JPH0718795B2 - 発光分析装置 - Google Patents
発光分析装置Info
- Publication number
- JPH0718795B2 JPH0718795B2 JP61077196A JP7719686A JPH0718795B2 JP H0718795 B2 JPH0718795 B2 JP H0718795B2 JP 61077196 A JP61077196 A JP 61077196A JP 7719686 A JP7719686 A JP 7719686A JP H0718795 B2 JPH0718795 B2 JP H0718795B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spectrum
- wavelength
- analysis
- line
- emission
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、発光分析装置に係り、環境，各種材料，臨
床，薬品等の幅広い分野に係り、特に主成分中の微量成
分の分析等のマトリツクスの高い試料の分析に好適な、
発光分光分析装置に関する。
床，薬品等の幅広い分野に係り、特に主成分中の微量成
分の分析等のマトリツクスの高い試料の分析に好適な、
発光分光分析装置に関する。
従来、分光分析装置としては、特開昭60-122357号公報
に示されたものが知られている。すなわち目的の元素の
分析線波長の近傍を波長走査して上記分析線波長を含む
指定の波長区間における信号の最大値と上記指定の波長
区間より短波長側の指定の波長区間と長波長側の指定の
波置区間における信号の最小値とを検出する手段と、上
記最大値と上記最小値との差を演算してその結果から連
続光成分の影響を受けない上記元素の真の輝線スペクト
ル強度に対応する値を求める手段とを具備した構成とす
るものである。
に示されたものが知られている。すなわち目的の元素の
分析線波長の近傍を波長走査して上記分析線波長を含む
指定の波長区間における信号の最大値と上記指定の波長
区間より短波長側の指定の波長区間と長波長側の指定の
波置区間における信号の最小値とを検出する手段と、上
記最大値と上記最小値との差を演算してその結果から連
続光成分の影響を受けない上記元素の真の輝線スペクト
ル強度に対応する値を求める手段とを具備した構成とす
るものである。
これにより、分析値を狂わせる連続光の妨害を自動的に
速やかに補正するようにしたものである。
速やかに補正するようにしたものである。
通常、分光分析法では、分析する元素が発光する複数の
波長の内から、最も強度の高い、すなわち分析感度の波
長を選択して分析する。上記従来技術においては、一番
感度の高い波長が他の原子または分子が発する近接した
波長の光の干渉を受けている場合、一番目の波長を断念
して二番目に感度の高い波長を用いるか、あるいは、定
量計算値の誤差を覚悟して干渉を受けたまま測定してい
た。特に希土類元素は非常に多くの発光線を有するた
め、希土類元素中の微量の希土類元素の分析の場合に
は、全く干渉を受けていない波長を捜すのが困難な程で
ある。希土類元素以外にも、鉄，ニツケルやコバルト等
の遷移金属も多くの発光線を有するため、鉄中の微量元
素の分析の場合も干渉を起こしやすい。また、水溶液試
料はH2Oの水分子が光源中で分解されて多量のOH分子が
生成され、306.4nmとバンドヘツドに長波長側に延びるO
Hバンドを形成し、数十nmの波長範囲に無数の発光線が
存在する。特にアルミニウムやバナジウムは、感度の高
い発光線がこの波長域にあるため、感度が低い別の波長
を用いざるを得ないことが多いものであつた。
波長の内から、最も強度の高い、すなわち分析感度の波
長を選択して分析する。上記従来技術においては、一番
感度の高い波長が他の原子または分子が発する近接した
波長の光の干渉を受けている場合、一番目の波長を断念
して二番目に感度の高い波長を用いるか、あるいは、定
量計算値の誤差を覚悟して干渉を受けたまま測定してい
た。特に希土類元素は非常に多くの発光線を有するた
め、希土類元素中の微量の希土類元素の分析の場合に
は、全く干渉を受けていない波長を捜すのが困難な程で
ある。希土類元素以外にも、鉄，ニツケルやコバルト等
の遷移金属も多くの発光線を有するため、鉄中の微量元
