)を配合
し、これに表2に示す(A)成分、(B)成分を溶解さ
せ、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【0060】
【表1】
【0061】
【表2】 *1 メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸
エチル=10/60/30 重量平均分子量30,00
0 *2 メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸
ブチル=10/60/30 重量平均分子量30,00
0 *3 メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸
エチル=25/40/25 重量平均分子量80,00
0 *4 ポリ(エチレン・プロピレングリコール)変性ウ
レタンメタアクリレート(新中村化学工業社製)
【0062】
【化2】 次いで、レジストが残る基板からレジストを剥離させ
る。レジストを剥離させるためには、例えば、この基板
を、現像に用いたアルカリ性水溶液よりも更に強アルカ
リ性の水溶液中に浸漬させればよい。このような強アル
カリ性の水溶液としては、例えば、1〜5重量%の水酸
化ナトリウム水溶液等が挙げられる。
【0063】次いで、ナイフコート法を用い、感光性樹
脂組成物の溶液を25μm厚のポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(帝人社製、GSタイプ)上に均一に塗布
し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾燥して感
光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物層の乾燥後の
膜厚は20μmであった。
【0064】次いで、銅箔(厚さ35μm)を片面に積
層したガラスエポキシ材である銅張積層板(日立化成工
業社製、商品名MCL−E−67)の銅表面を#600
相当のブラシを持つ研磨機(三啓社製)を用いて研磨
し、水洗後、空気流で乾燥させ、得られた銅張積層板を
80℃に加温した後、上記で得られた感光性エレメント
を用いて、銅表面上に前記感光性樹脂組成物の層を12
0℃、4kgf/cm2でラミネートした。
【0065】ラミネート後、銅張積層板を冷却し、銅張
積層板の温度が23℃になった時点で、ポリエチレンテ
レフタレート面にフォトツール(ストーファーの21段
ステプタブレット)を密着させ、オーク社製露光機(形
式HMW−201B、3KW超高圧水銀灯)を用い、ス
トーファーの21段ステップタブレットとライン/スペ
ースが30/400から250/400(密着性、単
位:μm)の配線パターンを有するフォトツールを密着
させ、ストーファーの21段ステップタブレットの現像
後の残存ステップ段数が8.0となるエネルギー量で露
光した。
【0066】露光後、室温で15分間放置し、続いて銅
張積層板からポリエチレンテレフタレートフィルムをは
がし、30℃、1.0重量%の炭酸ナトリウム水溶液を
スプレーすることにより現像した。
【0067】その後、5μm毎のくし形パターンを用
い、残存したレジストから解像度を求めた。この値が小
さいほど解像度が優れる。
【0068】次に、上記エネルギー量で50μm/50
μm=ライン/スペースを露光し、20秒間の現像を行
い、得たレジストパターンの形状を走査型電子顕微鏡で
観察した。
【0069】レジスト形状においてマウスバイト(語源
は、ネズミのかみ傷)とは、レジストの形状がストレー
トではなく、ギザツキがあって(特にレジストが基材と
接着している側の部分)好ましくない状態をいう。
【0070】次いで、現像処理したものを、脱脂後、流
水水洗を1分間行い、次いで250g/リットル過硫酸
アンモニウム水溶液中に2分間浸漬した。更に流水水洗
を1分間行った後、10%硫酸水溶液浴に1分間浸漬
し、再び流水水洗を1分間行った。次いで、ニッケルめ
っき浴(硫酸ニッケル350g/リットル、塩化ニッケ
ル45g/リットル、ホウ酸45g/リットル、ナイカ
ルPC−3(メルテックス社製)30ミリリットル/リ
ットル及びニッケルグリームNAW−4(メルテックス
社製)0.1ミリリットル/リットル)に入れ、ニッケ
ルめっきを50℃、3A/dm2で10分間行った。
【0071】ニッケルめっき終了後直ちに水洗し、続い
て金ストライクめっき(オーロボンド−TN(日本エレ
クトロプレーティングエンジニヤーズ社製))を40
℃、5A/dm2で20秒間行った。
【0072】金ストライク終了後直ちに水洗し、引き続
き金めっき(オートロネクスCl(日本エレクトロプレ
ーティングエンジニヤーズ社製))を30℃、1A/d
2で6分間行った。金めっき終了後水洗を行い、乾燥
した。
【0073】耐めっき性を調べるため乾燥後直ちにセロ
ハンテープを貼り、これを垂直方向に引き剥がして(9
0°ピールオフ試験)、レジストの剥がれの有無を調べ
た。その後、上方から光学顕微鏡で金めっきのもぐりの
有無を観察した。金めっきのもぐりを生じた場合は透明
なレジストを介してその下部にめっきにより析出した金
が観察される。これらの結果をまとめて表3に示した。
【0074】
【表3】 *1 ○:マウスバイト無し ×:マウスバイト有り 表3から明らかなように、比較例1、2で使用された感
光性樹脂組成物は、耐金めっき性が悪く、めっき工程に
は不適当であることが予想された。また、比較例3で使
用された感光性樹脂組成物は、耐金めっき性が悪く、か
つ、解像度も悪化した。比較例4で使用された感光性樹
脂組成物は、解像度、レジスト形状、耐金めっき性全て
において悪化した。
【0075】これに対し、実施例1〜4で使用された感
光性樹脂組成物は、耐金めっき性に優れており、また、
レジスト形状、解像度を悪化させることなく、良好な形
状を有していた。
【0076】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントは、耐めっき性(特に耐金めっき
性)、耐薬品性等に優れたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 4/06 C09D 4/06 133/06 133/06 171/00 171/00 B G03F 7/027 G03F 7/027 7/028 7/028 H01L 21/027 H01L 21/30 502R

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)メタクリル酸又はアクリル酸8〜
    12重量%及び一般式(I)で表される単量体88〜9
    2重量%からなるアクリル系モノマーを含むビニルモノ
    マーを共重合して得られる重量平均分子量10,000
    〜40,000のアルカリ可溶なビニル系共重合物を含
    むバインダーポリマーを40〜80重量部、 CH2=C(R1)−COOR2 (I) (式中、R1は水素原子又はメチル基を意味し、R2は炭
    素数1〜12のアルキル基を意味する。) (B)一般式(II)で表されるアクリレート化合物 CH2=CRCOO(CH2CH(CH3)O)m(CH2CH2O)n− −(CH2CH(CH3)O)mCOCR=CH2 (II) (式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、m及びnは
    各々1〜30の整数である。)を含み分子内に重合可能
    なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を20〜
    60重量部及び (C)光重合開始剤を(A)と(B)成分の総量100
    重量部に対して0.01〜5重量部含有してなる感光性
    樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 一般式(II)で表されるアクリレート
    化合物の配合量が(B)成分の総量100重量部に対し
    て、10〜90重量部である請求項1記載の感光性樹脂
    組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物
    の層を支持体上に積層してなる感光性エレメント。
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