JPH07159929A - 改良された帯電防止特性を有するハロゲン化銀写真材料 - Google Patents
改良された帯電防止特性を有するハロゲン化銀写真材料Info
- Publication number
- JPH07159929A JPH07159929A JP6242813A JP24281394A JPH07159929A JP H07159929 A JPH07159929 A JP H07159929A JP 6242813 A JP6242813 A JP 6242813A JP 24281394 A JP24281394 A JP 24281394A JP H07159929 A JPH07159929 A JP H07159929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silver halide
- group
- polyoxyethylene
- surfactant
- surfactants
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 162
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 93
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims abstract description 41
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 22
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 22
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 22
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 22
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 12
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 7
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 239000003974 emollient agent Substances 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 1-(hydroxymethyl)-5,5-dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)N(CO)C(=O)NC1=O SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBGULZHJUQQVAC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one;1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1.N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZBGULZHJUQQVAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1O HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 description 1
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 206010033307 Overweight Diseases 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000545760 Unio Species 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- LWVVNNZRDBXOQL-AATRIKPKSA-O [(e)-3-(dimethylamino)prop-2-enyl]-dimethylazanium Chemical compound CN(C)\C=C\C[NH+](C)C LWVVNNZRDBXOQL-AATRIKPKSA-O 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 description 1
- 238000011284 combination treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZVPYGIUMLWIE-UHFFFAOYSA-N ethyl hypoiodite Chemical compound CCOI XGZVPYGIUMLWIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M lithium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F MCVFFRWZNYZUIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N norethisterone Chemical compound O=C1CC[C@@H]2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/89—Macromolecular substances therefor
- G03C1/895—Polyalkylene oxides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明は支持体、この上に被覆形成された少
なくとも1つのハロゲン化銀エマルジョン層、及び前記
少なくとも1つのハロゲン化銀エマルジョン層上に被覆
形成された親水性コロイド層とを含有するハロゲン化銀
写真材料であって、前記親水性コロイド層が(a)非イ
オン性ポリオキシエチレン界面活性剤及びアニオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤からなる群から選択される
少なくとも1つの界面活性剤と、(b)非イオン性パー
フルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤及びポ
リオキシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤からな
る群から選択される少なくとも1つの界面活性剤との組
み合わせを含有するハロゲン化銀写真材料に関する。 【効果】 本発明のハロゲン化銀写真材料の良好な帯電
防止特性及び表面特性によって不都合な静電気マークや
フィルム表面上に傷が出現することなく材料の高速処理
が可能である。
なくとも1つのハロゲン化銀エマルジョン層、及び前記
少なくとも1つのハロゲン化銀エマルジョン層上に被覆
形成された親水性コロイド層とを含有するハロゲン化銀
写真材料であって、前記親水性コロイド層が(a)非イ
オン性ポリオキシエチレン界面活性剤及びアニオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤からなる群から選択される
少なくとも1つの界面活性剤と、(b)非イオン性パー
フルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤及びポ
リオキシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤からな
る群から選択される少なくとも1つの界面活性剤との組
み合わせを含有するハロゲン化銀写真材料に関する。 【効果】 本発明のハロゲン化銀写真材料の良好な帯電
防止特性及び表面特性によって不都合な静電気マークや
フィルム表面上に傷が出現することなく材料の高速処理
が可能である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真材
料、特に改良された帯電防止特性と改良された被膜能力
を有するハロゲン化銀写真材料に関する。
料、特に改良された帯電防止特性と改良された被膜能力
を有するハロゲン化銀写真材料に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ハロゲ
ン化銀写真材料は一般に電気絶縁性支持体とその上に被
覆形成された写真層からなる。このような構造は、写真
材料の製造工程中又は写真材料を写真目的で使用する際
に同じ又は異なった材料の表面との接触によって生じる
摩擦又は分離に写真材料をさらした場合に、静電気の発
生及び蓄積を促進する。この蓄積された静電気がいくつ
かの不都合を生じる。最も深刻な不都合は現像工程の前
の蓄積された電荷の放電であり、これによって感光性ハ
ロゲン化銀エマルジョン層が露光されて写真フィルムの
現像を行った場合にドットスポット又は枝分かれした又
は羽毛状の線状スペックを形成する。これがいわゆる
「静電気マーク(static marks)」現象で
ある。このような静電気マークは写真フィルムの商品価
値の低下を生じ、しばしば完全に使用不可能となる。例
えば医療用又は工業用X線フィルムにおける静電気マー
クの形成は非常に危険な判断又は間違った診断につなが
る。静電気マークは第1に現像を行うことによって表面
化するので特に問題である。更に、これらの静電気はま
たフィルム表面へのほこりの吸着、平坦でない被膜等の
第2の問題の原因でもある。
ン化銀写真材料は一般に電気絶縁性支持体とその上に被
覆形成された写真層からなる。このような構造は、写真
材料の製造工程中又は写真材料を写真目的で使用する際
に同じ又は異なった材料の表面との接触によって生じる
摩擦又は分離に写真材料をさらした場合に、静電気の発
生及び蓄積を促進する。この蓄積された静電気がいくつ
かの不都合を生じる。最も深刻な不都合は現像工程の前
の蓄積された電荷の放電であり、これによって感光性ハ
ロゲン化銀エマルジョン層が露光されて写真フィルムの
現像を行った場合にドットスポット又は枝分かれした又
は羽毛状の線状スペックを形成する。これがいわゆる
「静電気マーク(static marks)」現象で
ある。このような静電気マークは写真フィルムの商品価
値の低下を生じ、しばしば完全に使用不可能となる。例
えば医療用又は工業用X線フィルムにおける静電気マー
クの形成は非常に危険な判断又は間違った診断につなが
る。静電気マークは第1に現像を行うことによって表面
化するので特に問題である。更に、これらの静電気はま
たフィルム表面へのほこりの吸着、平坦でない被膜等の
第2の問題の原因でもある。
【0003】前述のように、このような静電気はハロゲ
ン化銀写真材料を製造及び/又は使用する場合にしばし
ば蓄積される。例えば、製造中、静電気は写真フィルム
のローラーに接触する際の摩擦によって又はローリング
又は非ローリング工程中のエマルジョン表面の支持体表
面からの分離によって発生する。更に、静電気は自動装
置において機械部品又は蛍光スクリーンと接触する又は
