JPH07196612A - 1,4−ジヒドロピリジン誘導体及びそれを用いる1,4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
1,4−ジヒドロピリジン誘導体及びそれを用いる1,4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体の製造方法Info
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- JPH07196612A JPH07196612A JP35048393A JP35048393A JPH07196612A JP H07196612 A JPH07196612 A JP H07196612A JP 35048393 A JP35048393 A JP 35048393A JP 35048393 A JP35048393 A JP 35048393A JP H07196612 A JPH07196612 A JP H07196612A
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Abstract
メトキシエチル基であり、R2 は2,4−ジメトキシベ
ンジル基、α,α−ジメチルベンジル基又は4,4′−
ジメトキシベンズヒドリル基である。)で表される1,
4−ジヒドロピリジン誘導体。前記一般式(I)で表さ
れる1,4−ジヒドロピリジン誘導体は、脱保護反応さ
せることにより一般式 【化2】 (式中R1 は前記と同じである。)で表される1,4−
ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体を製造することがで
きる。 【効果】 この化合物は、カルシウム拮抗作用に基づく
血管拡張作用をもつ循環器系薬剤を製造するための中間
体として有用である。
Description
−メトキシエチル基であり、R2 は2,4−ジメトキシ
ベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基又は4,4′
−ジメトキシベンズヒドリル基である。)で表される
1,4−ジヒドロピリジン誘導体、及び前記一般式
(I)で表される1,4−ジヒドロピリジン誘導体を脱
保護反応させることを特徴とする一般式
ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体の製造方法に関す
る。
ドロピリジンカルボン酸誘導体は、循環器系の薬剤を製
造するための中間体として用いられることが知られてい
る(例えば特開昭51−108075号参照)。
4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体を製造する方法
としては1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカルボ
ン酸ジエステル誘導体の一方のエステル基を塩基で選択
的に加水分解する方法が知られている。この方法の例と
しては、(イ)1,4−ジヒドロピリジン環の1位の窒
素原子に保護基を導入した化合物を用いる方法(T.S
hibanuma etal.,Chem.Phar
m.Bull.,28,2809(1980)参照)、
(ロ)脱保護するエステル基がシアノ基等の電子吸引性
基で置換されたアルキル基である化合物を用いる方法
(特公昭63−26749号参照)等である。
水分解する方法は、エステル基を加水分解反応させた後
酸による中和操作を必要とする。さらに(イ)の方法で
は1位の窒素原子の保護基を脱保護しなければならず、
特に大量合成では操作が煩雑であること等多くの問題点
があった。
で表される1,4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体
を製造する方法において、1,4−ジヒドロピリジンカ
ルボン酸を得る方法を見出すことを目的として鋭意研究
した結果、前記一般式(I)で表される誘導体が、酸性
条件下でジヒドロピリジン環の分解を伴うことなく、エ
ステル基R2 (前記と同じ)を選択的且つ容易に脱保護
でき、前記一般式(I)で表される1,4−ジヒドロピ
リジンカルボン酸誘導体を得ることができることを見い
出し本発明を完成した。尚本発明の脱保護方法を採用す
れば析出した結晶ロ取するのみで高收率且つ高純度の目
的物を得ることができるという特徴をもち合せている。
4−ジヒドロピリジン誘導体において、R1 は、炭素数
1〜3の低級アルキル基又は2−メトキシエチル基であ
る。炭素数1〜3の低級アルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基等
を挙げることができる。又R2 は2,4−ジメトキシベ
ンジル基、α,α−ジメチルベンジル基あるいは、4,
4′−ジメトキシベンズヒドリル基である。
1,4−ジヒドロピリジン誘導体は、例えば一般式
テート誘導体と一般式
ロトネート誘導体とを反応させることにより製造するこ
とができる。
不活性な溶媒中で行うことができる。溶媒としては例え
ば、ベンゼン、トルエンの芳香族炭化水素類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類等を挙げることが
できる。反応は、0℃〜150℃で行うことができる。
ドロピリジン誘導体は、1,4−ジヒドロピリジン環の
4位に不斉中心をもつ、光学活性な化合物である。そこ
で光学活性な前記一般式(I)で表される1,4−ジヒ
ドロピリジン誘導体は、例えば、前記一般式(III)で表
されるアセトアセテート誘導体と一般式
ミノ基である)で表されるクロトネート誘導体とを反応
