JPH0718172A - ポリアリーレンエーテルをベースとする成形材料 - Google Patents
ポリアリーレンエーテルをベースとする成形材料Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L81/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of polysulfones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L81/06—Polysulfones; Polyethersulfones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L35/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L35/06—Copolymers with vinyl aromatic monomers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリアリーレンエーテルをベースとする新規
成形材料を提供する。 【構成】 該成形材料は、A)ポリアリーレンエーテル
1〜99重量%、B)コポリマー1〜99重量%、C)
繊維状又は粒子状の充填剤0〜60重量%、D)耐衝撃
性変性ゴム0〜45重量%、及びE)防炎剤、顔料及び
安定剤0〜40重量%からなる。
成形材料を提供する。 【構成】 該成形材料は、A)ポリアリーレンエーテル
1〜99重量%、B)コポリマー1〜99重量%、C)
繊維状又は粒子状の充填剤0〜60重量%、D)耐衝撃
性変性ゴム0〜45重量%、及びE)防炎剤、顔料及び
安定剤0〜40重量%からなる。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、 A)ポリアリーレンエーテル 1〜99重量% B)b1)芳香族系ビニル化合物、 b2)環式α,β−不飽和ジカルボン酸無水物、及び b3)環式α,β−不飽和ジカルボン酸イミドから誘導される単位を含有 するコポリマー 1〜99重量%、及び C)炭素、ガス、石英、アラミド、アルカリ金属−、アルカリ土類金属炭酸塩 、アルカリ金属−、アルカリ土類金属ケイ酸塩の群から選択される繊維状又は粒 子状の充填剤 0〜60重量%、 D)耐衝撃性変性ゴム 0〜45重量%、及び E)防炎剤、顔料及び安定剤 0〜40重量% からなる成形材料に関する。
【0002】更に、本発明は、該成形材料の使用に関す
る。
る。
【0003】
【従来の技術】スチレン、無水マレイン酸及びN−フェ
ニルマレイン酸イミドからなるコポリマーを含有してい
てよい高温安定性の熱可塑性磁石は、特開昭62−08
4502号公報から公知である。
ニルマレイン酸イミドからなるコポリマーを含有してい
てよい高温安定性の熱可塑性磁石は、特開昭62−08
4502号公報から公知である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の解決する課題
は、良好な加工性及び均衡のとれた特性スペクトルの他
に、特に、ポリアリーレンエーテル自体が、水又は水蒸
気を用いた比較的長時間の処理において従来のポリアリ
ーレンエーテルより少ない水を吸収することにより優れ
たポリアリーレンエーテルをベースとする成形材料を提
供することであった。
は、良好な加工性及び均衡のとれた特性スペクトルの他
に、特に、ポリアリーレンエーテル自体が、水又は水蒸
気を用いた比較的長時間の処理において従来のポリアリ
ーレンエーテルより少ない水を吸収することにより優れ
たポリアリーレンエーテルをベースとする成形材料を提
供することであった。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題は、冒頭に定義
した成形材料により解決される。
した成形材料により解決される。
【0006】成分A 成分Aとして、本発明による成形材料はポリアリーレン
エーテル1〜99、有利には5〜95重量%を含有す
る。しかしながら、該成形材料は大抵ポリアリーレンエ
ーテル10重量%以上、例えば15重量%以上含有す
る。一般的にポリアリーレンエーテルは、成形材料中9
0重量%以下で含有される。成形材料における成分Aの
割合は、20〜80重量%であるのが有利である。
エーテル1〜99、有利には5〜95重量%を含有す
る。しかしながら、該成形材料は大抵ポリアリーレンエ
ーテル10重量%以上、例えば15重量%以上含有す
る。一般的にポリアリーレンエーテルは、成形材料中9
0重量%以下で含有される。成形材料における成分Aの
割合は、20〜80重量%であるのが有利である。
【0007】ポリアリーレンエーテルAは、非置換及び
置換されたアリーレン基を有していてよい。有利にはポ
リアリーレンエーテルAは、反復する単位I:
置換されたアリーレン基を有していてよい。有利にはポ
リアリーレンエーテルAは、反復する単位I:
【0008】
【化1】
【0009】を含有する。
【0010】しかしながら、本発明による成形材料は、
種々のポリアリーレンエーテルAの混合物を含有してい
てもよい。
種々のポリアリーレンエーテルAの混合物を含有してい
てもよい。
【0011】その際、t及びqはそれぞれ0、1、2又
は3の値であってよい。T、Q及びZは、互いに無関係
に同じか又は異なっていてよい。これらは化学結合又は
−O−、−SO2−、−S−、C=O、−N=N−及び
S=Oから選択される基であってよい。更に、T、Q及
びZは、一般式:−RaC=CRb−又は−CRcRd−の
基を表す、その際、Ra及びRbは、それぞれ水素原子又
はC1〜C10−アルキル基、Rc及びRdは、それぞれ水
素原子、C1〜C10−アルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、t−ブチル、n−ヘ
キシル、C1〜C10−アルコキシ基、例えばメトキシ、
エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−ブト
キシ又はC6〜C18−アリール基、例えばフェニル又は
ナフチルを表す。しかしながら、Rc及びRdは脂環式の
環に結合していてもよい。4〜7個の炭素原子を有する
脂環式の環が有利である。その際、−CRcRd−は、有
利にはシクロペンチル−又はシクロヘキシル環を表す。
脂環式の環は、1個以上のアルキル基、有利にはメチル
基で置換されていてよい。T、Q及びZが、−O−、−
SO2−、C=O、化学結合又は式:−CRcRd−の基
を表すポリアリーレンエーテルAが有利である。Rc及
びRdの有利な基はとしては、水素原子及びメチル基が
挙げられる。T、Q及びZの基は、1個以上の−SO2
−又はC=Oを表す。Ar及びAr1は、C6〜C18−ア
リール基、例えば1,5−ナフチル、1,6−ナフチ
ル、2,7−ナフチル、1,5−アントリル、9,10
−アントリル、2,6−アントリル、2,7−アントリ
ル又はビフェニル、特にフェニルを表す。これらのアリ
ール基は非置換であるのが有利である。しかしながら、
該基はC1〜C10−アルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、t−ブチル、n−ヘ
キシル、C6〜C18−アリール基、例えばフェニル又は
ナフチル、C1〜C10−アルコキシ基、例えばメトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−
ブトキシ及びハロゲン原子から選択される置換基を有し
ていてよい。これらのうち有利な置換基は、メチル、フ
ェニル、メトキシ及び塩素原子である。
は3の値であってよい。T、Q及びZは、互いに無関係
に同じか又は異なっていてよい。これらは化学結合又は
−O−、−SO2−、−S−、C=O、−N=N−及び
S=Oから選択される基であってよい。更に、T、Q及
びZは、一般式:−RaC=CRb−又は−CRcRd−の
基を表す、その際、Ra及びRbは、それぞれ水素原子又
はC1〜C10−アルキル基、Rc及びRdは、それぞれ水
素原子、C1〜C10−アルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、t−ブチル、n−ヘ
キシル、C1〜C10−アルコキシ基、例えばメトキシ、
エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−ブト
キシ又はC6〜C18−アリール基、例えばフェニル又は
ナフチルを表す。しかしながら、Rc及びRdは脂環式の
環に結合していてもよい。4〜7個の炭素原子を有する
脂環式の環が有利である。その際、−CRcRd−は、有
利にはシクロペンチル−又はシクロヘキシル環を表す。
脂環式の環は、1個以上のアルキル基、有利にはメチル
基で置換されていてよい。T、Q及びZが、−O−、−
SO2−、C=O、化学結合又は式:−CRcRd−の基
を表すポリアリーレンエーテルAが有利である。Rc及
びRdの有利な基はとしては、水素原子及びメチル基が
挙げられる。T、Q及びZの基は、1個以上の−SO2
−又はC=Oを表す。Ar及びAr1は、C6〜C18−ア
リール基、例えば1,5−ナフチル、1,6−ナフチ
ル、2,7−ナフチル、1,5−アントリル、9,10
−アントリル、2,6−アントリル、2,7−アントリ
ル又はビフェニル、特にフェニルを表す。これらのアリ
ール基は非置換であるのが有利である。しかしながら、
該基はC1〜C10−アルキル基、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、t−ブチル、n−ヘ
キシル、C6〜C18−アリール基、例えばフェニル又は
ナフチル、C1〜C10−アルコキシ基、例えばメトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシ、n−
ブトキシ及びハロゲン原子から選択される置換基を有し
ていてよい。これらのうち有利な置換基は、メチル、フ
ェニル、メトキシ及び塩素原子である。
【0012】数種の適当な反復単位を以下に記載する。
【0013】
【化2】
【0014】
【化3】
【0015】
【化4】
【0016】成分Aとしては、反復する単位(I1)、
(I2)、(I25)又は(I26)を有するポリアリーレ
ンエーテルを含有する成形材料が特に有利である。該成
形材料としては、例えば成分Aとして、反復する単位
(I1)3〜97、有利には5〜95モル%及び反復す
る単位(I2)3〜97、有利には5〜95モル%を有
するポリアリーレンエーテルを含有する成形材料が挙げ
られる。
(I2)、(I25)又は(I26)を有するポリアリーレ
ンエーテルを含有する成形材料が特に有利である。該成
形材料としては、例えば成分Aとして、反復する単位
(I1)3〜97、有利には5〜95モル%及び反復す
る単位(I2)3〜97、有利には5〜95モル%を有
するポリアリーレンエーテルを含有する成形材料が挙げ
られる。
【0017】ポリアリーレンエーテルAは、ポリアリー
レンエーテルセグメント及び別の熱可塑性ポリマー、例
えばポリアミド、ポリエステル、芳香族系ポリカーボネ
ート、ポリエステルカーボネート、ポリシロキサン、ポ
リイミド又はポリエーテルイミドが存在するコポリマー
又はブロックコポリマーであってもよい。コポリマー中
のブロック−ないしはグラフト枝の分子量Mn(数平
均)は、一般的には1000〜30000g/モルの範
囲内にある。種々の構造のブロックは、交互に又は統計
的に配列されていてよい。コポリマー又はブロックコポ
リマー中のポリアリーレンエーテルの重量割合は、一般
的に10重量%以上である。ポリアリーレンエーテルの
該重量割合は、97重量%以下であってよい。90重量
%以下のポリアリーレンエーテルの重量割合を有するコ
ポリマー又はブロックコポリマーが有利である。ポリア
リーレンエーテル20〜80重量%を有するコポリマー
又はブロックコポリマーが特に有利である。
レンエーテルセグメント及び別の熱可塑性ポリマー、例
えばポリアミド、ポリエステル、芳香族系ポリカーボネ
ート、ポリエステルカーボネート、ポリシロキサン、ポ
リイミド又はポリエーテルイミドが存在するコポリマー
又はブロックコポリマーであってもよい。コポリマー中
のブロック−ないしはグラフト枝の分子量Mn(数平
均)は、一般的には1000〜30000g/モルの範
囲内にある。種々の構造のブロックは、交互に又は統計
的に配列されていてよい。コポリマー又はブロックコポ
リマー中のポリアリーレンエーテルの重量割合は、一般
的に10重量%以上である。ポリアリーレンエーテルの
該重量割合は、97重量%以下であってよい。90重量
%以下のポリアリーレンエーテルの重量割合を有するコ
ポリマー又はブロックコポリマーが有利である。ポリア
リーレンエーテル20〜80重量%を有するコポリマー
又はブロックコポリマーが特に有利である。
【0018】
【外1】
【0019】反復単位Iを有するポリアリーレンエーテ
ルは自体公知であり、公知方法で製造することができ
る。
ルは自体公知であり、公知方法で製造することができ
る。
【0020】該物質は、例えば芳香族系ビスハロゲン化
合物と芳香族系ビスフェノールのアルカリ金属複塩との
縮合により生じる。該物質は、例えば触媒の存在下での
芳香族系ハロゲン化フェノールのアルカリ金属塩の自己
縮合によっても得られる。ドイツ国特許出願公開第38
43438号明細書から、例えば適当なモノマーの詳細
な組成を推論することができる。適した方法は、特に米
国特許第3441538号、同第4108837号明細
書、ドイツ国特許出願公開第2738962号明細書及
びヨーロッパ特許出願公開第361号明細書に記載され
ている。カルボニル官能基を含有するポリアリーレンエ
ーテルは、例えば、特に国際公開WO84−03892
明細書に記載されているように求電子性(フリーデル・
クラフツ)重縮合によっても得られる。該求電子性重縮
合では、カルボニル基のブリッジを形成するために、ジ
カルボン酸クロリド又はホスゲンを求電子置換基と交換
可能な2個の水素原子を含有する芳香族化合物と反応さ
せるか、又は酸塩化物の基と同様に置換可能な水素原子
を含有する芳香族系カルボン酸クロリドを自体重縮合さ
せる。
合物と芳香族系ビスフェノールのアルカリ金属複塩との
縮合により生じる。該物質は、例えば触媒の存在下での
芳香族系ハロゲン化フェノールのアルカリ金属塩の自己
縮合によっても得られる。ドイツ国特許出願公開第38
43438号明細書から、例えば適当なモノマーの詳細
な組成を推論することができる。適した方法は、特に米
国特許第3441538号、同第4108837号明細
書、ドイツ国特許出願公開第2738962号明細書及
びヨーロッパ特許出願公開第361号明細書に記載され
ている。カルボニル官能基を含有するポリアリーレンエ
ーテルは、例えば、特に国際公開WO84−03892
明細書に記載されているように求電子性(フリーデル・
クラフツ)重縮合によっても得られる。該求電子性重縮
合では、カルボニル基のブリッジを形成するために、ジ
カルボン酸クロリド又はホスゲンを求電子置換基と交換
可能な2個の水素原子を含有する芳香族化合物と反応さ
せるか、又は酸塩化物の基と同様に置換可能な水素原子
を含有する芳香族系カルボン酸クロリドを自体重縮合さ
せる。
【0021】ポリアリーレンエーテルを合成するための
有利な処理条件は、例えばヨーロッパ特許出願公開第1
13112号及び同第135130号明細書に記載され
ている。脂肪族系溶剤、特にN−メチルピロリドン中
で、水不含のアルカリ金属炭酸塩、特に炭酸カリウムの
存在下でモノマーを反応させるのが特に適している。モ
ノマーを溶融物中で反応させることは、多くの場合に同
様に有利であることが判明した。
有利な処理条件は、例えばヨーロッパ特許出願公開第1
13112号及び同第135130号明細書に記載され
ている。脂肪族系溶剤、特にN−メチルピロリドン中
で、水不含のアルカリ金属炭酸塩、特に炭酸カリウムの
存在下でモノマーを反応させるのが特に適している。モ
ノマーを溶融物中で反応させることは、多くの場合に同
様に有利であることが判明した。
【0022】選択した合成条件により、ポリアリーレン
エーテルは種々の末端基を有していてよい。該末端基
は、コポリマーBとは異なり不活性状態にあるもの、及
びコポリマーBの官能基、特に無水物基と反応すること
ができるものである。不活性末端基としては、ハロゲン
原子、特に塩素原子、アルコキシ基、特にメトキシ基又
はエトキシ基、アリールオキシ基、有利にはフェノキシ
基又はベンジルオキシ基が挙げられる。反応性末端基の
例としては、ヒドロキシ基、アミノ基又はエポキシ基が
挙げられる。
エーテルは種々の末端基を有していてよい。該末端基
は、コポリマーBとは異なり不活性状態にあるもの、及
びコポリマーBの官能基、特に無水物基と反応すること
ができるものである。不活性末端基としては、ハロゲン
原子、特に塩素原子、アルコキシ基、特にメトキシ基又
はエトキシ基、アリールオキシ基、有利にはフェノキシ
基又はベンジルオキシ基が挙げられる。反応性末端基の
例としては、ヒドロキシ基、アミノ基又はエポキシ基が
挙げられる。
【0023】ヒドロキシ基を末端に有するポリアリーレ
ンエーテルの合成は、例えばジヒドロキシモノマーとジ
ハロゲンモノマーの化学量論的比を適当に選択すること
により可能である(例えば、H.-G.Elias,“Makromoleku
ele”第4版、 Huethig&Wepf出版、 Basel 1981, p.491
参照)。エポキシ末端基を有するポリアリーレンエー
テルは、例えばヒドロキシ末端基を有するポリアリーレ
ンエーテルから出発して、エピクロルヒドリンと反応さ
せることにより得られる(米国特許第4448948号
明細書)。アミノ末端基を含有するポリアリーレンエー
テルの製造は、例えば J.E. McGrath 等による、 Polym
er 30, 1552(1989)に記載されているように、例えば
重縮合の際にp−アミノフェノールを使用することによ
り行うことができる。
ンエーテルの合成は、例えばジヒドロキシモノマーとジ
ハロゲンモノマーの化学量論的比を適当に選択すること
により可能である(例えば、H.-G.Elias,“Makromoleku
ele”第4版、 Huethig&Wepf出版、 Basel 1981, p.491
参照)。エポキシ末端基を有するポリアリーレンエー
テルは、例えばヒドロキシ末端基を有するポリアリーレ
ンエーテルから出発して、エピクロルヒドリンと反応さ
せることにより得られる(米国特許第4448948号
明細書)。アミノ末端基を含有するポリアリーレンエー
テルの製造は、例えば J.E. McGrath 等による、 Polym
er 30, 1552(1989)に記載されているように、例えば
重縮合の際にp−アミノフェノールを使用することによ
り行うことができる。
【0024】1実施態様によれば、本発明による成形材
料は、実質的に反応性末端基を有しないポリアリーレン
エテールAを含有する。別の実施態様によれば、本発明
による成形材料は、反応性末端基を有するポリアリーレ
ンエーテルと不活性末端基を有するポリアリーレンエー
テルとからなる混合物を含有する。この実施態様では、
ポリアリーレンエーテルAが平均して連鎖当たりほぼ1
個の反応性末端基及び1個の不活性末端基を含有する場
合に特に有利である。成分Aにおいて、連鎖当たり2個
の反応性末端基を有するポリアリーレンエーテルの割合
が高すぎる、例えば50重量%以上の場合には、成分B
との不溶性の反応生成物を生じかねない。
料は、実質的に反応性末端基を有しないポリアリーレン
エテールAを含有する。別の実施態様によれば、本発明
による成形材料は、反応性末端基を有するポリアリーレ
ンエーテルと不活性末端基を有するポリアリーレンエー
テルとからなる混合物を含有する。この実施態様では、
ポリアリーレンエーテルAが平均して連鎖当たりほぼ1
個の反応性末端基及び1個の不活性末端基を含有する場
合に特に有利である。成分Aにおいて、連鎖当たり2個
の反応性末端基を有するポリアリーレンエーテルの割合
が高すぎる、例えば50重量%以上の場合には、成分B
との不溶性の反応生成物を生じかねない。
【0025】成分B 成分Bとして、本発明による成形材料はコポリマー1〜
99、有利には5〜95重量%を含有する。しかしなが
ら、該成形材料は大抵該コポリマー90重量%又はそれ
以下を含有する。一般的に、10重量%又はそれ以上、
例えば15重量%又は以上を有するコポリマーが成形材
料中に含有される。成形材料中の成分Bの割合は、20
〜80重量%であるのが有利である。
99、有利には5〜95重量%を含有する。しかしなが
ら、該成形材料は大抵該コポリマー90重量%又はそれ
以下を含有する。一般的に、10重量%又はそれ以上、
例えば15重量%又は以上を有するコポリマーが成形材
料中に含有される。成形材料中の成分Bの割合は、20
〜80重量%であるのが有利である。
【0026】コポリマーBは、芳香族系ビニル化合物か
ら誘導される単位b1を含有する。単位b1の割合は、2
0〜90モル%、特に40〜80モル%が有利である。
コポリマーBが芳香族系ビニル化合物から誘導される単
位50〜75モル%を含有するのが特に有利である。
ら誘導される単位b1を含有する。単位b1の割合は、2
0〜90モル%、特に40〜80モル%が有利である。
コポリマーBが芳香族系ビニル化合物から誘導される単
位50〜75モル%を含有するのが特に有利である。
【0027】芳香族系ビニル化合物としては、特にスチ
レン及びスチレン誘導体が該当する。適当なスチレン誘
導体としては、α−メチルスチレン又は芳香核で置換さ
れたスチレン誘導体、例えばビニルトルエン、t−ブチ
ルスチレン又はクロルスチレンが挙げられる。自明のこ
とながら、種々の芳香族系ビニル化合物の混合物も使用
することができる。スチレンを使用するのが特に有利で
ある。
レン及びスチレン誘導体が該当する。適当なスチレン誘
導体としては、α−メチルスチレン又は芳香核で置換さ
れたスチレン誘導体、例えばビニルトルエン、t−ブチ
ルスチレン又はクロルスチレンが挙げられる。自明のこ
とながら、種々の芳香族系ビニル化合物の混合物も使用
することができる。スチレンを使用するのが特に有利で
ある。
【0028】単位b1の他に、コポリマーBは、環式
α,β−不飽和ジカルボン酸無水物b2から誘導される
単位を含有し、その割合は1〜50モル%が有利であ
る。実質的に単位b21モル%未満、例えば0.5モル
%未満を有するコポリマーBは、一般的に温度安定性が
不十分である。実質的に50モル%より多い単位b2を
有するコポリマーBは、大抵もはや良好に加工すること
はできない、それというのも該コポリマーは脆弱過ぎる
からである。
α,β−不飽和ジカルボン酸無水物b2から誘導される
単位を含有し、その割合は1〜50モル%が有利であ
る。実質的に単位b21モル%未満、例えば0.5モル
%未満を有するコポリマーBは、一般的に温度安定性が
不十分である。実質的に50モル%より多い単位b2を
有するコポリマーBは、大抵もはや良好に加工すること
はできない、それというのも該コポリマーは脆弱過ぎる
からである。
【0029】コポリマーBは、単位b21〜35モル
%、特に1〜25モル%を含有するのが有利である。
%、特に1〜25モル%を含有するのが有利である。
【0030】有利な環式α、β−不飽和ジカルボン酸無
水物としては、2〜20個の炭素原子を有するものが挙
げられる。該二重結合は環外であっても環内であっても
よい。該物質としては、無水マレイン酸、無水メチルマ
レイン酸又は無水イタコン酸が特に有利である。種々の
ジカルボン酸無水物の混合物も同様に使用することがで
きる。
水物としては、2〜20個の炭素原子を有するものが挙
げられる。該二重結合は環外であっても環内であっても
よい。該物質としては、無水マレイン酸、無水メチルマ
レイン酸又は無水イタコン酸が特に有利である。種々の
ジカルボン酸無水物の混合物も同様に使用することがで
きる。
【0031】更に、コポリマーBは、環式α,β−不飽
和ジカルボン酸イミドから誘導される単位b3を含有す
る。該単位は、一般的にコポリアミドB中に9〜50モ
ル%含有される。有利なコポリマーBは、b315〜5
0モル%、特に24〜49モル%を含有する。
和ジカルボン酸イミドから誘導される単位b3を含有す
る。該単位は、一般的にコポリアミドB中に9〜50モ
ル%含有される。有利なコポリマーBは、b315〜5
0モル%、特に24〜49モル%を含有する。
【0032】一般的に、環式α,β−不飽和ジカルボン
酸イミドは、上記のジカルボン酸無水物b2に相当す
る。窒素での置換基は、通常C1〜C20−アルキル基、
C4〜C20−シクロアルキル基、C1〜C10−アルキル
基、C6〜C18−アリール基又はC6〜C18−アリール基
である。
酸イミドは、上記のジカルボン酸無水物b2に相当す
る。窒素での置換基は、通常C1〜C20−アルキル基、
C4〜C20−シクロアルキル基、C1〜C10−アルキル
基、C6〜C18−アリール基又はC6〜C18−アリール基
である。
【0033】アルキル基は直鎖状であっても分枝鎖状で
あってもよく、酸素原子が間接的に窒素原子と、及び間
接的に別の酸素原子と結合した1個以上の酸素原子で中
断されていてよい。これらのアルキル基としては、メチ
ル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチ
ル、i−ブチル、t−ブチル、n−ヘキシル、n−デシ
ル及びn−ドデシルが挙げられる。シクロアルキル基
は、置換されていなくても置換されていてもよい。適当
な置換基は、例えばアルキル基、例えばメチル又はエチ
ルである。シクロアルキル基の例としては、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びp−メチルシ
クロヘキシルが挙げられる。アルキルアリール基のアル
キル基は、直鎖状であっても分枝鎖状であってもよく、
アルキルアリール基は置換基を有していてもよい。この
ような置換基の例は、アルキル基、例えばメチル又はエ
チルであるが、ハロゲン原子、例えば塩素原子又は臭素
原子であってもよい。アルキルアリール基としては、例
えばベンジル、エチルフェニル又はp−クロルベンジル
を使用することができる。同様に、アリール基は置換さ
れていても置換されていなくていもよい。その際、例え
ばアルキル基、例えばメチル又はエチル、又はハロゲン
原子、例えば塩素原子又は臭素原子が適した置換基であ
る。有利なアリール基としては、フェニル及びナフチル
が挙げられる。特に有利な基は、シクロヘキシル又はフ
ェニルである。
あってもよく、酸素原子が間接的に窒素原子と、及び間
接的に別の酸素原子と結合した1個以上の酸素原子で中
断されていてよい。これらのアルキル基としては、メチ
ル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチ
ル、i−ブチル、t−ブチル、n−ヘキシル、n−デシ
ル及びn−ドデシルが挙げられる。シクロアルキル基
は、置換されていなくても置換されていてもよい。適当
な置換基は、例えばアルキル基、例えばメチル又はエチ
ルである。シクロアルキル基の例としては、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びp−メチルシ
クロヘキシルが挙げられる。アルキルアリール基のアル
キル基は、直鎖状であっても分枝鎖状であってもよく、
アルキルアリール基は置換基を有していてもよい。この
ような置換基の例は、アルキル基、例えばメチル又はエ
チルであるが、ハロゲン原子、例えば塩素原子又は臭素
原子であってもよい。アルキルアリール基としては、例
えばベンジル、エチルフェニル又はp−クロルベンジル
を使用することができる。同様に、アリール基は置換さ
れていても置換されていなくていもよい。その際、例え
ばアルキル基、例えばメチル又はエチル、又はハロゲン
原子、例えば塩素原子又は臭素原子が適した置換基であ
る。有利なアリール基としては、フェニル及びナフチル
が挙げられる。特に有利な基は、シクロヘキシル又はフ
ェニルである。
【0034】更に、コポリマーBはなお、別のラジカル
重縮合可能な化合物から誘導される単位b40〜30モ
ル%、有利には5〜25モル%を含有していてよい。
重縮合可能な化合物から誘導される単位b40〜30モ
ル%、有利には5〜25モル%を含有していてよい。
【0035】例えば、ここではアクリル酸及びアクリル
酸誘導体、例えばメタクリル酸、アクリルニトリル、メ
タクリルニトリル、アクリル酸アルキルエステル、例え
ばアクリル酸エチルエステル又はメタクリル酸エチルエ
ステルが挙げられる。
酸誘導体、例えばメタクリル酸、アクリルニトリル、メ
タクリルニトリル、アクリル酸アルキルエステル、例え
ばアクリル酸エチルエステル又はメタクリル酸エチルエ
ステルが挙げられる。
【0036】コポリマーBは、統計的分布で単位b1〜
b4を含有する。通常コポリマーBは、分子量MW(重
量平均値)30000〜500000、有利には500
00〜250000、特に70000〜200000g
/モルを有する。
b4を含有する。通常コポリマーBは、分子量MW(重
量平均値)30000〜500000、有利には500
00〜250000、特に70000〜200000g
/モルを有する。
【0037】コポリマーBは、例えば、適当なモノマー
をラジカル重合することにより製造することができる。
その際、該反応は、懸濁液又はエマルジョン中でも溶液
又は固体中でも実施することができるが、後者のものが
有利である。該ラジカル反応は、一般的には常法、例え
ば光で、又は有利にはラジカル開始剤、例えば過酸化
物、例えば過酸化ベンゾイルを用いて開始することがで
きる。
をラジカル重合することにより製造することができる。
その際、該反応は、懸濁液又はエマルジョン中でも溶液
又は固体中でも実施することができるが、後者のものが
有利である。該ラジカル反応は、一般的には常法、例え
ば光で、又は有利にはラジカル開始剤、例えば過酸化
物、例えば過酸化ベンゾイルを用いて開始することがで
きる。
【0038】この他、コポリマーBは、例えば米国特許
第4404322号明細書に記載されているように、ま
ず、成分b1、b2、場合によりb4を互いにラジカル反
応で反応させ、引続き反応生成物中に含有される無水物
基を部分的に適当な第一アミン又はアンモニアと共にイ
ミド基に変換することにより製造することができる。第
一アミンとしては、脂肪族系アミン及び芳香族系アミン
が挙げられる。適当な第一アミンは、例えばC1〜C20
−アルキル基、C4〜C20−シクロアルキルアミン、ア
ミノ−C1〜C10−アルキレンアリール又はC6〜C18−
アリールアミンである。第一アミンのアルキル基は、直
鎖状であっても分枝鎖状であってもよく、酸素原子が間
接的に窒素原子と、及び間接的に他の酸素原子と結合し
た、1個以上の酸素原子で中断されていてもよい。該ア
ルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、i
−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n
−ヘキシル、n−デシル及びn−ドデシルが挙げられ
る。シクロアルキルアミンは、置換されていなくても置
換されていてもよい。適当な置換基は、例えばアルキル
基、例えばメチル又はエチルである。シクロアルキル基
の例としては、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
オヘキシル及びp−メチルシクロヘキシルが挙げられ
る。アミノアルキレンアリールのアルキル基は直鎖状で
あっても分枝鎖状であってもよく、かつ該アリール基は
置換基を有していてもよい。このような置換基の例は、
アルキル基、例えばメチル又はエチルであるが、ハロゲ
ン原子、例えば塩素原子又は臭素原子でもある。適当な
アミノアルキレンアリールの例は、アミノフェニルメタ
ン、1−アミノ−2−フェニルエタン、1−アミノ−2
−(p−クロルフェニル)エタンである。同様に、アリ
ールアミンは置換されていても置換されていなくてもよ
く、その際、例えばアルキル基、例えばメチル又はエチ
ル又はハロゲン原子、例えば塩素原子又は臭素原子が適
した置換基である。有利なアリールアミンとしては、ア
ニリン及びナフチルアミン、例えば2−アミノナフタリ
ンが挙げられる。特に有利にはシクロヘキシルアミン又
はアニリンである。
第4404322号明細書に記載されているように、ま
ず、成分b1、b2、場合によりb4を互いにラジカル反
応で反応させ、引続き反応生成物中に含有される無水物
基を部分的に適当な第一アミン又はアンモニアと共にイ
ミド基に変換することにより製造することができる。第
一アミンとしては、脂肪族系アミン及び芳香族系アミン
が挙げられる。適当な第一アミンは、例えばC1〜C20
−アルキル基、C4〜C20−シクロアルキルアミン、ア
ミノ−C1〜C10−アルキレンアリール又はC6〜C18−
アリールアミンである。第一アミンのアルキル基は、直
鎖状であっても分枝鎖状であってもよく、酸素原子が間
接的に窒素原子と、及び間接的に他の酸素原子と結合し
た、1個以上の酸素原子で中断されていてもよい。該ア
ルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、i
−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n
−ヘキシル、n−デシル及びn−ドデシルが挙げられ
る。シクロアルキルアミンは、置換されていなくても置
換されていてもよい。適当な置換基は、例えばアルキル
基、例えばメチル又はエチルである。シクロアルキル基
の例としては、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
オヘキシル及びp−メチルシクロヘキシルが挙げられ
る。アミノアルキレンアリールのアルキル基は直鎖状で
あっても分枝鎖状であってもよく、かつ該アリール基は
置換基を有していてもよい。このような置換基の例は、
アルキル基、例えばメチル又はエチルであるが、ハロゲ
ン原子、例えば塩素原子又は臭素原子でもある。適当な
アミノアルキレンアリールの例は、アミノフェニルメタ
ン、1−アミノ−2−フェニルエタン、1−アミノ−2
−(p−クロルフェニル)エタンである。同様に、アリ
ールアミンは置換されていても置換されていなくてもよ
く、その際、例えばアルキル基、例えばメチル又はエチ
ル又はハロゲン原子、例えば塩素原子又は臭素原子が適
した置換基である。有利なアリールアミンとしては、ア
ニリン及びナフチルアミン、例えば2−アミノナフタリ
ンが挙げられる。特に有利にはシクロヘキシルアミン又
はアニリンである。
【0039】該反応は、一般的には触媒として第三アミ
ン、例えばトリアルキルアミン又はジアルキルアリール
アミン、例えばトリエチルアミン又はN,N−ジエチル
アニリンの存在下で80〜350℃の温度で実施する。
ン、例えばトリアルキルアミン又はジアルキルアリール
アミン、例えばトリエチルアミン又はN,N−ジエチル
アニリンの存在下で80〜350℃の温度で実施する。
【0040】該製造法の変法では、有利には芳香族系ビ
ニル化合物50〜75モル%を環式α,β−不飽和ジカ
ルボン酸無水物25〜50モル%と反応させ、引続きア
ンモニア又は第一アミン(b5)で処理する、その際、
成分b2:b5のモル比は0.9〜1.1である。
ニル化合物50〜75モル%を環式α,β−不飽和ジカ
ルボン酸無水物25〜50モル%と反応させ、引続きア
ンモニア又は第一アミン(b5)で処理する、その際、
成分b2:b5のモル比は0.9〜1.1である。
【0041】成分C 成分A及びBの他に、本発明による成形材料は、繊維状
又は粒子状の充填材又はこれらの混合物60重量%以
下、有利には0〜55重量%を含有していてよい。炭
素、ガラス、石英、アラミド、アルカリ金属−及びアル
カリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属及びアルカリ土類金
属ケイ酸塩の群から選択されていてよい。
又は粒子状の充填材又はこれらの混合物60重量%以
下、有利には0〜55重量%を含有していてよい。炭
素、ガラス、石英、アラミド、アルカリ金属−及びアル
カリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属及びアルカリ土類金
属ケイ酸塩の群から選択されていてよい。
【0042】有利な繊維状の充填材又は強化材は、炭素
繊維、チタン酸カリウムホイスカー、アラミド繊維であ
り、ガラス繊維が特に有利である。ガラス繊維を使用す
る場合には、これらはマトリックス材料とのより良好な
相溶性のために、薄膜層及び定着剤で表面処理されてい
てよい。一般的には使用される炭素繊維及びガラス繊維
は6〜20μmの範囲内の直径を有する。
繊維、チタン酸カリウムホイスカー、アラミド繊維であ
り、ガラス繊維が特に有利である。ガラス繊維を使用す
る場合には、これらはマトリックス材料とのより良好な
相溶性のために、薄膜層及び定着剤で表面処理されてい
てよい。一般的には使用される炭素繊維及びガラス繊維
は6〜20μmの範囲内の直径を有する。
【0043】ガラス繊維の配合は、短いガラス繊維の形
と同様エンドレスストランド(ロービング)の形でも行
うことができる。完成した射出成形品のガラス繊維の平
均長さは、有利には0.08〜0.5mmの範囲内にあ
る。
と同様エンドレスストランド(ロービング)の形でも行
うことができる。完成した射出成形品のガラス繊維の平
均長さは、有利には0.08〜0.5mmの範囲内にあ
る。
【0044】炭素繊維又はガラス繊維は、ガラス織物、
ガラスマット又はロービングの形で使用することができ
る。
ガラスマット又はロービングの形で使用することができ
る。
【0045】粒子状の充填材としては、非晶質のケイ
酸、炭酸マグネシウム(白亜)、粉末石英、ガラス球及
び特にケイ酸カルシウム、例えばケイ灰石及びカオリン
(特に焼成したカオリン)が適している。
酸、炭酸マグネシウム(白亜)、粉末石英、ガラス球及
び特にケイ酸カルシウム、例えばケイ灰石及びカオリン
(特に焼成したカオリン)が適している。
【0046】充填材の有利な組合せは、例えばガラス繊
維20重量%とケイ灰石15重量%及びガラス繊維15
重量%とケイ灰石20重量%である。もう1つの有利な
組合せは、例えば炭素繊維20重量%とケイ灰石20重
量%を含有する。
維20重量%とケイ灰石15重量%及びガラス繊維15
重量%とケイ灰石20重量%である。もう1つの有利な
組合せは、例えば炭素繊維20重量%とケイ灰石20重
量%を含有する。
【0047】成分D 本発明による成形材料は、更に耐衝撃性変性ゴム0〜4
5、有利には0〜30重量%を含有する。その際、特に
ポリアリーレンエーテル及び/又はコポリマーBを耐衝
撃性に変性することができるものが適している。
5、有利には0〜30重量%を含有する。その際、特に
ポリアリーレンエーテル及び/又はコポリマーBを耐衝
撃性に変性することができるものが適している。
【0048】ブレンドの靭性を高めるゴムとしては、例
えば以下のもの、すなわち官能基でグラフトされたEP
ゴムないしはEPDMゴムが挙げられる。適当なグラフ
ト反応試薬は、例えば無水マレイン酸、イタコン酸、ア
クリル酸、グリシジルアクリレート及びグリシジルメタ
クリレートである。
えば以下のもの、すなわち官能基でグラフトされたEP
ゴムないしはEPDMゴムが挙げられる。適当なグラフ
ト反応試薬は、例えば無水マレイン酸、イタコン酸、ア
クリル酸、グリシジルアクリレート及びグリシジルメタ
クリレートである。
【0049】これらのモノマーは、溶融物又は溶液中
で、場合によりラジカル開始剤、例えばクメンヒドロペ
ルオキシドの存在下でポリマーにグラフトすることがで
きる。
で、場合によりラジカル開始剤、例えばクメンヒドロペ
ルオキシドの存在下でポリマーにグラフトすることがで
きる。
【0050】更に、α−オレフィンのコポリマーが挙げ
られる。α−オレフィンは、一般的に2〜8個の炭素原
子を有するモノマー、有利にはエチレン及びプロピレン
である。コモノマーとしては、1〜8個の炭素原子を有
するアルコール、有利にはエタノール、ブタノール又は
エチルヘキサノールから誘導されるアクリルアクリレー
ト又はアルキルメタクリレート並びに反応性コモノマ
ー、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸又はグリシジル(メタ)アクリレート、更
にビニルエステル特に酢酸ビニルが適していることが判
明した。異なるコモノマーの混合物も同様に使用するこ
とができる。特に適しているものとしては、エチレンの
アクリル酸エチル又は−ブチルのコポリマー及びアクリ
ル酸及び/又は無水マレイン酸であることが判明した。
られる。α−オレフィンは、一般的に2〜8個の炭素原
子を有するモノマー、有利にはエチレン及びプロピレン
である。コモノマーとしては、1〜8個の炭素原子を有
するアルコール、有利にはエタノール、ブタノール又は
エチルヘキサノールから誘導されるアクリルアクリレー
ト又はアルキルメタクリレート並びに反応性コモノマ
ー、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸又はグリシジル(メタ)アクリレート、更
にビニルエステル特に酢酸ビニルが適していることが判
明した。異なるコモノマーの混合物も同様に使用するこ
とができる。特に適しているものとしては、エチレンの
アクリル酸エチル又は−ブチルのコポリマー及びアクリ
ル酸及び/又は無水マレイン酸であることが判明した。
【0051】コポリマーとしては、400〜4500バ
ールの圧力での高圧処理で、又はコモノマーをポリ−α
−オレフィンにグラフトさせて製造することができる。
コポリマーにおけるα−オレフィンの割合は、一般的に
99.95〜55重量%の範囲内にある。
ールの圧力での高圧処理で、又はコモノマーをポリ−α
−オレフィンにグラフトさせて製造することができる。
コポリマーにおけるα−オレフィンの割合は、一般的に
99.95〜55重量%の範囲内にある。
【0052】適当なエラストマーの別の群としては、コ
ア−シェル−グラフトゴム(Kern-Schale-Pfropfkautsc
huke)を挙げることができる。該ゴムとは、1個以上の
硬質成分及び1個以上の軟質成分からなるエマルジョン
中で製造されたグラフトゴムである。硬質成分は通常2
5℃以上のガラス温度を有するポリマー、軟質成分は0
℃以下のガラス温度を有するポリマーであると解され
る。該生成物は1個のコアと1個以上のシェルからなる
構造を有し、その際、該構造はモノマーを添加する順序
により生じる。軟質成分は、一般的にブタジエン、イソ
プレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレー
ト又はシロキサン及び場合により別のコモノマーから誘
導される。適したシロキサンコアは、例えば環式オリゴ
マーのオクタメチルテトラシロキサン又はテトラビニル
テトラメチルテトラシロキサンから出発して製造するこ
とができる。該コアは、例えばγ−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシランと、開環する陽イオン重合で、
有利にはスルホン酸の存在下で反応させて、軟質のシロ
キサンコアにすることができる。該シロキサンは、例え
ば重合反応をシランの存在下で、加水分解可能な基、例
えばハロゲン原子又はアルコキシ基、例えばテトラエト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン又はフェニルト
リメトキシシランを用いて実施することにより架橋する
こともできる。適当なコモノマーとしては、ここでは例
えば、スチレン、アクリルニトリル及び1個以上の重合
可能な二重結合を有する、架橋又はグラフト活性モノマ
ー、例えばジアリルフタレート、ジビニルベンゼン、ブ
タンジオールジアクリレート又はトリアリル(イソ)シ
アヌレートが挙げられる。硬質成分は、一般的にスチレ
ン、α−メチルスチレン及びそれらのコポリマーから誘
導され、その際、コモノマーとしては、有利にはアクリ
ルニトリル、メタクリルニトリル及びメチルメタクリレ
ートが挙げられる。
ア−シェル−グラフトゴム(Kern-Schale-Pfropfkautsc
huke)を挙げることができる。該ゴムとは、1個以上の
硬質成分及び1個以上の軟質成分からなるエマルジョン
中で製造されたグラフトゴムである。硬質成分は通常2
5℃以上のガラス温度を有するポリマー、軟質成分は0
℃以下のガラス温度を有するポリマーであると解され
る。該生成物は1個のコアと1個以上のシェルからなる
構造を有し、その際、該構造はモノマーを添加する順序
により生じる。軟質成分は、一般的にブタジエン、イソ
プレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレー
ト又はシロキサン及び場合により別のコモノマーから誘
導される。適したシロキサンコアは、例えば環式オリゴ
マーのオクタメチルテトラシロキサン又はテトラビニル
テトラメチルテトラシロキサンから出発して製造するこ
とができる。該コアは、例えばγ−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシランと、開環する陽イオン重合で、
有利にはスルホン酸の存在下で反応させて、軟質のシロ
キサンコアにすることができる。該シロキサンは、例え
ば重合反応をシランの存在下で、加水分解可能な基、例
えばハロゲン原子又はアルコキシ基、例えばテトラエト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン又はフェニルト
リメトキシシランを用いて実施することにより架橋する
こともできる。適当なコモノマーとしては、ここでは例
えば、スチレン、アクリルニトリル及び1個以上の重合
可能な二重結合を有する、架橋又はグラフト活性モノマ
ー、例えばジアリルフタレート、ジビニルベンゼン、ブ
タンジオールジアクリレート又はトリアリル(イソ)シ
アヌレートが挙げられる。硬質成分は、一般的にスチレ
ン、α−メチルスチレン及びそれらのコポリマーから誘
導され、その際、コモノマーとしては、有利にはアクリ
ルニトリル、メタクリルニトリル及びメチルメタクリレ
ートが挙げられる。
【0053】有利なコア−シェル−グラフトゴムは、1
個の軟質コア及び1個の硬質シェル又は1個の硬質コ
ア、1個の第1軟質シェル及び1個以上の別の硬質シェ
ルを含有する。官能基、例えばカルボニル−、カルボン
酸、酸無水物−、酸アミド−、酸イミド−、カルボン酸
エステル−、アミノ−、ヒドロキシル−、エポキシ−、
オキサゾリン−、ウレタン−、尿素−、ラクタム−又は
ハロゲン化ベンジル基の導入は、ここでは有利には適し
た官能化モノマーを外側シェルの重合の際に加えること
により行う。適した官能化モノマーは、例えばマレイン
酸、無水マレイン酸、マレイン酸のモノ−又はジエステ
ル、t−ブチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、グ
リシジル(メタ)アクリレート及びビニルオキサゾリン
である。官能基を有するモノマーの割合は、一般的には
コア−シェル−グラフトゴムの総重量に対して0.1〜
25重量%、有利には0.25〜15重量%である。軟
質成分の硬質成分に対する重量比は一般的には1:9〜
9:1、有利には3:7〜8:2である。
個の軟質コア及び1個の硬質シェル又は1個の硬質コ
ア、1個の第1軟質シェル及び1個以上の別の硬質シェ
ルを含有する。官能基、例えばカルボニル−、カルボン
酸、酸無水物−、酸アミド−、酸イミド−、カルボン酸
エステル−、アミノ−、ヒドロキシル−、エポキシ−、
オキサゾリン−、ウレタン−、尿素−、ラクタム−又は
ハロゲン化ベンジル基の導入は、ここでは有利には適し
た官能化モノマーを外側シェルの重合の際に加えること
により行う。適した官能化モノマーは、例えばマレイン
酸、無水マレイン酸、マレイン酸のモノ−又はジエステ
ル、t−ブチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、グ
リシジル(メタ)アクリレート及びビニルオキサゾリン
である。官能基を有するモノマーの割合は、一般的には
コア−シェル−グラフトゴムの総重量に対して0.1〜
25重量%、有利には0.25〜15重量%である。軟
質成分の硬質成分に対する重量比は一般的には1:9〜
9:1、有利には3:7〜8:2である。
【0054】この種のゴムは自体公知であり、例えばヨ
ーロッパ特許出願公開第208187号明細書に記載さ
れている。
ーロッパ特許出願公開第208187号明細書に記載さ
れている。
【0055】適した耐衝撃性変性剤のもう1つの群は、
熱可塑性ポリエステル−エラストマーである。ポリエス
テルエラストマーとは、ここでは通常ポリ(アルキレ
ン)エーテルグリコールから誘導される長鎖状のセグメ
ント及び低分子ジオールとジカルボン酸から誘導される
短鎖状のセグメントを含有するセグメントコポリエーテ
ルエステルであると解される。この種の製品は自体公知
であり、文献、例えば米国特許第3651014号明細
書に記載されている。市場でも相当する製品は、Hytrel
(R) (製造元:Du Pont)、 Arnitel(R) (製造元:Akzo)
及び Pelprene(R)(製造元:Toyobo Co. Ltd.)の商標名
で入手可能である。
熱可塑性ポリエステル−エラストマーである。ポリエス
テルエラストマーとは、ここでは通常ポリ(アルキレ
ン)エーテルグリコールから誘導される長鎖状のセグメ
ント及び低分子ジオールとジカルボン酸から誘導される
短鎖状のセグメントを含有するセグメントコポリエーテ
ルエステルであると解される。この種の製品は自体公知
であり、文献、例えば米国特許第3651014号明細
書に記載されている。市場でも相当する製品は、Hytrel
(R) (製造元:Du Pont)、 Arnitel(R) (製造元:Akzo)
及び Pelprene(R)(製造元:Toyobo Co. Ltd.)の商標名
で入手可能である。
【0056】もちろん異なるゴムの混合物を使用するこ
ともできる。
ともできる。
【0057】成分E 前記成分A〜Dの他に本発明による成形材料は、なお防
炎剤、顔料及び安定剤0〜40重量%を含有する。
炎剤、顔料及び安定剤0〜40重量%を含有する。
【0058】本発明による成形材料は、自体公知の方
法、例えば押出し成形法により製造することができる。
法、例えば押出し成形法により製造することができる。
【0059】本発明による成形材料は、例えば出発成分
を常用の混合装置、例えばスクリュウ押出機、有利には
2軸スクリュウ押出機、ブラベンダーミル又はバンバリ
ーミル並びにニーダ中で混合し、引続き押出し成形す
る。押出し成形後、該押出し成形物を冷却し、次いで粉
砕する。
を常用の混合装置、例えばスクリュウ押出機、有利には
2軸スクリュウ押出機、ブラベンダーミル又はバンバリ
ーミル並びにニーダ中で混合し、引続き押出し成形す
る。押出し成形後、該押出し成形物を冷却し、次いで粉
砕する。
【0060】該成分を混合する順序は変更することがで
きる、従って、2種又は場合により3種の成分を前混合
することができるが、全ての成分を一緒に混合すること
もできる。
きる、従って、2種又は場合により3種の成分を前混合
することができるが、全ての成分を一緒に混合すること
もできる。
【0061】できるだけ均質の成形材料を得るために
は、強力な混和が有利である。このためには、一般的に
は、250〜400℃、有利には280〜380℃の温
度で、0.2〜30分の平均混合時間が必要である。押
出し成形後、通常押出し成形物を乾燥し、次いで粉砕す
る。
は、強力な混和が有利である。このためには、一般的に
は、250〜400℃、有利には280〜380℃の温
度で、0.2〜30分の平均混合時間が必要である。押
出し成形後、通常押出し成形物を乾燥し、次いで粉砕す
る。
【0062】本発明による成形材料は、熱可塑的に加工
することができる。該成形材料は、良好な流動性及び僅
かな吸水性と同時に良好な剛性により優れている。僅か
な吸水性及び高い熱形状安定性に基づいて、本発明によ
る成形材料は特に家庭用器具又は医療分野の器具を製造
するのに適している。しかしながら、該成形材料は電気
又は電子工学の領域でも使用することができる。成形体
の他に、フィルム又は繊維も本発明による成形材料から
製造することができる。
することができる。該成形材料は、良好な流動性及び僅
かな吸水性と同時に良好な剛性により優れている。僅か
な吸水性及び高い熱形状安定性に基づいて、本発明によ
る成形材料は特に家庭用器具又は医療分野の器具を製造
するのに適している。しかしながら、該成形材料は電気
又は電子工学の領域でも使用することができる。成形体
の他に、フィルム又は繊維も本発明による成形材料から
製造することができる。
【0063】1つの実施態様によれば、本発明による成
形材料は成分Aとして反応性末端基を有するポリアリー
レンエーテルを含有する。上記加工条件で、該末端基は
コポリマーBの官能基、特に無水物基と反応する。反応
生成物に強化剤を添加しない場合には、該反応性生物を
ポリアリーレンエーテルをベースとするブレンド用の相
溶性助剤として使用することができる。
形材料は成分Aとして反応性末端基を有するポリアリー
レンエーテルを含有する。上記加工条件で、該末端基は
コポリマーBの官能基、特に無水物基と反応する。反応
生成物に強化剤を添加しない場合には、該反応性生物を
ポリアリーレンエーテルをベースとするブレンド用の相
溶性助剤として使用することができる。
【0064】相溶性助剤は溶融物中で製造するのが有利
である。しかしながら、成分AとBを溶液中で互いに反
応させることにより製造することもできる。極性−非プ
ロトン性溶液、例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド又はN−メチルピロリドン又は極性−非プ
ロトン性溶液の別の有機溶剤との混合物、その中でも特
にクロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン、テトラヒド
ロフラン、ジクロルメタン又はクロルホルムは適した溶
剤の例である。成分AとBの反応は、反応性末端基に依
存して、一般的には20〜200℃の温度で実施する。
反応時間は、通常30分〜24時間の間である。一般的
にはポリマーA及びBは、溶液中それぞれ1〜30重量
%の濃度であってよく、その際、高濃縮溶液、特に10
〜25重量%の溶液が有利である。相溶性助剤は、例え
ば溶液から、沈殿剤、例えば水又はエタノールを用いて
沈殿させることにより単離することができる。本発明に
よる相溶性助剤は、多相であることにより優れている、
このことは、例えば生じる複数のガラス転移温度により
証明することができる。相分離は、透過型電子顕微鏡写
真をもとに確認することができる。このことにより、ブ
レンド中の相溶性助剤は、相境界面に付加して助剤とし
て作用することができる。
である。しかしながら、成分AとBを溶液中で互いに反
応させることにより製造することもできる。極性−非プ
ロトン性溶液、例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド又はN−メチルピロリドン又は極性−非プ
ロトン性溶液の別の有機溶剤との混合物、その中でも特
にクロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン、テトラヒド
ロフラン、ジクロルメタン又はクロルホルムは適した溶
剤の例である。成分AとBの反応は、反応性末端基に依
存して、一般的には20〜200℃の温度で実施する。
反応時間は、通常30分〜24時間の間である。一般的
にはポリマーA及びBは、溶液中それぞれ1〜30重量
%の濃度であってよく、その際、高濃縮溶液、特に10
〜25重量%の溶液が有利である。相溶性助剤は、例え
ば溶液から、沈殿剤、例えば水又はエタノールを用いて
沈殿させることにより単離することができる。本発明に
よる相溶性助剤は、多相であることにより優れている、
このことは、例えば生じる複数のガラス転移温度により
証明することができる。相分離は、透過型電子顕微鏡写
真をもとに確認することができる。このことにより、ブ
レンド中の相溶性助剤は、相境界面に付加して助剤とし
て作用することができる。
【0065】
【実施例】次に本発明を以下の実施例につき詳細に説明
する。
する。
【0066】例 使用技術試験 E−モジュールをDIN53455に基づく引張試験
で、ショルダーロッド(Schulterstaeben)で確認し
た。流動性はDIN53735に基づき300ないしは
320℃の温度及び21.6kgの負荷で測定した。
で、ショルダーロッド(Schulterstaeben)で確認し
た。流動性はDIN53735に基づき300ないしは
320℃の温度及び21.6kgの負荷で測定した。
【0067】試料の吸水性は、2日間沸騰水中に貯蔵し
たショルダーロッドで測定した。
たショルダーロッドで測定した。
【0068】試料の熱形状安定性は、ビカー軟化温度で
確認した。ビカー軟化温度は、DIN53460に基づ
き49.05Nの力及び1時間当たり50Kの温度上昇
率で、規格最小棒(Normkleinstaeben)で確認した。
確認した。ビカー軟化温度は、DIN53460に基づ
き49.05Nの力及び1時間当たり50Kの温度上昇
率で、規格最小棒(Normkleinstaeben)で確認した。
【0069】成分の粘度数(VZ)は、N−メチルピロ
リドン又はフェノールと1,2−ジクロルメタンとの混
合物中で測定した。
リドン又はフェノールと1,2−ジクロルメタンとの混
合物中で測定した。
【0070】成分及び相溶性助剤の軟化点(Tg)は、
示唆熱分析(DSC)を用いて、10K/分の加熱率で
確認した。
示唆熱分析(DSC)を用いて、10K/分の加熱率で
確認した。
【0071】透過型電子顕微鏡写真を超薄膜層で撮影し
た。
た。
【0072】成分のヒドロキシ−(OH)−末端基濃度
をの電位差計滴定を用いてメタノールの水酸化カリウム
で測定した。アミノ−(NH2)−末端基能度を電位差
計滴定を用いてトリフルオロメタンスルホンで測定し
た。酸塩素−(Cl)−末端基の割合は、試料の有機結
合した塩素の総含量を介して確認した。
をの電位差計滴定を用いてメタノールの水酸化カリウム
で測定した。アミノ−(NH2)−末端基能度を電位差
計滴定を用いてトリフルオロメタンスルホンで測定し
た。酸塩素−(Cl)−末端基の割合は、試料の有機結
合した塩素の総含量を介して確認した。
【0073】成分A1 Tg225℃並びにCl−末端基のOCH3−末端基に
対する比60:40の、4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンと4,4′−ジクロルジフェニルスルホン
とからなるポリアリーレンエーテル(ポリエーテルスル
ホン:VZ=56ml/g、フェノールと1,2−ジク
ロルベンゼンとの1:1−混合物の1重量%の溶液で測
定;例えば市販の製品 Ultrason(R) E 2010 、製造元:
BASF)。
対する比60:40の、4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンと4,4′−ジクロルジフェニルスルホン
とからなるポリアリーレンエーテル(ポリエーテルスル
ホン:VZ=56ml/g、フェノールと1,2−ジク
ロルベンゼンとの1:1−混合物の1重量%の溶液で測
定;例えば市販の製品 Ultrason(R) E 2010 、製造元:
BASF)。
【0074】成分A2 Tg186℃並びにCl−末端基のOCH3−末端基に
対する比60:40の、ビスフェノールAと4,4′−
ジクロルジフェニルスルホンとからなるポリアリーレン
エーテル(ポリスルホン;VZ=64ml/g、フェノ
ールと1,2−ジクロルベンゼンとの1:1−混合物中
の1重量%溶液中で測定;例えば市販の製品 Ultrason
(R) S 2010 、製造元:BASF)。
対する比60:40の、ビスフェノールAと4,4′−
ジクロルジフェニルスルホンとからなるポリアリーレン
エーテル(ポリスルホン;VZ=64ml/g、フェノ
ールと1,2−ジクロルベンゼンとの1:1−混合物中
の1重量%溶液中で測定;例えば市販の製品 Ultrason
(R) S 2010 、製造元:BASF)。
【0075】成分A3 Tg218℃並びにCl−末端基のOH−末端基に対す
る比53:47の、54.7ml/gのVZで特徴づけ
られる4,4′−ジ−(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホンと4,4′−ジクロルジフェニルスルホンとからな
るポリアリーレンエーテル(N−メチルピロリドンの1
重量%溶液中、25℃で測定)。
る比53:47の、54.7ml/gのVZで特徴づけ
られる4,4′−ジ−(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホンと4,4′−ジクロルジフェニルスルホンとからな
るポリアリーレンエーテル(N−メチルピロリドンの1
重量%溶液中、25℃で測定)。
【0076】成分A4 Tg217℃並びにCl−末端基のOH−末端基に対す
る比3:97の、46.2ml/gのVZで特徴づけら
れる4,4′−ジ−(4−ヒドロキシフェノル)スルホ
ンと4,4′−ジクロルジフェニルスルホンとからなる
ポリアリーレンエーテル(N−メチルピロリドンの1重
量%溶液中、25℃で測定)。
る比3:97の、46.2ml/gのVZで特徴づけら
れる4,4′−ジ−(4−ヒドロキシフェノル)スルホ
ンと4,4′−ジクロルジフェニルスルホンとからなる
ポリアリーレンエーテル(N−メチルピロリドンの1重
量%溶液中、25℃で測定)。
【0077】成分A5 Tg214℃並びにCl−末端基のNH2−末端基及び
OH−末端基に対する比50:43:7の、31.5m
l/gのVZで特徴づけられる4,4′−ジ−(4−ヒ
ドロキシフェノル)スルホンと4,4′−ジクロルジフ
ェニルスルホンとからなるポリアリーレンエーテル(N
−メチルピロリドンの1重量%溶液中、25℃で測
定)。
OH−末端基に対する比50:43:7の、31.5m
l/gのVZで特徴づけられる4,4′−ジ−(4−ヒ
ドロキシフェノル)スルホンと4,4′−ジクロルジフ
ェニルスルホンとからなるポリアリーレンエーテル(N
−メチルピロリドンの1重量%溶液中、25℃で測
定)。
【0078】成分A6 Tg210℃並びにCl−末端基のNH2−末端基及び
OH−末端基に対する比2:73:25の、18.9m
l/gのVZで特徴づけられる4,4′−ジ−(4−ヒ
ドロキシフェノル)スルホン、4−アミノフェノール及
び4,4′−ジクロルジフェニルスルホンからなるポリ
アリーレンエーテル(N−メチルピロリドンの1重量%
溶液中、25℃で測定)。
OH−末端基に対する比2:73:25の、18.9m
l/gのVZで特徴づけられる4,4′−ジ−(4−ヒ
ドロキシフェノル)スルホン、4−アミノフェノール及
び4,4′−ジクロルジフェニルスルホンからなるポリ
アリーレンエーテル(N−メチルピロリドンの1重量%
溶液中、25℃で測定)。
【0079】成分B1 スチレン58モル%、無水マレイン酸3モル%及びN−
フェニル−マレインイミド39モル%からなるターポリ
マー。
フェニル−マレインイミド39モル%からなるターポリ
マー。
【0080】成分B2 スチレン58モル%、無水マレイン酸8モル%及びN−
フェニル−マレインイミド34モル%からなるターポリ
マー。
フェニル−マレインイミド34モル%からなるターポリ
マー。
【0081】成分C1 ポリウレタンの層で表面加工したE−ガラスからなる厚
さ10μmのガラスロービング。配合終了後、ガラス繊
維の平均長さは約0.1〜0.5mmであった。
さ10μmのガラスロービング。配合終了後、ガラス繊
維の平均長さは約0.1〜0.5mmであった。
【0082】例1〜12及び比較例V1〜V3 これらの成分を、2軸スクリュウ押出機内で300〜3
50℃の材料温度で混合した。溶融物を水浴を通過させ
て誘導し、造粒した。
50℃の材料温度で混合した。溶融物を水浴を通過させ
て誘導し、造粒した。
【0083】乾燥した造粒物を310〜340℃で規格
最小棒及びショルダーロッドに加工した。
最小棒及びショルダーロッドに加工した。
【0084】成形材料の組成及び使用技術試験の結果が
第1表及び第2表を参照されたい。
第1表及び第2表を参照されたい。
【0085】例4により得られた成形材料から超薄膜層
を製造し、電子顕微鏡で7000:1に拡大して検査し
た(第1/2図参照)。
を製造し、電子顕微鏡で7000:1に拡大して検査し
た(第1/2図参照)。
【0086】
【表1】
【0087】
【表2】
【0088】例13〜17及び比較例V4〜V5 相溶性助剤の製造 例13 N−メチルピロリドン150ml中B120gの溶液
に、不活性ガス雰囲気下で80℃でA310gを撹拌し
ながら加えた。添加終了後、なお2時間...℃で更に
撹拌した。該反応生成物を水で沈殿させ、単離し、次い
で120℃で真空中で乾燥した。
に、不活性ガス雰囲気下で80℃でA310gを撹拌し
ながら加えた。添加終了後、なお2時間...℃で更に
撹拌した。該反応生成物を水で沈殿させ、単離し、次い
で120℃で真空中で乾燥した。
【0089】比較例V4 N−メチルピロリドン150ml中B120gの溶液
に、不活性ガス雰囲気下で80℃でA410gを撹拌し
ながら加えた。A4の添加後、既に数時間で沈殿物が生
じた。ポリアリーレンエーテル中の反応性末端基の高い
割合によりミクロゲル形成ないしは架橋を生じた。従っ
て、該生成物は相溶性助剤として不適である。
に、不活性ガス雰囲気下で80℃でA410gを撹拌し
ながら加えた。A4の添加後、既に数時間で沈殿物が生
じた。ポリアリーレンエーテル中の反応性末端基の高い
割合によりミクロゲル形成ないしは架橋を生じた。従っ
て、該生成物は相溶性助剤として不適である。
【0090】例14 N−メチルピロリドン150ml中B120gの溶液
に、不活性ガス雰囲気下で0℃でA510gを撹拌しな
がら加えた。A5の添加後なお30分間...℃で更に
撹拌した。引続き、8時間で190℃に加熱した。該反
応混合物を冷却した後、該生成物を例13と同様に後処
理した。
に、不活性ガス雰囲気下で0℃でA510gを撹拌しな
がら加えた。A5の添加後なお30分間...℃で更に
撹拌した。引続き、8時間で190℃に加熱した。該反
応混合物を冷却した後、該生成物を例13と同様に後処
理した。
【0091】比較例V5 N−メチルピロリドン150ml中B1gの溶液に、不
活性ガス雰囲気下で0℃でA610gを撹拌しながら加
えた。A6の添加後、既に数分間で沈殿物が形成され
た。ポリアリーレンエーテル中の反応性末端基の高い割
合により、ミクロゲル形成ないしは架橋が生じた。従っ
て、該生成物は相溶性助剤としては不適である。
活性ガス雰囲気下で0℃でA610gを撹拌しながら加
えた。A6の添加後、既に数分間で沈殿物が形成され
た。ポリアリーレンエーテル中の反応性末端基の高い割
合により、ミクロゲル形成ないしは架橋が生じた。従っ
て、該生成物は相溶性助剤としては不適である。
【0092】例15 例14を繰り返したが、但し、例14に記載の成分の代
わりに成分B2及びA5を使用した。
わりに成分B2及びA5を使用した。
【0093】例16 B130gとA520gとからなる混合物を Haake−ニー
ダ中で320℃で5分間強力に混合し、得られた成形材
料を取出して、粉砕した。得られた成形材料から超薄膜
層を製造し、電子顕微鏡で検査した(第2/2図参
照)。
ダ中で320℃で5分間強力に混合し、得られた成形材
料を取出して、粉砕した。得られた成形材料から超薄膜
層を製造し、電子顕微鏡で検査した(第2/2図参
照)。
【0094】例17 B13kgとA52kgとからなる混合物を、2軸スクリ
ュウ押出機(ZKS30、製造元: Werner & Pfleider
er)中で、340℃で混合した。取出したストランドを
水浴中で冷却し、次いで造粒した。
ュウ押出機(ZKS30、製造元: Werner & Pfleider
er)中で、340℃で混合した。取出したストランドを
水浴中で冷却し、次いで造粒した。
【0095】使用技術試験の結果は第3表を参照された
い。
い。
【0096】
【表3】
【0097】第3表から、反応性末端基を含有するポリ
アリーレンエーテルAとコポリマーBとの反応は高い収
率で行われ、かつ全ての場合に多相の生成物が得られる
ことが明らかである。
アリーレンエーテルAとコポリマーBとの反応は高い収
率で行われ、かつ全ての場合に多相の生成物が得られる
ことが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例4により得られた成形材料の粒子構造の
電子顕微鏡写真である。
電子顕微鏡写真である。
【図2】実施例16により得られた成形材料の粒子構造