これらから離れることによってX線フィルム上に生じ
る。また、静電気は固定機又は自動現像機又は自動現像
装置、又はカラーネガフィルム又はカラー反転フィルム
を使用する場合にはカメラにおいて、ゴム、金属、又は
プラスチック製のローラー及びバーと接触する又はこれ
らから離れることによって生じる。更に、梱包材料等と
接触すること等によって静電気が生じ得る。
ン化銀写真材料を製造及び/又は使用する場合にしばし
ば蓄積される。例えば、製造中、静電気は写真フィルム
のローラーに接触する際の摩擦によって又はローリング
又は非ローリング工程中のエマルジョン表面の支持体表
面からの分離によって発生する。更に、静電気は自動装
置において機械部品又は蛍光スクリーンと接触する又は
これらから離れることによってX線フィルム上に生じ
る。また、静電気は固定機又は自動現像機又は自動現像
装置、又はカラーネガフィルム又はカラー反転フィルム
を使用する場合にはカメラにおいて、ゴム、金属、又は
プラスチック製のローラー及びバーと接触する又はこれ
らから離れることによって生じる。更に、梱包材料等と
接触すること等によって静電気が生じ得る。
【0004】高い感度及び取り扱い速度を有するハロゲ
ン化銀写真材料は静電気マークの出現が増加しやすい。
特に、静電気マークは写真材料の感応性が高いと容易に
発生するので、高速被覆、高速露光及び高速自動処理等
の取り扱い条件を困難にする。静電気によって生じる問
題を防止するために、帯電防止剤をハロゲン化銀写真材
料を添加することが望ましい。しかし、他の分野で常套
的に使用されている帯電防止剤は写真材料の特性により
種々の制限を受けるので一般的にハロゲン化銀写真材料
用に使用することができない。特に、ハロゲン化銀写真
材料で使用することができる帯電防止剤は写真材料の写
真特性、例えば感度、かぶり、粒子性、急峻性において
悪影響を与えずに優れた帯電防止能力を有さねばならな
い。また、このような帯電防止剤はフィルム強度及び粘
着防止特性において悪影響を有してはならない。更に、
帯電防止剤は処理溶液の浪費を促進したりハロゲン化銀
写真材料を含有する層間の粘着強度を悪化させてはなら
ない。
ン化銀写真材料は静電気マークの出現が増加しやすい。
特に、静電気マークは写真材料の感応性が高いと容易に
発生するので、高速被覆、高速露光及び高速自動処理等
の取り扱い条件を困難にする。静電気によって生じる問
題を防止するために、帯電防止剤をハロゲン化銀写真材
料を添加することが望ましい。しかし、他の分野で常套
的に使用されている帯電防止剤は写真材料の特性により
種々の制限を受けるので一般的にハロゲン化銀写真材料
用に使用することができない。特に、ハロゲン化銀写真
材料で使用することができる帯電防止剤は写真材料の写
真特性、例えば感度、かぶり、粒子性、急峻性において
悪影響を与えずに優れた帯電防止能力を有さねばならな
い。また、このような帯電防止剤はフィルム強度及び粘
着防止特性において悪影響を有してはならない。更に、
帯電防止剤は処理溶液の浪費を促進したりハロゲン化銀
写真材料を含有する層間の粘着強度を悪化させてはなら
ない。
【0005】ハロゲン化銀写真材料の分野では、前述の
問題に対して幅広い溶液が特許及び文献に提案されてお
り、これは主にハロゲン化銀エマルジョン層上にバイン
ダーとともに帯電防止層として被覆形成された電荷制御
剤及び導電性化合物に基づいている。
問題に対して幅広い溶液が特許及び文献に提案されてお
り、これは主にハロゲン化銀エマルジョン層上にバイン
ダーとともに帯電防止層として被覆形成された電荷制御
剤及び導電性化合物に基づいている。
【0006】この分野で公知の最も有用な電荷制御剤は
イオン性塩とともにイオン性及び非イオン性界面活性剤
である。フッ素化界面活性剤がしばしばハロゲン化銀写
真材料における良好な帯電防止剤として述べられてい
る。
イオン性塩とともにイオン性及び非イオン性界面活性剤
である。フッ素化界面活性剤がしばしばハロゲン化銀写
真材料における良好な帯電防止剤として述べられてい
る。
【0007】導電性化合物は主に導電性ポリマー、例え
ばイオン性ポリマー及び電子的に導電性のポリマーに絞
られている。
ばイオン性ポリマー及び電子的に導電性のポリマーに絞
られている。
【0008】フッ素化界面活性剤とともにイオン性及び
非イオン性界面活性剤の使用は多くの特許、例えば、米
国特許第2,600,831号、2,719,087
号、2,982,651号、3,026,202号、
3,428,456号、3,457,076号、3,4
54,625号、3,552,972号、3,655,
387号、3,850,640号、3,850,642
号、4,192,683号、4,267,265号、
4,304,852号、4,330,618号、4,3
67,283号、4,474,873号、4,510,
233号、4,518,354号、4,596,766
号、4,649,102号、4,703,000号、
4,847,186号、4,891,307号、4,8
91,308号、4,916,054号、ヨーロッパ特
許第245,090号、300,259号、319,9
51号、370,404号に開示されいる。
非イオン性界面活性剤の使用は多くの特許、例えば、米
国特許第2,600,831号、2,719,087
号、2,982,651号、3,026,202号、
3,428,456号、3,457,076号、3,4
54,625号、3,552,972号、3,655,
387号、3,850,640号、3,850,642
号、4,192,683号、4,267,265号、
4,304,852号、4,330,618号、4,3
67,283号、4,474,873号、4,510,
233号、4,518,354号、4,596,766
号、4,649,102号、4,703,000号、
4,847,186号、4,891,307号、4,8
91,308号、4,916,054号、ヨーロッパ特
許第245,090号、300,259号、319,9
51号、370,404号に開示されいる。
【0009】導電性ポリマーの使用は広く多くの他の特
許、例えば米国特許第2,882,157号、2,97
2,535号、3,062,785号、3,262,8
07号、3,514,291号、3,615,531
号、3,753,716号、3,769,020号、
3,791,831号、3,861,924号、3,9
38,999号、4,147,550号、4,225,
665号、4,363,872号、4,388,402
号、4,460,679号、4,582,783号、
4,585,730号、4,590,151号、4,7
01,403号、4,960,687号、ヨーロッパ特
許第35,614号、36,702号、87,688
号、391,176号、391,402号、424,0
10号、ドイツ特許第815,662号、1,222,
595号、1,539,866号、2,001,078
号、2,109,705号に開示されている。
許、例えば米国特許第2,882,157号、2,97
2,535号、3,062,785号、3,262,8
07号、3,514,291号、3,615,531
号、3,753,716号、3,769,020号、
3,791,831号、3,861,924号、3,9
38,999号、4,147,550号、4,225,
665号、4,363,872号、4,388,402
号、4,460,679号、4,582,783号、
4,585,730号、4,590,151号、4,7
01,403号、4,960,687号、ヨーロッパ特
許第35,614号、36,702号、87,688
号、391,176号、391,402号、424,0
10号、ドイツ特許第815,662号、1,222,
595号、1,539,866号、2,001,078
号、2,109,705号に開示されている。
【0010】特に米国特許4,649,102号は非イ
オン性界面活性剤とポリオキシエチレン基を有するアニ
オン性界面活性剤の組み合わせを開示しており、米国特
許第4,847,186号はフッ素化イオン性又は非イ
オン性化合物の使用を開示しており、ヨーロッパ特許第
245,090号はフッ素含有ポリマーを有するフルオ
ロアルキルポリオキシエチレン化合物と高分子高重量硬
化剤を有するポリオキシエチレン非イオン性界面活性剤
との組み合わせを開示しており、米国特許第3,85
0,640号はアニオン性界面活性剤を含有する第1層
とカチオン性及び非イオン性界面活性剤を含有する第2
層との組み合わせを開示しており、米国特許第4,59
6,766号はポリオキシエチレン非イオン性界面活性
剤とフッ素含有化合物との組み合わせを開示しており、
米国特許第4,367,283号はポリオキシエチレン
非イオン性界面活性剤、スルホネート化界面活性剤、及
びフッ素含有ホスフェート界面活性剤との組み合わせを
開示しており、ドイツ特許第2,246,870号はポ
リオキシアルキレン化合物とポリスチレンスルホネート
化合物との組み合わせを開示しており、米国特許第5,
037,871号及び国際特許91/18325はフル
オロアルキルポリエーテル界面活性剤及び水溶性水酸化
ポリマーと組み合わせて加水分解された金属低級アルコ
キシドを使用することを開示しており、米国特許第4,
891,308号はフッ素なしの非イオン性界面活性剤
とともにイオン性及び非イオン性フッ素含有界面活性剤
の使用を開示しており、ヨーロッパ特許第319,95
1号はフッ素化非イオン性界面活性剤とともにアニオン
性及び非イオン性界面活性剤の組み合わせを開示してお
り、米国特許第4,610,955号及び4,582,
781号は重合オキシアルキレンモノマーのブロックを
含有するポリマーと無機塩の組み合わせを開示してい
る。
オン性界面活性剤とポリオキシエチレン基を有するアニ
オン性界面活性剤の組み合わせを開示しており、米国特
許第4,847,186号はフッ素化イオン性又は非イ
オン性化合物の使用を開示しており、ヨーロッパ特許第
245,090号はフッ素含有ポリマーを有するフルオ
ロアルキルポリオキシエチレン化合物と高分子高重量硬
化剤を有するポリオキシエチレン非イオン性界面活性剤
との組み合わせを開示しており、米国特許第3,85
0,640号はアニオン性界面活性剤を含有する第1層
とカチオン性及び非イオン性界面活性剤を含有する第2
層との組み合わせを開示しており、米国特許第4,59
6,766号はポリオキシエチレン非イオン性界面活性
剤とフッ素含有化合物との組み合わせを開示しており、
米国特許第4,367,283号はポリオキシエチレン
非イオン性界面活性剤、スルホネート化界面活性剤、及
びフッ素含有ホスフェート界面活性剤との組み合わせを
開示しており、ドイツ特許第2,246,870号はポ
リオキシアルキレン化合物とポリスチレンスルホネート
化合物との組み合わせを開示しており、米国特許第5,
037,871号及び国際特許91/18325はフル
オロアルキルポリエーテル界面活性剤及び水溶性水酸化
ポリマーと組み合わせて加水分解された金属低級アルコ
キシドを使用することを開示しており、米国特許第4,
891,308号はフッ素なしの非イオン性界面活性剤
とともにイオン性及び非イオン性フッ素含有界面活性剤
の使用を開示しており、ヨーロッパ特許第319,95
1号はフッ素化非イオン性界面活性剤とともにアニオン