素の分析の場合も干渉を起こしやすい。また、水溶液試
料はH2Oの水分子が光源中で分解されて多量のOH分子が
生成され、306.4nmとバンドヘツドに長波長側に延びるO
Hバンドを形成し、数十nmの波長範囲に無数の発光線が
存在する。特にアルミニウムやバナジウムは、感度の高
い発光線がこの波長域にあるため、感度が低い別の波長
を用いざるを得ないことが多いものであつた。
本発明の目的は、近接線の干渉を受けたスペクトルを数
学的に解決することにより、干渉を除去し、高感度で高
精度の定量測定をすることのできる発光分析装置を提供
することにある。
学的に解決することにより、干渉を除去し、高感度で高
精度の定量測定をすることのできる発光分析装置を提供
することにある。
上記問題を解決するために、発光分析法におけるスペク
トルについて検討する必要がある。発光分析の光源とし
ては、高温プラズマが用いられる。高温プラズマから
は、原子の発光線、２原子分子の発光線、および
黒体輻射による連続スペクトルが放射されている。従つ
て上記の連続スペクトル分をバツクグランドとして差
引くことを行なえば、他の上記と上記のラインスペ
クトルについて考慮すれば良いことになる。また、干渉
の問題を解決するためには、妨害線のスペクトルだけを
消去できれば良いことになる。そのために、ラインスペ
クトルを数学的に合成して妨害線のスペクトルと一致さ
せ、差引きすることにより、分析線のスペクトルのみを
残すことによつて、前記目的を達成できることになる。
トルについて検討する必要がある。発光分析の光源とし
ては、高温プラズマが用いられる。高温プラズマから
は、原子の発光線、２原子分子の発光線、および
黒体輻射による連続スペクトルが放射されている。従つ
て上記の連続スペクトル分をバツクグランドとして差
引くことを行なえば、他の上記と上記のラインスペ
クトルについて考慮すれば良いことになる。また、干渉
の問題を解決するためには、妨害線のスペクトルだけを
消去できれば良いことになる。そのために、ラインスペ
クトルを数学的に合成して妨害線のスペクトルと一致さ
せ、差引きすることにより、分析線のスペクトルのみを
残すことによつて、前記目的を達成できることになる。
すなわち、本発明は、元素固有の波長の光を分析の手段
に用いる発光分析法において、分析対象元素の特定の波
長付近を波長スキヤンし、発光スペクトルを実測する手
段と、該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、
該妨害線スペクトルのみをガウス分布とローレンツ分布
の一次結合により数学的に合成し、実測スペクトルと合
成スペクトルの差を取ることにより、分析線のスペクト
ルを明確化する手段とを有するようにしたものである。
に用いる発光分析法において、分析対象元素の特定の波
長付近を波長スキヤンし、発光スペクトルを実測する手
段と、該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、
該妨害線スペクトルのみをガウス分布とローレンツ分布
の一次結合により数学的に合成し、実測スペクトルと合
成スペクトルの差を取ることにより、分析線のスペクト
ルを明確化する手段とを有するようにしたものである。
ラインスペクトルを数学的にシミユレートするために
は、スペクトルの形状を把握しておく必要がある。発光
分析に用いられる分光器は、通常焦点距離が0.5〜1mの
大形のものが用いられ、分解能を示す半値幅は0.01nm程
度であることが多い。一方光源である高温プラズマでの
発光線の半値幅は、0.001nmのオーダであり分光器の分
解能より１桁近く小さく、発光分析装置が描くスペクト
ルは分光器が決定していると言える。分光器の中でも、
スリツトがスペクトル形状を決定するのに重要な役割を
果している。特に0.01nm程度の高分解能を達成するため
に、スリツト幅は10〜20μｍ程度の狭さが要求され、ス
リツト幅に対し端面の不均一さが無視できなくなり、ス
ペクトル形状に影響を与える。また、入射スリツトと出
射スリツトの幅の関係も、スペクトル形状に決定的な影
響を与える。さらに、コリメーテイングミラーやカメラ
ミラーの球面度、光源の像が入射スリツト上に結像して
いるか否かや、光源が分光器光軸上に載つているか否か
等の要因も、スペクトル形状に影響を与えている。以上
の個々の要因がスペクトル形状に与える影響度を、理論
