JPH07201620A - Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法 - Google Patents

Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法

Info

Publication number
JPH07201620A
JPH07201620A JP5352055A JP35205593A JPH07201620A JP H07201620 A JPH07201620 A JP H07201620A JP 5352055 A JP5352055 A JP 5352055A JP 35205593 A JP35205593 A JP 35205593A JP H07201620 A JPH07201620 A JP H07201620A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
magnet
resin
glass
bonded magnet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5352055A
Other languages
English (en)
Inventor
Michio Yamashita
三千雄 山下
Tomoyuki Shiotani
知之 塩谷
Tetsuharu Hayakawa
徹治 早川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Special Metals Co Ltd filed Critical Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority to JP5352055A priority Critical patent/JPH07201620A/ja
Publication of JPH07201620A publication Critical patent/JPH07201620A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 めっき液や洗浄液等がポーラスなＲ−Ｆｅ−
Ｂ系ボンド磁石に侵入、残留するのを防止して、効率よ
くＮｉめっき等のめっき層が形成でき、耐食性及び耐熱
性を大幅に向上させ得る構成からなるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボ
ンド磁石並びにその製造方法の提供。 【構成】 ポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石にガラ
ス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガ
ラス等の無機物または樹脂を含浸させ、さらにバレル研
磨処理、サンドブラスト処理などの表面研磨処理を施す
ことによって、含浸効果を保持したまま表面を改質で
き、その後、直接、電解めっきあるいは無電解めっきし
ても、有害なめっき液、洗浄液の侵入が防止されている
ため、内部より発錆してめっき層が剥離するなどの耐食
性の劣化がなく、ワット浴などの一般的でかつ成膜効率
の良いめっき浴が使用できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、リング状や円板状の
種々形状からなるゴム磁石あるいはプラスチック磁石と
称されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の改良とその製造方
法に係り、特にガラス等の無機物または樹脂を含浸させ
て磁石空孔をなくして、ワット浴などの効率的なめっき
処理が可能なめっき液を用いて、耐食性、密着性を著し
く改善したＮｉめっきなどめっき層を量産性よく形成で
きるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】今日、ゴム磁石あるいはプラスチック磁
石とよばれるボンド磁石には、従来の等方性ボンド磁石
から異方性ボンド磁石へ、また、フェライト系ボンド磁
石からより高磁力の希土類系ボンド磁石へと高性能化が
進み、さらに、Ｓｍ−Ｃｏ系磁性材から焼結磁石では最
大エネルギー積が５０ＭＧＯｅ以上の高磁気特性を発揮
するＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材を用いるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石へと高性能化が図られてきた。
【０００３】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石は、所要のＲ−
Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し鋳造後に粉砕する溶解・粉砕法
（特開昭６０−６３３０４号、特開昭６０−１１９０７
０１号）、Ｃａ還元にて直接粉末を得る直接還元拡散法
（特開昭５９−２１９４０４号、特開昭６０−７７９４
３号）、所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解しジェットキ
ャスターでリボン箔を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合
金法、及び所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を水素中で加熱し
て分解並びに再結晶させる方法（ＨＤＤＲ法）（特開平
１−１３２１０６号、特開平２−４９０１号）等の各種
製法で得られた種々のＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材粉を用いる
が、いずれもその組成に極めて酸化しやすい成分相及び
Ｆｅを多量にを含むため錆びやすい問題があり、表面に
種々組成からなる樹脂層を電着塗装、スプレー法、浸漬
法、含浸法等で被着していた（例えば、特開平１−１６
６５１９号、特開平１−２４５５０４号）。
【０００４】これまでの樹脂塗装方法、例えば、スプレ
ー法ではリング状場合、塗料のロスが大きく、裏、表を
反転する必要あるため工数が多く、また、膜厚の均一性
も劣る問題があった。また、電着法では、膜厚は均一で
あるが、電極部の補修、すなわち、タッチアップが必要
であり、１つずつ電極に取り付けるため、工数がかかり
小物には不適な問題がある。浸漬法では、一定の膜厚の
均一な塗膜を得るのはタレなどがあり困難で、またポー
ラスなボンド磁石では空孔が充分に埋まらず、乾燥時に
膨れたり、製品同志のくっつき等の問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】量産性を考慮すると、
焼結型のＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁石で行われている金属めっき