性及び非イオン性界面活性剤の組み合わせを開示してお
り、米国特許第4,610,955号及び4,582,
781号は重合オキシアルキレンモノマーのブロックを
含有するポリマーと無機塩の組み合わせを開示してい
る。
【0011】しかしながら、これらの多くの物質及びそ
の組み合わせはフィルム支持体又は写真組成物の種類に
依存して膨大な種類が存在する。いくつかの物質は特定
の種類のフィルム支持体、写真エマルジョン又は他の写
真エマルジョンについて良好な結果を生み出すが、異な
ったフィルム支持体や写真要素を使用した場合には静電
気マークの発生を防止するのに無効であるだけでなく、
写真特性に悪影響を有するかもしれない。
の組み合わせはフィルム支持体又は写真組成物の種類に
依存して膨大な種類が存在する。いくつかの物質は特定
の種類のフィルム支持体、写真エマルジョン又は他の写
真エマルジョンについて良好な結果を生み出すが、異な
ったフィルム支持体や写真要素を使用した場合には静電
気マークの発生を防止するのに無効であるだけでなく、
写真特性に悪影響を有するかもしれない。
【0012】一方、優れた帯電防止効果を有するが感
度、かぶり、粒子性、急峻性等の写真特性についての悪
影響のために使用することができない場合も多くある。
度、かぶり、粒子性、急峻性等の写真特性についての悪
影響のために使用することができない場合も多くある。
【0013】例えば、ポリエチレンオキサイド化合物は
帯電防止効果を有することがよく知られているが、特に
支持体の両面がハロゲン化銀エマルジョンで被覆されて
いるハロゲン化銀写真材料(例えば、医療用X線写真材
料)においてしばしばかぶり、減感の増加及び粒子性の
悪化等写真特性に悪影響を与える。有機塩を有するポリ
オキシエチレン化合物の組み合わせは表面抵抗を改良す
ることができるが、フィルムどおしの粘着性を増加させ
るかもしれない。
帯電防止効果を有することがよく知られているが、特に
支持体の両面がハロゲン化銀エマルジョンで被覆されて
いるハロゲン化銀写真材料(例えば、医療用X線写真材
料)においてしばしばかぶり、減感の増加及び粒子性の
悪化等写真特性に悪影響を与える。有機塩を有するポリ
オキシエチレン化合物の組み合わせは表面抵抗を改良す
ることができるが、フィルムどおしの粘着性を増加させ
るかもしれない。
【0014】摩擦又は例えばローラーのような異なった
材料と接触することによって生じる電気の発生を制御す
るためにフッ素化界面活性剤を使用することは、負の極
性での帯電を増加させる。従って、フッ素化界面活性剤
を界面活性剤に適当に組み合わせることによってハロゲ
ン化銀写真材料の電気特性をそれぞれのローラー(例え
ば、ゴムローラー、デリン(Delrin)TMローラ
ー、及びナイロンローラー)に適合させることができる
が、依然として正の極性での帯電問題が生じ、すべての
種類のローラーについて一般的な解決を得ることはでき
ない。
材料と接触することによって生じる電気の発生を制御す
るためにフッ素化界面活性剤を使用することは、負の極
性での帯電を増加させる。従って、フッ素化界面活性剤
を界面活性剤に適当に組み合わせることによってハロゲ
ン化銀写真材料の電気特性をそれぞれのローラー(例え
ば、ゴムローラー、デリン(Delrin)TMローラ
ー、及びナイロンローラー)に適合させることができる
が、依然として正の極性での帯電問題が生じ、すべての
種類のローラーについて一般的な解決を得ることはでき
ない。
【0015】更に、処理時間の少ないハロゲン化銀写真
材料についての市場要求はハロゲン化銀写真材料が自動
処理装置を通過する速度の高速化のために静電気の問題
が増加している。
材料についての市場要求はハロゲン化銀写真材料が自動
処理装置を通過する速度の高速化のために静電気の問題
が増加している。
【0016】更に、医療用X線ハロゲン化銀写真材料の
ラジオグラフィー市場での増加する要求は、X線診断装
置の世界的な消費及び広がりの増大によって、被覆速度
の向上が得られる医療用X線写真材料の生産性の増加が
要求される。常套の帯電防止剤を使用すれば被覆速度が
早いほど静電気の発生は増加する。
ラジオグラフィー市場での増加する要求は、X線診断装
置の世界的な消費及び広がりの増大によって、被覆速度
の向上が得られる医療用X線写真材料の生産性の増加が
要求される。常套の帯電防止剤を使用すれば被覆速度が
早いほど静電気の発生は増加する。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は支持体、この上
に被覆形成された少なくとも1つのハロゲン化銀エマル
ジョン層、及び前記少なくとも1つのハロゲン化銀エマ
ルジョン層上に被覆形成された親水性コロイド層とを含
有するハロゲン化銀写真材料であって、前記親水性コロ
イド層が(a)非イオン性ポリオキシエチレン界面活性
剤及びアニオン性ポリオキシエチレン界面活性剤からな
る群から選択される少なくとも1つの界面活性剤と、
(b)非イオン性パーフルオロアルキルポリオキシエチ
レン界面活性剤及びポリオキシエチレン変性ポリシロキ
サン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも1
つの界面活性剤との組み合わせを含有するハロゲン化銀
写真材料に関する。
に被覆形成された少なくとも1つのハロゲン化銀エマル
ジョン層、及び前記少なくとも1つのハロゲン化銀エマ
ルジョン層上に被覆形成された親水性コロイド層とを含
有するハロゲン化銀写真材料であって、前記親水性コロ
イド層が(a)非イオン性ポリオキシエチレン界面活性
剤及びアニオン性ポリオキシエチレン界面活性剤からな
る群から選択される少なくとも1つの界面活性剤と、
(b)非イオン性パーフルオロアルキルポリオキシエチ
レン界面活性剤及びポリオキシエチレン変性ポリシロキ
サン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも1
つの界面活性剤との組み合わせを含有するハロゲン化銀
写真材料に関する。
【0018】本発明によるハロゲン化銀写真材料は非イ
オン性ポリオキシエチレン界面活性剤及び/又はアニオ
ン性ポリオキシエチレン界面活性剤と、非イオン性パー
フルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤及び/
又はポリオキシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤
との組み合わせを含有することができる。この組み合わ
せを親水性バインダーとともにトップコート保護層とし
てハロゲン化銀エマルジョン層上に被覆形成する。本発
明の好ましい実施態様によれば、この組み合わせはアニ
オン性ポリオキシエチレン界面活性剤と、非イオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤、非イオン性パーフルオロ
アルキルポリオキシエチレン界面活性剤及びポリオキシ
エチレン変性ポリシロキサン界面活性剤の群から選択さ
れる少なくとも2つの他の界面活性剤とを含有する。
オン性ポリオキシエチレン界面活性剤及び/又はアニオ
ン性ポリオキシエチレン界面活性剤と、非イオン性パー
フルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤及び/
又はポリオキシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤
との組み合わせを含有することができる。この組み合わ
せを親水性バインダーとともにトップコート保護層とし
てハロゲン化銀エマルジョン層上に被覆形成する。本発
明の好ましい実施態様によれば、この組み合わせはアニ
オン性ポリオキシエチレン界面活性剤と、非イオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤、非イオン性パーフルオロ
アルキルポリオキシエチレン界面活性剤及びポリオキシ
エチレン変性ポリシロキサン界面活性剤の群から選択さ
れる少なくとも2つの他の界面活性剤とを含有する。
【0019】本発明の組み合わせに有用な非イオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤は以下の式:
リオキシエチレン界面活性剤は以下の式:
【化4】 (式中、R2は1〜30個の炭素原子を有するアルキル
基、1〜30個の炭素原子を有するアルケニル基、又は
6〜30の環原子を有するアリール基(例えばフェニル
又はナフチル)又はその組み合わせを表し、R3は水素
原子又はメチル基を表し、Dは−O−、−S−、−CO
O−、−NR4−、−CO−NR4−、又は−SO2−N
R4−基を表し、ここでR4は水素原子又は1〜12個の
炭素原子を有するアルキル基を表し、qは0又は1を表
しrは2〜50の整数を表す)で表すことができる。
基、1〜30個の炭素原子を有するアルケニル基、又は
6〜30の環原子を有するアリール基(例えばフェニル
又はナフチル)又はその組み合わせを表し、R3は水素
原子又はメチル基を表し、Dは−O−、−S−、−CO
O−、−NR4−、−CO−NR4−、又は−SO2−N
R4−基を表し、ここでR4は水素原子又は1〜12個の
炭素原子を有するアルキル基を表し、qは0又は1を表
しrは2〜50の整数を表す)で表すことができる。
【0020】本発明の範囲によれば、「基」という用語
を化学化合物又は置換基を記載するのに使用する場合に
は、記載の化学材料としては基本的な基と常套の置換を
伴った基を包含する。「部分」という用語を化学化合物
又は置換基を記載するのに使用する場合には、非置換化
学材料しか含まれないことを意図する。
を化学化合物又は置換基を記載するのに使用する場合に
は、記載の化学材料としては基本的な基と常套の置換を
伴った基を包含する。「部分」という用語を化学化合物
又は置換基を記載するのに使用する場合には、非置換化
学材料しか含まれないことを意図する。
【0021】非イオン性ポリオキシアルキレン界面活性
剤の例を以下に例示する。
剤の例を以下に例示する。
【化5】
【化6】 非イオン性ポリオキシアルキレン界面活性剤は10〜2
00mg/m2、好ましくは50〜100mg/m2の量
でトップコート保護層に使用する。
00mg/m2、好ましくは50〜100mg/m2の量
でトップコート保護層に使用する。
【0022】通常写真で使用されるアニオン性ポリオキ
シエチレン界面活性剤は、アニオン親水性基及び炭化水
素残基に直接又は2価の有機残基からなる架橋手段によ
ってポリオキシエチレン基が結合してなるタイプの界面
活性剤であり、以下の式で表される: R−(A)m−(CH2−CH2−O)n−X 式中、Rは脂肪族、芳香族又は混合の炭化水素残基であ
り、好ましくは4〜18個の炭素原子を有する線状又は
分岐状アルキル基又は全部で4〜18個の炭素原子を有
する1以上のアルキル基で置換されたアリール基であ
り、Aは2価の有機残基、好ましくはカルボニル、スル
ホニル、及びアミノ又は好ましくは1〜3個の炭素原子
を有するアルキレン基、酸素原子又は例えばカルボニル
アミノ、スルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノ
スルホニル、又はエステル等の2以上の前述の基からな
