JPH0716470A - 窒素酸化物還元触媒およびその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法 - Google Patents
窒素酸化物還元触媒およびその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法Info
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- JPH0716470A JPH0716470A JP5144822A JP14482293A JPH0716470A JP H0716470 A JPH0716470 A JP H0716470A JP 5144822 A JP5144822 A JP 5144822A JP 14482293 A JP14482293 A JP 14482293A JP H0716470 A JPH0716470 A JP H0716470A
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 触媒細孔の閉塞、装置の障害がなく、NH3
ロスが少ない。 【構成】 混合された状態にある、Al2 O3 に対する
SiO2 のモル比が少なくとも10を超えているモルデ
ナイト(A成分)10〜90重量部と、TiO2、シリ
カ、カオリナイト、およびけいそう土の中から選ばれた
一種以上の化合物(B成分)10〜90重量部、およ
び、B成分の部分におけるよりもA成分の部分に多量に
存在せしめた、バナジウム、タングステン、プロトン、
鉄、ニッケル、およびクロムの中から選ばれた一種以上
の元素1〜10重量部からなる触媒の基礎構造部分の表
面に、プロトン、亜鉛、バリウムおよびカルシウムの中
から選ばれた一種以上の元素をイオン交換で導入したA
成分を担持している。
ロスが少ない。 【構成】 混合された状態にある、Al2 O3 に対する
SiO2 のモル比が少なくとも10を超えているモルデ
ナイト(A成分)10〜90重量部と、TiO2、シリ
カ、カオリナイト、およびけいそう土の中から選ばれた
一種以上の化合物(B成分)10〜90重量部、およ
び、B成分の部分におけるよりもA成分の部分に多量に
存在せしめた、バナジウム、タングステン、プロトン、
鉄、ニッケル、およびクロムの中から選ばれた一種以上
の元素1〜10重量部からなる触媒の基礎構造部分の表
面に、プロトン、亜鉛、バリウムおよびカルシウムの中
から選ばれた一種以上の元素をイオン交換で導入したA
成分を担持している。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、窒素酸化物(NOX )
の還元用触媒とその製造方法、ならびにその触媒を用い
て排ガス中の窒素酸化物を除去する方法に関する。
の還元用触媒とその製造方法、ならびにその触媒を用い
て排ガス中の窒素酸化物を除去する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、排ガス中の窒素酸化物を除去する
方法は、種々提案されているが、実用化されているの
は、主に、アンモニアを還元剤とする乾式接触還元分解
法(SCR法)である。触媒には、バナジウム、銅、
鉄、クロムなどの酸化物や硫酸塩をチタニア、シリカな
どの担体に担持させて使用している。これらの触媒につ
いては、例えば、特開昭50−51966号公報や特開
昭52−122293号公報に記載されている。
方法は、種々提案されているが、実用化されているの
は、主に、アンモニアを還元剤とする乾式接触還元分解
法(SCR法)である。触媒には、バナジウム、銅、
鉄、クロムなどの酸化物や硫酸塩をチタニア、シリカな
どの担体に担持させて使用している。これらの触媒につ
いては、例えば、特開昭50−51966号公報や特開
昭52−122293号公報に記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、窒素酸化物
を含む排ガスには、しばしば二酸化いおう(SO2 )が
含まれているが、このような排ガスには触媒として、V
2 O5 /TiO2 が好適である。しかし、V2 O5 /T
iO2 のような強い酸化活性能を有する触媒下では、S
O2 が三酸化いおう(SO3 )に酸化され。生成したS
O3 は、還元剤として添加したアンモニアや共存する水
と反応して、硫酸水素アンモニウム(NH4 HSO4 )
や硫酸アンモニウム((NH4)2 SO4 )を生成する。
これらの物質は、低温領域において触媒の細孔を閉塞
し、さらには、熱交換器などに付着して腐食や閉塞など
の障害を発生させる。一方、高温領域でV2 O5 触媒を
