JPH0714725Y2 - ヒータ付高周波加熱調理装置 - Google Patents

ヒータ付高周波加熱調理装置

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JPH0714725Y2
JPH0714725Y2 JP1989035836U JP3583689U JPH0714725Y2 JP H0714725 Y2 JPH0714725 Y2 JP H0714725Y2 JP 1989035836 U JP1989035836 U JP 1989035836U JP 3583689 U JP3583689 U JP 3583689U JP H0714725 Y2 JPH0714725 Y2 JP H0714725Y2
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Japan
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heater
upper heater
plate
cooking chamber
heating
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JP1989035836U
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繁和 住田
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Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/647Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
    • H05B6/6482Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with radiant heating, e.g. infrared heating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/6408Supports or covers specially adapted for use in microwave heating apparatus
    • H05B6/6411Supports or covers specially adapted for use in microwave heating apparatus the supports being rotated

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  • Electromagnetism (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 [考案の目的] (産業上の利用分野) 本考案は、加熱調理室の上面部に反射板と上ヒータを備
えたヒータ付高周波加熱調理装置に関する。
(従来の技術) 従来のヒータ付高周波加熱調理装置は、第4図に示すよ
うに、加熱調理室1の底部中央に、モータ2によって回
転駆動される回転皿3を設け、この回転皿3上の調理物
(図示せず)をマグネトロン(図示せず)によって高周
波加熱するようになっている。更に、加熱調理室1内の
中段に焼き網5を前面扉6側に変倚させて出入れ可能に
設けると共に、この焼き網5に対応して、加熱調理室1
の上面部に反射板7を前面扉6側に変倚させて設けてい
る。この反射板7は、その内側にヒータ収納空間7aを形
成するために、上方に突出し且つ左右方向に延びる形状
に形成されている。そして、この反射板7の内側に上ヒ
ータ8が左右方向に延びるように設けられている。
(考案が解決しようとする課題) 上記従来構成では、反射板7が前面扉6側に変倚してい
るため、高周波加熱時に反射板7による反射波の分布状
態も前面扉6側に変倚したものとなる。これに対し、調
理物を載せる回転皿3は、加熱調理室1内の中央に位置
しているため、回転皿3上の調理物に照射される上記反
射波の分布状態が均一にならず、前面扉6側に片寄った
ものとなっとなり、これが高周波加熱時に調理物の均一
加熱を阻害する原因となっていた。
これを改善するために、例えば特開昭64−3418号公報に
示すように、反射板を回転皿の回転中心のほぼ真上に位
置させて、この反射板の中央に上ヒータを配置した構成
としたものがある。
しかしながら、加熱調理室の背面は上ヒータの輻射熱を
反射しやすいステンレス板等の金属板で形成されている
のに対し、加熱調理室の前面である前面扉の内面は、輻
射熱の反射率の低いガラス板等により構成されているの
で、上記公報に記載の構成のように、反射板の中央に上
ヒータを配置した構成とすると、上ヒータによる加熱時
に背面側からの反射熱が前面側からの反射熱よりも強く
なって、回転皿上の温度分布がアンバランスな状態とな
り、上ヒータによる加熱時に調理物を均一加熱できない