る基であり、Xはスルホネート基、カルボキシレート
基、ホスフェイト基及びスルフェイト基からなる種から
選択されるアニオン性基であり、mは0又は1でありn
は1〜25の整数である。
シエチレン界面活性剤は、アニオン親水性基及び炭化水
素残基に直接又は2価の有機残基からなる架橋手段によ
ってポリオキシエチレン基が結合してなるタイプの界面
活性剤であり、以下の式で表される: R−(A)m−(CH2−CH2−O)n−X 式中、Rは脂肪族、芳香族又は混合の炭化水素残基であ
り、好ましくは4〜18個の炭素原子を有する線状又は
分岐状アルキル基又は全部で4〜18個の炭素原子を有
する1以上のアルキル基で置換されたアリール基であ
り、Aは2価の有機残基、好ましくはカルボニル、スル
ホニル、及びアミノ又は好ましくは1〜3個の炭素原子
を有するアルキレン基、酸素原子又は例えばカルボニル
アミノ、スルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノ
スルホニル、又はエステル等の2以上の前述の基からな
る基であり、Xはスルホネート基、カルボキシレート
基、ホスフェイト基及びスルフェイト基からなる種から
選択されるアニオン性基であり、mは0又は1でありn
は1〜25の整数である。
【0023】このタイプのアニオン性界面活性剤は例え
ばシュワルツ(Schwarz)ら、「界面活性剤及び
洗剤」第1巻及び2巻、インターサイエンス・パブル
(Interscience Publ.)、米国特許
第2,992,108号、3,068,101号、3,
201,152号及び3,165,409号、フランス
特許第1,556,240号及び1,497,930
号、及び英国特許第580,504号及び985,48
3号に記載されている。
ばシュワルツ(Schwarz)ら、「界面活性剤及び
洗剤」第1巻及び2巻、インターサイエンス・パブル
(Interscience Publ.)、米国特許
第2,992,108号、3,068,101号、3,
201,152号及び3,165,409号、フランス
特許第1,556,240号及び1,497,930
号、及び英国特許第580,504号及び985,48
3号に記載されている。
【0024】本発明の組み合わせに有用なアニオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤の例を以下に挙げる。
リオキシエチレン界面活性剤の例を以下に挙げる。
【0025】
【化7】
【0026】アニオン性ポリオキシアルキレン界面活性
剤は10〜200mg/m2、好ましくは50〜100
mg/m2量でトップコート保護層に使用する。
剤は10〜200mg/m2、好ましくは50〜100
mg/m2量でトップコート保護層に使用する。
【0027】「非イオン性パーフルオロアルキルポリオ
キシエチレン界面活性剤」とい用語は、6〜15のオキ
シエチレン基を含有するポリオキシエチレン基に6〜1
6この炭素原子の脂肪族基が結合してなる化合物(ここ
で水素は全てフッ素原子に置き換えられる)の混合物を
含有する非イオン性界面活性剤を意味する。非イオン性
パーフルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤は
以下の式で表される:
キシエチレン界面活性剤」とい用語は、6〜15のオキ
シエチレン基を含有するポリオキシエチレン基に6〜1
6この炭素原子の脂肪族基が結合してなる化合物(ここ
で水素は全てフッ素原子に置き換えられる)の混合物を
含有する非イオン性界面活性剤を意味する。非イオン性
パーフルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤は
以下の式で表される:
【化8】 式中、R及びR’は独立して水素又は1〜4個の炭素原
子の低級アルキルであり、xは3〜8の整数であり、y
は6〜15の整数である。
子の低級アルキルであり、xは3〜8の整数であり、y
は6〜15の整数である。
【0028】特に好ましい非イオン性パーフルオロアル
キルポリオキシエチレン界面活性剤はデュポン(DuP
ont)社の商品名ゾニル(Zonyl)TMFSNであ
る。非イオン性パーフルオロアルキルポリオキシエチレ
ン界面活性剤は10〜100mg/m2、好ましくは2
0〜60mg/m2、より好ましくは約40mg/m2の
量で使用する。
キルポリオキシエチレン界面活性剤はデュポン(DuP
ont)社の商品名ゾニル(Zonyl)TMFSNであ
る。非イオン性パーフルオロアルキルポリオキシエチレ
ン界面活性剤は10〜100mg/m2、好ましくは2
0〜60mg/m2、より好ましくは約40mg/m2の
量で使用する。
【0029】本発明のより好ましい実施態様によれば、
界面活性剤の組み合わせは更に、ポリオキシエチレン変
性ポリシロキサン界面活性剤を含有する。ポリオキシエ
チレン変性ポリシロキサン界面活性剤はポリシロキサン
骨格に結合したペンダントポリオキシエチレンポリマー
状ユニットを有する非イオン性ポリシロキサンポリマー
(好ましくは線状ポリマー骨格を有する)を含有する。
ポリオキシエチレン鎖がエーテル結合を通じてポリシロ
キサンに結合するのが好ましく、ポリオキシエチレンが
ランダム又はブロックユニットとしてプロピレンユニッ
トをポリオキシエチレン鎖全体に有してもよい。ポリオ
キシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤は以下の式
でより良好に表され得る:
界面活性剤の組み合わせは更に、ポリオキシエチレン変
性ポリシロキサン界面活性剤を含有する。ポリオキシエ
チレン変性ポリシロキサン界面活性剤はポリシロキサン
骨格に結合したペンダントポリオキシエチレンポリマー
状ユニットを有する非イオン性ポリシロキサンポリマー
(好ましくは線状ポリマー骨格を有する)を含有する。
ポリオキシエチレン鎖がエーテル結合を通じてポリシロ
キサンに結合するのが好ましく、ポリオキシエチレンが
ランダム又はブロックユニットとしてプロピレンユニッ
トをポリオキシエチレン鎖全体に有してもよい。ポリオ
キシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤は以下の式
でより良好に表され得る:
【化9】 (式中、Rは1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル
であり、R’は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキ
レンであり、R”は水素又は1〜4個の炭素原子の低級
アルキルであり、mは5〜100の整数、nは2〜50
の整数、pは5〜50の整数、qは0〜50の整数であ
る。この種の化合物はユニオン・カーバイド(Unio
n Carbide)社によって商品名シルウェット
(Silwet)TMで販売されている。本発明の組み合
わせに使用して有用な化合物の例はシルウェット(Si
lvwet)TML−7605、シルウェット(Silw
et)TML−77、シルウェット(Silwet)TML
−7001等である。
であり、R’は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキ
レンであり、R”は水素又は1〜4個の炭素原子の低級
アルキルであり、mは5〜100の整数、nは2〜50
の整数、pは5〜50の整数、qは0〜50の整数であ
る。この種の化合物はユニオン・カーバイド(Unio
n Carbide)社によって商品名シルウェット
(Silwet)TMで販売されている。本発明の組み合
わせに使用して有用な化合物の例はシルウェット(Si
lvwet)TML−7605、シルウェット(Silw
et)TML−77、シルウェット(Silwet)TML
−7001等である。
【0030】本発明による写真材料は一般に支持体の少
なくとも一方表面上に被覆形成されたハロゲン化銀エマ
ルジョンのような少なくとも1つの感光層を有する。
なくとも一方表面上に被覆形成されたハロゲン化銀エマ
ルジョンのような少なくとも1つの感光層を有する。
【0031】ハロゲン化銀エマルジョンは典型的に異な
った結晶状態及び大きさを有するハロゲン化銀粒子、例
えば立方晶、8面体粒子、板状粒子、球状粒子等を含有
する。板状粒子が好ましい。本発明のハロゲン化銀エマ
ルジョン層中に含まれる板状ハロゲン化銀粒子は少なく
とも3:1、好ましくは3:1〜20:1、より好まし
くは3:1〜14:1、最も好ましくは3:1〜8:1
の平均直径:厚さ比(しばしばこの分野ではアスペクト
比として示される)を有する。本発明で使用に好適な板
状ハロゲン化銀粒子の平均直径は約0.3〜約5μm、
好ましくは0.5〜3μm、より好ましくは0.8〜
1.5μmの範囲である。本発明で使用に好適な板状ハ
ロゲン化銀粒子は0.4μm以下、好ましくは0.3μ
m以下、より好ましくは0.2μm以下の厚さを有す
る。
った結晶状態及び大きさを有するハロゲン化銀粒子、例
えば立方晶、8面体粒子、板状粒子、球状粒子等を含有
する。板状粒子が好ましい。本発明のハロゲン化銀エマ
ルジョン層中に含まれる板状ハロゲン化銀粒子は少なく
とも3:1、好ましくは3:1〜20:1、より好まし
くは3:1〜14:1、最も好ましくは3:1〜8:1
の平均直径:厚さ比(しばしばこの分野ではアスペクト
比として示される)を有する。本発明で使用に好適な板
状ハロゲン化銀粒子の平均直径は約0.3〜約5μm、
好ましくは0.5〜3μm、より好ましくは0.8〜
1.5μmの範囲である。本発明で使用に好適な板状ハ
ロゲン化銀粒子は0.4μm以下、好ましくは0.3μ
m以下、より好ましくは0.2μm以下の厚さを有す
る。
【0032】前述の板状ハロゲン化銀粒子の特徴は当業
者に公知の操作によって容易に確認することができる。
「直径」という用語は板状粒子の投影面積と同じ面積を
有する円の直径と規定する。「厚さ」という用語はハロ
ゲン化銀粒子を構成する実質的に平行な2つの主平面間
の距離を意味する。それぞれの粒子の直径と厚さの測定
からそれぞれの粒子の直径:厚さ比を計算することがで
き、全ての板状粒子の直径:厚さ比を平均しその平均直
径:厚さ比を得ることができる。この定義によって平均
直径:厚さ比は個々の板状粒子の直径:厚さ比の平均で
ある。実際には板状粒子の平均直径と平均厚さを得、こ
れら2つの平均の比として平均直径:厚さ比を計算する
のがより簡単である。用いた方法がいずれであっても得
られた平均直径:厚さ比は大きく異ならない。
者に公知の操作によって容易に確認することができる。
「直径」という用語は板状粒子の投影面積と同じ面積を
有する円の直径と規定する。「厚さ」という用語はハロ
ゲン化銀粒子を構成する実質的に平行な2つの主平面間
の距離を意味する。それぞれの粒子の直径と厚さの測定
からそれぞれの粒子の直径:厚さ比を計算することがで
き、全ての板状粒子の直径:厚さ比を平均しその平均直
径:厚さ比を得ることができる。この定義によって平均
直径:厚さ比は個々の板状粒子の直径:厚さ比の平均で
ある。実際には板状粒子の平均直径と平均厚さを得、こ
れら2つの平均の比として平均直径:厚さ比を計算する
のがより簡単である。用いた方法がいずれであっても得
られた平均直径:厚さ比は大きく異ならない。