用いると、NH3 が酸化され、そのロスが大きくなる。
また、V2 O5 触媒は、排ガス中に含まれる揮発性の金
属酸化物やセレン、テルル、タリウム、砒素などによっ
て劣化されやすく、高価でもある。本発明は、排ガス中
にSO2 が存在していても、触媒細孔を閉塞したり、装
置の障害を引き起こしたり、NH3 のロスを増大するこ
とのない触媒の開発と窒素酸化物の除去方法とを課題と
して完成されたものである。
を含む排ガスには、しばしば二酸化いおう(SO2 )が
含まれているが、このような排ガスには触媒として、V
2 O5 /TiO2 が好適である。しかし、V2 O5 /T
iO2 のような強い酸化活性能を有する触媒下では、S
O2 が三酸化いおう(SO3 )に酸化され。生成したS
O3 は、還元剤として添加したアンモニアや共存する水
と反応して、硫酸水素アンモニウム(NH4 HSO4 )
や硫酸アンモニウム((NH4)2 SO4 )を生成する。
これらの物質は、低温領域において触媒の細孔を閉塞
し、さらには、熱交換器などに付着して腐食や閉塞など
の障害を発生させる。一方、高温領域でV2 O5 触媒を
用いると、NH3 が酸化され、そのロスが大きくなる。
また、V2 O5 触媒は、排ガス中に含まれる揮発性の金
属酸化物やセレン、テルル、タリウム、砒素などによっ
て劣化されやすく、高価でもある。本発明は、排ガス中
にSO2 が存在していても、触媒細孔を閉塞したり、装
置の障害を引き起こしたり、NH3 のロスを増大するこ
とのない触媒の開発と窒素酸化物の除去方法とを課題と
して完成されたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成するために、混合された状態にあるAl2 O3 に対
するSiO2 のモル比が少なくとも10を超えているモ
ルデナイト(以下、A成分という)10〜90重量部
と、TiO2 、シリカ、カオリナイト、およびけいそう
土の中から選ばれた一種以上の化合物(以下、B成分と
いう)10〜90重量部、および前記のB成分の部分に
おけるよりも、A成分の部分に多量に存在せしめた、バ
ナジウム、タングステン、プロトン、鉄、ニッケル、お
よびクロムの中から選ばれた一種以上の元素(以下、C
成分という)1〜10重量部、からなる触媒の基礎構造
部分の表面に、プロトン、亜鉛、バリウムおよびカルシ
ウムの中から選ばれた一種以上の元素(以下、D成分と
いう)をイオン交換で導入したA成分を担持している、
ことを特徴とする、窒素酸化物還元触媒を提供する。こ
こにC成分は、バナジウムがとくに好ましい。
達成するために、混合された状態にあるAl2 O3 に対
するSiO2 のモル比が少なくとも10を超えているモ
ルデナイト(以下、A成分という)10〜90重量部
と、TiO2 、シリカ、カオリナイト、およびけいそう
土の中から選ばれた一種以上の化合物(以下、B成分と
いう)10〜90重量部、および前記のB成分の部分に
おけるよりも、A成分の部分に多量に存在せしめた、バ
ナジウム、タングステン、プロトン、鉄、ニッケル、お
よびクロムの中から選ばれた一種以上の元素(以下、C
成分という)1〜10重量部、からなる触媒の基礎構造
部分の表面に、プロトン、亜鉛、バリウムおよびカルシ
ウムの中から選ばれた一種以上の元素(以下、D成分と
いう)をイオン交換で導入したA成分を担持している、
ことを特徴とする、窒素酸化物還元触媒を提供する。こ
こにC成分は、バナジウムがとくに好ましい。
【0005】この窒素酸化物還元触媒は、前記のC成分
をA成分に担持させ、B成分と混合して成形し、得られ
た成形物を焼成して触媒の基礎構造部分を得た後、得ら
れた触媒の基礎構造部分の表面に、D成分を導入したA
成分を担持させ、焼成して製造することができる。C成
分をA成分に担持させ、および/またはD成分をA成分
に導入する方法に、イオン交換法を用いることが好まし
い。また、アンモニヤを添加した窒素酸化物を含む被処
理ガスを、上記の触媒に150〜600℃で接触せしめ
ることによって、被処理ガス中の窒素酸化物を除去する
ことができる。
をA成分に担持させ、B成分と混合して成形し、得られ
た成形物を焼成して触媒の基礎構造部分を得た後、得ら
れた触媒の基礎構造部分の表面に、D成分を導入したA
成分を担持させ、焼成して製造することができる。C成
分をA成分に担持させ、および/またはD成分をA成分
に導入する方法に、イオン交換法を用いることが好まし
い。また、アンモニヤを添加した窒素酸化物を含む被処
理ガスを、上記の触媒に150〜600℃で接触せしめ
ることによって、被処理ガス中の窒素酸化物を除去する
ことができる。
【0006】
【作用と実施態様例】本発明の窒素酸化物還元触媒およ