を施すこと（特開昭６０−５４４０６号、特開昭６２−
１２０００３号）が考えられるが、ポーラスなボンド磁
石に金属めっきを施すと、浸漬した表面洗浄剤やめっき
液が磁石に侵入、残留して溶損もしくは発錆により金属
めっきが不可能であった。
【０００６】そこで、ポーラスなボンド磁石に侵入、残
留しても無害なめっき液を選定するか（特開平４−２７
６０９２号）、下地コーティングを施した後にめっきす
る（特開平３−１１７１４号、特開平４−２７６０９５
号）方法が提案されている。しかし、めっき液のｐＨ調
整や完全な無害化は困難であり、かつ成膜効率のよいめ
っき浴でない。また、下地の厚みのばらつきがめっき層
の不安定要素となり、十分な厚みの下地コーティングを
施すのであれば、表面のめっき層が不要になるという矛
盾がある。また、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に成膜効率
のよいＮｉめっきを施す方法として、特定組成のめっき
浴が提案（特開平４−９９１９２号）されているが、や
はりボンド磁石に侵入、残留して発錆させる恐れがあ
る。
【０００７】この発明は、めっき液や洗浄液等がポーラ
スなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に侵入、残留するのを防
止して、効率よくＮｉめっき等のめっき層が形成でき、
耐食性及び耐熱性を大幅に向上させ得る構成からなるＲ
−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石並びにその製造方法の提供を目
的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】発明者は、めっき液や洗
浄液等がポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に侵入、
残留するのを防止できる磁石の構成について種々検討し
た結果、当該磁石にガラス等の無機物または樹脂を含浸
処理して磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含
浸させ、さらにバレル研磨処理、サンドブラスト処理な
どの表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持
したまま表面を改質でき、その後、直接、電解めっきあ
るいは無電解めっきしても、有害なめっき液、洗浄液の
侵入が防止されているため、内部より発錆してめっき層
が剥離するなどの耐食性の劣化がなく、ワット浴などの
一般的でかつ成膜効率の良いめっき浴が使用できること
を知見し、この発明を完成した。
【０００９】すなわち、この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボ
ンド磁石の空孔に含浸させたガラス等の無機物または樹
脂を有したまま表面のガラス等の無機物または樹脂層を
除去した構成、さらに、磁石素材自体の裸表面に直接め
っき層が形成されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石である。
また、上記構成において、磁石の表層の空孔率が１％以
下であることを特徴とするＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石を
併せて提案する。
【００１０】この発明は、ボンド磁石の表層の空孔率が
３％以下であることを特徴とするが、空孔率とは、ポー
ラスなボンド磁石の表面より磁石内部に通じている空孔
の体積の割合であり、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石では圧
縮成形法にて成形した場合の空孔率は５〜２０％であ
る。また、空孔率が３％を越えると、めっき液が内部に
侵入し、残存して耐食性及び耐熱性を劣化させるため、
空孔率は３％を以下が望ましい。
【００１１】また、この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
磁石に樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等の無機
物または樹脂を含浸させ、かつ表面にガラス等の無機物
または樹脂層を形成する、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に
ガラス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔
にガラス等の無機物または樹脂を含浸させかつ表面にガ
ラス等の無機物または樹脂層を形成した後、ガラス等の
無機物または樹脂層上にめっき層を形成する。Ｒ−Ｆｅ
−Ｂ系ボンド磁石にガラス等の無機物または樹脂を含浸
処理して磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含
浸させた後、表面に形成されたガラス等の無機物または
樹脂層を除去する、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石にガラス
等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラ
ス等の無機物または樹脂を含浸させた後、表面に形成さ
れたガラス等の無機物または樹脂層を除去し、さらに磁
石表面にめっき層を形成する、めっき層の形成手段が無
電解めっき法であること、めっき層の形成手段が電解め
っき法であること、無電解めっき法にてめっき層を形成
した後、さらに電解めっき法にてめっき層を形成するこ
と、をそれぞれ特徴とするＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の
製造方法を提案する。
【００１２】この発明において、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
磁石は、等方性、異方性ボンド磁石いずれも対象とし、
例えば、圧縮成型の場合は、所要組成、性状の磁性粉末
に熱硬化性樹脂、カップリング剤、滑剤等を添加混練し
たのち、圧縮成型し加熱して樹脂を硬化して得られ、射
出成型、押し出し成型、圧延成型の場合は、磁性粉末に
熱可塑性樹脂、カップリング剤、滑剤等を添加混練した
のち、射出成型、押し出し成型、圧延成型のいずれかの
方法にて成型して得られる。Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材粉に
は、所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し鋳造後に粉砕す
る溶解・粉砕法、Ｃａ還元にて直接粉末を得る直接還元
拡散法、所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解しジェットキ