【0033】本発明の板状ハロゲン化銀粒子を含有する
ハロゲン化銀エマルジョンでは、少なくとも15%、好
ましくは少なくとも25%、より好ましくは少なくとも
50%のハロゲン化銀粒子が3:1以上の平均直径:厚
さ比を有する板状粒子である。前記割合「15%」、
「25%」、「50%」はそれぞれ層中の全ハロゲン化
銀粒子の投影面積と比べた、少なくとも3:1の直径:
厚さ比で0.4μm以下の厚さを有する板状粒子の全投
影面積の割合を意味する。他の常套のハロゲン化銀粒子
構造、例えば立方晶、斜方晶、4面体等が粒子の残りを
形成してもよい。
ハロゲン化銀エマルジョンでは、少なくとも15%、好
ましくは少なくとも25%、より好ましくは少なくとも
50%のハロゲン化銀粒子が3:1以上の平均直径:厚
さ比を有する板状粒子である。前記割合「15%」、
「25%」、「50%」はそれぞれ層中の全ハロゲン化
銀粒子の投影面積と比べた、少なくとも3:1の直径:
厚さ比で0.4μm以下の厚さを有する板状粒子の全投
影面積の割合を意味する。他の常套のハロゲン化銀粒子
構造、例えば立方晶、斜方晶、4面体等が粒子の残りを
形成してもよい。
【0034】本発明では一般に使用されるハロゲン化銀
粒子のハロゲン組成を用いることができる。典型的なハ
ロゲン化銀としては塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化ヨ
ウ化銀、臭化ヨウ化銀、塩化臭化ヨウ化銀等でがある。
しかしながら、臭化銀と臭化ヨウ化銀が板状ハロゲン化
銀粒子用の好ましいハロゲン化銀組成物であってこの臭
化ヨウ化銀組成物は0〜10mol%のヨウ化銀、好ま
しくは0.2〜5mol%のヨウ化銀、より好ましくは
0.5〜1.5mol%のヨウ化銀を含有する。個々の
粒子のハロゲン組成物は均一であっても不均一であって
もよい。
粒子のハロゲン組成を用いることができる。典型的なハ
ロゲン化銀としては塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化ヨ
ウ化銀、臭化ヨウ化銀、塩化臭化ヨウ化銀等でがある。
しかしながら、臭化銀と臭化ヨウ化銀が板状ハロゲン化
銀粒子用の好ましいハロゲン化銀組成物であってこの臭
化ヨウ化銀組成物は0〜10mol%のヨウ化銀、好ま
しくは0.2〜5mol%のヨウ化銀、より好ましくは
0.5〜1.5mol%のヨウ化銀を含有する。個々の
粒子のハロゲン組成物は均一であっても不均一であって
もよい。
【0035】板状ハロゲン銀粒子を含有するハロゲン銀
エマルジョンは写真材料の調製で公知の種々の処理によ
って調製することができる。ハロゲン銀エマルジョンは
酸処理、中性処理又はアンモニア処理によって調製する
ことができる。調製段階では、溶解性銀塩及びハロゲン
塩をシングルジェット処理、ダブルジェット処理、逆混
合処理又はその組み合わせ処理に従って、粒子形成条
件、例えばpH、pAg、温度、反応容器の形状及び大
きさ、及び反応方法を制御することによって反応させる
ことができる。粒子の大きさ、粒子の形成、粒子の粒子
サイズ分布、及び粒子成長速度の制御にとって必要であ
れば、ハロゲン化銀溶媒、例えばアンモニア、チオエー
テル、チオ尿素等を用いてもよい。
エマルジョンは写真材料の調製で公知の種々の処理によ
って調製することができる。ハロゲン銀エマルジョンは
酸処理、中性処理又はアンモニア処理によって調製する
ことができる。調製段階では、溶解性銀塩及びハロゲン
塩をシングルジェット処理、ダブルジェット処理、逆混
合処理又はその組み合わせ処理に従って、粒子形成条
件、例えばpH、pAg、温度、反応容器の形状及び大
きさ、及び反応方法を制御することによって反応させる
ことができる。粒子の大きさ、粒子の形成、粒子の粒子
サイズ分布、及び粒子成長速度の制御にとって必要であ
れば、ハロゲン化銀溶媒、例えばアンモニア、チオエー
テル、チオ尿素等を用いてもよい。
【0036】板状ハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン
化銀エマルジョンの調製は、例えばデ・カグナック(d
e Cugnac)とシャチュー(Chateau)、
「物理的熟成中における臭化銀結晶の形態の発展」、サ
イエンス・アンド・インダストリーズ・フォトグラフィ
ックス(Science and Industrie
s Photographiques)第33巻、N
o.2(1962年)121〜125頁、グットフ(G
utoff)、「ハロゲン化銀写真エマルジョンの沈殿
時における核形成及び成長速度」、フォトグラフィック
・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Photo
graphic Science andEngine
ering)第14巻No.4(1970年)248〜
257頁、ベリー(Berry)ら、「臭化銀微結晶の
成長における環境の効果」、第5巻No.6(1961
年)332〜336頁、米国特許第4,063,951
号、4,067,739号、4,184,878号、
4,434,226号、4,414,310号、4,3
86,156号、4,414,306号及びヨーロッパ
特許出願第263,508号に記載されている。
化銀エマルジョンの調製は、例えばデ・カグナック(d
e Cugnac)とシャチュー(Chateau)、
「物理的熟成中における臭化銀結晶の形態の発展」、サ
イエンス・アンド・インダストリーズ・フォトグラフィ
ックス(Science and Industrie
s Photographiques)第33巻、N
o.2(1962年)121〜125頁、グットフ(G
utoff)、「ハロゲン化銀写真エマルジョンの沈殿
時における核形成及び成長速度」、フォトグラフィック
・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Photo
graphic Science andEngine
ering)第14巻No.4(1970年)248〜
257頁、ベリー(Berry)ら、「臭化銀微結晶の
成長における環境の効果」、第5巻No.6(1961
年)332〜336頁、米国特許第4,063,951
号、4,067,739号、4,184,878号、
4,434,226号、4,414,310号、4,3
86,156号、4,414,306号及びヨーロッパ
特許出願第263,508号に記載されている。
【0037】ハロゲン化銀エマルジョン及び他の親水性
コロイド層用のバインダーとしてはゼラチンが好ましい
が、他の親水性コロイド、例えばデキストラン、セルロ
ース誘導体(ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース)、コラーゲン誘導体、コロイド状ア
ルブミン又はカゼイン、ポリサッカライド、合成親水性
ポリマー(例えば、ポリビニルピロリドン、ポリアクリ
ルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピラゾー
ル)等を単独又は組み合わせて使用することができる。
ゼラチン誘導体、例えば高脱イオンゼラチン、アクリレ
ート化ゼラチン、フタレート化ゼラチンを用いてもよ
い。高脱イオンゼラチンは一般的に使用される写真ゼラ
チンに関してより高度の脱イオン化のよって特徴付けら
れる。好ましくは、高脱イオン化ゼラチンはほぼ完全に
脱イオン化され、これは5000ppm以下のCa++イ
オンを有しかつ他のイオンがかなり存在する一般に使用
される写真ゼラチンに比べて、50ppm(parts
per million)以下のCa++イオンが存在
し、塩化物、リン酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような他のイ
オンが実質的にない(5part per milli
on以下)ことを意味すると規定する。
コロイド層用のバインダーとしてはゼラチンが好ましい
が、他の親水性コロイド、例えばデキストラン、セルロ
ース誘導体(ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース)、コラーゲン誘導体、コロイド状ア
ルブミン又はカゼイン、ポリサッカライド、合成親水性
ポリマー(例えば、ポリビニルピロリドン、ポリアクリ
ルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピラゾー
ル)等を単独又は組み合わせて使用することができる。
ゼラチン誘導体、例えば高脱イオンゼラチン、アクリレ
ート化ゼラチン、フタレート化ゼラチンを用いてもよ
い。高脱イオンゼラチンは一般的に使用される写真ゼラ
チンに関してより高度の脱イオン化のよって特徴付けら
れる。好ましくは、高脱イオン化ゼラチンはほぼ完全に
脱イオン化され、これは5000ppm以下のCa++イ
オンを有しかつ他のイオンがかなり存在する一般に使用
される写真ゼラチンに比べて、50ppm(parts
per million)以下のCa++イオンが存在
し、塩化物、リン酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような他のイ
オンが実質的にない(5part per milli
on以下)ことを意味すると規定する。
【0038】高脱イオン化ゼラチンは板状ハロゲン化銀
粒子を含有するハロゲン化銀エマルジョン層だけでな
く、写真要素の他の構成層、例えば板状ハロゲン化銀粒
子以外を含有するハロゲン化銀エマルジョン層、オーバ
ーコート層、中間層、エマルジョン層の下に位置する層
等に使用することができる。本発明では、写真要素の全
親水性コロイドの好ましくは少なくとも50%、より好
ましくは少なくとも70%が高脱イオン化ゼラチンを含
有する。本発明の感光性写真材料に使用されるゼラチン
の量は、ゼラチンに対する全銀が1以下の比を与えるよ
うにする(Agのグラム/ゼラチンのグラムで表され
る)。特にハロゲン化銀エマルジョン層のゼラチンに対
する銀の比は1〜1.5の範囲である。
粒子を含有するハロゲン化銀エマルジョン層だけでな
く、写真要素の他の構成層、例えば板状ハロゲン化銀粒
子以外を含有するハロゲン化銀エマルジョン層、オーバ
ーコート層、中間層、エマルジョン層の下に位置する層
等に使用することができる。本発明では、写真要素の全
親水性コロイドの好ましくは少なくとも50%、より好
ましくは少なくとも70%が高脱イオン化ゼラチンを含
有する。本発明の感光性写真材料に使用されるゼラチン
の量は、ゼラチンに対する全銀が1以下の比を与えるよ
うにする(Agのグラム/ゼラチンのグラムで表され
る)。特にハロゲン化銀エマルジョン層のゼラチンに対
する銀の比は1〜1.5の範囲である。
【0039】ハロゲン化銀エマルジョン層は感応性染料
で特定の範囲の波長に感応することができる。典型的な
感応性染料としてはシアニン、ヘミシアニン、メロシア
ニン、オキソノール、ヘミオキソノール、スチリル、メ
ロスチリル、及びストレプトシアニンがある。本発明の
ハロゲン化銀写真材料は同じ又は異なった範囲の電磁波
スペクトルに感応する1以上のハロゲン化銀エマルジョ
ン層を有することができる。ハロゲン化銀エマルジョン
層は支持体ベースの一方側又は両側上に被覆形成するこ
とができる。支持体の調製に好適な材料の例としてはガ