させた後、アンモニア又はその酸付加塩を反応させるこ
とにより製造することができる。
用が好ましく、例えばブチルリチウム、リチウムジイソ
プロピルアミド、水素化ナトリウム、アルキルマグネシ
ウムハライド、フェニルマグネシウムハライド等を用い
ることができる。塩基の使用量は、通常前記一般式
(V)で表されるクロトネート誘導体に対して0.5〜
1.5当量用いることができる。反応は非プロトン性溶
媒中で行うことが望ましく、例えばジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類などの溶媒を用いることができ
る。反応は、−120〜110℃で進行するが、効率よ
く行うためには−100〜20℃で行うことが好まし
い。尚、本反応を行うには無水条件下で且つ不活性ガ
ス、例えば窒素ガス、アルゴンガス等の雰囲気下で行う
ことが目的物を収率よく得られる点で好ましい。アンモ
ニア又はその酸付加塩としては、例えばアンモニア、酢
酸アンモニウム、塩化アンモニウム等を挙げることがで
きる。使用量としては、前記一般式(III)で表されるア
セテート誘導体に対して1.0〜20当量、効率よく反
応を行うためには1.2〜5当量であることが好まし
い。
うに当たっては、溶媒中実施することが好ましく、例え
ばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、ヘキサン、ペンタン、ベンゼン、トルエン等の
炭化水素類を用いることができる。反応は、0〜60℃
で進行するが、操作が簡便である点で、室温が望まし
い。
アセトアセテート誘導体は、ジケテンと一般式R2 OH
(VI)(式中R2 は前記と同じである)で表されるアル
コール誘導体とを反応させることにより製造することが
できる。前記一般式(IV)で表されるアミノクロトネー
ト誘導体は、アセテート誘導体とアンモニアあるいはそ
の酸付加塩とを反応させて製造することができる。さら
に前記一般式(V)で表されるアミノクロトネート誘導
体は、アセテート誘導体と光学活性なアミン誘導体とを
反応させることにより製造することができる(特開平5
−78319号参照)。
(I)で表される1,4−ジヒドロピリジン誘導体とし
ては、例えば(±)−2,4−ジメトキシベンジル メ
チル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−
ニトロフェニル)−3,5−ジカルボキシレート、
(±)−α,α−ジメチルベンジル メチル 1,4−
ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニ
ル)−3,5−ジカルボキシレート、(±)−4,4′
−ジメトキシベンズヒドリル メチル 1,4−ジヒド
ロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)−
3,5−ジカルボキシレート、(±)−2,4−ジメト
キシベンジル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−4−(3−ニトロフェニル)−3,5−ジカル
ボキシレート、(−)−2,4−ジメトキシベンジル
メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−
(3−ニトロフェニル)−3,5−ジカルボキシレー
ト、(+)−α,α−ジメチルベンジル メチル 1,
4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフ
ェニル)−3,5−ジカルボキシレート、(−)−α,
α−ジメチルベンジル メチル 1,4−ジヒドロ−
2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)−3,
5−ジカルボキシレート、(+)−4,4′−ジメトキ
シベンズヒドリル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6
−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)−3,5−ジ
カルボキシレート、(−)−4,4′−ジメトキシベン
ズヒドリル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメ
チル−4−(3−ニトロフェニル)−3,5−ジカルボ
キシレート、(±)−2,4−ジメトキシベンジル エ
チル 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3
−ニトロフェニル)−3,5−ジカルボキシレート、
(±)−2,4−ジメトキシベンジル プロピル 1,
4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフ
ェニル)−3,5−ジカルボキシレート、(±)−2,
4−ジメトキシベンジル イソプロピル 1,4−ジヒ
ドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)
−3,5−ジカルボキシレート、(±)−2,4−ジメ
トキシベンジル 2−メトキシエチル 1,4−ジヒド
ロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)−
3,5−ジカルボキシレート等を挙げることができる。
4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体は、前記一般式
(I)で表される1,4−ジヒドロピリジン誘導体の一
方のエステル基を酸を用いて脱保護反応させて製造する
ことができる。
硫酸等の鉱酸類、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、塩化
水素等を挙げることができる。塩化水素は、有機溶媒に
溶解して用いることが好ましい。酸の使用量は、前記一
般式(I)で表される1,4−ジヒドロピリジン誘導体
に対して1.0〜5.0当量用いることができるが、収
率よく行うには1.0〜1.5当量用いることが好まし
い。反応を行うにあたっては、不活性溶媒中で行うこと
が好ましく、溶媒として例えばベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエス
テル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニト
リル、プロピオニトリル等のニトリル類等を単独又は混
合して用いることができる。また反応は、−30〜80
℃で進行するが、効率よく反応を行うには−30〜10
℃で行うことが好ましい。
表される1,4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体
は、通常反応溶媒中に析出するため、結晶をロ過するこ
とにより前記一般式(II)で表される1,4−ジヒドロ
ピリジンカルボン酸誘導体を単離することができる。
詳細に説明する。
−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェ
ニル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレート
ニトロベンジリデン)アセトアセテート385mg(1
mmol)及び3−アミノクロトネート115mg
(1.2mmol)の混合物を110℃、30分間加熱
した。反応混合物をベンゼンに溶解し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、標記(±)−2,
4−ジメトキシベンジルメチル 1,4−ジヒドロ−
2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジ
ン−3,5−ジカルボキシレート460mg(収率9
5.4%)を得た。
s),3.75(3H,s),3.82(3H,s),4.99(1H,d,J=12Hz),5.06(1
H,s),5.10(1H,d,J=12Hz),5.67(1H,s),6.40(1H,dd,J=8H
z,2Hz),6.42(1H,d,J=2Hz),7.05(1H,d,J=8Hz),7.28(1H,d
d,J=8Hz,8Hz),7.54(1H,d,J=8Hz),7.96(1H,d,J=8Hz),8.0
1(1H,s)
ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニ
ル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレート
デン)アセトアセテートと3−アミノクロトネートとを
用い、実施例1と同じ反応を行い、(±)−α,α−ジ
メチルベンジル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−
ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジン−3,
5−ジカルボキシレートを収率80%で得た。
s),2.30(3H,s),2.36(3H,s),3.66(3H,s),5.16(1H,s),5.6
2(1H,s),6.97-7.06(2H,m),7.12-7.25(3H,m),7.41(1H,d
d,J=8Hz,8Hz),7.67(1H,d,J=8Hz),8.06(1H,d,J=8Hz),8.1
6(1H,s)
1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニ
トロフェニル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレート
ロベンジリデン)アセトアセテートと3−アミノクロト
ネートとを用い、実施例1と同じ反応を行い、(±)−
4,4′−ジメトキシベンズヒドリル メチル 1,4
−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェ
ニル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレートを収率7
7.1%で得た。
s),3.65(3H,s),3.75(3H,s),3.80(3H,s),5.16(1H,s),5.7
3(1H,s),6.68(2H,d,J=9Hz),6.75(1H,s),6.86(2H,d,J=9H
z),6.87(2H,d,J=9Hz),7.21(2H,d,J=9Hz),7.28(1H,dd,J=
8Hz,8Hz),7.56(1H,d,J=8Hz),7.98(1H,d,J=8Hz),8.05(1
H,s)
1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニ
トロフェニル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレート
(R)−〔N−〔1−(t−ブトキシカルボニル)−2
−メチルプロピル〕アミノクロトネート2.985g
(11mmol)の無水テトラヒドロフラン15ml溶
液に1.2等量のフェニルマグネシウムブロマイドのテ
トラヒドロフラン溶液〔マグネシウム340mg(14
mg atom)、1,2−ジブロモエタン188mg
(1mmol)、ブロモベンゼン2.073g(13.
2mol)、無水テトラヒドロフラン13mlより調
整〕を−15℃で滴下し、その後さらに1時間攪拌し
た。次いで、この溶液を−80℃に冷却し、2,4−ジ
メトキシベンジル 2−(3−ニトロベンジリデン)ア
セトアセテート3.854g(10mmol)の無水テ
トラヒドロフラン19ml溶液を滴下し、滴下終了後さ
らに3時間攪拌した。反応溶液に20%−クエン酸ml
(34mmol)を滴下した後、室温に戻し、有機層を
分離し、水層をテトラヒドロフランで抽出し、有機層と
合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層に10%−クエ
ン酸ml(22mmol)を加え、室温で3時間攪拌し
たのち、飽和食塩水を加え有機層を分取し、さらに飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去した。残留物をメタノール50mlに溶解し、
酢酸アンモニウム3.85g(50mmol)を加え、
室温で1夜攪拌したのち、溶媒を減圧留去し、残留物を
塩化メチレンに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
次いで水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶
媒を減圧留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、光学純度94.8%eeの標記
(R)−(+)−2,4−ジメトキシベンジル メチル
1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニ
トロフェニル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレート
3.65g(収率75.6%)を得た。さらに18ml
のメタノールより再結晶し、100%eeの標記(R)
−(+)−2,4−ジメトキシベンジル メチル 1,
4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフ
ェニル)ピリジン−3,5−ジカルボキシレート2.8
9g(再結晶回収率79%)を得た。
タノール) IRν(cm-1,KBr):3368,1704,16
96,1530,1348 NMR(δ,CDCl3):2.35(6H,s),3.61(3H,s),3.75(3H,
s),3.82(3H,s),4.99(1H,d,J=12Hz),5.06(1H,s),5.10(1
H,d,J=12Hz),5.67(1H,s),6.40(1H,dd,J=8Hz,2Hz),6.42
(1H,d,J=2Hz),7.05(1H,d,J=8Hz),7.28(1H,dd,J=8Hz,8H
z),7.54(1H,d,J=8Hz),7.96(1H,d,J=8Hz),8.01(1H,s)
トキシカルボニル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジ
ン−3−カルボン酸
トキシベンジル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−
ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジン−3,
5−ジカルボキシレート482mg(1mmol)のア
セトニトリル10ml溶液を−15℃に冷却した。1N
塩化水素−酢酸エチル溶液1.2mlを滴下し、30
分攪拌した。析出した結晶を濾取し、少量の冷アセトニ
トリルで洗浄後減圧乾燥し、標記(±)−1,4−ジヒ
ドロ−2,6−ジメチル−5−メトキシカルボニル−4
−(3−ニトロフェニル)ピリジン−3−カルボン酸2
82mg(収率85%)を得た。
34,1352 NMR(δ,acetone-d6) ;2.37(6H,s),3.61(3H,s),5.
18(1H,s),7.52(1H,t,J=8Hz),7.74(1H,d,J=8Hz),8.01(1
H,s),8.15(1H,s),10.4(1H,s)
トキシカルボニル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジ
ン−3−カルボン酸
チルベンジル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジン−3,5
−ジカルボキシレート225mg(1mmol)のアセ
トニトリル10ml溶液を−15℃に冷却した。1N
塩化水素−酢酸エチル溶液1.2mlを滴下し、30分
攪拌した。析出した結晶を濾取し、少量の冷アセトニト
リルで洗浄後減圧乾燥し、標記(±)−1,4−ジヒド
ロ−2,6−ジメチル−5−メトキシカルボニル−4−
(3−ニトロフェニル)ピリジン−3−カルボン酸13
7mg(収率83%)を得た。この化合物は、実施例5
で合成した化合物と同じ融点、質量分析、IR及びNM
R分析結果を得た。
トキシカルボニル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジ
ン−3−カルボン酸
リル メチル 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−
4−(3−ニトロフェニル)ピリジン−3,5−ジカル
ボキシレート558mg(1mmol)のアセトニトリ
ル10ml溶液を−15℃に冷却した。1N 塩化水素
−酢酸エチル溶液1.2mlを滴下し、30分攪拌し
た。析出した結晶を濾取し、少量の冷アセトニトリルで
洗浄後減圧乾燥し、標記(±)−1,4−ジヒドロ−
2,6−ジメチル−5−メトキシカルボニル−4−(3
−ニトロフェニル)ピリジン−3−カルボン酸289m
g(収率87%)を得た。この化合物は、実施例5で合
成した化合物と同じ融点、質量分析、IR及びNMR分
析結果を得た。
−5−メトキシカルボニル−4−(3−ニトロフェニ
ル)ピリジン−3−カルボン酸
4−ジメトキシベンジル メチル1,4−ジヒドロ−
2,6−ジメチル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジ
ン−3,5−ジカルボキシレート482mg(1mmo
l)のアセトニトリル5ml溶液を−15℃に冷却し
た。1N 塩化水素−酢酸エチル溶液1.2mlを滴下
し、30分攪拌した。析出した結晶を濾取し、少量の冷
アセトニトリルで洗浄後減圧乾燥し、標記(S)−
(+)−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−5−メ
トキシカルボニル−4−(3−ニトロフェニル)ピリジ
ン−3−カルボン酸200mg(収率60%)を得た。
4,アセトン〕 NMR(δ,acetone-d6) ;2.37(6H,s),3.61(3H,s),5.
18(1H,s),7.52(1H,t,J=8Hz),7.74(1H,d,J=8Hz),8.01(1
H,s),8.15(1H,s),10.4(1H,s)
リジン化合物はそれぞれ対応するアセトアセテート誘導
体と3−アミノクロトネートとを用い、実施例1又は特
開昭51−108075号の方法により製造した。得ら
れた化合物は、それぞれ実施例5と同じ脱保護反応を試
みた。未反応の化合物は、反応温度を−15℃から室温
に上げてさらに反応を継続した。その比較例1〜5の結
果を表1に示す。
進行しない比較例1,2及び5の化合物は、さらにチオ
アニソールを溶媒とし、室温でトリフルオロ酢酸で反応
を行った。この反応条件下では比較例1,2及び5の化
合物は、目的のエステル基の脱保護反応以外の分解反応
を伴い、目的とするカルボン酸は得られなかった。
ヒドロピリジンカルボン酸誘導体は、循環器系疾患の治
療薬等に有用な1,4−ジヒドロピリジン誘導体の合成
中間体であり、前記一般式(II)で表される化合物は前
記一般式(I)で表される1,4−ジヒドロピリジン誘
導体を酸性条件下処理することにより、簡便かつ高收率
で製造することができる。
Claims (10)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 で表される1,4−ジヒドロピリジン誘導体(式中、R
1 は、炭素数1〜3の低級アルキル基又は2−メトキシ
エチル基であり、R2 は2,4−ジメトキシベンジル
基、α,α−ジメチルベンジル基又は4,4′−ジメト
キシベンズヒドリル基である)。 - 【請求項2】 R2 が2,4−ジメトキシベンジル基で
ある請求項1記載の1,4−ジヒドロピリジン誘導体。 - 【請求項3】 R2 がα,α−ジメチルベンジル基であ
る請求項1記載の1,4−ジヒドロピリジン誘導体。 - 【請求項4】 R2 が4,4′−ジメトキシベンズヒド
リル基である請求項1記載の1,4−ジヒドロピリジン
誘導体。 - 【請求項5】 R1 がメチル基である請求項2,3又は
4記載の1,4−ジヒドロピリジン誘導体。 - 【請求項6】 一般式 【化2】 で表される1,4−ジヒドロピリジン誘導体を脱保護反
応させることを特徴とする一般式 【化3】 で表される1,4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体
の製造方法(式中、R1は、炭素数1〜3の低級アルキ
ル基又は2−メトキシエチル基であり、R2 は2,4−
ジメトキシベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基又
は4,4′−ジメトキシベンズヒドリル基である)。 - 【請求項7】 酸を用いて脱保護反応させることを特徴
とする請求項6記載の製造方法。 - 【請求項8】 R2 が2,4−ジメトキシベンジル基で
ある請求項7記載の製造方法。 - 【請求項9】 R2 がα,α−ジメチルベンジル基であ
る請求項7記載の製造方法。 - 【請求項10】 R2 が4,4′−ジメトキシベンズヒ
ドリル基である請求項7記載の製造方法。
Priority Applications (1)
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| JP35048393A JP3202120B2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 1,4−ジヒドロピリジン誘導体及びそれを用いる1,4−ジヒドロピリジンカルボン酸誘導体の製造方法 |
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1993
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| CN103242221A (zh) * | 2012-02-08 | 2013-08-14 | 上海医药工业研究院 | 二氢吡啶类化合物的制备方法 |
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