びその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法につい
て、実施態様例をあげながら、具体的に説明する。本発
明の窒素酸化物還元触媒は、高活性触媒であるバナジウ
ムなどの触媒活性成分を細かく均一に分散、すなわち高
分散させて触媒の基礎構造部分とし、基礎構造部分の表
面を低活性触媒で覆うものである。
びその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法につい
て、実施態様例をあげながら、具体的に説明する。本発
明の窒素酸化物還元触媒は、高活性触媒であるバナジウ
ムなどの触媒活性成分を細かく均一に分散、すなわち高
分散させて触媒の基礎構造部分とし、基礎構造部分の表
面を低活性触媒で覆うものである。
【0007】まず、本発明の窒素酸化物還元触媒の基礎
構造部分では、主に触媒の担体の作用を持たせる物質
に、Al2 O3 に対するSiO2 のモル比が少なくとも
10を超えているモルデナイト(A成分)、主に担体の
バインダーとしての作用を持たせる物質に、TiO2 、
シリカ、カオリナイト、およびけいそう土の中から選ば
れた一種以上の化合物(B成分)を使用する。A成分中
のAl2 O3 に対するSiO2 のモル比は、10〜10
0の範囲が好ましい。100を超えるとイオン交換基の
比率が低下し、活性成分の担持量が減少し、10よりも
少ないと耐酸性、耐熱水性が低下するので、ともに好ま
しくない。前記のB成分の中では、TiO 2 を好ましく
用いることができる。A成分とB成分との混合物に触媒
作用を有するバナジウム、タングステン、プロトン、
鉄、ニッケル、およびクロムの中から選ばれた一種以上
の元素(C成分)を担持させる。A成分:B成分:C成
分は重量基準で10〜90:10〜90:1〜10が適
当である。
構造部分では、主に触媒の担体の作用を持たせる物質
に、Al2 O3 に対するSiO2 のモル比が少なくとも
10を超えているモルデナイト(A成分)、主に担体の
バインダーとしての作用を持たせる物質に、TiO2 、
シリカ、カオリナイト、およびけいそう土の中から選ば
れた一種以上の化合物(B成分)を使用する。A成分中
のAl2 O3 に対するSiO2 のモル比は、10〜10
0の範囲が好ましい。100を超えるとイオン交換基の
比率が低下し、活性成分の担持量が減少し、10よりも
少ないと耐酸性、耐熱水性が低下するので、ともに好ま
しくない。前記のB成分の中では、TiO 2 を好ましく
用いることができる。A成分とB成分との混合物に触媒
作用を有するバナジウム、タングステン、プロトン、
鉄、ニッケル、およびクロムの中から選ばれた一種以上
の元素(C成分)を担持させる。A成分:B成分:C成
分は重量基準で10〜90:10〜90:1〜10が適
当である。
【0008】この触媒の基礎構造部分に、プロトン、亜
鉛、バリウムおよびカルシウムの中から選ばれた一種以
上の元素(D成分)を導入したA成分(以下、D付加A
成分という)を担持させる。A成分とB成分の合計に対
するD付加A成分の重量比率は、使用条件により選択す
ることができるが、通常は1/3〜1/50程度であ
る。D付加A成分は、弱い触媒活性を有し、基礎構造部
分に存在する強い触媒作用を有するC成分を覆うことに
よって、本発明の窒素酸化物還元触媒に、適度の触媒活
性を付与する作用を有すると考えられる。
鉛、バリウムおよびカルシウムの中から選ばれた一種以
上の元素(D成分)を導入したA成分(以下、D付加A
成分という)を担持させる。A成分とB成分の合計に対
するD付加A成分の重量比率は、使用条件により選択す
ることができるが、通常は1/3〜1/50程度であ
る。D付加A成分は、弱い触媒活性を有し、基礎構造部
分に存在する強い触媒作用を有するC成分を覆うことに
よって、本発明の窒素酸化物還元触媒に、適度の触媒活
性を付与する作用を有すると考えられる。
【0009】本発明の窒素酸化物還元触媒製造方法の好
ましい実施態様について説明する。まず、前記の触媒作
用を有するC成分を担体であるA成分に担持させ、主に
バインダとしてのB成分と混合して成形し、得られた成
形物を乾燥、または乾燥、焼成などして触媒の基礎構造
部分を製造する。C成分をA成分に担持させる手段に
は、イオン交換を利用する方法、たんなる含浸付着によ
る方法などがあげられるが、なかでも、イオン交換によ
って、主にA成分上に担持させるのが好ましい。触媒活
性点を高分散することができるからである。具体的に
は、例えば、市販の合成モルデナイト、すなわちA成分
を水溶液中、無機酸類を用いイオン交換して一旦プロト
ン型のモルデナイトにし、ろ過、洗浄、乾燥する。得ら