ラス、紙、ポリエチレン塗布紙、金属、セルロースニト
レート、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレー
ト等の合成フィルムがある。
で特定の範囲の波長に感応することができる。典型的な
感応性染料としてはシアニン、ヘミシアニン、メロシア
ニン、オキソノール、ヘミオキソノール、スチリル、メ
ロスチリル、及びストレプトシアニンがある。本発明の
ハロゲン化銀写真材料は同じ又は異なった範囲の電磁波
スペクトルに感応する1以上のハロゲン化銀エマルジョ
ン層を有することができる。ハロゲン化銀エマルジョン
層は支持体ベースの一方側又は両側上に被覆形成するこ
とができる。支持体の調製に好適な材料の例としてはガ
ラス、紙、ポリエチレン塗布紙、金属、セルロースニト
レート、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレー
ト等の合成フィルムがある。
【0040】本発明による重要な写真材料は白黒感光性
写真材料、特にX線感光性材料である。
写真材料、特にX線感光性材料である。
【0041】本発明による好ましい感光性ハロゲン化銀
写真材料は支持体(好ましくはポリエチレンテレフタレ
ート支持体)の一方表面、好ましくは両面に被覆形成さ
れたハロゲン化銀エマルジョン層を有するX線画像形成
に使用されるラジオグラフィー感光性材料である。好ま
しくはハロゲン化銀エマルジョンを支持体上に3〜6g
/m2の範囲の全銀被覆で塗布する。通常、ラジオグラ
フィー感光性材料を増強スクリーンと組み合わせて前記
スクリーンによって放出される放射線で露光するように
する。このスクリーンはX線を光(例えば可視光)のよ
うなより画像形成に有効な放射線に変換する比較的厚い
燐光層からなる。スクリーンは感光性材料よりももっと
大部分のX線を吸収し、X線を有用な画像を得るのに必
要なものにするのに使用される。これらの化学薬品組成
物によれば、燐光体は紫外線、青、緑、又は赤の範囲の
可視スペクトルの放射線を放射することができ、ハロゲ
ン化銀エマルジョンはスクリーンによって放射される放
射線の波長範囲に感応する。感応化はこの分野で公知の
ようにハロゲン化銀粒子の表面上に吸収されているスペ
クトル感応性染料を用いて行われる。
写真材料は支持体(好ましくはポリエチレンテレフタレ
ート支持体)の一方表面、好ましくは両面に被覆形成さ
れたハロゲン化銀エマルジョン層を有するX線画像形成
に使用されるラジオグラフィー感光性材料である。好ま
しくはハロゲン化銀エマルジョンを支持体上に3〜6g
/m2の範囲の全銀被覆で塗布する。通常、ラジオグラ
フィー感光性材料を増強スクリーンと組み合わせて前記
スクリーンによって放出される放射線で露光するように
する。このスクリーンはX線を光(例えば可視光)のよ
うなより画像形成に有効な放射線に変換する比較的厚い
燐光層からなる。スクリーンは感光性材料よりももっと
大部分のX線を吸収し、X線を有用な画像を得るのに必
要なものにするのに使用される。これらの化学薬品組成
物によれば、燐光体は紫外線、青、緑、又は赤の範囲の
可視スペクトルの放射線を放射することができ、ハロゲ
ン化銀エマルジョンはスクリーンによって放射される放
射線の波長範囲に感応する。感応化はこの分野で公知の
ようにハロゲン化銀粒子の表面上に吸収されているスペ
クトル感応性染料を用いて行われる。
【0042】本発明によるより好ましい感光性ハロゲン
化銀写真材料は米国特許第4,425,426号及びヨ
ーロッパ特許出願第84,637号に開示されているよ
うな中程度の直径:厚さ比の板状粒子ハロゲン化銀エマ
ルジョンを用いたラジオグラフィー感光性材料である。
化銀写真材料は米国特許第4,425,426号及びヨ
ーロッパ特許出願第84,637号に開示されているよ
うな中程度の直径:厚さ比の板状粒子ハロゲン化銀エマ
ルジョンを用いたラジオグラフィー感光性材料である。
【0043】しかしながらリソグラフ感光性材料、白黒
写真印刷紙、白黒ネガフィルムのような他の白黒写真材
料はカラーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラー
紙等の感光性写真カラー材料と同様に本発明の使用で利
益を得ることができる。
写真印刷紙、白黒ネガフィルムのような他の白黒写真材
料はカラーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラー
紙等の感光性写真カラー材料と同様に本発明の使用で利
益を得ることができる。
【0044】カラー写真材料に使用するための感光性層
は染料形成化合物又はカップラーを含有する、又はこれ
と組み合わされる。例えば、赤感応性エマルジョンは一
般にシアンカップラー組み合わされ、緑感応性エマルジ
ョンは一般にマゼンダカップラーと組み合わされ、青感
応性エマルジョンは一般に黄色カップラーと組み合わさ
れる。
は染料形成化合物又はカップラーを含有する、又はこれ
と組み合わされる。例えば、赤感応性エマルジョンは一
般にシアンカップラー組み合わされ、緑感応性エマルジ
ョンは一般にマゼンダカップラーと組み合わされ、青感
応性エマルジョンは一般に黄色カップラーと組み合わさ
れる。
【0045】本発明のハロゲン化銀写真材料は前硬化す
る。有機又は無機硬化剤の典型的な例としてはクロム塩
(例えば、クロムミョウバン、クロムアセテート)、ア
ルデヒド類(例えば、ホルムアルデヒド及びグルタルア
ルデヒド)、イソシアネート化合物(ヘキサメチレンジ
イソシアネート)、活性水素化合物(例えば、2,4−
ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン)、エポキ
シ化合物(例えば、テトラメチレングリコールジグリシ
ジルエーテル)、N−メチロール誘導体(例えば、ジメ
チロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン)、ア
ジリジン類、ムコハロゲノ酸(mucohalogen
o asids)(例えば、ムコ塩酸(mucochl
oric asid))、活性ビニル誘導体(例えば、
ビニルスルホニル及びヒドロキシ置換ビニルスルホニル
誘導体)等がある。公知の他の例はリサーチ・ディスク
ロージャー1989年第308巻、アイテム30811
9、セクションXに見ることができる。
る。有機又は無機硬化剤の典型的な例としてはクロム塩
(例えば、クロムミョウバン、クロムアセテート)、ア
ルデヒド類(例えば、ホルムアルデヒド及びグルタルア
ルデヒド)、イソシアネート化合物(ヘキサメチレンジ
イソシアネート)、活性水素化合物(例えば、2,4−
ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン)、エポキ
シ化合物(例えば、テトラメチレングリコールジグリシ
ジルエーテル)、N−メチロール誘導体(例えば、ジメ
チロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン)、ア
ジリジン類、ムコハロゲノ酸(mucohalogen
o asids)(例えば、ムコ塩酸(mucochl
oric asid))、活性ビニル誘導体(例えば、
ビニルスルホニル及びヒドロキシ置換ビニルスルホニル
誘導体)等がある。公知の他の例はリサーチ・ディスク
ロージャー1989年第308巻、アイテム30811
9、セクションXに見ることができる。
【0046】他の層及び添加剤、例えば、補助層、界面
活性剤、フィルター染料、中間層、保護層、ハレーショ
ン防止層、バリヤー層、現像抑制化合物、速度増進剤、
安定化剤、可塑剤、化学増感剤、紫外線吸収剤等が写真
要素中に存在することができる。
活性剤、フィルター染料、中間層、保護層、ハレーショ
ン防止層、バリヤー層、現像抑制化合物、速度増進剤、
安定化剤、可塑剤、化学増感剤、紫外線吸収剤等が写真
要素中に存在することができる。
【0047】写真要素の及び種々の層及び添加剤の詳細
な記載はリサーチ・ディスクロージャー17643、1
978年12月、18431、1979年8月、187
161979年11月、22534、1983年1月、
及び308119、1989年12月に見ることができ
る。
な記載はリサーチ・ディスクロージャー17643、1
978年12月、18431、1979年8月、187
161979年11月、22534、1983年1月、
及び308119、1989年12月に見ることができ
る。
【0048】本発明のハロゲン化銀写真材料はいずれか
の常套の処理技術によって露光及び処理することができ
る。いかなる公知の現像剤、例えばジヒドロキシベンゼ
ン類(例えばヒドロキノン)、ピラゾリドン類(1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン−4,4−ジメチル−1−フ
ェニル−3−ピラゾリド−オン)及びアミノフェノール
類(例えばN−メチル−p−アミノフェノール)を単独
又は組み合わせて現像液中で使用することができる。好
ましくはハロゲン化銀写真材料を主現像剤としてジヒド
ロキシベンゼン類と補助現像剤としてピラゾリドン類及
びp−アミノフェノール類とを含有する現像液中で現像
する。
の常套の処理技術によって露光及び処理することができ
る。いかなる公知の現像剤、例えばジヒドロキシベンゼ
ン類(例えばヒドロキノン)、ピラゾリドン類(1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン−4,4−ジメチル−1−フ
ェニル−3−ピラゾリド−オン)及びアミノフェノール
類(例えばN−メチル−p−アミノフェノール)を単独
又は組み合わせて現像液中で使用することができる。好
ましくはハロゲン化銀写真材料を主現像剤としてジヒド
ロキシベンゼン類と補助現像剤としてピラゾリドン類及
びp−アミノフェノール類とを含有する現像液中で現像
する。
【0049】他の公知の添加剤、例えばかぶり防止剤
(例えばベンゾトリアゾール類、インダゾール類、テト
ラゾール類)、ハロゲン化銀溶媒(例えばチオスルフェ
ート類、チオシアネート類)、金属イオン封鎖剤(例え
ばアミノポリカルボン酸、アミノポリリン酸)、亜硫酸
塩酸化防止剤、緩和剤、抑制剤、硬化剤、コントラスト
促進剤、界面活性剤等が現像液中に存在することができ
る。無機アルカリ剤、例えばKOH、NaOH及びLi
OHを現像液組成物に添加して所望の通常10以上のp
Hを得る。
(例えばベンゾトリアゾール類、インダゾール類、テト
ラゾール類)、ハロゲン化銀溶媒(例えばチオスルフェ
ート類、チオシアネート類)、金属イオン封鎖剤(例え
ばアミノポリカルボン酸、アミノポリリン酸)、亜硫酸
塩酸化防止剤、緩和剤、抑制剤、硬化剤、コントラスト
促進剤、界面活性剤等が現像液中に存在することができ
る。無機アルカリ剤、例えばKOH、NaOH及びLi
OHを現像液組成物に添加して所望の通常10以上のp
Hを得る。
【0050】本発明のハロゲン化銀写真材料を典型的な
組成物の定着剤で処理することができる。定着剤として
はチオスルフェート類、チオシアネート類、亜硫酸塩
類、アンモニウム塩等がある。定着剤組成物は他の公知
の添加剤、例えば酸化合物(例えばメタビスルフェート
類)、緩和剤(例えばカルボン酸、酢酸)、硬化剤(例
