JPH071698A - 画像形成における、もしくは画像形成に関連する改良 - Google Patents
画像形成における、もしくは画像形成に関連する改良Info
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- JPH071698A JPH071698A JP5289552A JP28955293A JPH071698A JP H071698 A JPH071698 A JP H071698A JP 5289552 A JP5289552 A JP 5289552A JP 28955293 A JP28955293 A JP 28955293A JP H071698 A JPH071698 A JP H071698A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】(a) 基体および被覆を有する放射線感応性プレ
ートであって、この被覆が熱軟化性分散相、水可溶性も
しくは水膨潤性連続相および放射線吸収物質を有するプ
レートを提供し、(b) プレートに画像様露光を施し、画
像領域の分散相の粒子を少なくとも部分的に融合させ、
(c) 画像様露光プレートを現像して非露光領域の被覆を
選択的に除去し、(d) 現像したプレートを加熱し、また
は化学放射線に晒して画像を不溶化させる。 【効果】耐久性が高く、高品質の画像が得られる。
ートであって、この被覆が熱軟化性分散相、水可溶性も
しくは水膨潤性連続相および放射線吸収物質を有するプ
レートを提供し、(b) プレートに画像様露光を施し、画
像領域の分散相の粒子を少なくとも部分的に融合させ、
(c) 画像様露光プレートを現像して非露光領域の被覆を
選択的に除去し、(d) 現像したプレートを加熱し、また
は化学放射線に晒して画像を不溶化させる。 【効果】耐久性が高く、高品質の画像が得られる。
Description
【０００１】この発明は画像形成に関し、特には、電子
工学的に構成されたデジタル源からの画像の直接形成に
関する。
工学的に構成されたデジタル源からの画像の直接形成に
関する。
【０００２】多年にわたり、印刷産業において、電子工
学的に構成されたデジタル・データベースから直接、す
なわち、いわゆる「コンピュータ − プレート」シス
テムによって、印刷画像を形成することは長年の目的で
あった。このようなシステムの、伝統的な印刷プレート
作製方法を上回る利点は、(i) 費用がかさむ中間銀フ
ィルムおよび処理化学剤の排除、(ii) 時間の節約、お
よび(iii) システムの自動化と、それに伴って起こる労
働コストの削減、である。
学的に構成されたデジタル・データベースから直接、す
なわち、いわゆる「コンピュータ − プレート」シス
テムによって、印刷画像を形成することは長年の目的で
あった。このようなシステムの、伝統的な印刷プレート
作製方法を上回る利点は、(i) 費用がかさむ中間銀フ
ィルムおよび処理化学剤の排除、(ii) 時間の節約、お
よび(iii) システムの自動化と、それに伴って起こる労
働コストの削減、である。
【０００３】レーザー技術の導入により、印刷プレート
・プレカーサ［printing plate precursor］上の連続領
域にレーザービームを向け、その強度が変化するように
ビームを調節することによって、印刷プレート・プレカ
ーサ上に直接画像を形成する最初の機会が訪れた。この
方法においては、高感度の光架橋可能なポリマーコーテ
ィングを有する放射線感応性プレートを水冷ＵＶアルゴ
ンイオンレーザーに晒し、可視スペクトル領域から近赤
外線領域まで広がる感光性を有する電子写真プレート
を、低電力空冷アルゴンイオン並びに半導体レーザー装
置を用いて連続的に露光する。
・プレカーサ［printing plate precursor］上の連続領
域にレーザービームを向け、その強度が変化するように
ビームを調節することによって、印刷プレート・プレカ
ーサ上に直接画像を形成する最初の機会が訪れた。この
方法においては、高感度の光架橋可能なポリマーコーテ
ィングを有する放射線感応性プレートを水冷ＵＶアルゴ
ンイオンレーザーに晒し、可視スペクトル領域から近赤
外線領域まで広がる感光性を有する電子写真プレート
を、低電力空冷アルゴンイオン並びに半導体レーザー装
置を用いて連続的に露光する。
【０００４】熱生成赤外線レーザービームに晒した際
に、選択的（画像様）薄層剥離および続く材料の移送を
受けるサンドイッチ構造を含む画像システムも利用する
ことができる。このような、いわゆる剥離−除去システ
ム［peel-apart system ］が、ハロゲン化銀フィルムの
代替物として一般的に用いられている。
に、選択的（画像様）薄層剥離および続く材料の移送を
受けるサンドイッチ構造を含む画像システムも利用する
ことができる。このような、いわゆる剥離−除去システ
ム［peel-apart system ］が、ハロゲン化銀フィルムの
代替物として一般的に用いられている。
【０００５】この発明の一面によると、(i) (1)水不溶
性熱軟化性成分（Ａ）を含む分散相および (2)水性、好
ましくは水性アルカリ性媒体に可溶もしくは膨潤可能な
成分（Ｂ）からなる結合剤または連続相を含む層であっ
て、成分（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも１種は、この
層の不溶化が昇温および／または化学放射線への暴露に
よって起こるように反応基もしくはそれらの前駆体を含
む層、および(ii)放射線を強く吸収し、それにより得ら
れたエネルギーを、少なくとも部分的な被覆の融合が起
こるように、熱として前記分散相に移送することが可能
な物質、で被覆された基体を包含する放射線感応性プレ
ートが提供される。
性熱軟化性成分（Ａ）を含む分散相および (2)水性、好
ましくは水性アルカリ性媒体に可溶もしくは膨潤可能な
成分（Ｂ）からなる結合剤または連続相を含む層であっ
て、成分（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも１種は、この
層の不溶化が昇温および／または化学放射線への暴露に
よって起こるように反応基もしくはそれらの前駆体を含
む層、および(ii)放射線を強く吸収し、それにより得ら
れたエネルギーを、少なくとも部分的な被覆の融合が起
こるように、熱として前記分散相に移送することが可能
な物質、で被覆された基体を包含する放射線感応性プレ
ートが提供される。
【０００６】このプレートは、前記層の１種以上および
／または１種以上のさらなる層を包含して、基体への密
着性を増加させ、磨耗に対する耐性を改善し、または他
の点においてシステムの性能を改善する。
／または１種以上のさらなる層を包含して、基体への密
着性を増加させ、磨耗に対する耐性を改善し、または他
の点においてシステムの性能を改善する。
【０００７】成分（Ａ）および（Ｂ）は好ましくはポリ
マーおよび／またはオリゴマーであり、その少なくとも
一方には反応基もしくは前駆体が含まれ、それにより下
記条件の少なくとも１つを満足するシステムを提供す
る： ａ）成分（Ａ）が架橋可能である； ｂ）成分（Ｂ）が架橋可能である； ｃ）成分（Ａ）が成分（Ｂ）と反応して架橋構造を形成
する； ｄ）成分（Ａ）は、成分（Ｂ）と相互に反応性の、およ
び／または反応する物質Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 等の混合物で
ある； ｅ）成分（Ｂ）は、成分（Ａ）と相互に反応性の、およ
び／または反応する物質Ｂ1 、Ｂ2 、Ｂ3 等の混合物で
ある。
マーおよび／またはオリゴマーであり、その少なくとも
一方には反応基もしくは前駆体が含まれ、それにより下
記条件の少なくとも１つを満足するシステムを提供す
る： ａ）成分（Ａ）が架橋可能である； ｂ）成分（Ｂ）が架橋可能である； ｃ）成分（Ａ）が成分（Ｂ）と反応して架橋構造を形成
する； ｄ）成分（Ａ）は、成分（Ｂ）と相互に反応性の、およ
び／または反応する物質Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 等の混合物で
ある； ｅ）成分（Ｂ）は、成分（Ａ）と相互に反応性の、およ
び／または反応する物質Ｂ1 、Ｂ2 、Ｂ3 等の混合物で
ある。
【０００８】この発明の他の面によると、(a) 前に定義
した通りの放射線感応性プレートを得、(b) 被覆の連続
領域に放射線を向け、被覆中の粒子が選択的かつ少なく
とも部分的に融合するように放射線を調節することによ
って、放射線感応性プレートを高強度放射線ビームで画
像通りに露光し、(c) 画像様露光プレートを水性媒体で
現像して、非融合粒子を含む領域を選択的に除去し、か
つ粒子が少なくとも部分的に融合した結果形成される画
像を基体上に残し、(d) 現像したプレートを加熱し、お
よび／または化学放射線に晒して不溶化させる、ことを
包含する画像の形成方法が提供される。
した通りの放射線感応性プレートを得、(b) 被覆の連続
領域に放射線を向け、被覆中の粒子が選択的かつ少なく
とも部分的に融合するように放射線を調節することによ
って、放射線感応性プレートを高強度放射線ビームで画
像通りに露光し、(c) 画像様露光プレートを水性媒体で
現像して、非融合粒子を含む領域を選択的に除去し、か
つ粒子が少なくとも部分的に融合した結果形成される画
像を基体上に残し、(d) 現像したプレートを加熱し、お
よび／または化学放射線に晒して不溶化させる、ことを
包含する画像の形成方法が提供される。
【０００９】使用される基体材料は、その画像が使用さ
れる目的に依存し、例えば、金属もしくはプラスチック
材からなるものである。画像が印刷画像として使用され
る場合には、基体は、好ましくは電気化学的に処理され
たアルミニウムである。
れる目的に依存し、例えば、金属もしくはプラスチック
材からなるものである。画像が印刷画像として使用され
る場合には、基体は、好ましくは電気化学的に処理され
たアルミニウムである。
【００１０】前記層は、成分（Ａ）および（Ｂ）の分離
した領域を有する。この不連続相Ａは連続相Ｂ内に封止
される。２つの相ＡおよびＢは、我々の先の欧州特許明
細書第 0 514 145-A号に記載されるように、コア−シェ
ルシステムを形成していてもよく、その場合には、コア
およびシェル成分は化学結合を介して互いに結合してい
る。周囲条件下においては、両成分は好ましくは固体で
あって流動しない。
した領域を有する。この不連続相Ａは連続相Ｂ内に封止
される。２つの相ＡおよびＢは、我々の先の欧州特許明
細書第 0 514 145-A号に記載されるように、コア−シェ
ルシステムを形成していてもよく、その場合には、コア
およびシェル成分は化学結合を介して互いに結合してい
る。周囲条件下においては、両成分は好ましくは固体で
あって流動しない。
【００１１】成分（Ｂ）は、例えば、放射線吸収物質と
してこの発明の組成物に添加される予め分散された色素
材料における結合剤として使用することにより、組成物
に組み込むことができる。
してこの発明の組成物に添加される予め分散された色素
材料における結合剤として使用することにより、組成物
に組み込むことができる。
【００１２】実際には、被覆の成分が、通常の保存条件
下においては画像形成および現像プロセスを妨げるに十
分な反応を起こさず、昇温時には、耐久性があり、溶媒
に耐性を有する画像を得るに十分な反応を急速に起こす
ように成分を選択することが望ましい。周囲温度におけ
るこの反応性の欠如は、反応が融合体上でのみ起こるよ
うに別個の領域の各々に相互反応基を存在させた結果に
よるものであってもよい。このように、分離相を用いる
ことにより早すぎる反応が効率的に妨げられる。その代
わりに、特定の閾値温度に達し、あるいは越えた際にの
み反応が開始されるようなシステムを組み込むことによ
り、安定性を達成することもできる。成分（Ａ）は親油
性ポリマーもしくはオリゴマーであり、周囲温度より高
い最小膜形成温度（ＭＦＴ）を有していることが好まし
く、あるいは下記 (i)および(ii)の１以上の群から選択
し得る１種以上のモノマーから誘導される残基を含有す
るさらなるコポリマーであってもよい。なお、下記 (i)
および(ii)は説明のために挙げたものである。
下においては画像形成および現像プロセスを妨げるに十
分な反応を起こさず、昇温時には、耐久性があり、溶媒
に耐性を有する画像を得るに十分な反応を急速に起こす
ように成分を選択することが望ましい。周囲温度におけ
るこの反応性の欠如は、反応が融合体上でのみ起こるよ
うに別個の領域の各々に相互反応基を存在させた結果に
よるものであってもよい。このように、分離相を用いる
ことにより早すぎる反応が効率的に妨げられる。その代
わりに、特定の閾値温度に達し、あるいは越えた際にの
み反応が開始されるようなシステムを組み込むことによ
り、安定性を達成することもできる。成分（Ａ）は親油
性ポリマーもしくはオリゴマーであり、周囲温度より高
い最小膜形成温度（ＭＦＴ）を有していることが好まし
く、あるいは下記 (i)および(ii)の１以上の群から選択
し得る１種以上のモノマーから誘導される残基を含有す
るさらなるコポリマーであってもよい。なお、下記 (i)
および(ii)は説明のために挙げたものである。
【００１３】(i) スチレン、置換スチレン類、（メタ）
アクリル酸のエステル類、ハロゲン化ビニル類、（メ
タ）アクリロニトリル、ビニルエステル類； (ii)グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジ
ルエーテル、アリル（メタ）アクリレート、クロロメチ
ルスチレン、イソシアネートおよびブロックドイソシア
ネート官能物質、例えばイソシアネートエチルメタクリ
レートおよびそのフェノールブロック誘導体、アミノ官
能モノマー、例えばジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、メタクリルアミドグリコラートメチルエーテル（Ma
gme ；American Cyanamid）、N-メチロールアクリルア
ミドおよびその誘導体。
アクリル酸のエステル類、ハロゲン化ビニル類、（メ
タ）アクリロニトリル、ビニルエステル類； (ii)グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジ
ルエーテル、アリル（メタ）アクリレート、クロロメチ
ルスチレン、イソシアネートおよびブロックドイソシア
ネート官能物質、例えばイソシアネートエチルメタクリ
レートおよびそのフェノールブロック誘導体、アミノ官
能モノマー、例えばジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、メタクリルアミドグリコラートメチルエーテル（Ma
gme ；American Cyanamid）、N-メチロールアクリルア
ミドおよびその誘導体。
【００１４】代わりに、成分（Ａ）は、ビスフェノール
Ａエピクロロヒドリンエポキシ樹脂もしくは他の適切な
エポキシ基含有ポリマーであってもよく、あるいは（任
意にブロックされた）反応性側基もしくは末端基を有す
る、ポリエステルもしくはポリウレタンのような縮合ポ
リマーから誘導されるものであってもよい。
Ａエピクロロヒドリンエポキシ樹脂もしくは他の適切な
エポキシ基含有ポリマーであってもよく、あるいは（任
意にブロックされた）反応性側基もしくは末端基を有す
る、ポリエステルもしくはポリウレタンのような縮合ポ
リマーから誘導されるものであってもよい。
【００１５】成分（Ｂ）は好ましくはポリマー性であ
り、カルボン酸、スルホンアミド、または水溶液中にお
ける溶解性、もしくは少なくとも膨潤性を付与すること
が可能な他の基を有する。成分（Ｂ）に特に適した物質
は、 (i) １種以上のエチレン性不飽和カルボン酸類と１種
以上のスチレン、置換スチレン類、（メタ）アクリレー
トエステル類、（メタ）アクリロニトリルもしくは酢酸
ビニルとの共重合に由来するコポリマー； (ii) ヒドロキシル基含有ポリマーのジカルボン酸半エ
ステル類、例えば、ポリビニルアセタール、特にポリビ
ニルブチラールのフタル酸、コハク酸もしくはマレイン
酸半エステル類；および (iii) スチレン- もしくはアルキルビニルエーテル- 無
水マレイン酸コポリマーのアルキルもしくはアラルキル
半エステル類、特に、スクリプセット 540［Scripset 5
40］（Monsanto）のようなスチレン- 無水マレイン酸コ
ポリマーのアルキル半エステル類。
り、カルボン酸、スルホンアミド、または水溶液中にお
ける溶解性、もしくは少なくとも膨潤性を付与すること
が可能な他の基を有する。成分（Ｂ）に特に適した物質
は、 (i) １種以上のエチレン性不飽和カルボン酸類と１種
以上のスチレン、置換スチレン類、（メタ）アクリレー
トエステル類、（メタ）アクリロニトリルもしくは酢酸
ビニルとの共重合に由来するコポリマー； (ii) ヒドロキシル基含有ポリマーのジカルボン酸半エ
ステル類、例えば、ポリビニルアセタール、特にポリビ
ニルブチラールのフタル酸、コハク酸もしくはマレイン
酸半エステル類；および (iii) スチレン- もしくはアルキルビニルエーテル- 無
水マレイン酸コポリマーのアルキルもしくはアラルキル
半エステル類、特に、スクリプセット 540［Scripset 5
40］（Monsanto）のようなスチレン- 無水マレイン酸コ
ポリマーのアルキル半エステル類。
【００１６】成分（Ｂ）が成分Ｂ1 、Ｂ2 、Ｂ3 等の混
合物を含む場合には、これらの成分の少なくとも１種は
ポリマー性である。他の成分もまたポリマー性であって
もよいが、さらに非ポリマー性架橋剤、例えば、アジド
類、低分子量ポリエポキシド類、もしくは、最も好まし
くは、ヘキサメトキシメチルメラミンのようなメラミン
架橋剤を含有してもよい。
合物を含む場合には、これらの成分の少なくとも１種は
ポリマー性である。他の成分もまたポリマー性であって
もよいが、さらに非ポリマー性架橋剤、例えば、アジド
類、低分子量ポリエポキシド類、もしくは、最も好まし
くは、ヘキサメトキシメチルメラミンのようなメラミン
架橋剤を含有してもよい。
【００１７】連続および不連続相は、我々の先の欧州特
許明細書第 0 514 145-Aに記載されるようなコア- シェ
ル重合技術を用いて調製してもよく、あるいは粒子形成
後に成分（Ａ）および（Ｂ）を単に混合することにより
得ることもできる。成分（Ｂ）の成分（Ａ）に対する重
量比は、 1：20ないし20：1 の範囲にあればよく、好ま
しくは 1：9 ないし 9：1 の範囲にある。
許明細書第 0 514 145-Aに記載されるようなコア- シェ
ル重合技術を用いて調製してもよく、あるいは粒子形成
後に成分（Ａ）および（Ｂ）を単に混合することにより
得ることもできる。成分（Ｂ）の成分（Ａ）に対する重
量比は、 1：20ないし20：1 の範囲にあればよく、好ま
しくは 1：9 ないし 9：1 の範囲にある。
【００１８】放射線感応性プレートを得るために、水性
もしくは非水性担体、またはそれらの混合液のいずれか
を用いて基体上に層を形成させることができる。しかし
ながら、成分（Ａ）は選択された担体もしくは混合液に
不溶であることが重要である。
もしくは非水性担体、またはそれらの混合液のいずれか
を用いて基体上に層を形成させることができる。しかし
ながら、成分（Ａ）は選択された担体もしくは混合液に
不溶であることが重要である。
【００１９】一態様においては、高強度放射線の源は、
スペクトラムの紫外、可視もしくは赤外領域において作
働するレーザーである。赤色および赤外光放射レーザ
ー、例えば、半導体もしくはダイオードレーザーが好ま
しく、その典型は 750 - 870ｎｍ領域で作働するガリウ
ムアルミニウムヒ素レーザーである。
スペクトラムの紫外、可視もしくは赤外領域において作
働するレーザーである。赤色および赤外光放射レーザ
ー、例えば、半導体もしくはダイオードレーザーが好ま
しく、その典型は 750 - 870ｎｍ領域で作働するガリウ
ムアルミニウムヒ素レーザーである。
【００２０】放射線吸収物質は、成分（Ａ）および
（Ｂ）と同じ層（単数もしくは複数）に存在してもよ
く、あるいは別ではあるが隣接した層中に存在してもよ
い。適切なレーザー放射線吸収物質の例は、カーボンブ
ラックおよびグラファイト並びにフタロシアニン、クロ
コニウム［croconium ］およびスクアリリウム［squary
lium］型の染料、およびこれら生成物の混合物である。
（Ｂ）と同じ層（単数もしくは複数）に存在してもよ
く、あるいは別ではあるが隣接した層中に存在してもよ
い。適切なレーザー放射線吸収物質の例は、カーボンブ
ラックおよびグラファイト並びにフタロシアニン、クロ
コニウム［croconium ］およびスクアリリウム［squary
lium］型の染料、およびこれら生成物の混合物である。
【００２１】放射線吸収物質は、高強度放射線の影響下
において被覆のある程度の融合を生じせしめるに有効な
量が存在する。一般に、放射線吸収物質は、被覆の 2.0
ないし80重量％を構成する。
において被覆のある程度の融合を生じせしめるに有効な
量が存在する。一般に、放射線吸収物質は、被覆の 2.0
ないし80重量％を構成する。
【００２２】非画像領域の非融合物質を選択的に除去す
る好ましい現像剤は水性アルカリ類、例えば、エタノー
ルアミンおよびナトリウムメタシリケートの溶液、リン
酸ナトリウムのようなアルカリ性リン酸化物、または水
中のアルカリ金属水酸化物である。
る好ましい現像剤は水性アルカリ類、例えば、エタノー
ルアミンおよびナトリウムメタシリケートの溶液、リン
酸ナトリウムのようなアルカリ性リン酸化物、または水
中のアルカリ金属水酸化物である。
【００２３】以下、実施例によりこの発明を説明する。
【００２４】
例 １ コンデンサー、機械式撹拌器、およびＮ2 導入口／排出
口を備えた 500ｍｌ縁付フラスコに、蒸留水 250ｍｌ、
ラウリルスルホン酸ナトリウム 1.5ｇおよび過硫酸アン
モニウム0.75ｇを入れた。温度を70℃に上げ、窒素ブラ
ンケットを適用した。スチレン71.2ｇおよびグリシジル
メタクリレート 3.744ｇを互いに混合し、界面活性剤水
溶液中に 1.5時間かけてポンプで汲み入れた。
口を備えた 500ｍｌ縁付フラスコに、蒸留水 250ｍｌ、
ラウリルスルホン酸ナトリウム 1.5ｇおよび過硫酸アン
モニウム0.75ｇを入れた。温度を70℃に上げ、窒素ブラ
ンケットを適用した。スチレン71.2ｇおよびグリシジル
メタクリレート 3.744ｇを互いに混合し、界面活性剤水
溶液中に 1.5時間かけてポンプで汲み入れた。
【００２５】ポンプを蒸留水50ｍｌで洗浄し、得られた
混合物を撹拌しながらＮ2 の下において70℃でさらに 2
時間保持した。
混合物を撹拌しながらＮ2 の下において70℃でさらに 2
時間保持した。
【００２６】得られたラテックスは、モノマー含有率＜
0.01％、粒子径＜ 300ｎｍおよび固形分含有率20％であ
った。
0.01％、粒子径＜ 300ｎｍおよび固形分含有率20％であ
った。
【００２７】前記ポリマー分散体12ｇ；16.4％固形分マ
イクロリスブラックＣＷＡ［Microlith Black CWA ］分
散体（マイクロリスブラックＣＷＡ色素（カーボンブラ
ック色素：Ciba Geigy Pigments, Manchester UK）をＨ
2 Ｏ／イソプロパノールと共に撹拌した後アンモニアを
添加することにより調製）9.75ｇ； 蒸留水 13.25ｇ；および ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）15ｇ から 8％ w／w 固形分含有被覆混合物50ｇを調製し、表
面が粒状の電解アルミニウム基体に被覆重量 0.9ｇｍ-2
となるように塗布した。この場合、成分（Ａ）はスチレ
ン／グリシジルメタクリレートコポリマーであり、成分
（Ｂ）はカーボンブラック色素と会合したアルカリ可溶
性結合剤である。このプレートを、32× 100ｍＷレーザ
ーダイオード（Creo Products Inc. Burnaby, Canada）
アレイにより公称ビーム幅10ミクロンで露光し、放射線
照射領域の層中に少なくとも部分的な融合を生じせしめ
た。
イクロリスブラックＣＷＡ［Microlith Black CWA ］分
散体（マイクロリスブラックＣＷＡ色素（カーボンブラ
ック色素：Ciba Geigy Pigments, Manchester UK）をＨ
2 Ｏ／イソプロパノールと共に撹拌した後アンモニアを
添加することにより調製）9.75ｇ； 蒸留水 13.25ｇ；および ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）15ｇ から 8％ w／w 固形分含有被覆混合物50ｇを調製し、表
面が粒状の電解アルミニウム基体に被覆重量 0.9ｇｍ-2
となるように塗布した。この場合、成分（Ａ）はスチレ
ン／グリシジルメタクリレートコポリマーであり、成分
（Ｂ）はカーボンブラック色素と会合したアルカリ可溶
性結合剤である。このプレートを、32× 100ｍＷレーザ
ーダイオード（Creo Products Inc. Burnaby, Canada）
アレイにより公称ビーム幅10ミクロンで露光し、放射線
照射領域の層中に少なくとも部分的な融合を生じせしめ
た。
【００２８】ナトリウムメタシリケート系現像液（ユニ
デブ［Unidev］、DuPont-Howson 製）で現像して層の非
融合領域を除去した後に、非常に高品質の画像が得られ
た。
デブ［Unidev］、DuPont-Howson 製）で現像して層の非
融合領域を除去した後に、非常に高品質の画像が得られ
た。
【００２９】このプレートを 200℃で 2分間ベークし、
その後酸性にしたアニオン性界面活性剤（ユニフィン
［Unifin］、DuPont-Howson 製）溶液で仕上げた。この
プレートは、トルエンおよび1-メトキシ-2- プロパノー
ルのような溶媒に対する良好な耐性を示し、巻取紙オフ
セット印刷機上で 100,000コピーを越える印刷が可能で
あった。
その後酸性にしたアニオン性界面活性剤（ユニフィン
［Unifin］、DuPont-Howson 製）溶液で仕上げた。この
プレートは、トルエンおよび1-メトキシ-2- プロパノー
ルのような溶媒に対する良好な耐性を示し、巻取紙オフ
セット印刷機上で 100,000コピーを越える印刷が可能で
あった。
【００３０】得られたプレートは保存に対しても非常に
安定であり、すなわち、それらは作製後長期間が経過し
ても依然として画像形成および被覆除去［decoat］が可
能であった。ベーキングレスポンスは大きくは減少しな
かった。
安定であり、すなわち、それらは作製後長期間が経過し
ても依然として画像形成および被覆除去［decoat］が可
能であった。ベーキングレスポンスは大きくは減少しな
かった。
【００３１】例 ２ 200℃で 2分間ベークする前に、プレベーク溶液（サー
モテクト［Thermotect］、DuPont-Howson 製）でプレー
トを処理することを除いて、例１を繰り返した。溶媒に
対する良好な耐性および優れた追込み長さ［run lengt
h］を示す保存安定プレートが再び得られた。
モテクト［Thermotect］、DuPont-Howson 製）でプレー
トを処理することを除いて、例１を繰り返した。溶媒に
対する良好な耐性および優れた追込み長さ［run lengt
h］を示す保存安定プレートが再び得られた。
【００３２】例 ３ 添加前にモノマーにブロモトリクロロメタン 3ｇを添加
することを除いて、例１を繰り返した。優れた画像品質
と溶媒耐性が再び得られた。
することを除いて、例１を繰り返した。優れた画像品質
と溶媒耐性が再び得られた。
【００３３】例 ４ この例では、２層系の使用を説明する。
【００３４】例１において調製される被覆混合物を、表
面が粒状で電解を施したアルミニウム基体上に、被覆重
量が 0.4ｇｍ-2となるように塗布した。これを例１にお
いて調製されるラテックス 1.0ｇｍ-2で上塗りした。こ
のプレートを例１と同様に露光し、 200℃で 2分間ベー
クされた、優れた画像を得た。
面が粒状で電解を施したアルミニウム基体上に、被覆重
量が 0.4ｇｍ-2となるように塗布した。これを例１にお
いて調製されるラテックス 1.0ｇｍ-2で上塗りした。こ
のプレートを例１と同様に露光し、 200℃で 2分間ベー
クされた、優れた画像を得た。
【００３５】例 ５ コンデンサー、機械式撹拌器、温度計、窒素導入口／排
出口および２つのモノマー供給管を備えた 500ｍｌの縁
付フラスコに、蒸留水 250ｍｌ、ラウリルスルホン酸ナ
トリウム 1.5ｇ、アスコルビン酸 0.9ｇおよび過硫酸カ
リウム1.48ｇを入れた。温度を35℃に上げ、窒素ブラン
ケットを適用した。同様に、スチレン71.2ｇおよびブロ
モトリクロロメタン 3ｇの混合物（供給１）並びにN-メ
チロールアクリルアミドの溶液（蒸留水中に10％溶液
3.8ｇ）（供給２）を、供給１および２の添加が 1.5時
間を越えて同時に完了するような速度で添加した。得ら
れたラテックスは微粒子サイズのものであり、固形分含
有率が20％であった。
出口および２つのモノマー供給管を備えた 500ｍｌの縁
付フラスコに、蒸留水 250ｍｌ、ラウリルスルホン酸ナ
トリウム 1.5ｇ、アスコルビン酸 0.9ｇおよび過硫酸カ
リウム1.48ｇを入れた。温度を35℃に上げ、窒素ブラン
ケットを適用した。同様に、スチレン71.2ｇおよびブロ
モトリクロロメタン 3ｇの混合物（供給１）並びにN-メ
チロールアクリルアミドの溶液（蒸留水中に10％溶液
3.8ｇ）（供給２）を、供給１および２の添加が 1.5時
間を越えて同時に完了するような速度で添加した。得ら
れたラテックスは微粒子サイズのものであり、固形分含
有率が20％であった。
【００３６】得られたラテックスを同量の例１で調製さ
れたラテックスに配合し、架橋系を得た。被覆溶液50ｇ
を、 上記ラテックス配合物12ｇ； 16.4％固形分マイクロリスブラックＣＷＡ分散体9.75
ｇ； 蒸留水 13.25ｇ；および イソプロピルアルコール15ｇ； から調製し、表面が粒状で電解を施したアルミニウム基
体上に、被覆重量 0.9ｇｍ-2となるように塗布した。こ
のプレートを露光し、現像して例１と同様にベークし
た。
れたラテックスに配合し、架橋系を得た。被覆溶液50ｇ
を、 上記ラテックス配合物12ｇ； 16.4％固形分マイクロリスブラックＣＷＡ分散体9.75
ｇ； 蒸留水 13.25ｇ；および イソプロピルアルコール15ｇ； から調製し、表面が粒状で電解を施したアルミニウム基
体上に、被覆重量 0.9ｇｍ-2となるように塗布した。こ
のプレートを露光し、現像して例１と同様にベークし
た。
【００３７】例 ６ 例１と同様に装備した 500ｍｌフラスコ内に、カルボセ
ットＸＬ37［CarbosetXL37 ］（アルカリ可溶性カルボ
キル化アクリル酸、B.F.Goodrichより入手、35％固形分
分散体）43ｍｌを入れた。蒸留水 200ｍｌおよび25％Ｎ
Ｈ3 10ｍｌを加え、この混合物を透明になるまで撹拌し
た。アスコルビン酸 0.9ｇおよび過硫酸カリウム1.48ｇ
を加えた。
ットＸＬ37［CarbosetXL37 ］（アルカリ可溶性カルボ
キル化アクリル酸、B.F.Goodrichより入手、35％固形分
分散体）43ｍｌを入れた。蒸留水 200ｍｌおよび25％Ｎ
Ｈ3 10ｍｌを加え、この混合物を透明になるまで撹拌し
た。アスコルビン酸 0.9ｇおよび過硫酸カリウム1.48ｇ
を加えた。
【００３８】スチレン（ 71.21ｇ）、グリシジルメタク
リレート（ 3.744ｇ）およびブロモトリクロロメタン
（ 3ｇ）を添加し、窒素雰囲気下で温度を35℃に上げ
た。温度を 7時間35℃に維持した。低モノマー含有率の
微粒子サイズラテックスが得られた。固形分含有率は25
％ w／w であった。
リレート（ 3.744ｇ）およびブロモトリクロロメタン
（ 3ｇ）を添加し、窒素雰囲気下で温度を35℃に上げ
た。温度を 7時間35℃に維持した。低モノマー含有率の
微粒子サイズラテックスが得られた。固形分含有率は25
％ w／w であった。
【００３９】上記分散体21.6ｇを16.4％マイクロリスブ
ラックＣＷＡ分散体 21.95ｇと混合することにより、 9
％固形分分散体を調製した。この混合物にＨ2 Ｏ6.45ｇ
およびＩＰＡ50ｇを添加し、次いでそれを表面が粒状で
電解を施したアルミニウム基体に、被覆重量が 0.9ｇｍ
-2となるように塗布した。この場合、成分（Ａ）はスチ
レン／グリシジルメタクリレートコポリマーであり、成
分（Ｂ）はシェル材として成分（Ａ）と会合するカルボ
キシル化アクリル酸、およびカーボンブラック色素と会
合するアルカリ可溶性結合剤の組み合わせである。この
プレートを例１と同様に露光し、 200℃で 2分間ベーク
した後、巻取紙オフセット印刷機上で 100,000刷りより
多くの刷りが得られる優れた画像を得た。このプレート
は保存に対しても安定であり、何か月も経過した後であ
ってもベーキングレスポンスは減少しなかった。
ラックＣＷＡ分散体 21.95ｇと混合することにより、 9
％固形分分散体を調製した。この混合物にＨ2 Ｏ6.45ｇ
およびＩＰＡ50ｇを添加し、次いでそれを表面が粒状で
電解を施したアルミニウム基体に、被覆重量が 0.9ｇｍ
-2となるように塗布した。この場合、成分（Ａ）はスチ
レン／グリシジルメタクリレートコポリマーであり、成
分（Ｂ）はシェル材として成分（Ａ）と会合するカルボ
キシル化アクリル酸、およびカーボンブラック色素と会
合するアルカリ可溶性結合剤の組み合わせである。この
プレートを例１と同様に露光し、 200℃で 2分間ベーク
した後、巻取紙オフセット印刷機上で 100,000刷りより
多くの刷りが得られる優れた画像を得た。このプレート
は保存に対しても安定であり、何か月も経過した後であ
ってもベーキングレスポンスは減少しなかった。
【００４０】例 ７ 撹拌器、コンデンサー、温度計およびＮ2 導入口／排出
口を備えた 2Ｌフラスコ内に蒸留水 414ｍｌを入れた。
この撹拌した水に、85.8ｍｌのカルボセットＸＬ37を添
加した。次いで、25％アンモニア水［aqueous ammonia
］16ｍｌを添加した。清澄な溶液が得られたときに、
スチレン 150ｇを添加し、次いで蒸留水10ｍｌ中の過硫
酸アンモニウム 1.5ｇを添加した。この混合物を激しく
撹拌しながら65℃に 4時間維持し、粒子サイズが 0.5ミ
クロン未満で残留モノマー含有率が0.05％ w／w である
固形分含有率25％ w／w の最終生成物を得た。この最終
生成物は、ポリスチレンのコアとカルボキシル化アクリ
ルコポリマーのシェルとを有する粒子からなるコア- シ
ェル分散体であった。
口を備えた 2Ｌフラスコ内に蒸留水 414ｍｌを入れた。
この撹拌した水に、85.8ｍｌのカルボセットＸＬ37を添
加した。次いで、25％アンモニア水［aqueous ammonia
］16ｍｌを添加した。清澄な溶液が得られたときに、
スチレン 150ｇを添加し、次いで蒸留水10ｍｌ中の過硫
酸アンモニウム 1.5ｇを添加した。この混合物を激しく
撹拌しながら65℃に 4時間維持し、粒子サイズが 0.5ミ
クロン未満で残留モノマー含有率が0.05％ w／w である
固形分含有率25％ w／w の最終生成物を得た。この最終
生成物は、ポリスチレンのコアとカルボキシル化アクリ
ルコポリマーのシェルとを有する粒子からなるコア- シ
ェル分散体であった。
【００４１】コア- シェル分散体12ｇを、16.4％ w／w
マイクロリスブラックＣＷＡ分散体、サイメル 300［Cy
mel 300 ］（Cyanamid製ヘキサメトキシメチルメラミ
ン） 0.1ｇ、蒸留水2.25ｇおよびＩＰＡ25ｇと混合し
た。この材料を、表面が粒状で電解を施したアルミニウ
ム基体上に被覆して 0.9ｇｍ-2の層を得た。この場合、
成分（Ａ）はポリスチレンであり、成分（Ｂ）はシェル
材として成分（Ａ）と会合するカルボキシル化アクリル
樹脂、カーボンブラック色素と会合する結合剤およびヘ
キサメトキシメチルメラミン架橋剤の組み合わせであ
る。このプレートを例１と同様に露光してモノエタノー
ルアミン（エレクトロソル85［Electrosol 85］、DuPon
t-Howson 製）の水溶液で被覆除去し、 200℃で 2分間
ベークした。例外的な溶媒耐性を示す、非常に品質が良
好な画像が得られた。
マイクロリスブラックＣＷＡ分散体、サイメル 300［Cy
mel 300 ］（Cyanamid製ヘキサメトキシメチルメラミ
ン） 0.1ｇ、蒸留水2.25ｇおよびＩＰＡ25ｇと混合し
た。この材料を、表面が粒状で電解を施したアルミニウ
ム基体上に被覆して 0.9ｇｍ-2の層を得た。この場合、
成分（Ａ）はポリスチレンであり、成分（Ｂ）はシェル
材として成分（Ａ）と会合するカルボキシル化アクリル
樹脂、カーボンブラック色素と会合する結合剤およびヘ
キサメトキシメチルメラミン架橋剤の組み合わせであ
る。このプレートを例１と同様に露光してモノエタノー
ルアミン（エレクトロソル85［Electrosol 85］、DuPon
t-Howson 製）の水溶液で被覆除去し、 200℃で 2分間
ベークした。例外的な溶媒耐性を示す、非常に品質が良
好な画像が得られた。
【００４２】例 ８ 例１と同様の装備の 2Ｌフラスコ内に蒸留水 414ｃｍ3
を入れた。
を入れた。
【００４３】撹拌した水に、85.8ｃｍ3 のカルボセット
ＸＬ37および16ｃｍ3 の25％アンモニア水を添加した。
透明な溶液が得られたときに、スチレン 130ｇ、サイリ
ンクＩＢＭＡモノマー［Cylink IBMA Monomer ］（N-
（イソブトキシメチル）アクリルアミド- American Cya
namid Company, Wayne, New Jerseyより供与）20ｇおよ
びブロモトリクロロメタン 6ｇを混合物として添加し
た。水10ｃｍ3 中 1.5ｇの過硫酸アンモニウムを添加
し、この混合物を窒素雰囲気下において65℃で 6時間撹
拌した。
ＸＬ37および16ｃｍ3 の25％アンモニア水を添加した。
透明な溶液が得られたときに、スチレン 130ｇ、サイリ
ンクＩＢＭＡモノマー［Cylink IBMA Monomer ］（N-
（イソブトキシメチル）アクリルアミド- American Cya
namid Company, Wayne, New Jerseyより供与）20ｇおよ
びブロモトリクロロメタン 6ｇを混合物として添加し
た。水10ｃｍ3 中 1.5ｇの過硫酸アンモニウムを添加
し、この混合物を窒素雰囲気下において65℃で 6時間撹
拌した。
【００４４】被覆溶液50ｇを、 上記分散体11ｇ； 16.4％ w／w マイクロリスブラックＣＷＡ11ｇ； 蒸留水15.5ｇ；および ＩＰＡ12.5ｇ を添加することにより調製し、表面が粒状で電解を施し
たアルミニウム基体に、0.9ｇｍ-2の被覆重量が得られ
るように塗布した。この例においては、成分（Ａ）はス
チレンおよびN-（イソブトキシメチル）アクリルアミド
のコポリマーであり、成分（Ｂ）はシェル材として成分
（Ａ）と会合するカルボキシル化アクリル樹脂およびカ
ーボンブラック色素と会合する結合剤の組み合わせであ
る。このプレートを例１と同様に露光し、ナトリウムメ
タシリケート系現像剤で被覆除去して優れた品質の画像
を得た。この材料を 200℃で 2分間ベークした後には、
溶媒耐性画像が固化し、巻取紙オフセット印刷機上で用
いた際の優れた耐久性が得られた。
たアルミニウム基体に、0.9ｇｍ-2の被覆重量が得られ
るように塗布した。この例においては、成分（Ａ）はス
チレンおよびN-（イソブトキシメチル）アクリルアミド
のコポリマーであり、成分（Ｂ）はシェル材として成分
（Ａ）と会合するカルボキシル化アクリル樹脂およびカ
ーボンブラック色素と会合する結合剤の組み合わせであ
る。このプレートを例１と同様に露光し、ナトリウムメ
タシリケート系現像剤で被覆除去して優れた品質の画像
を得た。この材料を 200℃で 2分間ベークした後には、
溶媒耐性画像が固化し、巻取紙オフセット印刷機上で用
いた際の優れた耐久性が得られた。
【００４５】このプレートは保存安定性を有し、画像形
成および被覆除去したプレートのベーキングレスポンス
は長期間の保存の後でも大きく減少することはなかっ
た。
成および被覆除去したプレートのベーキングレスポンス
は長期間の保存の後でも大きく減少することはなかっ
た。
【００４６】例 ９ モノマー混合物をサイリンクＩＢＭＡ 7.5ｇおよびスチ
レン67.5ｇとして例１を繰り返した。したがって、この
場合、成分（Ａ）はスチレンおよびN-（イソブトキシメ
チル）アクリルアミドのコポリマーであり、成分（Ｂ）
はカーボンブラック色素と会合するアルカリ可溶性結合
剤である。優れた結果が得られた。
レン67.5ｇとして例１を繰り返した。したがって、この
場合、成分（Ａ）はスチレンおよびN-（イソブトキシメ
チル）アクリルアミドのコポリマーであり、成分（Ｂ）
はカーボンブラック色素と会合するアルカリ可溶性結合
剤である。優れた結果が得られた。
【００４７】例 １０ バイソマーＳＥＭ［Bisomer SEM ］（International Sp
eciality Chemicals製アンモニウムスルホトエチルメタ
クリレート） 3ｇを添加したことを除いて例１を繰り返
した。したがって、成分（Ａ）および（Ｂ）は例１と同
じであるが、この反応性共重合性界面活性剤を組み込む
ことにより、特にアルコール添加物および被覆補助剤に
対するラテックスのコロイド安定性が改善された。
eciality Chemicals製アンモニウムスルホトエチルメタ
クリレート） 3ｇを添加したことを除いて例１を繰り返
した。したがって、成分（Ａ）および（Ｂ）は例１と同
じであるが、この反応性共重合性界面活性剤を組み込む
ことにより、特にアルコール添加物および被覆補助剤に
対するラテックスのコロイド安定性が改善された。
【００４８】例 １１ 無水のトルエン中でメチルエチルケトンオキシムとイソ
シアネートエチルメタクリレートとを反応させることに
よりブロックドイソシアネートを調製した。
シアネートエチルメタクリレートとを反応させることに
よりブロックドイソシアネートを調製した。
【００４９】例１と同じ条件下において精製付加物10ｇ
をスチレン65ｇと共重合させた。
をスチレン65ｇと共重合させた。
【００５０】ポリマーの20％固形分分散体が得られた。
【００５１】下記物質を 4時間ボールミルにかけること
により、色素分散体を調製した。
により、色素分散体を調製した。
【００５２】 アクリルソルＩ-62 ［Acrylsol I-62 ］ （水性コロイド分散体としてのヒドロキシおよび カルボキシ官能アクリル樹脂、固形分50％、 Rohm and Haas, Philadelphia より入手） 40ｇ ＦＷ2 カーボンブラック（Degussa ） 20ｇ トリエチルアミン 4ｇ 蒸留水 250ｇ 被覆溶液を、 上で調製したラテックス13.5ｇ； 上で調製した色素分散体14ｇ； 蒸留水10ｇ；および ＩＰＡ12.5ｇ からなる分散体から調製した。
【００５３】これを、表面が粒状で電解を施した基体上
に、 0.9ｇｍ-2の被覆重量が得られるように塗布した。
この例においては、成分（Ａ）はスチレンとメチルエチ
ルケトンオキシム／イソシアネートエチルメタクリレー
ト付加物とのコポリマーであり、成分（Ｂ）はヒドロキ
シおよびカルボキシ官能アクリル樹脂である。
に、 0.9ｇｍ-2の被覆重量が得られるように塗布した。
この例においては、成分（Ａ）はスチレンとメチルエチ
ルケトンオキシム／イソシアネートエチルメタクリレー
ト付加物とのコポリマーであり、成分（Ｂ）はヒドロキ
シおよびカルボキシ官能アクリル樹脂である。
【００５４】例１と同様に露光した後、優れた画像を得
た。この画像は、 200℃で 2分間ベークした後には、高
い溶媒耐性を示した。
た。この画像は、 200℃で 2分間ベークした後には、高
い溶媒耐性を示した。
【００５５】例 １２−２１ マイクロリスブラックＣＷＡの代わりに等量のアクリル
ソルＩ-62 安定化カーボンブラックを用いる（これは当
然の結果として成分（Ｂ）の組成に影響を及ぼす）こと
を除いて例１−１０を繰り返した。優れた結果が得られ
た。
ソルＩ-62 安定化カーボンブラックを用いる（これは当
然の結果として成分（Ｂ）の組成に影響を及ぼす）こと
を除いて例１−１０を繰り返した。優れた結果が得られ
た。
【００５６】例 ２２−２５ スチレンの半分をメチルメタクリレートに置き換えたこ
とを除いて例１−４を繰り返した。これは、成分（Ａ）
としてスチレン／メチルメタクリレート／グリシジルメ
タクリレートコポリマーを生成する。良好な結果が得ら
れた。
とを除いて例１−４を繰り返した。これは、成分（Ａ）
としてスチレン／メチルメタクリレート／グリシジルメ
タクリレートコポリマーを生成する。良好な結果が得ら
れた。
【００５７】例 ２６−２９ スチレンの半分をアクリロニトリルおよびメチルメタク
リレートの 1：1 混合物に置き換えたことを除いて例１
−４を繰り返した。これは、成分（Ａ）としてスチレン
／アクリロニトリルメチルメタクリレート／グリシジル
メタクリレートコポリマーを生成する。
リレートの 1：1 混合物に置き換えたことを除いて例１
−４を繰り返した。これは、成分（Ａ）としてスチレン
／アクリロニトリルメチルメタクリレート／グリシジル
メタクリレートコポリマーを生成する。
【００５８】例 ３０−３３ スチレンの半分をメチルメタクリレートおよびブチルメ
タクリレートの 1：1混合物に置き換えたことを除いて
例１−４を繰り返した。これは、成分（Ａ）としてスチ
レン／メチルメタクリレート／ブチルメタクリレート／
グリシジルメタクリレートコポリマーを生成する。
タクリレートの 1：1混合物に置き換えたことを除いて
例１−４を繰り返した。これは、成分（Ａ）としてスチ
レン／メチルメタクリレート／ブチルメタクリレート／
グリシジルメタクリレートコポリマーを生成する。
【００５９】例 ３４ ＳＱＳ（スクアリリウム染料）のＩＰＡ溶液を例６のコ
ア・シェルラテックスと共に用いた。良好な結果が得ら
れた。ＳＱＳはＩＲ吸収成分として作用し、米国特許第
4,508,811号に記載される通りに調製した。
ア・シェルラテックスと共に用いた。良好な結果が得ら
れた。ＳＱＳはＩＲ吸収成分として作用し、米国特許第
4,508,811号に記載される通りに調製した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ 7124−2Ｈ (72)発明者 アレン・ピーター・ゲーツ イギリス国、エイチジー５・８エイチユ ー、ノース・ヨークシャー、ナーレスボー ロー、ファンテンズ・ウエイ 13 (72)発明者 アンドリュー・アーネスト・マッシューズ ニュージーランド国、ハミルトン、ファタ ファタ（番地無し）、ポスト・オフィス気 付 (72)発明者 ジャセック・ポール・オブチョウィクツ イギリス国、ダブリュエフ14・９ジェイエ ックス、ウエスト・ヨークシャー、マーフ ィールド、ビーチウッド・ロード ４
Claims (14)
- 【請求項１】(a) (i) (1) 水不溶性熱軟化性成分（Ａ）
を含む分散相および (2)水性、好ましくは水性アルカリ
性媒体に可溶もしくは膨潤可能な成分（Ｂ）からなる結
合剤または連続相を含む層であって、成分（Ａ）および
（Ｂ）の少なくとも１種は、該層の不溶化が昇温および
／または化学放射線への暴露によって起こるように反応
基もしくはそれらの前駆体を含む層、および(ii)放射線
を強く吸収し、それにより得られたエネルギーを、少な
くとも部分的な被覆の融合が起こるように、熱として前
記分散相に移送することが可能な物質、で被覆された基
体を包含する放射線感応性プレートを提供し、 (b) 被覆の連続領域に放射線を向け、被覆中の粒子が選
択的かつ少なくとも部分的に融合するように放射線を調
節することによって、前記放射線感応性プレートを高強
度放射線ビームで画像通りに露光し、 (c) 画像様露光プレートを水性媒体で現像して、非融合
粒子を含む領域を選択的に除去し、かつ粒子が少なくと
も部分的に融合した結果形成される画像を基体上に残
し、 (d) 現像したプレートを加熱し、および／または化学放
射線に晒して不溶化させる、ことを包含する画像形成方
法。 - 【請求項２】成分（Ａ）および（Ｂ）がコア−シェル・
システムを形成する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】成分（Ａ）が１種以上の親油性ポリマーも
しくはオリゴマーを包含し、かつその少なくとも１種が
反応基もしくはその前駆体を有する請求項１または２の
いずれか１項に記載の方法。 - 【請求項４】成分（Ａ）が１種以上のさらなるコポリマ
ーを包含し、該コポリマーが、 (i) スチレン、置換スチレン類、（メタ）アクリル酸の
エステル類、ハロゲン化ビニル類、（メタ）アクリロニ
トリル、ビニルエステル類；および(ii)グリシジル（メ
タ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル、アリル
（メタ）アクリレート、クロロメチルスチレン、イソシ
アネートおよびブロックドイソシアネート官能物質、ア
ミノ官能モノマー類、メタクリルアミドグリコラートメ
チルエーテル、N-メチロールアクリルアミドおよびその
誘導体、の各々から選択される１種以上のモノマーから
誘導される残基を含む請求項３記載の方法。 - 【請求項５】成分（Ａ）が、エポキシもしくはポリエー
テル樹脂、またはポリエステルもしくはポリウレタン樹
脂の誘導体を含む請求項３記載の方法。 - 【請求項６】成分（Ｂ）が、水性溶液中における溶解性
もしくは膨潤性を付与することが可能な基を有するポリ
マーを包含する請求項１ないし５のいずれか１項に記載
の方法。 - 【請求項７】成分（Ｂ）が、カルボン酸またはスルホン
アミド基を包含する請求項６記載の方法。 - 【請求項８】成分（Ｂ）が、エチレン性不飽和カルボン
酸類の１種以上と、スチレン、置換スチレン類、（メ
タ）アクリレートエステル類、（メタ）アクリロニトリ
ルもしくは酢酸ビニルの１種以上との共重合により誘導
されるコポリマーを含む請求項７記載の方法。 - 【請求項９】成分（Ｂ）が、ヒドロキシル基含有ポリマ
ーのジカルボン酸半エステルを含む請求項７記載の方
法。 - 【請求項１０】成分（Ｂ）が、ポリビニルアセタールの
フタル酸、コハク酸もしくはマレイン酸半エステルを含
む請求項７記載の方法。 - 【請求項１１】ポリビニルアセタールがポリビニルブチ
ラールである請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】成分（Ｂ）が、スチレンもしくはアルキ
ルビニルエーテル − 無水マレイン酸コポリマーのア
ルキルもしくはアラルキル半エステルを含む請求項７記
載の方法。 - 【請求項１３】成分（Ｂ）の成分（Ａ）に対する重量比
が、１：２０ないし２０：１の範囲内にある請求項１な
いし１２のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１４】放射線吸収物質が、カーボンブラック、
グラファイトまたはフタロシアニン、クロコニウムもし
くはスクアリリウム型染料を包含する請求項１ないし１
３のいずれか１項に記載の方法。
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