れたプロトン型のモルデナイトを、適当なC成分のアル
カリ塩の溶液中でイオン交換し、ろ過、洗浄、乾燥し
て、C成分を担持したA成分を得る。得られたC成分を
担持したA成分に、B成分と水とを加えて混練する。必
要に応じてCMC(のり剤)などを添加することができ
る。この混練物を押出機などを用いて望ましい形状に成
形する。形状としては、粒状、ハニカム状など使用目的
に応じて選択することができる。得られた成形物を乾燥
および/または焼成して触媒の基礎構造部分とする。焼
成する場合の温度は、あまり高くない方が好ましく、通
常、600℃をこえないようにする。
ましい実施態様について説明する。まず、前記の触媒作
用を有するC成分を担体であるA成分に担持させ、主に
バインダとしてのB成分と混合して成形し、得られた成
形物を乾燥、または乾燥、焼成などして触媒の基礎構造
部分を製造する。C成分をA成分に担持させる手段に
は、イオン交換を利用する方法、たんなる含浸付着によ
る方法などがあげられるが、なかでも、イオン交換によ
って、主にA成分上に担持させるのが好ましい。触媒活
性点を高分散することができるからである。具体的に
は、例えば、市販の合成モルデナイト、すなわちA成分
を水溶液中、無機酸類を用いイオン交換して一旦プロト
ン型のモルデナイトにし、ろ過、洗浄、乾燥する。得ら
れたプロトン型のモルデナイトを、適当なC成分のアル
カリ塩の溶液中でイオン交換し、ろ過、洗浄、乾燥し
て、C成分を担持したA成分を得る。得られたC成分を
担持したA成分に、B成分と水とを加えて混練する。必
要に応じてCMC(のり剤)などを添加することができ
る。この混練物を押出機などを用いて望ましい形状に成
形する。形状としては、粒状、ハニカム状など使用目的
に応じて選択することができる。得られた成形物を乾燥
および/または焼成して触媒の基礎構造部分とする。焼
成する場合の温度は、あまり高くない方が好ましく、通
常、600℃をこえないようにする。
【0010】得られた触媒の基礎構造部分の表面に、D
付加A成分を担持させ、焼成する。D成分をA成分に導
入してD付加A成分を得るには、前記のイオン交換法が
好ましく用いられる。得られたD付加A成分は、例えば
水中にCMCなどの適当なバインダとともに懸濁させ、
その中に基礎構造部分を浸漬してD付加A成分を基礎構
造部分の表面に付着させ、引き上げて乾燥し、必要に応
じて焼成する。焼成温度は、あまり高くない方が好まし
く、通常は600℃をこえないようにする。このように
して、本発明の窒素酸化物還元触媒を製造することがで
きる。
付加A成分を担持させ、焼成する。D成分をA成分に導
入してD付加A成分を得るには、前記のイオン交換法が
好ましく用いられる。得られたD付加A成分は、例えば
水中にCMCなどの適当なバインダとともに懸濁させ、
その中に基礎構造部分を浸漬してD付加A成分を基礎構
造部分の表面に付着させ、引き上げて乾燥し、必要に応
じて焼成する。焼成温度は、あまり高くない方が好まし
く、通常は600℃をこえないようにする。このように
して、本発明の窒素酸化物還元触媒を製造することがで
きる。
【0011】本発明の窒素酸化物還元触媒を用い、空気
を含む被処理ガス中の窒素酸化物を除去するには、被処
理ガス中に含まれる窒素酸化物、いおう酸化物、触媒毒
となる金属酸化物や砒素化合物などの濃度に応じた適当
な処理条件を決め、実施することができる。一般的に
は、反応層の入口において、被処理ガス中に含まれてい
る窒素酸化物1モルに対しほぼ等モルのアンモニヤを添
加する。しかし、アンモニヤの添加量は、残存許容窒素
酸化物濃度や、他の含有成分、温度などを勘案し、自由
に決めることができる。反応温度は、通常、150〜6
00℃、好ましくは200〜500℃である。触媒容積
に対する空間速度は、通常、30,000hr-1をこえ
ない範囲、好ましくは1,000〜15,000hr-1
で接触せしめるとよい。装置の形状は、固定床式、充填
塔式、流動層式、移動床式などを採用することができ
る。
を含む被処理ガス中の窒素酸化物を除去するには、被処
理ガス中に含まれる窒素酸化物、いおう酸化物、触媒毒
となる金属酸化物や砒素化合物などの濃度に応じた適当
な処理条件を決め、実施することができる。一般的に
は、反応層の入口において、被処理ガス中に含まれてい
る窒素酸化物1モルに対しほぼ等モルのアンモニヤを添
加する。しかし、アンモニヤの添加量は、残存許容窒素
酸化物濃度や、他の含有成分、温度などを勘案し、自由
に決めることができる。反応温度は、通常、150〜6
00℃、好ましくは200〜500℃である。触媒容積
に対する空間速度は、通常、30,000hr-1をこえ
ない範囲、好ましくは1,000〜15,000hr-1
で接触せしめるとよい。装置の形状は、固定床式、充填
塔式、流動層式、移動床式などを採用することができ
る。
【0012】
【実施例】本発明の窒素酸化物還元触媒を製造し、窒素
酸化物の除去実験をおこない、市販の窒素酸化物還元触
媒と比較したので説明する。
酸化物の除去実験をおこない、市販の窒素酸化物還元触
媒と比較したので説明する。
【0013】実施例 1 SiO2 /Al2 O3 =14.5(モル基準)の合成モ
ルデナイトの10gを200mlの1N硝酸溶液に混合
し、95℃で12時間攪拌した後、ろ過し、蒸留水で洗
浄し、100℃で乾燥して、プロトン型のモルデナイト
を得た。得られたプロトン型モルデナイトの10gを、
1重量%シュウ酸水溶液のメタバナジン酸アンモニウム
1モル溶液200mlに混合し、95℃で12時間攪拌
した後、ろ過し、蒸留水で洗浄し、100℃で乾燥し
て、V2 O5 を1重量%を担持するバナジウム型モルデ
ナイトを得た。得られたバナジウム型モルデナイトの1
00重量部に対してアナターゼ型のTiO2 を10重量
部加え、さらに、CMC系のバインダーを添加して十分
に混練した。この混練物を、押出機を用いてハニカム状
に成形して乾燥した後、350℃で3時間焼成し、本発
明の触媒に使用する基礎構造部分を得た。この基礎構造
部分は、全体としては端面が36mm×36mm、長さ
100mmの角柱状で、被処理ガスの通路として軸方向
に4mm×4mmの角孔が1mm厚さの壁面をはさみ、
全面に碁盤の目状に貫通していた。
ルデナイトの10gを200mlの1N硝酸溶液に混合
し、95℃で12時間攪拌した後、ろ過し、蒸留水で洗
浄し、100℃で乾燥して、プロトン型のモルデナイト
を得た。得られたプロトン型モルデナイトの10gを、
1重量%シュウ酸水溶液のメタバナジン酸アンモニウム
1モル溶液200mlに混合し、95℃で12時間攪拌
した後、ろ過し、蒸留水で洗浄し、100℃で乾燥し
て、V2 O5 を1重量%を担持するバナジウム型モルデ
ナイトを得た。得られたバナジウム型モルデナイトの1
00重量部に対してアナターゼ型のTiO2 を10重量
部加え、さらに、CMC系のバインダーを添加して十分
に混練した。この混練物を、押出機を用いてハニカム状
に成形して乾燥した後、350℃で3時間焼成し、本発
明の触媒に使用する基礎構造部分を得た。この基礎構造
部分は、全体としては端面が36mm×36mm、長さ
100mmの角柱状で、被処理ガスの通路として軸方向
に4mm×4mmの角孔が1mm厚さの壁面をはさみ、
全面に碁盤の目状に貫通していた。
【0014】次に、上記と同様にして得たプロトン型モ
ルデナイト粉末5gを、CMC系のバインダーの水溶液
に混合した懸濁液に、前記の基礎構造部分を浸漬し、引
き上げて乾燥後、350℃で3時間焼成し、本発明の窒
素酸化物還元触媒を製造した。この触媒には、基礎構造
部分に対し約5重量%のプロトン型モルデナイトが担持
されていた。
ルデナイト粉末5gを、CMC系のバインダーの水溶液
に混合した懸濁液に、前記の基礎構造部分を浸漬し、引
き上げて乾燥後、350℃で3時間焼成し、本発明の窒
素酸化物還元触媒を製造した。この触媒には、基礎構造
部分に対し約5重量%のプロトン型モルデナイトが担持
されていた。
【0015】製造した還元触媒を用い、窒素酸化物、二
酸化いおうなどを含む被処理ガスアンモニアを添加し
て、窒素酸化物の除去実験を行った。内壁が40mm×
40mm、長さ400mmの筒型の電気炉中に、この窒
素酸化物還元触媒を4個直列に並べ、触媒外にガスが流
れないようにセラミックウールを充填した。被処理ガス
の組成は、NO:1000ppm、NH3 :1000p
pm、SO2 :100ppm、As2 O3 :10pp
m、H2 O:4%、O2 :10%、He:残、であっ
た。被処理ガスは触媒の入口側で予熱した。
酸化いおうなどを含む被処理ガスアンモニアを添加し
て、窒素酸化物の除去実験を行った。内壁が40mm×
40mm、長さ400mmの筒型の電気炉中に、この窒
素酸化物還元触媒を4個直列に並べ、触媒外にガスが流
れないようにセラミックウールを充填した。被処理ガス
の組成は、NO:1000ppm、NH3 :1000p
pm、SO2 :100ppm、As2 O3 :10pp
m、H2 O:4%、O2 :10%、He:残、であっ
た。被処理ガスは触媒の入口側で予熱した。
【0016】窒素酸化物の除去実験は、処理温度を20
0〜500℃の範囲に変えて行った。触媒のかさ容積に
対する通過ガス量、すなわち空間速度は、3000(h
r-1)にした。窒素酸化物の除去率は、ガス入口および
出口の窒素酸化物濃度をケミルミ式NOx 分析計を用い
て測定し、(1)式で求めた。測定は、実験の開始直後
と連続500時間処理後に行った。
0〜500℃の範囲に変えて行った。触媒のかさ容積に
対する通過ガス量、すなわち空間速度は、3000(h
r-1)にした。窒素酸化物の除去率は、ガス入口および
出口の窒素酸化物濃度をケミルミ式NOx 分析計を用い
て測定し、(1)式で求めた。測定は、実験の開始直後
と連続500時間処理後に行った。
【0017】 NOx 除去率(%) =1−{(出口NOx 濃度)/(入口NOx 濃度)}×100 (1) 測定結果を表1に示す。
【0018】比較例 1 市販されているV2 O5 /TiO2 のモル比が10/9
0のバナジウム系ハニカム状窒素酸化物還元触媒を用
い、実施例1と同じ条件で、実施例1に用いたのと同じ
組成の被処理ガスを処理した。結果を表1に示す。
0のバナジウム系ハニカム状窒素酸化物還元触媒を用
い、実施例1と同じ条件で、実施例1に用いたのと同じ
組成の被処理ガスを処理した。結果を表1に示す。
【0019】
【表1】 NOx 除去率(%) 処理温度 開始直後 500hr後 開始直後 500hr後 (℃) 実施例 1 実施例 2 200 98.3 95.0 88.6 84.2 300 100.0 97.2 95.0 94.4 400 100.0 97.0 94.5 93.7 500 95.2 93.1 89.2 87.1 実施例 3 実施例 4 200 82.0 81.5 89.4 87.0 300 89.8 88.0 98.5 97.0 400 99.3 99.3 100.0 100.0 500 92.5 92.0 100.0 97.5 比較例 1 200 52.4 40.3 300 54.9 44.8 400 56.6 44.6 500 25.6 25.1 実施例 2 実施例1と同様にして製造したバナジウム型モルデナイ
ト100重量部に、3号水ガラスと硫酸とを原料とし、
公知の方法で製造したSiO2 10重量部を加え、有機
系のバインダを添加して十分に混練した。この混練物
を、実施例1と同様の方法で成形し、得られた成形物を
120℃で乾燥して、実施例1におけるのと同じ形状の
基礎構造部分を得た。この基礎構造部分に、実施例1と
同じ方法で製造したプロトン型モルデナイト粉末を実施
例1と同様にどぶ漬けして付着させ、120℃で乾燥
後、350℃で3時間焼成し、本発明の窒素酸化物還元
触媒を製造した。この触媒には、基礎構造部分に対し約
5重量%のプロトン型モルデナイトが担持されていた。
この触媒を用い、実施例1と同じ条件と測定方法で窒素
酸化物除去実験を行った。結果を表1に示す。
ト100重量部に、3号水ガラスと硫酸とを原料とし、
公知の方法で製造したSiO2 10重量部を加え、有機
系のバインダを添加して十分に混練した。この混練物
を、実施例1と同様の方法で成形し、得られた成形物を
120℃で乾燥して、実施例1におけるのと同じ形状の
基礎構造部分を得た。この基礎構造部分に、実施例1と
同じ方法で製造したプロトン型モルデナイト粉末を実施
例1と同様にどぶ漬けして付着させ、120℃で乾燥
後、350℃で3時間焼成し、本発明の窒素酸化物還元
触媒を製造した。この触媒には、基礎構造部分に対し約
5重量%のプロトン型モルデナイトが担持されていた。
この触媒を用い、実施例1と同じ条件と測定方法で窒素
酸化物除去実験を行った。結果を表1に示す。
【0020】実施例 3 実施例1と同様にして製造したプロトン型モルデナイト
100重量部に、75重量部のパラタングステン酸アン
モニウム5重量%水溶液を加えて十分に混練した。さら
に、プロトン型モルデナイト100重量部に対してアナ
ターゼ型のTiO2 を20重量部を加え、有機系のバイ
ンダーを添加して十分に混練した。この混練物を、実施
例1と同様の方法で成形し、焼成して実施例1における
のと同じ形状の基礎構造部分を得た。この基礎構造部分
には、約3重量%のWO3 が担持されていた。この基礎
構造部分に、実施例1と同じ方法で製造したプロトン型
モルデナイト粉末を実施例1と同様にどぶ漬けして付着
させ、120℃で乾燥後、350℃で3時間焼成し、本
発明の窒素酸化物還元触媒を製造した。この触媒には、
基礎構造部分に対し約5重量%のプロトン型モルデナイ
トが担持されていた。この触媒を用い、実施例1と同じ
条件と測定方法で窒素酸化物除去実験を行った。結果を
表1に示す。
100重量部に、75重量部のパラタングステン酸アン
モニウム5重量%水溶液を加えて十分に混練した。さら
に、プロトン型モルデナイト100重量部に対してアナ
ターゼ型のTiO2 を20重量部を加え、有機系のバイ
ンダーを添加して十分に混練した。この混練物を、実施
例1と同様の方法で成形し、焼成して実施例1における
のと同じ形状の基礎構造部分を得た。この基礎構造部分
には、約3重量%のWO3 が担持されていた。この基礎
構造部分に、実施例1と同じ方法で製造したプロトン型
モルデナイト粉末を実施例1と同様にどぶ漬けして付着
させ、120℃で乾燥後、350℃で3時間焼成し、本
発明の窒素酸化物還元触媒を製造した。この触媒には、
基礎構造部分に対し約5重量%のプロトン型モルデナイ
トが担持されていた。この触媒を用い、実施例1と同じ
条件と測定方法で窒素酸化物除去実験を行った。結果を
表1に示す。
【0021】実施例 4 実施例1と同様にして製造したプロトン型モルデナイト
100重量部を、2.4重量%硝酸亜鉛(Zn(N
O3 )2 ・6H2 O)水溶液2000mlのに懸濁さ
せ、95℃、12時間保持してイオン交換した。固形物
をろ別し、350℃で3時間焼成して、2.19重量%
のZnOを担持するZn型モルデナイトを得た。得られ
たZn型モルデナイトと水、バインダと混合し、実施例
1で製造したのと同じ基礎構造部分をどぶ漬けしてZn
型モルデナイトを付着させ、乾燥後、350℃で3時間
焼成し、本発明の窒素酸化物還元触媒を製造した。この
触媒には、基礎構造部分に対し約5重量%のZn型モル
デナイトが担持されていた。この触媒を用い、実施例1
と同じ条件と測定方法で窒素酸化物除去実験を行った。
結果を表1に示す。
100重量部を、2.4重量%硝酸亜鉛(Zn(N
O3 )2 ・6H2 O)水溶液2000mlのに懸濁さ
せ、95℃、12時間保持してイオン交換した。固形物
をろ別し、350℃で3時間焼成して、2.19重量%
のZnOを担持するZn型モルデナイトを得た。得られ
たZn型モルデナイトと水、バインダと混合し、実施例
1で製造したのと同じ基礎構造部分をどぶ漬けしてZn
型モルデナイトを付着させ、乾燥後、350℃で3時間
焼成し、本発明の窒素酸化物還元触媒を製造した。この
触媒には、基礎構造部分に対し約5重量%のZn型モル
デナイトが担持されていた。この触媒を用い、実施例1
と同じ条件と測定方法で窒素酸化物除去実験を行った。
結果を表1に示す。
【0022】実施例 5 次に、実施例1、実施例4および比較例1で製造した各
触媒を用いて二酸化いおうの酸化能を測定し、比較し
た。被処理ガスには、NH3 が添加されていない他は同
じ組成の被処理ガスを用いた。触媒の容積に対する被処
理ガスの空間速度を3000hr-1とし、200〜50
0℃の範囲で被処理ガスを接触させ、触媒層の入口と出
口のSO2 濃度を測定し、その差からSO2 の転化率を
算出した。その結果を表2に示す。
触媒を用いて二酸化いおうの酸化能を測定し、比較し
た。被処理ガスには、NH3 が添加されていない他は同
じ組成の被処理ガスを用いた。触媒の容積に対する被処
理ガスの空間速度を3000hr-1とし、200〜50
0℃の範囲で被処理ガスを接触させ、触媒層の入口と出
口のSO2 濃度を測定し、その差からSO2 の転化率を
算出した。その結果を表2に示す。
【0023】
【表2】 SO2 転化率(%) 処理温度/触媒 実施例1 実施例4 比較例1 (℃) 200 0 0 15 300 5 3 21 400 5 7 25 500 10 7 45 以上の実験結果から、本発明の窒素酸化物還元触媒は、
類似する市販の窒素酸化物還元触媒に比較し、窒素酸化
物除去率が極めて高く、しかも、高温での性能にすぐれ
ていることが判る。高温性能が高いことは、アンモニア
の酸化が防止された効果であると解釈される。また、二
酸化いおうの転化率は既存の触媒に比較して低く、高温
においてもさほど高くないので、高温領域でも有利に使
用することができることが判る。
類似する市販の窒素酸化物還元触媒に比較し、窒素酸化
物除去率が極めて高く、しかも、高温での性能にすぐれ
ていることが判る。高温性能が高いことは、アンモニア
の酸化が防止された効果であると解釈される。また、二
酸化いおうの転化率は既存の触媒に比較して低く、高温
においてもさほど高くないので、高温領域でも有利に使
用することができることが判る。
【0024】
【発明の効果】本発明の窒素酸化物還元触媒は、主たる
触媒活性成分(C成分)が高分散されているので、高価
なC成分の使用量が少なくて済み、経済的である。ま
た、C成分が低活性成分で適度に覆われ、モルデナイト
(A成分)との相乗効果によって、二酸化いおうの酸化
が抑制され、触媒毒による触媒の劣化も防止される。従
って、硫酸水素アンモニウムや硫酸アンモニウムの生成
が減少し、これらの化合物によって発生していたトラブ
ルが解消され、アンモニアの使用量が減少する。高温で
のアンモニアの酸化が抑制されるので、触媒の使用温度
範囲が拡大する。
触媒活性成分(C成分)が高分散されているので、高価
なC成分の使用量が少なくて済み、経済的である。ま
た、C成分が低活性成分で適度に覆われ、モルデナイト
(A成分)との相乗効果によって、二酸化いおうの酸化
が抑制され、触媒毒による触媒の劣化も防止される。従
って、硫酸水素アンモニウムや硫酸アンモニウムの生成
が減少し、これらの化合物によって発生していたトラブ
ルが解消され、アンモニアの使用量が減少する。高温で
のアンモニアの酸化が抑制されるので、触媒の使用温度
範囲が拡大する。
Claims (5)
- 【請求項1】混合された状態にあるAl2 O3 に対する
SiO2 のモル比が少なくとも10を超えているモルデ
ナイト(A成分)10〜90重量部と、 TiO2 、シリカ、カオリナイト、およびけいそう土の
中から選ばれた一種以上の化合物(B成分)10〜90
重量部、および前記のB成分の部分におけるよりも、A
成分の部分に多量に存在せしめた、バナジウム、タング
ステン、プロトン、鉄、ニッケル、およびクロムの中か
ら選ばれた一種以上の元素(C成分)1〜10重量部、
からなる触媒の基礎構造部分の表面に、 プロトン、亜鉛、バリウムおよびカルシウムの中から選
ばれた一種以上の元素(D成分)をイオン交換で導入し
たA成分を担持している、ことを特徴とする、窒素酸化
物還元触媒。 - 【請求項2】前記のC成分がバナジウムであることを特
徴とする、請求項1に記載の窒素酸化物還元触媒。 - 【請求項3】前記のC成分をA成分に担持させ、B成分
と混合して成形し、得られた成形物を乾燥または焼成し
て触媒の基礎構造部分を得た後、得られた触媒の基礎構
造部分の表面に、D成分を導入したA成分を担持させ、
焼成することを特徴とする、窒素酸化物還元触媒製造方
法。 - 【請求項4】前記のC成分をA成分に担持させ、および
/またはD成分をA成分に導入する方法に、イオン交換
法を用いることを特徴とする、請求項3に記載の窒素酸
化物還元触媒製造方法。 - 【請求項5】請求項1に記載の触媒に、アンモニヤを添
加した窒素酸化物被処理ガスを150〜600℃で接触
せしめることを特徴とする、窒素酸化物除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5144822A JPH0716470A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 窒素酸化物還元触媒およびその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5144822A JPH0716470A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 窒素酸化物還元触媒およびその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0716470A true JPH0716470A (ja) | 1995-01-20 |
Family
ID=15371265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5144822A Pending JPH0716470A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 窒素酸化物還元触媒およびその製造方法、ならびに窒素酸化物除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0716470A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107754757A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-03-06 | 北京工业大学 | 一种纳米Fe3O4修饰硅藻土的复合材料及其制备方法 |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP5144822A patent/JPH0716470A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107754757A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-03-06 | 北京工业大学 | 一种纳米Fe3O4修饰硅藻土的复合材料及其制备方法 |
| CN107754757B (zh) * | 2017-10-16 | 2020-08-18 | 北京工业大学 | 一种纳米Fe3O4修饰硅藻土的复合材料及其制备方法 |
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