えばアルミニウム塩)、色調改良剤等を含有することが
できる。
組成物の定着剤で処理することができる。定着剤として
はチオスルフェート類、チオシアネート類、亜硫酸塩
類、アンモニウム塩等がある。定着剤組成物は他の公知
の添加剤、例えば酸化合物(例えばメタビスルフェート
類)、緩和剤(例えばカルボン酸、酢酸)、硬化剤(例
えばアルミニウム塩)、色調改良剤等を含有することが
できる。
【0051】本発明は特に高温で、自動処理装置(写真
要素を自動的に一定速度である処理ユニットから他のユ
ニットへローラーを用いて輸送する)での加速処理用で
あり効果的である。前記自動処理装置の典型的な例は3
Mのトリマティック(TRIMATIC)TMXP515
及びコダック(KODAK)のRP X−OMATTMで
ある。処理温度は20〜60℃、好ましくは30〜50
℃の範囲であり、処理時間は90秒以下、好ましくは4
5秒以下である。本発明のハロゲン化銀写真材料の良好
な帯電防止特性及び表面特性によって不都合な静電気マ
ークやフィルム表面上に傷が出現することなく材料の高
速処理が可能である。
要素を自動的に一定速度である処理ユニットから他のユ
ニットへローラーを用いて輸送する)での加速処理用で
あり効果的である。前記自動処理装置の典型的な例は3
Mのトリマティック(TRIMATIC)TMXP515
及びコダック(KODAK)のRP X−OMATTMで
ある。処理温度は20〜60℃、好ましくは30〜50
℃の範囲であり、処理時間は90秒以下、好ましくは4
5秒以下である。本発明のハロゲン化銀写真材料の良好
な帯電防止特性及び表面特性によって不都合な静電気マ
ークやフィルム表面上に傷が出現することなく材料の高
速処理が可能である。
【0052】本発明を以下の実施例を参照して記載す
る。
る。
【0053】
【実施例】板状粒子の臭化銀エマルジョン(約7.6:
1の平均直径:厚さ比を有し、60℃で水中に6.67
%w/wで4.6mPasの粘度を有する脱イオン化ゼ
ラチンの存在中で調製され、40℃で水中に6.67%
w/wで150μs/cm以下の伝導度と50ppm以
下のCa++を有する)はシアニン染料で緑光に感光し、
ナトリウムp−トルエンチオスルフィネート、ナトリウ
ムp−トルエンスルホネート及びベンゾチアゾールヨー
ドエチレートで化学的に感応化させた。化学処理終了
時、非脱イオン化ゼラチン(60℃で水中に6.67%
w/wで5.5mPasの粘度、40℃で水中に6.6
7%w/wで1,100μs/cmの伝導度と4,50
0ppmのCa++を有する)をこのエマルジョンに83
重量%の脱イオン化ゼラチンと17重量%の非脱イオン
化ゼラチンを有するような量で添加した。このエマルジ
ョンに5−メチル−7−ヒドロキシ−トリアザインドー
リジン安定化剤と硬化剤を含有させ、これを12に分割
した。それぞれの部分を青色ポリエステルフィルム支持
体のそれぞれの面上に面に対して2.15g/m2の銀
被覆及び1.5g/m2のゼラチン被覆で塗布した。面
に対して1.01g/m2のゼラチンを有する非脱イオ
ン化ゼラチン保護スーパーコートと表1に示す化合物を
それぞれの被膜上に適用して12の異なった両面ラジオ
グラフィーフィルム1〜12を得た。
1の平均直径:厚さ比を有し、60℃で水中に6.67
%w/wで4.6mPasの粘度を有する脱イオン化ゼ
ラチンの存在中で調製され、40℃で水中に6.67%
w/wで150μs/cm以下の伝導度と50ppm以
下のCa++を有する)はシアニン染料で緑光に感光し、
ナトリウムp−トルエンチオスルフィネート、ナトリウ
ムp−トルエンスルホネート及びベンゾチアゾールヨー
ドエチレートで化学的に感応化させた。化学処理終了
時、非脱イオン化ゼラチン(60℃で水中に6.67%
w/wで5.5mPasの粘度、40℃で水中に6.6
7%w/wで1,100μs/cmの伝導度と4,50
0ppmのCa++を有する)をこのエマルジョンに83
重量%の脱イオン化ゼラチンと17重量%の非脱イオン
化ゼラチンを有するような量で添加した。このエマルジ
ョンに5−メチル−7−ヒドロキシ−トリアザインドー
リジン安定化剤と硬化剤を含有させ、これを12に分割
した。それぞれの部分を青色ポリエステルフィルム支持
体のそれぞれの面上に面に対して2.15g/m2の銀
被覆及び1.5g/m2のゼラチン被覆で塗布した。面
に対して1.01g/m2のゼラチンを有する非脱イオ
ン化ゼラチン保護スーパーコートと表1に示す化合物を
それぞれの被膜上に適用して12の異なった両面ラジオ
グラフィーフィルム1〜12を得た。
【0054】
【表1】
【0055】化合物Aは米国特許第4,582,781
号によるリチウムトリフルオロメタンスルホネートであ
り、トリトン(Triton)TMX−200は以下の
式:
号によるリチウムトリフルオロメタンスルホネートであ
り、トリトン(Triton)TMX−200は以下の
式:
【化10】 を有するアルキルフェニルオキシエチレンスルホネート
タイプのアニオン性界面活性剤の商品名である。
タイプのアニオン性界面活性剤の商品名である。
【0056】トリトン(Triton)TMX−100は
以下の式:
以下の式:
【化11】 を有するアルキルフェノキシエチレンタイプの非イオン
性界面活性剤の商品名である。
性界面活性剤の商品名である。
【0057】ゾニル(Zonyl)TMSFNは以下の
式:
式:
【化12】 (式中、xは10〜20の整数である)を有するデュポ
ン社で製造されているパーフルオロアルキルポリオキシ
エチレンタイプの非イオン性界面活性剤の商品名であ
る。
ン社で製造されているパーフルオロアルキルポリオキシ
エチレンタイプの非イオン性界面活性剤の商品名であ
る。
【0058】シルウェット(Silwet)TML760
5は以下の式:
5は以下の式:
【化13】 (式中、nは5〜100の範囲であり、nは2〜50の
範囲であり、pは5〜50の範囲であり、qは0〜50
の範囲である)を有するユニオン・カーバイド(Uni
on Carbide)社で製造されているポリアルキ
レノキサイド変性ジメチルポリシロキサン界面活性剤の
商品名である。
範囲であり、pは5〜50の範囲であり、qは0〜50
の範囲である)を有するユニオン・カーバイド(Uni
on Carbide)社で製造されているポリアルキ
レノキサイド変性ジメチルポリシロキサン界面活性剤の
商品名である。
【0059】試料1〜12は15時間25%の相対湿度
の条件においた。条件付け後試料を露光し現像した。そ
の後、これらを技術者によって被膜の品質の評価を行っ
た。表2の被膜の品質及び粗さの評価は点数で3人の技
術者の評価の平均として示した。ここで4は不良、5は
不十分、6は十分、7は良好、8は非常に良好、9は最
適を意味している。試料を次に以下の試験に従って評価
した。
の条件においた。条件付け後試料を露光し現像した。そ
の後、これらを技術者によって被膜の品質の評価を行っ
た。表2の被膜の品質及び粗さの評価は点数で3人の技
術者の評価の平均として示した。ここで4は不良、5は
不十分、6は十分、7は良好、8は非常に良好、9は最
適を意味している。試料を次に以下の試験に従って評価
した。
【0060】(電荷減衰時間試験)この試験によって、
各フィルムの静電気消失を測定した。フィルムを45×
54mmの試料に切り、15時間25%の相対湿度でT
=21℃の条件においた。電荷減衰時間は電荷減衰試験
ユニットJCI155(ロンドンのジョン・チューブ
(John Chubb)製)で測定した。この装置は
フィルム表面に電荷を高電圧コロナ放電によって蓄積
し、フィールドメーター(fieldmeter)によ
って表面電圧の減衰時間の観察が可能である。この時間
が短いほどフィルムの帯電防止特性が良好である。試験
表面の電荷減衰状況が反対表面に影響されるのを防止す
るために、この表面を金属裏側表面に接触させることに
よって接地した。
各フィルムの静電気消失を測定した。フィルムを45×
54mmの試料に切り、15時間25%の相対湿度でT
=21℃の条件においた。電荷減衰時間は電荷減衰試験
ユニットJCI155(ロンドンのジョン・チューブ
(John Chubb)製)で測定した。この装置は
フィルム表面に電荷を高電圧コロナ放電によって蓄積
し、フィールドメーター(fieldmeter)によ
って表面電圧の減衰時間の観察が可能である。この時間
が短いほどフィルムの帯電防止特性が良好である。試験
表面の電荷減衰状況が反対表面に影響されるのを防止す
るために、この表面を金属裏側表面に接触させることに
よって接地した。
【0061】(表面抵抗試験)この試験によって、試料
表面の抵抗をヒューレット・パッカード・モデル432
9A高レジスタンスメーターを用いて測定した。この値
が低いほどフィルムの帯電防止特性が良好である。
表面の抵抗をヒューレット・パッカード・モデル432
9A高レジスタンスメーターを用いて測定した。この値
が低いほどフィルムの帯電防止特性が良好である。
【0062】(滑り(SLIPPERINES)試験)
この試験はローマジ(Lhomargy)装置で行っ
た。これは約15cm/分の速度でフィルム上を動くス
ライドからなる。スライドに接続された力変換器は印加
した力を増幅したDC電圧に変換し、これを紙レコーダ
ーに記録する。横滑り動作開始時に印加された力は静の
滑り(static slipperiness)値を
表す。フィルム上のスライドの動作は連続ではない。動
作の不連続性は紙レコーダーのグラフから(滑り差(s
lipperiness difference)で)
測定することができる。この値は動の滑り(dynam
icslipperiness)を表す。動作が不連続
であるほど(即ち、滑り差の値が高いほど)フィルムの
性能が良好であることを示す。
この試験はローマジ(Lhomargy)装置で行っ
た。これは約15cm/分の速度でフィルム上を動くス
ライドからなる。スライドに接続された力変換器は印加
した力を増幅したDC電圧に変換し、これを紙レコーダ
ーに記録する。横滑り動作開始時に印加された力は静の
滑り(static slipperiness)値を
表す。フィルム上のスライドの動作は連続ではない。動
作の不連続性は紙レコーダーのグラフから(滑り差(s
lipperiness difference)で)
測定することができる。この値は動の滑り(dynam
icslipperiness)を表す。動作が不連続
であるほど(即ち、滑り差の値が高いほど)フィルムの
性能が良好であることを示す。
【0063】(粘着性試験)それぞれの試料を24枚の
6cm×3.5cmの大きさに切った。得られた試料を
少なくとも15時間24℃で90%の相対湿度の条件に
おいた。この試料でエマルジョン層の裏側にエマルジョ
ンを有するフィルム6組と裏側層の裏側にエマルジョン
層を有するフィルム6組を調製した。各組の試料に1.
5kgの負荷を15時間24℃で90%の相対湿度で与
えた。全組みの試料を分離するのに必要な力の最小値を
測定した。最終結果は6つの測定値の平均であった。
6cm×3.5cmの大きさに切った。得られた試料を
少なくとも15時間24℃で90%の相対湿度の条件に
おいた。この試料でエマルジョン層の裏側にエマルジョ
ンを有するフィルム6組と裏側層の裏側にエマルジョン
層を有するフィルム6組を調製した。各組の試料に1.