的に計算して求めることは非常に困難であり、現実的で
ない。このことに鑑み本発明においては、ガウス分布と
ローレンツ分布を組合わせる関数を用いることにより、
実際に測定して得られたスペクトルの妨害線のスペクト
ル形状に合うように合成する手法を確立したことによつ
て上記目的が達成し得る。なお、ガウス分布とローレン
ツ分布の数学的に組合せた関数をスペクトル合成に用い
ることは、複雑な妨害スペクトルの形状をガウス分布又
はローレンツ分布だけの形状でシミュレートできない場
合に適宜応用できる。
は、スペクトルの形状を把握しておく必要がある。発光
分析に用いられる分光器は、通常焦点距離が0.5〜1mの
大形のものが用いられ、分解能を示す半値幅は0.01nm程
度であることが多い。一方光源である高温プラズマでの
発光線の半値幅は、0.001nmのオーダであり分光器の分
解能より１桁近く小さく、発光分析装置が描くスペクト
ルは分光器が決定していると言える。分光器の中でも、
スリツトがスペクトル形状を決定するのに重要な役割を
果している。特に0.01nm程度の高分解能を達成するため
に、スリツト幅は10〜20μｍ程度の狭さが要求され、ス
リツト幅に対し端面の不均一さが無視できなくなり、ス
ペクトル形状に影響を与える。また、入射スリツトと出
射スリツトの幅の関係も、スペクトル形状に決定的な影
響を与える。さらに、コリメーテイングミラーやカメラ
ミラーの球面度、光源の像が入射スリツト上に結像して
いるか否かや、光源が分光器光軸上に載つているか否か
等の要因も、スペクトル形状に影響を与えている。以上
の個々の要因がスペクトル形状に与える影響度を、理論
的に計算して求めることは非常に困難であり、現実的で
ない。このことに鑑み本発明においては、ガウス分布と
ローレンツ分布を組合わせる関数を用いることにより、
実際に測定して得られたスペクトルの妨害線のスペクト
ル形状に合うように合成する手法を確立したことによつ
て上記目的が達成し得る。なお、ガウス分布とローレン
ツ分布の数学的に組合せた関数をスペクトル合成に用い
ることは、複雑な妨害スペクトルの形状をガウス分布又
はローレンツ分布だけの形状でシミュレートできない場
合に適宜応用できる。
以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明する。第２
図に、光源として誘導結合プラズマ（以下ICPと略す）
を用いるICP発光分析装置の光学系を示す。高周波電源2
4から自動マツチング回路23を通してコイル19に供給さ
れた高周波電力により、ICPのプラズマ18が形成され
る。サンプル21はトーチ20を通り、プラズマ18に導入さ
れ、各元素固有の波長の光を発光する。この光はレンズ
25とミラー26により、入射スリツト27上に結像する。ま
た、光束を平行にするコリメータイングミラー28、単一
波長の光を取出すグレーチング29および、出射スリツト
32上に入射スリツト27の像を結像させるカメラミラー31
より成るグレーチング29はグレーチング台30に取付けら
れており、グレーチング台30を回転することにより、光
束とグレーチングとの角度が変わり、出射スリツト32を
通過する光の波長を変化させることができる。出射スリ
ツト32を通過した光は、ホトマルチプライヤ33に入射
し、電気信号に変換させられる。
図に、光源として誘導結合プラズマ（以下ICPと略す）
を用いるICP発光分析装置の光学系を示す。高周波電源2
4から自動マツチング回路23を通してコイル19に供給さ
れた高周波電力により、ICPのプラズマ18が形成され
る。サンプル21はトーチ20を通り、プラズマ18に導入さ
れ、各元素固有の波長の光を発光する。この光はレンズ
25とミラー26により、入射スリツト27上に結像する。ま
た、光束を平行にするコリメータイングミラー28、単一
波長の光を取出すグレーチング29および、出射スリツト
32上に入射スリツト27の像を結像させるカメラミラー31
より成るグレーチング29はグレーチング台30に取付けら
れており、グレーチング台30を回転することにより、光
束とグレーチングとの角度が変わり、出射スリツト32を
通過する光の波長を変化させることができる。出射スリ
ツト32を通過した光は、ホトマルチプライヤ33に入射
し、電気信号に変換させられる。
第３図に、ICP発光分析装置の電気系システムを示す。