の電子顕微鏡写真である。
の電子顕微鏡写真である。
Claims (1)
- 【請求項1】 A)ポリアリーレンエーテル 1〜99重量% B)b1)芳香族系ビニル化合物、 b2)環式α,β−不飽和ジカルボン酸無水物、及び b3)環式α,β−不飽和ジカルボン酸イミドから誘導される単位を含有 するコポリマー 1〜99重量%、及び C)炭素、ガス、石英、アラミド、アルカリ金属−、アルカリ土類金属炭酸塩 、アルカリ金属−、アルカリ土類金属ケイ酸塩の群から選択される繊維状又は粒 子状の充填剤 0〜60重量%、 D)耐衝撃性変性ゴム 0〜45重量%、及び E)防炎剤、顔料及び安定剤 0〜40重量% からなる成形材料。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934321002 DE4321002A1 (de) | 1993-06-24 | 1993-06-24 | Formmassen auf der Grundlage von Polyarylenethern |
| DE4321002.3 | 1993-06-24 | ||
| DE4407485.9 | 1994-03-07 | ||
| DE19944407485 DE4407485A1 (de) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | Formmasse auf der Grundlage von Polyarylenethern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0718172A true JPH0718172A (ja) | 1995-01-20 |
Family
ID=25927079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6164831A Pending JPH0718172A (ja) | 1993-06-24 | 1994-06-24 | ポリアリーレンエーテルをベースとする成形材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5804629A (ja) |
| EP (1) | EP0630942B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0718172A (ja) |
| DE (1) | DE59408649D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018181259A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 住友化学株式会社 | 芳香族ポリスルホン、芳香族ポリスルホン組成物、及び芳香族ポリスルホンの製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4403677A1 (de) * | 1994-02-07 | 1995-08-10 | Basf Ag | Formmasse auf der Basis von Polyarylenetherblends und Kohlefasern |
| DE19702590A1 (de) * | 1997-01-24 | 1998-07-30 | Basf Ag | Thermoplastische Formmassen |
| US8075812B2 (en) * | 2007-04-04 | 2011-12-13 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Method of separating a poly(arylene ether) composition from a solvent, and poly(arylene ether) composition prepared thereby |
| US20080266651A1 (en) * | 2007-04-24 | 2008-10-30 | Katsuhiko Murakami | Optical apparatus, multilayer-film reflective mirror, exposure apparatus, and device |
| EP2802620B1 (de) | 2012-01-11 | 2016-05-04 | INEOS Styrolution Europe GmbH | Witterungsstabile thermoplastische formmassen auf basis von styrolcopolymeren und polyamiden mit verbesserter zähigkeit |
| WO2018046582A1 (de) | 2016-09-08 | 2018-03-15 | Ineos Styrolution Group Gmbh | Thermoplastische polymerpulver für das selektive lasersintern (sls) |
| CN120865706A (zh) * | 2025-06-17 | 2025-10-31 | 广东合诚实业有限公司 | 一种高ipt耐冷热循环聚苯硫醚复合材料及制备方法与应用 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6058257B2 (ja) * | 1980-07-17 | 1985-12-19 | 旭化成株式会社 | 高耐熱性熱可塑性樹脂組成物 |
| US4604422A (en) * | 1984-12-24 | 1986-08-05 | Atlantic Richfield Company | Flame-retardant molded composition incorporating a poly[N-(bromophenyl)maleimide-co-styrene-co-maleic anhydride] copolymer |
| JPS61174249A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | 樹脂組成物 |
| JPH0797524B2 (ja) * | 1985-10-08 | 1995-10-18 | 電気化学工業株式会社 | 磁性体樹脂組成物 |
| US5191017A (en) * | 1988-12-10 | 1993-03-02 | Bayer Aktiengesellschaft | High-impact thermoplastic polyether sulfone molding compositions |
| DE3841670A1 (de) * | 1988-12-10 | 1990-06-13 | Bayer Ag | Schlagzaehe, thermoplastische polyethersulfon-formmassen |
| DE4306708A1 (de) * | 1993-03-04 | 1994-09-08 | Basf Ag | Formmassen auf der Grundlage von Polyarylenethern mit Anhydridgruppen |
-
1994
- 1994-06-13 US US08/258,777 patent/US5804629A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-17 EP EP94109382A patent/EP0630942B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-17 DE DE59408649T patent/DE59408649D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-24 JP JP6164831A patent/JPH0718172A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018181259A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 住友化学株式会社 | 芳香族ポリスルホン、芳香族ポリスルホン組成物、及び芳香族ポリスルホンの製造方法 |
| KR20190127761A (ko) * | 2017-03-30 | 2019-11-13 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 방향족 폴리술폰, 방향족 폴리술폰 조성물, 및 방향족 폴리술폰의 제조 방법 |
| US11390745B2 (en) | 2017-03-30 | 2022-07-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Aromatic polysulfone, aromatic polysulfone composition, and method for producing aromatic polysulfone |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0630942A1 (de) | 1994-12-28 |
| US5804629A (en) | 1998-09-08 |
| EP0630942B1 (de) | 1999-08-25 |
| DE59408649D1 (de) | 1999-09-30 |
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|---|---|---|---|
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