5kgの負荷を15時間24℃で90%の相対湿度で与
えた。全組みの試料を分離するのに必要な力の最小値を
測定した。最終結果は6つの測定値の平均であった。
【0064】前述の試験の結果を以下の表2に示す。
【0065】
【表2】
【0066】以下の表3では試料1〜12のセンシトメ
トリー特性を示す。
トリー特性を示す。
【0067】
【表3】
【0068】帯電防止特性及びセンシトメトリーに関す
る最良の結果がトリトンTMX−200、トリトンTMX−
100、ゾニルTMSFN及び任意にシルウェットTML−
7605を最適な量と割合で有する試料4及び5を用い
て達成することができる。試料4と類似しているがより
少量のトリトンTMX−200を有する試料9でも良好な
結果を示している。試料5に類似しているがゾニルTMS
FN又はトリトンTMX−200のない試料10及び11
は試料9よりも良好な結果を示している。
る最良の結果がトリトンTMX−200、トリトンTMX−
100、ゾニルTMSFN及び任意にシルウェットTML−
7605を最適な量と割合で有する試料4及び5を用い
て達成することができる。試料4と類似しているがより
少量のトリトンTMX−200を有する試料9でも良好な
結果を示している。試料5に類似しているがゾニルTMS
FN又はトリトンTMX−200のない試料10及び11
は試料9よりも良好な結果を示している。
【0069】(実施例2)3つの追加のハロゲン化銀ラ
ジオグラフィー材料を実施例1の方法に従って、表4の
化合物をトップコートに添加したことのみを異ならせて
調製した。
ジオグラフィー材料を実施例1の方法に従って、表4の
化合物をトップコートに添加したことのみを異ならせて
調製した。
【0070】シルウェットL−77及びシルウェットL
−7001はユニオン・カーバイドによって製造されて
いる2つのポリアルキレンオキサイド変性ジメチルポリ
シロキサン界面活性剤の商品名である。
−7001はユニオン・カーバイドによって製造されて
いる2つのポリアルキレンオキサイド変性ジメチルポリ
シロキサン界面活性剤の商品名である。
【0071】実施例1の試料7、8及び10と共に試料
13〜15を5日間50℃で50%の相対湿度の条件に
おいた。結果を以下の表5に示す。
13〜15を5日間50℃で50%の相対湿度の条件に
おいた。結果を以下の表5に示す。
【0072】
【表4】
【0073】
【表5】
【0074】表5の結果は明らかに加速エージング試験
の後でさえ本発明では良好な帯電防止特性を示してい
る。
の後でさえ本発明では良好な帯電防止特性を示してい
る。
フロントページの続き (72)発明者 ドメニコ・マリネリ イタリア17016フェラーニア(サヴォーナ) (番地の表示なし) スリーエム・イタリ ア・リチェルシェ・ソシエタ・ペル・アチ オニ内 (72)発明者 マルコ・ブッチ イタリア17016フェラーニア(サヴォーナ) (番地の表示なし) スリーエム・イタリ ア・リチェルシェ・ソシエタ・ペル・アチ オニ内 (72)発明者 レンゾ・トルテローロ イタリア17016フェラーニア(サヴォーナ) (番地の表示なし) スリーエム・イタリ ア・リチェルシェ・ソシエタ・ペル・アチ オニ内
Claims (8)
- 【請求項1】 支持体、この上に被覆形成された少なく
とも1つのハロゲン化銀エマルジョン層、及び前記少な
くとも1つのハロゲン化銀エマルジョン層上に被覆形成
された親水性コロイド層とを含有するハロゲン化銀写真
材料であって、前記親水性コロイド層が(a)非イオン
性ポリオキシエチレン界面活性剤及びアニオン性ポリオ
キシエチレン界面活性剤からなる群から選択される少な
くとも1つの界面活性剤と、(b)非イオン性パーフル
オロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤及びポリオ
キシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤からなる群
から選択される少なくとも1つの界面活性剤との組み合
わせを含有するハロゲン化銀写真材料。 - 【請求項2】 前記親水性コロイド層が(a)非イオン
性ポリオキシエチレン界面活性剤、(b)アニオン性ポ
リオキシエチレン界面活性剤及び、(c)非イオン性パ
ーフルオロアルキルポリオキシエチレン界面活性剤及び
ポリオキシエチレン変性ポリシロキサン界面活性剤から
なる群から選択される少なくとも1つの界面活性剤との
組み合わせを含有することを特徴とする請求項1記載の
ハロゲン化銀写真材料。 - 【請求項3】 前記非イオン性ポリオキシエチレン界面
活性剤が以下の式: 【化1】 (式中、R2は1〜30個の炭素原子を有するアルキル
基、1〜30個の炭素原子を有するアルケニル基、又は
6〜30の環原子を有するアリール基又はその組み合わ
せを表し、R3は水素原子又はメチル基を表し、Dは−
O−、−S−、−COO−、−NR4−、−CO−NR4
−、又は−SO2−NR4−基を表し、ここでR4は水素
原子又は1〜12個の炭素原子を有するアルキル基を表
し、qは0又は1を表しrは2〜50の整数を表す)で
表されることを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀
写真材料。 - 【請求項4】 前記アニオン性ポリオキシエチレン界面
活性剤が以下の式: R−(A)m−(CH2−CH2−O)n−X (式中、Rは脂肪族、芳香族又は混合の炭化水素残基で
あり、好ましくは4〜18個の炭素原子を有する線状又
は分岐状アルキル基又は全部で4〜18個の炭素原子を
有する1以上のアルキル基で置換されたアリール基であ
り、 Aは2価の有機残基、好ましくはカルボニル、スルホニ
ル、及びアミノ又は好ましくは1〜3個の炭素原子を有
するアルキレン基、酸素原子又は例えばカルボニルアミ
ノ、スルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノスル
ホニル、又はエステル等の2以上の前述の基からなる基
であり、 Xはスルホネート基、カルボキシレート基、ホスフェー
ト基及びスルフェート基からなる種から選択されるアニ
オン性基であり、 mは0又は1でありnは1〜25の整数である)で表さ
れることを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写真
材料。 - 【請求項5】 非イオン性パーフルオロアルキルポリオ
キシエチレン界面活性剤は以下の式: 【化2】 (式中、R及びR’は独立して水素又は1〜4個の炭素
原子の低級アルキルであり、xは3〜8の整数であり、
yは6〜15の整数である)で表されることを特徴とす
る請求項1記載のハロゲン化銀写真材料。 - 【請求項6】 前記ポリオキシエチレン変性ポリシロキ
サン界面活性剤が以下の式: 【化3】 (式中、Rは1〜4個の炭素原子を有する低級アルキル
であり、R’は1〜4個の炭素原子を有する低級アルキ
レンであり、R”は水素又は1〜4個の炭素原子の低級
アルキルであり、mは5〜100の整数、nは2〜50
の整数、pは5〜50の整数、qは0〜50の整数であ
る)で表されることを特徴とする請求項1記載のハロゲ
ン化銀写真材料。 - 【請求項7】 非イオン性ポリオキシエチレン界面活性
剤及びアニオン性ポリオキシエチレン界面活性剤からな
る群から選択される前記界面活性剤のそれぞれが10〜
200mg/m2の量で存在することを特徴とする請求
項1記載のハロゲン化銀写真材料。 - 【請求項8】 非イオン性パーフルオロアルキルポリオ
キシエチレン界面活性剤及びポリオキシエチレン変性ポ
リシロキサン界面活性剤からなる群から選択される前記
界面活性剤のそれぞれが10〜100mg/m2の量で
存在することを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀
写真材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT93116137-6 | 1993-10-06 | ||
| EP93116137A EP0647879B1 (en) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | Silver halide photographic material having improved antistatic properties |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07159929A true JPH07159929A (ja) | 1995-06-23 |
Family
ID=8213324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6242813A Pending JPH07159929A (ja) | 1993-10-06 | 1994-10-06 | 改良された帯電防止特性を有するハロゲン化銀写真材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5571665A (ja) |
| EP (1) | EP0647879B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07159929A (ja) |
| DE (1) | DE69327461T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7049055B2 (en) | 2003-06-11 | 2006-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
| EP1750173A1 (en) | 2005-08-04 | 2007-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material and packaged body containing the same |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1274491B (it) * | 1995-05-12 | 1997-07-17 | Minnesota Mining & Mfg | Dispositivo di prelievo di fogli di film fotografici |
| US5702864A (en) * | 1996-08-30 | 1997-12-30 | Sun Chemical Corporation | Reduced scratch sensitization in nucleated photographic film |
| US5989796A (en) * | 1998-09-30 | 1999-11-23 | Eastman Kodak Company | Organic silver salt containing thermally processable elements with spot reducing surfactant combinations |
| US7514263B2 (en) * | 2001-04-02 | 2009-04-07 | 3M Innovative Properties Company | Continuous process for the production of combinatorial libraries of materials |
| EP1345074B1 (en) * | 2002-03-13 | 2008-02-20 | FUJIFILM Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material comprising a hydrocarbon and a fluorinated surfactant |
| JP2005115319A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料および包装体 |
| CN113563621A (zh) * | 2021-07-30 | 2021-10-29 | 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 | 一种抗静电哑光非硅离型膜及其制备方法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3850640A (en) * | 1972-02-29 | 1974-11-26 | Eastman Kodak Co | Coating quality and reducing static simultaneously |
| JPS5836768B2 (ja) * | 1975-10-08 | 1983-08-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 荷電防止性が改良された写真感光材料 |
| JPS5711341A (en) * | 1980-06-25 | 1982-01-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic sensitive material |
| US4649102A (en) * | 1983-10-03 | 1987-03-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic light-sensitive material |
| JPS6080849A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US4610955A (en) * | 1984-08-01 | 1986-09-09 | Eastman Kodak Company | Antistatic compositions comprising polymerized oxyalkylene monomers and an inorganic tetrafluoroborate, perfluoroalkyl carboxylate, hexafluorophosphate or perfluoroalkylsulfonate salt |
| US4582781A (en) * | 1984-08-01 | 1986-04-15 | Eastman Kodak Company | Antistatic compositions comprising polymerized oxyalkylene monomers and an inorganic tetrafluoroborate, perfluoroalkyl carboxylate, hexafluorophosphate or perfluoroalkylsulfonate salt |
| JPS61143750A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS62109044A (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE3782963T2 (de) * | 1986-04-21 | 1993-04-22 | Konishiroku Photo Ind | Photographisches silberhalogenidmaterial mit antistatischen eigenschaften. |
| EP0245090A3 (en) * | 1986-05-06 | 1990-03-14 | Konica Corporation | Silver halide photographic material having improved antistatic and antiblocking properties |
| EP0319951A1 (de) * | 1987-12-07 | 1989-06-14 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh | Antistatische photographische Aufzeichnungsmaterialien |
| US5179147A (en) * | 1990-05-23 | 1993-01-12 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat compositions and photographic elements containing same |
| US5037871A (en) * | 1990-05-23 | 1991-08-06 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat compositions and photographic elements containing same |
| GB2246870A (en) * | 1990-07-31 | 1992-02-12 | Ilford Ltd | Photographic materials with anti-static coatings |
| EP0534006A1 (en) * | 1991-09-24 | 1993-03-31 | Agfa-Gevaert N.V. | A photographic light-sensitive material having antistatic properties with good storage stability |
-
1993
- 1993-10-06 EP EP93116137A patent/EP0647879B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-06 DE DE69327461T patent/DE69327461T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-08-05 US US08/286,277 patent/US5571665A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-06 JP JP6242813A patent/JPH07159929A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7049055B2 (en) | 2003-06-11 | 2006-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
| EP1750173A1 (en) | 2005-08-04 | 2007-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material and packaged body containing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69327461T2 (de) | 2000-07-27 |
| DE69327461D1 (de) | 2000-02-03 |
| EP0647879B1 (en) | 1999-12-29 |
| US5571665A (en) | 1996-11-05 |
| EP0647879A1 (en) | 1995-04-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0644454B1 (en) | Photographic light-sensitive material with preserved antistatic properties | |
| JPS62109044A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH01177033A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US4956270A (en) | Silver halide photographic material having improved antistatic and antiblocking properties | |
| US5541049A (en) | Silver halide photographic material having improved antistatic properties | |
| EP0633496B1 (en) | Silver halide photographic material having improved antistatic properties | |
| JPH0830862B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH07159929A (ja) | 改良された帯電防止特性を有するハロゲン化銀写真材料 | |
| JPH0377975B2 (ja) | ||
| JP2823206B2 (ja) | 感光性写真材料 | |
| US5441860A (en) | Silver halide photographic material having improved antistatic properties | |
| JPH05224328A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| EP0288059A2 (en) | Silver halide photographic material | |
| JPH07199410A (ja) | 維持された帯電防止性を有する写真感光性材料 | |
| JPS62173459A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| EP0401826A1 (en) | Silver halide photographic materials and method for manufacture thereof | |
| EP0690338A1 (en) | Silver halide photographic material having antistatic properties | |
| JPS63259652A (ja) | 黒白用ハロゲン化銀写真感光材料及びその現像処理方法 | |
| JPH1010660A (ja) | 放射線写真像形成フィルム−スクリーンシステム | |
| JPH0214689B2 (ja) | ||
| JPS62109045A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0367249A (ja) | 帯電防止層 | |
| JP2588749B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPS63223639A (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH02293844A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |