JPH07165883A - エポキシ樹脂及びその製造方法 - Google Patents
エポキシ樹脂及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH07165883A JPH07165883A JP103292A JP103292A JPH07165883A JP H07165883 A JPH07165883 A JP H07165883A JP 103292 A JP103292 A JP 103292A JP 103292 A JP103292 A JP 103292A JP H07165883 A JPH07165883 A JP H07165883A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- reaction
- product
- polysiloxane
- chemical formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明は、特定の構造を有する新規なエポキシ
樹脂とその製造法に関する。本エポキシ樹脂は特定の構
造を有するポリシロキサン含有2価フェノール化合物と
エピハロヒドリンの反応により製造することが出来る。 【効果】本エポキシ樹脂は主鎖中にシロキサン結合と芳
香環を有し、通常の脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミ
ン、ジシアンジアミド、酸無水物等を硬化剤として硬化
させると耐湿性、耐熱性、可とう性に優れたエポキシ樹
脂硬化物を生ずる。
樹脂とその製造法に関する。本エポキシ樹脂は特定の構
造を有するポリシロキサン含有2価フェノール化合物と
エピハロヒドリンの反応により製造することが出来る。 【効果】本エポキシ樹脂は主鎖中にシロキサン結合と芳
香環を有し、通常の脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミ
ン、ジシアンジアミド、酸無水物等を硬化剤として硬化
させると耐湿性、耐熱性、可とう性に優れたエポキシ樹
脂硬化物を生ずる。
Description
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、優れた硬化物性を与える
新規なエポキシ樹脂及びその製造法に関する。
新規なエポキシ樹脂及びその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、エポキシ樹脂は、芳香族ポリア
ミン、脂肪族ポリアミン、ポリアミドアミン、アミンア
ダクト、ジシアンジアミド、酸無水物、フェノ−ル樹脂
等の各種硬化剤を配合し、電気絶縁材料、塗料、接着
剤、成形材料、注型材料等として用いられている。これ
らは各々の用途に応じて耐熱性、機械特性、耐薬品性、
可とう性等の性質が要求されるが、これらの性質を同時
に満足させるエポキシ樹脂は知られていない。要求され
る性質を改良するためには、ビスフェノ−ルAのジグリ
シジルエ−テルエポキシ樹脂に、他のエポキシ樹脂等を
混合することが通常行われている。例えば、可とう性,
耐湿性を向上させる一つの方法として、ポリシロキサン
やエポキシ基を持つポリシロキサンを混合することが知
られている。
ミン、脂肪族ポリアミン、ポリアミドアミン、アミンア
ダクト、ジシアンジアミド、酸無水物、フェノ−ル樹脂
等の各種硬化剤を配合し、電気絶縁材料、塗料、接着
剤、成形材料、注型材料等として用いられている。これ
らは各々の用途に応じて耐熱性、機械特性、耐薬品性、
可とう性等の性質が要求されるが、これらの性質を同時
に満足させるエポキシ樹脂は知られていない。要求され
る性質を改良するためには、ビスフェノ−ルAのジグリ
シジルエ−テルエポキシ樹脂に、他のエポキシ樹脂等を
混合することが通常行われている。例えば、可とう性,
耐湿性を向上させる一つの方法として、ポリシロキサン
やエポキシ基を持つポリシロキサンを混合することが知
られている。
【0003】しかしながら、これらの混合方法では相溶
性の問題でビスフェノ−ルAエポシ樹脂とポリシロキサ
ンの混合割合を自由に変えることは困難である。その為
に、ポリシロキサン結合を持つエポキシ樹脂の製造が提
案されている。例えば特公昭63−53234号公報に
は耐熱性や耐湿性に優れしかも低粘度のシロキサン含有
エポキシ樹脂として1,3−ビス(3−グリシドキシプ
ロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
が記載されている。
性の問題でビスフェノ−ルAエポシ樹脂とポリシロキサ
ンの混合割合を自由に変えることは困難である。その為
に、ポリシロキサン結合を持つエポキシ樹脂の製造が提
案されている。例えば特公昭63−53234号公報に
は耐熱性や耐湿性に優れしかも低粘度のシロキサン含有
エポキシ樹脂として1,3−ビス(3−グリシドキシプ
ロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
が記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のエ
ポキシ樹脂は硬化剤との相溶性が悪く、また硬化剤との
反応性も劣るという欠点を持つ。本発明者らは、主鎖中
にシロキサン結合と芳香環を有しこれにより剛直性とシ
ロキサン結合の特性を兼ね備えたエポキシ樹脂を探索し
た結果、特定のポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合
物を原料とする化1で示されるエポキシ樹脂が極めて有
用であることを見いだし本発明に到達した。
ポキシ樹脂は硬化剤との相溶性が悪く、また硬化剤との
反応性も劣るという欠点を持つ。本発明者らは、主鎖中
にシロキサン結合と芳香環を有しこれにより剛直性とシ
ロキサン結合の特性を兼ね備えたエポキシ樹脂を探索し
た結果、特定のポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合
物を原料とする化1で示されるエポキシ樹脂が極めて有
用であることを見いだし本発明に到達した。
【0005】即ち本発明によれば、主鎖中にシロキサン
結合と芳香環を有するエポキシ樹脂が提供され、通常の
脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ジシアンジアミ
ド、多塩基性カルボン酸またはその酸無水物等を硬化剤
として硬化させると耐湿性,耐熱性,可とう性に優れた
エポキシ樹脂硬化物を生ずる。
結合と芳香環を有するエポキシ樹脂が提供され、通常の
脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ジシアンジアミ
ド、多塩基性カルボン酸またはその酸無水物等を硬化剤
として硬化させると耐湿性,耐熱性,可とう性に優れた
エポキシ樹脂硬化物を生ずる。
【0006】
【問題を解決する手段】本発明は、下記化4で示される
エポキシ樹脂である。
エポキシ樹脂である。
【化4】
【0007】本発明の前記化4で示されるエポキシ樹脂
は、後記化5で示されるポリシロキサン含有2価フェノ
−ル化合物を原料とし、
は、後記化5で示されるポリシロキサン含有2価フェノ
−ル化合物を原料とし、
【化5】 下記化6で示されるエピハロヒドリン化合物と反応させ
ることにより製造することが出来る。
ることにより製造することが出来る。
【化6】
【0008】原料ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化
合物 本発明に於いて、前記化2で示されるポリシロキサン含
有2価フェノール化合物は、例えばハロゲン化フェノー
ル化合物を出発原料としてハロゲン化フェノール化合物
のフェノール性水酸基の保護(1)、次にこれに金属マ
グネシウムを反応させてグリニヤール試薬とし、ついで
これにジメトキシジアルキルシランを付加してベンジル
オキシフェニルメトキシジアルキルシラン化合物を得る
グリニヤール反応−シラン付加(2)、更にこのものを
酸で処理し縮合させる縮合反応(3)、そして水素添加
条件下でベンジル基を離脱させるフェノール性水酸基の
脱保護(4)の4段階の反応を順次実施することにより
製造することが出来る。
合物 本発明に於いて、前記化2で示されるポリシロキサン含
有2価フェノール化合物は、例えばハロゲン化フェノー
ル化合物を出発原料としてハロゲン化フェノール化合物
のフェノール性水酸基の保護(1)、次にこれに金属マ
グネシウムを反応させてグリニヤール試薬とし、ついで
これにジメトキシジアルキルシランを付加してベンジル
オキシフェニルメトキシジアルキルシラン化合物を得る
グリニヤール反応−シラン付加(2)、更にこのものを
酸で処理し縮合させる縮合反応(3)、そして水素添加
条件下でベンジル基を離脱させるフェノール性水酸基の
脱保護(4)の4段階の反応を順次実施することにより
製造することが出来る。
【0009】即ちハロゲン化フェノールはアルカリ化合
物の共存下、ベンジルハライドと反応させることにより
定量的にフェノール性水酸基をベンジルエーテルとして
保護することが出来る。生成したベンジルエーテルは常
法のグリニヤール反応に従ってグリニヤール試薬にする
ことが出来る。得られたグリニヤール試薬は通常単離す
ることなくジメトキシジアルキルシランと通常約0〜1
00℃の温度で0.5〜5.0時間程度反応させベンジ
ルオキシフェニルメトキシジアルキルシラン化合物とす
る。上記ベンジルオキシフェニルメトシキジアルキルシ
ラン化合物は通常pH4以下となるように5〜70%希
硫酸水溶液を混合し、室温〜50℃の温度で0.2〜
5.0時間程度反応することにより加水分解し、ジシロ
キサンとすることが出来る。また、ポリシロキサンとす
る為には先ず固体酸触媒の存在下で環状ポリシロキサン
と温度約0〜50℃で0.5〜5.0時間程度反応させ
る。次に反応生成物を通常エーテル類、環状エーテル類
等の溶媒を用い、これに約5〜40%の希硫酸を混合し
温度約50〜100℃で1〜10時間反応することによ
りポリシロキサンとすることが出来る。本反応は酸の濃
度及び当量を増加することにより平均重合度を上げるこ
とが出来る。得られたジシロキサンないしポリシロキサ
ンのベンジルエーテルとして保護されたフェノール性水
酸基の脱保護はパラジウムカーボン、パラジウムブラッ
ク等の触媒の存在下、室温〜150℃の温度で水素ガス
を吹き込むかまたは耐圧容器を使用し水素ガス封じ込め
ることによる水素添加反応により行うことが出来る。本
反応は通常、溶媒の存在下で行う。反応後、混合物から
本発明のポリシロキサン含有2価フェノール化合物を分
離精製するには、触媒を除去後、抽出、濃縮、晶析とい
った一般的な方法を用いることが出来る。
物の共存下、ベンジルハライドと反応させることにより
定量的にフェノール性水酸基をベンジルエーテルとして
保護することが出来る。生成したベンジルエーテルは常
法のグリニヤール反応に従ってグリニヤール試薬にする
ことが出来る。得られたグリニヤール試薬は通常単離す
ることなくジメトキシジアルキルシランと通常約0〜1
00℃の温度で0.5〜5.0時間程度反応させベンジ
ルオキシフェニルメトキシジアルキルシラン化合物とす
る。上記ベンジルオキシフェニルメトシキジアルキルシ
ラン化合物は通常pH4以下となるように5〜70%希
硫酸水溶液を混合し、室温〜50℃の温度で0.2〜
5.0時間程度反応することにより加水分解し、ジシロ
キサンとすることが出来る。また、ポリシロキサンとす
る為には先ず固体酸触媒の存在下で環状ポリシロキサン
と温度約0〜50℃で0.5〜5.0時間程度反応させ
る。次に反応生成物を通常エーテル類、環状エーテル類
等の溶媒を用い、これに約5〜40%の希硫酸を混合し
温度約50〜100℃で1〜10時間反応することによ
りポリシロキサンとすることが出来る。本反応は酸の濃
度及び当量を増加することにより平均重合度を上げるこ
とが出来る。得られたジシロキサンないしポリシロキサ
ンのベンジルエーテルとして保護されたフェノール性水
酸基の脱保護はパラジウムカーボン、パラジウムブラッ
ク等の触媒の存在下、室温〜150℃の温度で水素ガス
を吹き込むかまたは耐圧容器を使用し水素ガス封じ込め
ることによる水素添加反応により行うことが出来る。本
反応は通常、溶媒の存在下で行う。反応後、混合物から
本発明のポリシロキサン含有2価フェノール化合物を分
離精製するには、触媒を除去後、抽出、濃縮、晶析とい
った一般的な方法を用いることが出来る。
【0010】これらの2価フェノ−ル化合物は前記化2
の構造を有するものであれば特に制限はないが、具体的
にはビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン、1,9−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)デカメチルペンタシロキサン,1,1
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ドデカメチルヘキ
サシロキサン、1,15−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサデカメチルオクタシロキサン、1,17−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)オクタデカメルノナシロ
キサン、1,23−ビス(4−ヒドロキシフェニル)テ
トラコサメチルドデカシロキサン等を例示することが出
来る。
の構造を有するものであれば特に制限はないが、具体的
にはビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン、1,9−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)デカメチルペンタシロキサン,1,1
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ドデカメチルヘキ
サシロキサン、1,15−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサデカメチルオクタシロキサン、1,17−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)オクタデカメルノナシロ
キサン、1,23−ビス(4−ヒドロキシフェニル)テ
トラコサメチルドデカシロキサン等を例示することが出
来る。
【0011】エポキシ樹脂の製造 本発明のエポキシ樹脂は、上記の原料ポリシロキサン含
有2価フェノ−ル化合物を使用する点を除けば、従来公
知のエポキシ樹脂と同様の方法で製造される。まず上記
ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合物と、上記化3
で示されるエピハロヒドリンを、触媒の存在下に反応さ
せて開環付加を行い、次いで脱ハロゲン化水素によって
閉環させることにより得られる。上記化3で表わされる
エピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピ
ブロムヒドリン、及びこれらの混合物が通常用いられる
が、これらのうちでは経済的な観点からエピクロルヒド
リンが好ましい。エピハロヒドリン仕込量は通常、原料
ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合物に対して過剰
に使用され、フェノ−ル性水酸基に対するエピハロヒド
リンのモル比は2倍モル以上が好ましい。フェノ−ル性
水酸基に対するエピハロヒドリン仕込量を多くするほど
前記化1で示されるエポキシ樹脂の収率が向上する。
有2価フェノ−ル化合物を使用する点を除けば、従来公
知のエポキシ樹脂と同様の方法で製造される。まず上記
ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合物と、上記化3
で示されるエピハロヒドリンを、触媒の存在下に反応さ
せて開環付加を行い、次いで脱ハロゲン化水素によって
閉環させることにより得られる。上記化3で表わされる
エピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピ
ブロムヒドリン、及びこれらの混合物が通常用いられる
が、これらのうちでは経済的な観点からエピクロルヒド
リンが好ましい。エピハロヒドリン仕込量は通常、原料
ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合物に対して過剰
に使用され、フェノ−ル性水酸基に対するエピハロヒド
リンのモル比は2倍モル以上が好ましい。フェノ−ル性
水酸基に対するエピハロヒドリン仕込量を多くするほど
前記化1で示されるエポキシ樹脂の収率が向上する。
【0012】また触媒としてはテトラメチルアンモニウ
クロリド,テトラメチルアンモニウムブロミド,ベンジ
ルトリエチルアンモニウムクロリド等の第4級アンモニ
ウム塩、水酸化ナトリウム,水酸化カリウム等のアルカ
リ金属水酸化物、または炭酸ナトリウム,炭酸カリウム
等の炭酸塩を好適に用いることが出来る。第4級アンモ
ニウム塩を触媒として用いた場合は、開環付加反応の段
階で反応が停まるので次の段階でアルカリ金属水酸化物
を反応させ脱ハロゲン化水素させるが、当初からアルカ
リ金属水酸化物や炭酸塩を触媒として用いた場合は開環
付加に停まらず閉環反応まで一気に進行するので一段で
エポキシ樹脂を製造し得るという利点がある。アルカリ
金属水酸化物は固体状のまま使用してもよいし、約40
乃至50重量%の水溶液として用いてもよい。また閉環
反応で用いられるアルカリ金属水酸化物のモル比は通
常、フェノ−ル性水酸基に対し0.8乃至1.0であ
る。本反応の反応温度は特に限定されないが反応速度の
点から約50℃以上の温度が好ましい。本反応では必要
に応じてテトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、
N,N−ジメチルホルムアミド等を溶媒として使用する
ことも出来る。上述したエポキシ樹脂の製造にあたっ
て、前記原料ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合物
とともに、ビスフェノ−ルA,ビスフェノ−ルS,フェ
ノ−ルノボラック樹脂等の他の多価フェノ−ル類を組み
合わせて使用してもよい。
クロリド,テトラメチルアンモニウムブロミド,ベンジ
ルトリエチルアンモニウムクロリド等の第4級アンモニ
ウム塩、水酸化ナトリウム,水酸化カリウム等のアルカ
リ金属水酸化物、または炭酸ナトリウム,炭酸カリウム
等の炭酸塩を好適に用いることが出来る。第4級アンモ
ニウム塩を触媒として用いた場合は、開環付加反応の段
階で反応が停まるので次の段階でアルカリ金属水酸化物
を反応させ脱ハロゲン化水素させるが、当初からアルカ
リ金属水酸化物や炭酸塩を触媒として用いた場合は開環
付加に停まらず閉環反応まで一気に進行するので一段で
エポキシ樹脂を製造し得るという利点がある。アルカリ
金属水酸化物は固体状のまま使用してもよいし、約40
乃至50重量%の水溶液として用いてもよい。また閉環
反応で用いられるアルカリ金属水酸化物のモル比は通
常、フェノ−ル性水酸基に対し0.8乃至1.0であ
る。本反応の反応温度は特に限定されないが反応速度の
点から約50℃以上の温度が好ましい。本反応では必要
に応じてテトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、
N,N−ジメチルホルムアミド等を溶媒として使用する
ことも出来る。上述したエポキシ樹脂の製造にあたっ
て、前記原料ポリシロキサン含有2価フェノ−ル化合物
とともに、ビスフェノ−ルA,ビスフェノ−ルS,フェ
ノ−ルノボラック樹脂等の他の多価フェノ−ル類を組み
合わせて使用してもよい。
【0013】本発明のエポキシ樹脂は、使用に際しては
単独で或は他の公知のエポキシ樹脂等各種の樹脂との組
合せで用いることが出来る。また一般に通常のエポキシ
樹脂硬化剤として知られている脂肪族アミン、芳香族ア
ミン、アミンアダクト、酸無水物、フェノ−ルノボラッ
ク樹脂等の各種の硬化剤を配合した組成物の形で例えば
防錆塗料、電気絶縁塗料、注型剤、封止剤、積層板等の
用途に用いることが出来、これら組成物には必要に応じ
てシリカ、アルミナ、タルク、ガラス繊維、炭素繊維等
の充填剤、消泡剤、溶剤、顔料等他の公知の添加剤を加
えてもよい。
単独で或は他の公知のエポキシ樹脂等各種の樹脂との組
合せで用いることが出来る。また一般に通常のエポキシ
樹脂硬化剤として知られている脂肪族アミン、芳香族ア
ミン、アミンアダクト、酸無水物、フェノ−ルノボラッ
ク樹脂等の各種の硬化剤を配合した組成物の形で例えば
防錆塗料、電気絶縁塗料、注型剤、封止剤、積層板等の
用途に用いることが出来、これら組成物には必要に応じ
てシリカ、アルミナ、タルク、ガラス繊維、炭素繊維等
の充填剤、消泡剤、溶剤、顔料等他の公知の添加剤を加
えてもよい。
【0014】
【発明の効果】本発明の、ポリシロキサン含有エポキシ
樹脂は主鎖中にシロキサン結合と芳香環を有し、通常の
脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ジシアンジアミ
ド、酸無水物等を硬化剤として硬化させると耐湿性,耐
熱性,可とう性に優れたエポキシ樹脂硬化物を生ずる。
樹脂は主鎖中にシロキサン結合と芳香環を有し、通常の
脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ジシアンジアミ
ド、酸無水物等を硬化剤として硬化させると耐湿性,耐
熱性,可とう性に優れたエポキシ樹脂硬化物を生ずる。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。
【0016】
【実施例1】1,3−ビス[4−(グリシジルオキシ)
フェニル)]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サンの製造.1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン20g
(0.063モル)、エピクロルヒドリン58g(0.
627モル)及び水酸化ナトリウム10.1g(0.2
52モル)の懸濁混合物を、攪拌装置、還流冷却管及び
温度計を備えた容量200mlの丸底フラスコに仕込
み、温度118℃で攪拌下、24時間加熱還流し開環付
加反応及び脱塩化水素反応を行った。過剰の未反応エピ
クロルヒドリンを80℃、減圧下で留去した後、残渣に
水50mlを加え、エ−テル50mlで3回抽出を行っ
た。エ−テル層を10%水酸化ナトリウム水溶液ついで
飽和食塩水で3回、更に水で順次洗浄し、エ−テル層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒のエ−
テルを減圧留去して20.8gの生成物を得た。本反応
の収率は77%であった。生成物の物性は次の通りであ
った。 エポキシ当量 221 (理論値 215 ) 加水分解可能塩素量 0.009重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に、また各々のスペクトル図を図1、
図2に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2920, 1580, 1490, 1260, 1240, 1105, 1020, 825, 7
70 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.29δ(s,12H),2.75δ(dd,J=2.6,4.8Hz,2H), 2.90δ(d
d,J=4.0、4.8Hz,2H) 3.35δ(m,2H), 3.97δ(dd,J=5.9、11.0Hz,2H), 4.22δ(d
d,J=3.3、11.0Hz,2H), 6.90δ(d,J=8.8Hz,4H), 7.45δ
(d,J=8.8Hz,4H) この結果より、本生成物は次記化7で表わされるエポキ
シ樹脂であることが認められる。
フェニル)]−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サンの製造.1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン20g
(0.063モル)、エピクロルヒドリン58g(0.
627モル)及び水酸化ナトリウム10.1g(0.2
52モル)の懸濁混合物を、攪拌装置、還流冷却管及び
温度計を備えた容量200mlの丸底フラスコに仕込
み、温度118℃で攪拌下、24時間加熱還流し開環付
加反応及び脱塩化水素反応を行った。過剰の未反応エピ
クロルヒドリンを80℃、減圧下で留去した後、残渣に
水50mlを加え、エ−テル50mlで3回抽出を行っ
た。エ−テル層を10%水酸化ナトリウム水溶液ついで
飽和食塩水で3回、更に水で順次洗浄し、エ−テル層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒のエ−
テルを減圧留去して20.8gの生成物を得た。本反応
の収率は77%であった。生成物の物性は次の通りであ
った。 エポキシ当量 221 (理論値 215 ) 加水分解可能塩素量 0.009重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に、また各々のスペクトル図を図1、
図2に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2920, 1580, 1490, 1260, 1240, 1105, 1020, 825, 7
70 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.29δ(s,12H),2.75δ(dd,J=2.6,4.8Hz,2H), 2.90δ(d
d,J=4.0、4.8Hz,2H) 3.35δ(m,2H), 3.97δ(dd,J=5.9、11.0Hz,2H), 4.22δ(d
d,J=3.3、11.0Hz,2H), 6.90δ(d,J=8.8Hz,4H), 7.45δ
(d,J=8.8Hz,4H) この結果より、本生成物は次記化7で表わされるエポキ
シ樹脂であることが認められる。
【化7】
【0017】
【実施例2】1,9−ビス[4−(グリシジルオキシ)
フェニル)]デカメチルペンタシロキサンの製造。1,
9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタシロキサン
11g(0.020モル)、エピクロルヒドリン18.
5g(0.2モル)及び水酸化ナトリウム3.2g
(0.080モル)の懸濁混合物を、攪拌装置、還流冷
却管、及び温度計を備えた容量100mlの丸底フラス
コに仕込み、温度118℃で20時間攪拌下で加熱還流
し開環付加反応次いで閉環反応を行った。以降の操作は
実施例1と同様に行い粗生成物13.0gを得た。その
後、シリカゲルのカラムクロマトグラフィ−で分離し1
1.4gの生成物を得た。本反応の収率は86%であっ
た。生成物の物性は次の通りであった。 エポキシ当量 340 (理論値 326 ) 加水分解可能塩素量 0.001重量%以下。 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に、またスペクトルを図3、図4に示
す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2970, 1600, 1500, 1260, 1120, 1020〜1080, 840, 7
90 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.03〜0.05δ(m,18H), 0.30〜0.31δ(m,12H), 2.75〜2.
77δ(m,2H) 2.89〜2.92δ(m,2H), 3.34〜3.37δ(m,2H), 3.95〜4.00
δ(m,2H) 4.19〜4.23δ(m,2H), 6.89〜6.92δ(m,4H), 7.46〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化8で表わされるエポキ
シ樹脂であることが認められる。
フェニル)]デカメチルペンタシロキサンの製造。1,
9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタシロキサン
11g(0.020モル)、エピクロルヒドリン18.
5g(0.2モル)及び水酸化ナトリウム3.2g
(0.080モル)の懸濁混合物を、攪拌装置、還流冷
却管、及び温度計を備えた容量100mlの丸底フラス
コに仕込み、温度118℃で20時間攪拌下で加熱還流
し開環付加反応次いで閉環反応を行った。以降の操作は
実施例1と同様に行い粗生成物13.0gを得た。その
後、シリカゲルのカラムクロマトグラフィ−で分離し1
1.4gの生成物を得た。本反応の収率は86%であっ
た。生成物の物性は次の通りであった。 エポキシ当量 340 (理論値 326 ) 加水分解可能塩素量 0.001重量%以下。 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に、またスペクトルを図3、図4に示
す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2970, 1600, 1500, 1260, 1120, 1020〜1080, 840, 7
90 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.03〜0.05δ(m,18H), 0.30〜0.31δ(m,12H), 2.75〜2.
77δ(m,2H) 2.89〜2.92δ(m,2H), 3.34〜3.37δ(m,2H), 3.95〜4.00
δ(m,2H) 4.19〜4.23δ(m,2H), 6.89〜6.92δ(m,4H), 7.46〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化8で表わされるエポキ
シ樹脂であることが認められる。
【化8】
【0018】
【実施例3】1,11−ビス[4−(グリシジルオキ
シ)フェニル]ドデカメチルヘキサシロキサンの製造。
実施例2と同様の方法により、1、11−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ドデカメチルヘキサシロキサン6g
(0.0098モル)、エピクロルヒドリン9g(0.
097モル)及び水酸化ナトリウム1.6g(0.04
モル)より5.5gの生成物を得た。本反応の収率は7
7%であった。生成物の物性は次の通りであった。 エポキシ当量 396 (理論値 363 ) 加水分解可能塩素量 0.004重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2960, 1600, 1500, 1260, 1120, 1030〜1090, 840, 8
00 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.03〜0.06δ(m,24H), 0.31〜0.32δ(m,12H), 2.75〜2.
76δ(m,2H) 2.89〜2.91δ(m,2H), 3.34〜3.37δ(m,2H), 3.96〜4.00
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.90〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化9で表わされるエポキ
シ樹脂であることが認められる。
シ)フェニル]ドデカメチルヘキサシロキサンの製造。
実施例2と同様の方法により、1、11−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ドデカメチルヘキサシロキサン6g
(0.0098モル)、エピクロルヒドリン9g(0.
097モル)及び水酸化ナトリウム1.6g(0.04
モル)より5.5gの生成物を得た。本反応の収率は7
7%であった。生成物の物性は次の通りであった。 エポキシ当量 396 (理論値 363 ) 加水分解可能塩素量 0.004重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2960, 1600, 1500, 1260, 1120, 1030〜1090, 840, 8
00 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.03〜0.06δ(m,24H), 0.31〜0.32δ(m,12H), 2.75〜2.
76δ(m,2H) 2.89〜2.91δ(m,2H), 3.34〜3.37δ(m,2H), 3.96〜4.00
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.90〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化9で表わされるエポキ
シ樹脂であることが認められる。
【化9】
【0019】
【実施例4】1,15−ビス[4−(グリシジルオキ
シ)フェニル]ヘキサデカメチルオクタシロキサンの製
造。実施例2と同様の方法により、1,15−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)ヘキサデカメチルオクタシロキ
サン4.3g(0.0056モル)、エピクロルヒドリ
ン 5.1g(0.055モル)及び水酸化ナトリウム
0.8g(0.02モル)より3.2gの生成物を得
た。本反応の収率は64%であった。生成物の物性は次
の通りであった。 エポキシ当量 462 (理論値 437 ) 加水分解可能塩素量 0.002重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2970, 1600, 1500, 1260, 1120, 1030, 1090, 800 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.03〜0.07δ(m,36H), 0.31δ(s,12H), 2.74〜2.76δ
(m,2H) 2.89〜2.91δ(m,2H), 3.33〜3.37δ(m,2H), 3.96〜3.99
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.91〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化10で表わされるエポ
キシ樹脂であることが認められる。
シ)フェニル]ヘキサデカメチルオクタシロキサンの製
造。実施例2と同様の方法により、1,15−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)ヘキサデカメチルオクタシロキ
サン4.3g(0.0056モル)、エピクロルヒドリ
ン 5.1g(0.055モル)及び水酸化ナトリウム
0.8g(0.02モル)より3.2gの生成物を得
た。本反応の収率は64%であった。生成物の物性は次
の通りであった。 エポキシ当量 462 (理論値 437 ) 加水分解可能塩素量 0.002重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2970, 1600, 1500, 1260, 1120, 1030, 1090, 800 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.03〜0.07δ(m,36H), 0.31δ(s,12H), 2.74〜2.76δ
(m,2H) 2.89〜2.91δ(m,2H), 3.33〜3.37δ(m,2H), 3.96〜3.99
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.91〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化10で表わされるエポ
キシ樹脂であることが認められる。
【化10】
【0020】
【実施例5】1,17−ビス[4−(グリシジルオキ
シ)フェニル]オクタデカメチルノナシロキサンの製
造。実施例2と同様の方法により、1,17−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)オクタデカメチルノナシロキサ
ン2.8g(0.0033モル)、エピクロルヒドリン
3.05g(0.033モル)及び水酸化ナトリウム
0.52g(0.013モル)より1.8gの生成物を
得た。本反応の収率は58%であった。生成物の物性は
次の通りであった。 エポキシ当量 525 (理論値 474 ) 加水分解可能塩素量 0.007重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2960, 1600, 1500, 1260, 1120, 1100, 1030, 860, 84
0, 800 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.05〜0.07δ(m,42H), 0.32δ(s,12H), 2.75〜2.76δ
(m,2H) 2.89〜2.92δ(m,2H), 3.34〜3.36δ(m,2H), 3.96〜4.09
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.91〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化11で表わされるエポ
キシ樹脂であることが認められる。
シ)フェニル]オクタデカメチルノナシロキサンの製
造。実施例2と同様の方法により、1,17−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)オクタデカメチルノナシロキサ
ン2.8g(0.0033モル)、エピクロルヒドリン
3.05g(0.033モル)及び水酸化ナトリウム
0.52g(0.013モル)より1.8gの生成物を
得た。本反応の収率は58%であった。生成物の物性は
次の通りであった。 エポキシ当量 525 (理論値 474 ) 加水分解可能塩素量 0.007重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2960, 1600, 1500, 1260, 1120, 1100, 1030, 860, 84
0, 800 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.05〜0.07δ(m,42H), 0.32δ(s,12H), 2.75〜2.76δ
(m,2H) 2.89〜2.92δ(m,2H), 3.34〜3.36δ(m,2H), 3.96〜4.09
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.91〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記化11で表わされるエポ
キシ樹脂であることが認められる。
【化11】
【0021】
【実施例6】1,23−ビス[4−(グリシジルオキ
シ)フェニル]テトラコサメチルドデカシロキサンの製
造。実施例2と同様の方法により、1,23−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)テトラコサメチルドデカシロキ
サン2.7g(0.0025モル)、エピクロルヒドリ
ン2.3g(0.025モル)及び水酸化ナトリウム
0.4g(0.010モル)より1.9gの生成物を得
た。本反応の収率は64%であった。生成物の物性は次
の通りであった。 エポキシ当量 659 (理論値598) 加水分解可能塩素量 0.008重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2970, 1600, 1510, 1265, 1120, 1100, 1030, 865, 84
0, 800 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.05〜0.07δ(m,60H), 0.32δ(s,12H), 2.75〜2.76δ
(m,2H) 2.89〜2.92δ(m,2H), 3.34〜3.38δ(m,2H), 3.97〜4.08
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.91〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記式で表わされるエポキシ
樹脂であることが認められる。
シ)フェニル]テトラコサメチルドデカシロキサンの製
造。実施例2と同様の方法により、1,23−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)テトラコサメチルドデカシロキ
サン2.7g(0.0025モル)、エピクロルヒドリ
ン2.3g(0.025モル)及び水酸化ナトリウム
0.4g(0.010モル)より1.9gの生成物を得
た。本反応の収率は64%であった。生成物の物性は次
の通りであった。 エポキシ当量 659 (理論値598) 加水分解可能塩素量 0.008重量% 生成物の赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクト
ル分析結果を下記に示す。 赤外線吸収スペクトル分析(cm-1) 2970, 1600, 1510, 1265, 1120, 1100, 1030, 865, 84
0, 800 核磁気共鳴スペクトル分析(CDCl3溶媒) 0.05〜0.07δ(m,60H), 0.32δ(s,12H), 2.75〜2.76δ
(m,2H) 2.89〜2.92δ(m,2H), 3.34〜3.38δ(m,2H), 3.97〜4.08
δ(m,2H) 4.20〜4.23δ(m,2H), 6.91〜6.93δ(m,4H), 7.47〜7.49
δ(m,4H) この結果より、本生成物は下記式で表わされるエポキシ
樹脂であることが認められる。
【化12】
【0022】
【図1】図1は実施例1に於ける赤外線吸収スペクトル
図である。
図である。
【図2】図2は同じく実施例1に於ける核磁気共鳴スペ
クトル図である。
クトル図である。
【図3】図3は実施例2に於ける赤外線吸収スペクトル
図である。
図である。
【図4】図4は同じく実施例2に於ける核磁気共鳴スペ
クトル図である。
クトル図である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年12月5日
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図4】
【図3】
Claims (2)
- 【請求項1】下記化1で示されるエポキシ樹脂 【化1】 (式中R1およびR2はそれぞれ独立に水素、または炭素
原子数1乃至3のアルキル基、またはハロゲン原子であ
り、互いに同一であっても異なっていてもよい。またR
3は炭素原子数1乃至3のアルキル基である。nは0も
しくは1乃至20の整数である。) - 【請求項2】 【化2】 (式中R1およびR2はそれぞれ独立に水素、または炭素
原子数1乃至3のアルキル基、またはハロゲン原子であ
り、互いに同一であっても異なっていてもよい。またR
3は炭素原子数1乃至3のアルキル基である。nは0も
しくは1乃至20整数である。)で示される原料ポリシ
ロキサン含有2価フェノ−ル化合物を、下記化3、 【化3】 で示されるエピハロヒドリン化合物と開環付加反応さ
せ、次いでアルカリ金属水酸化物を作用させて脱ハロゲ
ン化水素を行うことを特徴とするエポキシ樹脂の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP103292A JPH07165883A (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | エポキシ樹脂及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP103292A JPH07165883A (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | エポキシ樹脂及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07165883A true JPH07165883A (ja) | 1995-06-27 |
Family
ID=11490229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP103292A Pending JPH07165883A (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | エポキシ樹脂及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07165883A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025031589A1 (de) * | 2023-08-10 | 2025-02-13 | Wacker Chemie Ag | Phenolterminierte siloxane |
-
1992
- 1992-01-07 JP JP103292A patent/JPH07165883A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025031589A1 (de) * | 2023-08-10 | 2025-02-13 | Wacker Chemie Ag | Phenolterminierte siloxane |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4284574A (en) | Diglycidyl ethers of di-secondary alcohols, their preparation, and curable compositions containing them | |
| JPS643217B2 (ja) | ||
| CA1335402C (en) | Halogen-containing advanced epoxy resins | |
| JPH06247989A (ja) | 環状ホスファゼン化合物、樹脂組成物及びその硬化物 | |
| US4895755A (en) | Halogenated advanced epoxy resins | |
| EP0214722B1 (en) | Brominated hydroxyaromatic compounds | |
| JP2004043696A (ja) | エポキシ基含有ケイ素化合物及び組成物 | |
| JP4529234B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
| US4663400A (en) | Epoxy resins prepared from trisphenols and dicyclopentadiene | |
| JPH0617439B2 (ja) | 非焼結性エポキシ樹脂の製造法 | |
| JPS6241223A (ja) | エポキシ樹脂 | |
| KR910004902B1 (ko) | 에폭시드기를 함유하는 페놀 에테르 | |
| JPH05222153A (ja) | 新規アントラセン系エポキシ樹脂及びその製造方法 | |
| JPH0364532B2 (ja) | ||
| JP4158137B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物。 | |
| JP3543282B2 (ja) | エポキシ樹脂の製造方法、及びエポキシ樹脂組成物の硬化物 | |
| JPS6213351B2 (ja) | ||
| JP2003073318A (ja) | 多価ヒドロキシ化合物、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP2006028057A (ja) | 液状エポキシ化合物の製造方法 | |
| JPH10139854A (ja) | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPH0586156A (ja) | 新規ノボラツク型化合物、樹脂、及びその製造法 | |
| JP3104930B2 (ja) | 新規エポキシ樹脂、樹脂組成物及び硬化物 | |
| JP3192471B2 (ja) | エポキシ樹脂、樹脂組成物及び硬化物 | |
| JPH1025286A (ja) | 新規なポリエポキシ化合物及びその製造方法 | |
| JP2003034712A (ja) | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、芳香族ポリオール化合物及びその硬化物。 |