同図においてはプラズマ18からの光は分光器34で単色化
されるようになつており、この分光器はツエルニターナ
のマウンテイングとなつている。ホトマルチプライヤ33
で電気信号に変換されたプラズマからの発光信号は、プ
リアンプ35で増幅され、さらにマルチプレクサを有する
メインアンプ36で増幅され、A/Dコンバータ37でデイジ
タル信号に変換され、CPUバス38に入る。CPU42は、プラ
ズマ18からの信号を受取るだけでなく、PIA39を通して
ホトマルチプライヤ33への供給高電圧を制御し、さらに
ステツピングモータ制御回路40を通して、ステツピング
モータ41を制御している。ステツピングモータ41の回転
は、駆動力伝達機構を通して第２図に示したグレーチン
グ台30を回転させ、任意の波長範囲のスペクトルを取る
ことができる。CPU42は、GPIB43を通して、上位コンピ
ユータ44と接続されており、測定者はコンピユータ44の
CRTを見ながらキーボードよりび示することができる。
コンピユータ44には、GPIB43を介して、プリンタ45やXY
プロツタ46の出力装置が接続されている。
同図においてはプラズマ18からの光は分光器34で単色化
されるようになつており、この分光器はツエルニターナ
のマウンテイングとなつている。ホトマルチプライヤ33
で電気信号に変換されたプラズマからの発光信号は、プ
リアンプ35で増幅され、さらにマルチプレクサを有する
メインアンプ36で増幅され、A/Dコンバータ37でデイジ
タル信号に変換され、CPUバス38に入る。CPU42は、プラ
ズマ18からの信号を受取るだけでなく、PIA39を通して
ホトマルチプライヤ33への供給高電圧を制御し、さらに
ステツピングモータ制御回路40を通して、ステツピング
モータ41を制御している。ステツピングモータ41の回転
は、駆動力伝達機構を通して第２図に示したグレーチン
グ台30を回転させ、任意の波長範囲のスペクトルを取る
ことができる。CPU42は、GPIB43を通して、上位コンピ
ユータ44と接続されており、測定者はコンピユータ44の
CRTを見ながらキーボードよりび示することができる。
コンピユータ44には、GPIB43を介して、プリンタ45やXY
プロツタ46の出力装置が接続されている。
以上のシステムにおいて、本発明の内容はコンピユータ
44のメモリに蓄えられている。第１図（ａ）と（ｂ）を
用いて、妨害ピークの影響を取除くシーケンスを説明す
る。コンピユータ44からSTART（ステツプ１）の指示を
出すと、ステツピングモータ駆動回路40がステツピング
モータ41を回転させることにより、予め指定しておいた
波長区間のスペクトルを実測する（ステツプ２）。実測
したスペクトルは、コンピユータ44のCRT上に表示さ
れ、分析線を妨害するピークがある場合には、後述の第
１図（ｂ）に示す方法で、妨害ピークをシミユレーシヨ
ンして合成する（ステツプ３）。妨害ピークがうまくシ
ミユレートされていると、実測スペクトルを差引くこと
により（ステツプ４）、分析線から妨害を取除くことが
できる。この場合には分析線のピークハイトを求めるこ
とは容易にでき（ステツプ５）、試料の測定が完了する
（スイツプ６）。
44のメモリに蓄えられている。第１図（ａ）と（ｂ）を
用いて、妨害ピークの影響を取除くシーケンスを説明す
る。コンピユータ44からSTART（ステツプ１）の指示を
出すと、ステツピングモータ駆動回路40がステツピング
モータ41を回転させることにより、予め指定しておいた
波長区間のスペクトルを実測する（ステツプ２）。実測
したスペクトルは、コンピユータ44のCRT上に表示さ
れ、分析線を妨害するピークがある場合には、後述の第
１図（ｂ）に示す方法で、妨害ピークをシミユレーシヨ
ンして合成する（ステツプ３）。妨害ピークがうまくシ
ミユレートされていると、実測スペクトルを差引くこと
により（ステツプ４）、分析線から妨害を取除くことが
できる。この場合には分析線のピークハイトを求めるこ
とは容易にでき（ステツプ５）、試料の測定が完了する
（スイツプ６）。
第１図（ｂ）に、妨害スペクトルのシミユレーシヨンの
シーケンスを示す。シミユレーシヨンを始めるには（ス
テツプ７）、まず実測スペクトルにスムージングをか
け、ノイズを低減する（ステツプ８）。続いて分析線ピ
ークを妨害するピークの有無を確認し（ステツプ９）、
このとき、妨害ピークがある場合には、その数（＝Ｎ）
も数えておく（ステツプ10,11）。妨害ピークのシミユ
レーシヨンは１本ずつ行なう。第一の妨害ピークについ
て、中心波長を指定し（ステツプ12）、かつそのピーク
高さおよびバツクグラウンドレベルを指定する（ステツ
プ13）。さらにピークの半値幅を指定し（ステツプ1
4）、本実施例で用いているシミユレーシヨン関数であ
るガウス分布とローレンツ分布の割合を入力する（ステ
ツプ15）ことにより、一つの妨害ピークのシミユレーシ
ヨンが完了する（ステツプ17）。中心波長指定（ステツ
プ12）からガウス分布とローレンツ分布の割合入力（ス
テツプ15）までは、CRT上に表示されるシミユレートさ
れたスペクトルを見ながら、実測スペクトルに合わせる
ように実行する。いずれの過程においても、各ピラメー
タを入力した後でも、やり直しが可能であるようにシー
ケンスを組んでおく。第１の妨害ピークのシミユレーシ
ヨンが完了したら、第２さらに第３の妨害ピークをシミ
ユレートし、分析線に妨害を及ぼしているすべてのピー
クのシミユレーシヨンを行なうことにより、シミユレー
シヨンが完了する。
シーケンスを示す。シミユレーシヨンを始めるには（ス
テツプ７）、まず実測スペクトルにスムージングをか
け、ノイズを低減する（ステツプ８）。続いて分析線ピ
ークを妨害するピークの有無を確認し（ステツプ９）、
このとき、妨害ピークがある場合には、その数（＝Ｎ）
も数えておく（ステツプ10,11）。妨害ピークのシミユ
レーシヨンは１本ずつ行なう。第一の妨害ピークについ
て、中心波長を指定し（ステツプ12）、かつそのピーク
高さおよびバツクグラウンドレベルを指定する（ステツ
プ13）。さらにピークの半値幅を指定し（ステツプ1
4）、本実施例で用いているシミユレーシヨン関数であ
るガウス分布とローレンツ分布の割合を入力する（ステ
ツプ15）ことにより、一つの妨害ピークのシミユレーシ
ヨンが完了する（ステツプ17）。中心波長指定（ステツ
プ12）からガウス分布とローレンツ分布の割合入力（ス
テツプ15）までは、CRT上に表示されるシミユレートさ
れたスペクトルを見ながら、実測スペクトルに合わせる
ように実行する。いずれの過程においても、各ピラメー
タを入力した後でも、やり直しが可能であるようにシー
ケンスを組んでおく。第１の妨害ピークのシミユレーシ
ヨンが完了したら、第２さらに第３の妨害ピークをシミ
ユレートし、分析線に妨害を及ぼしているすべてのピー
クのシミユレーシヨンを行なうことにより、シミユレー
シヨンが完了する。
ここでシミユレーシヨン関数について説明しておく。ピ
ーク状の関数としてガウス分布（１）式とローレンツ分
布（２）式はよく用いられる関数である。
ーク状の関数としてガウス分布（１）式とローレンツ分
布（２）式はよく用いられる関数である。
IG（λ）＝ｂ・exp｛−a2（λ0−λ）2｝ ……（１） ただし、 IL（λ）＝d/｛１＋C2（λ0−λ）2｝ ……（２） ただし、 ガウス分布は、正規分布で知られる関数であり、一方ロ
ーレンツ分布はガウス分布に比べピークのすそ野が拡が
つた関数である。なおΔλはピークの半値幅λ0は中心
波長である。両者の分布を同時に考え合わせると少し複
雑な関数になり、計算に手間取るため、（３）式に示す
ガウス分布とローレンツ分布の一次結合の近似合成関数
を用いることが適当となる。
ーレンツ分布はガウス分布に比べピークのすそ野が拡が
つた関数である。なおΔλはピークの半値幅λ0は中心
波長である。両者の分布を同時に考え合わせると少し複
雑な関数になり、計算に手間取るため、（３）式に示す
ガウス分布とローレンツ分布の一次結合の近似合成関数
を用いることが適当となる。
IGL（λ）＝M/（１＋Ａ）＋（１−Ｍ）・exp（−Ａ・ln
2） ……（３） ただし、Ａ＝4.（λ0−λ）2／（Δλ）2 Ｍ＝０〜１ ここで、Ｍはガウス分布とローレンツ分布の割合を示す
ものであり、Ｍ＝０である場合、式（３）ガウス分布と
なり、Ｍ＝１である場合、式（３）はローレンツ分布と
なる。
2） ……（３） ただし、Ａ＝4.（λ0−λ）2／（Δλ）2 Ｍ＝０〜１ ここで、Ｍはガウス分布とローレンツ分布の割合を示す
ものであり、Ｍ＝０である場合、式（３）ガウス分布と
なり、Ｍ＝１である場合、式（３）はローレンツ分布と
なる。
次に、第４図から第７図を用いて本実施例の効果を示
す。第４図は、Ce100ppm中のPr406.281nm付近のスペク