という欠点がある。
本考案はこのような事情を考慮してなされたもので、従
ってその目的は、加熱調理室の上面部に反射板と上ヒー
タを備えたものにあって、高周波加熱時及び上ヒータに
よる加熱時のいずれの場合でも、調理物の均一加熱を可
能ならしめ得るヒータ付高周波加熱調理装置を提供する
にある。
[考案の構成] (課題を解決するための手段) 本考案のヒータ付高周波加熱調理装置は、加熱調理室の
底部に回転可能に設けられた回転皿と、この回転皿上の
調理物を高周波加熱するマグネトロンと、前記加熱調理
室の上面部に上方に突出し且つ左右方向に延びるように
設けられた反射板と、この反射板の内側に左右方向に延
びるように配設された上ヒータとを備えたものにおい
て、前記反射板の前後方向中心を前記回転皿の回転中心
のほぼ真上に位置させる構成とすると共に、前記上ヒー
タの位置を前記反射板の内側において前記加熱調理室の
前面扉側に変倚させた構成としたものである。
(作用) 反射板の前後方向中心を回転皿の回転中心のほぼ真上に
位置させているので、反射板からの反射波の分布状態が
回転皿上においてほぼ均一となり、高周波加熱時に回転
皿上の調理物の加熱具合が均一となる。
皿に、加熱調理室の背面は上ヒータの輻射熱を反射しや
すいステンレス板等の金属板で形成されているのに対
し、加熱調理室の前面である前面扉の内面は、輻射熱の
反射率の低いガラス板等により構成されている点を考慮
して、上ヒータの位置を反射板の内側において加熱調理
室の前面扉側に変倚させているので、上ヒータによる加
熱時に背面側からの反射熱と前面側からの反射熱とを均
等化できて、回転皿上の温度分布を均一化でき、上ヒー
タによる加熱時に調理物の均一加熱を可能ならしめ得
る。
(実施例) 以下、本考案の一実施例を第1図乃至第3図に基づいて
説明する。
まず、全体の縦断正面図を示す第2図(外箱の図示を省
略している)において、11は内部を加熱調理室12とする
内箱で、その底部中央には、モータ13によって回転駆動
される回転皿14が配設されている。この回転皿14と内箱
11の底板との間には下ヒータ15が配設されている。一
方、内箱11の右側面部には、導波管16が取着され、この
導波管16にマグネトロン17か固定されている。18は内箱
11の上面部に溶接等により取付けられた反射板で、この
反射板18は、第1図に示すように上方に多角形状に突出
し且つ左右方向に延びるように形成され、内箱11の上面
部の矩形状開口部11aを通して反射板18の下面側が加熱
調理室12内に開放されている。この場合、反射板18の前
後方向中心Cを回転皿14の回転中心(モータ13の回転軸
13a)のほぼ真上に位置させる構成としている。そし
て、この反射板18の内側の後述する位置には、例えばガ
ラス管ヒータからなる上ヒータ19が左右方向に延びるよ
うに配設されている。
ここで留意すべき点は、上ヒータ19の位置を反射板18の
内側において加熱調理室12の前面扉23側に変倚させたこ
とである。この場合の上ヒータ19の変倚量lは、例えば
10mmに設定されている。
尚、上ヒータ19の取付構造は、第3図に示すように、反
射板18の端板部18aにヒータ貫通筒部20を外向きに突出
形成し、このヒータ貫通筒部20に固定した環状の碍子21
に上ヒータ19を支持すると共に、内箱11の上面に固定し
た取付板22によって上ヒータ19の左右方向の移動を規制
するものである。また、第1図において、23は加熱調理
室12の前面を開閉する前面扉である。
次に、上記構成の作用について説明する。高周波加熱に
より調理を行う場合には、回転皿14上に加熱物を載せ、
モータ13に通電して回転皿14を回転させると共に、マグ
ネトロン17を動作させて高周波(マイクロ波)を発生
し、この高周波を導波管16の出口16aから加熱調理室12
内に放射させる。これにより、回転皿14上の調理物は、
導波管16の出口16aからの直接波と、内箱11の内面及び
反射板18で反射した反射波の照射を受けて周囲から加熱
される。
この場合、反射板18の前後方向中心Cを回転皿14の回転
中心のほぼ真上に位置させる構成としているので、マグ
ネトロン17による高周波加熱時に、反射板18からの反射
波の分布が従来の如く前面扉23側に片寄らず、回転皿14
上の調理物全体にほぼ均等に反射波が照射されるように
なる。このため、高周波加熱時に調理物全体を均一加熱
できて、加熱むらの発生を防止できる。
ところで、加熱調理室12の背面(内箱11の内面)は上ヒ
ータ19の輻射熱を反射しやすいステンレス板等の金属板
で形成されているのに対し、加熱調理室12の前面である
前面扉23の内面は、輻射熱の反射率の低いガラス板等に
より構成されている。従って、仮に、上ヒータ19の位置
を加熱調理室12の中央(回転皿14の回転中心上)に設定
すると、上ヒータ19による加熱調理時において、背面側
からの反射熱が前面側の反射熱よりも強くなり、それに
よって回転皿14上の調理物は背面側の方が強く加熱され
て、焼きむら、こげ色のむらを生ずるという不都合を生
じる。
しかしながら、本実施例では、上ヒータ19の位置を反射
板18の内側において加熱調理室12の前面扉23側に変倚さ
せているので、上ヒータ19による加熱時に背面側からの
反射熱と前面側からの反射熱とを均等化できて、回転皿
14上における上ヒータ19からの輻射熱と反射熱とによる
温度分布を均一化でき、上ヒータ19による調理物の均一
加熱を可能ならしめ得て、焼きむら、こげ色のむらの発
生を防止できる。
尚、本考案は上記実施例に限定されるものではなく、例
えば、上ヒータ19の支持構造を変更したり、反射板18の
断面形状を変更しても良い等、種々の変形が可能であ
る。
[考案の効果] 本考案は以上の説明から明らかなように、反射板の前後
方向中心を回転皿の回転中心のほぼ真上に位置させた構
成としているので、マグネトロンによる高周波加熱時
に、反射板からの反射波の分布が従来の如く前面扉側に
片寄らず、回転皿上の調理物全体にほぼ均等に反射波を
照射することができて、高周波加熱時に調理物全体を均
一加熱でき、加熱むらの発生を防止できる。
しかも、上ヒータの位置を反射板の内側において加熱調
理室の前面扉側に変倚させる構成としているので、上ヒ
ータによる加熱時に背面側からの反射熱と前面側からの
反射熱とを均等化できて、回転皿上の温度分布を均一化
でき、上ヒータによる調理物の均一加熱を可能ならしめ
得て、焼きむら、こげ色のむらの発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本考案の一実施例を示したもので、
第1図は加熱調理室部分の縦断側面図、第2図は同縦断
正面図、第3図は上ヒータの支持構造部分の拡大縦断正
面図である。そして、第4図は従来例を示す第1図相当
図である。 図面中、11は内箱、12は加熱調理室、13はモータ、14は
回転皿、15は下ヒータ、17はマグネトロン、18は反射
板、19は上ヒータ、23は前面扉である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】加熱調理室の底部に回転可能に設けられた
    回転皿と、この回転皿上の調理物を高周波加熱するマグ
    ネトロンと、前記加熱調理室の上面部に上方に突出し且
    つ左右方向に延びるように設けられた反射板と、この反
    射板の内側に左右方向に延びるように配設された上ヒー
    タとを備えたものにおいて、前記反射板の前後方向中心
    を前記回転皿の回転中心のほぼ真上に位置させる構成と
    すると共に、前記上ヒータの位置を前記反射板の内側に
    おいて前記加熱調理室の前面扉側に変倚させたことを特
    徴とするヒータ付高周波加熱調理装置。
JP1989035836U 1989-03-29 1989-03-29 ヒータ付高周波加熱調理装置 Expired - Lifetime JPH0714725Y2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989035836U JPH0714725Y2 (ja) 1989-03-29 1989-03-29 ヒータ付高周波加熱調理装置
KR2019900003781U KR930007865Y1 (ko) 1989-03-29 1990-03-28 히터부착 고주파가열 조리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989035836U JPH0714725Y2 (ja) 1989-03-29 1989-03-29 ヒータ付高周波加熱調理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02128005U JPH02128005U (ja) 1990-10-22
JPH0714725Y2 true JPH0714725Y2 (ja) 1995-04-10

Family

ID=12453061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1989035836U Expired - Lifetime JPH0714725Y2 (ja) 1989-03-29 1989-03-29 ヒータ付高周波加熱調理装置

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KR101650576B1 (ko) * 2010-02-01 2016-08-23 엘지전자 주식회사 전기 오븐

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Publication number Publication date
KR930007865Y1 (ko) 1993-11-24
JPH02128005U (ja) 1990-10-22
KR900017362U (ko) 1990-10-05

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