トルを示す。Prの濃度は0ppm（図中47に示す）,0.5ppm
（図中48に示す）,1.0ppm（図中49に示す）および2.0pp
m（図中50に示す）であり。Prの分析線は、高濃度で存
在するCeの２つの波長406.256nm（図中51に示す）と40
6.294nm（図中52に示す）の妨害を受けており、Pr406.2
81nmの波長を使つてのppmのオーダの定量測定は事実上
不可能である。第５図にスペクトルのシミユレーシヨン
を示す。第５図で入力した各パラメータは次の表に示す
とおりである。
す。第４図は、Ce100ppm中のPr406.281nm付近のスペク
トルを示す。Prの濃度は0ppm（図中47に示す）,0.5ppm
（図中48に示す）,1.0ppm（図中49に示す）および2.0pp
m（図中50に示す）であり。Prの分析線は、高濃度で存
在するCeの２つの波長406.256nm（図中51に示す）と40
6.294nm（図中52に示す）の妨害を受けており、Pr406.2
81nmの波長を使つてのppmのオーダの定量測定は事実上
不可能である。第５図にスペクトルのシミユレーシヨン
を示す。第５図で入力した各パラメータは次の表に示す
とおりである。
第４図の例では、Prの0ppmのサンプルすなわちブランク
液が存在したため、妨害ピークのシミユレーシヨンにも
ブランク液のスペクトルを用いたが、ブランク液が存在
しない場合にも、本方法は有効である。実際の分析では
ブランク液が存在しない場合がしばしばであり、その場
合には、最も低濃度のサンプルのスペクトルを対象にシ
ミユレートすれば良い。
液が存在したため、妨害ピークのシミユレーシヨンにも
ブランク液のスペクトルを用いたが、ブランク液が存在
しない場合にも、本方法は有効である。実際の分析では
ブランク液が存在しない場合がしばしばであり、その場
合には、最も低濃度のサンプルのスペクトルを対象にシ
ミユレートすれば良い。
第６図に、実測スペクトルからシミユレーシヨンしたス
ペクトルを差引いたスペクトルを示す。Pr0ppm（図中54
に示す）、0.5ppm（図中55に示す）、1.0ppm（図中56に
示す）および2.0ppm（図中57に示す）の各スペクトルで
ある。
ペクトルを差引いたスペクトルを示す。Pr0ppm（図中54
に示す）、0.5ppm（図中55に示す）、1.0ppm（図中56に
示す）および2.0ppm（図中57に示す）の各スペクトルで
ある。
第７図に、第６図から求めたPr406.281nmの強度から作
成した検量線を示す。1ppm以下の濃度域まで、良い直線
性を示しており、本実施例を用いることにより、妨害ピ
ークの影響を取除くことができるが判る。
成した検量線を示す。1ppm以下の濃度域まで、良い直線
性を示しており、本実施例を用いることにより、妨害ピ
ークの影響を取除くことができるが判る。
以上説明したことから明らかなように、本発明によれ
ば、発光分析法において分析線が近接する発光線の妨害
を受けている場合、妨害線のスペクトルのみをガウス分
布とローレンツ分布の一次結合により数学的に合成する
手段は、中心波長、ピークハイト、反値幅以外にガウス
分布とローレンツ分布の割合を妨害スペクトルのシミユ
レーシヨンにおいて一つのパラメータとしてつかえるの
で、妨害スペクトルを良くシミユレーシヨンでき、実測
スペクトルと合成スペクトルの差を適切に取ることがで
き、妨害を取り除くことができる。これにより、第２あ
るいは第３の発光線を捜し、再び妨害の有無について検
討する手間を省くことができる。さらに、第２あるいは
第３の発光線を用いた場合には、感度の低下が避けられ
ないが、第１の発光線を用いることにより、高感度で分
析することができるようになる。
ば、発光分析法において分析線が近接する発光線の妨害
を受けている場合、妨害線のスペクトルのみをガウス分
布とローレンツ分布の一次結合により数学的に合成する
手段は、中心波長、ピークハイト、反値幅以外にガウス
分布とローレンツ分布の割合を妨害スペクトルのシミユ
レーシヨンにおいて一つのパラメータとしてつかえるの
で、妨害スペクトルを良くシミユレーシヨンでき、実測
スペクトルと合成スペクトルの差を適切に取ることがで
き、妨害を取り除くことができる。これにより、第２あ
るいは第３の発光線を捜し、再び妨害の有無について検
討する手間を省くことができる。さらに、第２あるいは
第３の発光線を用いた場合には、感度の低下が避けられ
ないが、第１の発光線を用いることにより、高感度で分
析することができるようになる。
第１図（ａ）および（ｂ）は本発明による発光分析装置
の要部を示すスペクトルシミユレーシヨンのフローチヤ
ート、第２図，第３図はそれぞれ本発明による発光分析
装置の光学系および電気系を示す構成図、第４図ないし
第７図はそれぞれ本発明による発光分析装置の効果を示
すグラフである。18……ICPプラズマ、24……高周波電
源、29……グレーチング、34……発光器、40……ステツ
ピングモータ駆動回路、41……ステツピングモータ、42
……CPU、44……コンピユータ。
の要部を示すスペクトルシミユレーシヨンのフローチヤ
ート、第２図，第３図はそれぞれ本発明による発光分析
装置の光学系および電気系を示す構成図、第４図ないし
第７図はそれぞれ本発明による発光分析装置の効果を示
すグラフである。18……ICPプラズマ、24……高周波電
源、29……グレーチング、34……発光器、40……ステツ
ピングモータ駆動回路、41……ステツピングモータ、42
……CPU、44……コンピユータ。
Claims (1)
- 【請求項１】元素固有の波長の光を分析の手段に用いる
発光分析装置において、分析対象元素の特定の波長付近
を波長スキャンし、発光スピクトルを実測する手段と、
該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、ガウス
分布とローレンツ分布の一次結合である次の式、 IGL（λ）＝M/（１＋Ａ）＋（１−Ｍ）・exp（−Ａ・1n
2） （ここで、Ａ＝４・（λ0−λ）2／（Δλ）2、 Ｍ＝０〜１、 ｛０…ガウス分布、１…ローレンツ分布｝、 Ｍはガウス分布とローレンツ分布の割合であり、λは波
長変数であり、λ0は中心波長であり、Δλは反値幅で
ある） を該妨害線のスペクトルのみの合成に使用し、実測スペ
クトルと合成スペクトルの差を取ることにより、分析線
のスペクトルを明確化する手段とを有することを特徴と
する発光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077196A JPH0718795B2 (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 発光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077196A JPH0718795B2 (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 発光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62233744A JPS62233744A (ja) | 1987-10-14 |
| JPH0718795B2 true JPH0718795B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=13627064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61077196A Expired - Lifetime JPH0718795B2 (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 発光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718795B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101423988B1 (ko) * | 2012-12-13 | 2014-08-01 | 광주과학기술원 | 레이저 플라즈마 스펙트럼을 이용한 시료 내 측정 대상 원소의 정량 분석 방법 |
| GB2613868B (en) * | 2021-12-17 | 2024-04-10 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Method of analysing a spectral peak |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59228134A (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-21 | Shimadzu Corp | スペクトル分解処理装置 |
| JPS60205336A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-16 | Res Dev Corp Of Japan | スペクトル分析装置における混在物質の干渉スペクトル除去処理方式 |
-
1986
- 1986-04-03 JP JP61077196A patent/JPH0718795B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62233744A (ja) | 1987-10-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Boumans | Detection limits and spectral interferences in atomic emission spectrometry | |
| JPH0765933B2 (ja) | 分光蛍光光度計 | |
| JP2011232106A (ja) | Ｉｃｐ発光分光分析装置 | |
| Milano et al. | Evaluation of a vidicon scanning spectrometer for ultraviolet molecular absorption spectrometry | |
| JP2018136253A (ja) | 発光分光分析装置 | |
| CN207816830U (zh) | 变波长激发及光谱范围可调的拉曼光谱仪 | |
| US5321970A (en) | Method and apparatus for calibrating a spectrometer | |
| US11927481B2 (en) | Optical technique for material characterization | |
| CN108303407A (zh) | 变波长激发及光谱范围可调的拉曼光谱仪及校准拼接方法 | |
| EP1521947B1 (en) | Scatter spectra method for x-ray fluorescent analysis with optical components | |
| JPS59168345A (ja) | 分光分析方法 | |
| JPH08210915A (ja) | デコンボリューション処理方法及び装置 | |
| JP4146697B2 (ja) | 温度計測方法および温度計測装置 | |
| JPH11190695A (ja) | 半導体応力測定用ラマン分光光度計 | |
| JPH0572039A (ja) | 分光蛍光光度計のスペクトル補正方法及びスペクトル補正機能付分光蛍光光度計 | |
| Margoshes et al. | Emission spectrometry | |
| JP2000283933A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPS62233744A (ja) | 発光分析装置 | |
| Haugen et al. | On-line computer control of a luminescent spectrometer with off-line computer data processing and display | |
| JPH0414298B2 (ja) | ||
| JP2000055809A (ja) | 顕微ラマン分光装置及び顕微ラマン分光測定方法 | |
| JP2544428B2 (ja) | 応力測定方法及び応力測定装置 | |
| JP2004177147A (ja) | 発光測定装置 | |
| JPH1151883A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置および方法 | |
| Kindevater et al. | Communication. Calibration in continuum-source atomic absorption by curve fitting the transmission profile |