ャスターでリボン箔を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合
金法、所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し、これをガス
アトマイズで粉末化して熱処理するガスアトマイズ法、
所要原料金属を粉末化したのち、メカニカルアロイング
にて微粉末化して熱処理するメカニカルアロイ法及び所
要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を水素中で加熱して分解並びに
再結晶させる方法（ＨＤＤＲ法）等の各種製法で得た等
方性、異方性粉末が利用できる。また、バインダーに
は、射出成形では、６ＰＡ、１２ＰＡ、ＰＰＳ、ＰＢ
Ｔ、ＥＶＡ等、押出成形、カレンダーロール、圧延成形
には、ＰＶＣ、ＮＢＲ、ＣＰＥ、ＮＲ、ハイパロン等、
圧縮成形には、エポキシ樹脂、ＤＡＰ、フェノール樹脂
等が利用でき、必要に応じて、公知の金属バインダーを
用いることができる。さらに、助材には成形を容易にす
る滑剤や樹脂と無機フィラーの結合剤、シラン系、チタ
ン系等のカップリング剤などを用いることができる。
【００１３】この発明において、含浸処理するガラス等
の無機物または樹脂には、無機系の水ガラス、各種低融
点金属や金属粉、含量、あるいは有機系のメタアクリル
酸エステル、エポキシ樹脂、ポリアセチレン、ポリアニ
リンなどの単独あるいは複合した樹脂が利用できる。
【００１４】この発明において、含浸処理方法として
は、ガラス等の無機物または樹脂に浸漬するか、密閉容
器内にボンド磁石を収納して、容器内を真空化してから
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、続いて加圧す
る、容器内を真空化してからガラス等の無機物または樹
脂に浸漬し、再度真空化し、次いで加圧する、容器内の
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、真空化し、次い
で加圧する、容器内のガラス等の無機物または樹脂に浸
漬し、真空化する、容器内を真空化してからガラス等の
無機物または樹脂に浸漬する、容器内を真空化してから
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、再度真空化す
る、などの手順で含浸することができる。また、含浸処
理後の乾燥、硬化処理には、大気中、不活性ガス中また
は真空中で加熱する手段を用いることができる。さら
に、大きな空孔に含浸処理を施すために、金属粉や顔料
などをバレル中に挿入してボンド磁石表面にこすりつけ
たり、たたき込むなどの手段を用いることによって、よ
り効果的に含浸処理を施すことが可能である。
【００１５】この発明において、含浸処理後に磁石表面
に形成されたガラス等の無機物または樹脂層の除去方法
としては、バレル研磨処理、サンドブラスト処理などの
表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持した
まま表面を改質できる。バレル研磨としては、一般の回
転バレル、遠心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採
用することができ、また、サンドブラストとしては、一
般に用いられる研磨砂による表面研磨法、及び被研磨物
を容器内に投入し、その容器を回転させながらサンドブ
ラストを行う回転サンドブラスト法等を採用することが
できる。上記の表面研磨処理によって、含浸処理により
磁石表面に形成されたガラスなどの無機物または樹脂層
を除去するのみならず、磁石の表面酸化層も除去して、
活性なＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉の表面を得ることができ、
良好な耐食性及び密着性にすぐれためっき層の形成が可
能となる。
【００１６】この発明において、電解めっき方法として
は、Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｚｎ等から選ばれた少な
くとも１種の卑金属またはそれらの合金層、Ｂ，Ｓ，Ｐ
が含有することのあるめっき法が好ましい。めっき厚み
は５０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下である。めっ
き浴はＰＨ５．６以上が好ましい。この発明では、前述
の含浸処理が有効に作用するため、一般的なワット浴に
よってもめっき可能であり、十分な密着性、耐食性及び
耐熱性のあるめっき層が得られる。
【００１７】特に、Ｎｉめっき浴とめっき方法として
は、洗浄→電気Ｎｉめっき→洗浄→乾燥の工程で行うと
よい、Ｎｉめっき浴液に塩素イオンを含まない浴が好ま
しく、硫酸ニッケル、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウ
ム、クエン酸アンモニウムまたはクエン酸ナトリウム、
硫酸コバルト、ホウ酸の６成分を、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石の組成に応じて適宜選定し、Ａ成分（硫酸ニッケ
ル）を１００ｇ／ｌ〜１５０ｇ／ｌとして、Ｂ成分（硫
酸ナトリウム）、Ｃ成分（硫酸マグネシウム）との間
に、Ａ＝Ｂ＋Ｃという関係が望ましく、Ｂ、Ｃの組成比
はＢ：Ｃ＝３〜７：７〜３が好ましい。クエン酸アンモ
ニウムまたはクエン酸ナトリウムは、Ａ成分の２０〜２
５％が最適な組成範囲であり、この成分の１／３〜１／
２量のホウ酸が建浴時の添加量として適当である。硫酸
コバルトはＡ成分の１〜５％量が密着性を向上させる効
果を示すため好ましい。ｐＨ調整はアンモニア水にて行
いｐＨ５．４〜６．８範囲で使用し、常温状態の浴温が
好ましい。
【００１８】Ｎｉめっきは上述しためっき浴を用い、陽
極板にＳあるいはさらにＣｏ成分を含有するニッケルチ
ップを使用して所要電流を流し、電気Ｎｉめっきする
が、上記Ｎｉめっき浴のＮｉ成分の溶け出しを安定させ
るためは、電極にＳを含有するエスランドニッケルチッ
プを使用することが望ましい。めっき浴槽には、ボンド
磁石形状に応じて種々浴槽を使用することができ、特に
リング状ボンド磁石の場合、バレルめっき処理が望まし
い。
【００１９】この発明において、無電解めっき方法とし
ては、Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｃｏ等にＢ，Ｓ，Ｐが含有す
ることがあるめっき方が好ましく、めっき厚みは１０μ
ｍ以下が好ましく、めっき浴はｐＨ５〜９が好ましい。
【００２０】
【作用】この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石にガラ
ス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガ
ラス等の無機物または樹脂を含浸させることを特徴と
し、磁石の空孔が充填されているため有害なめっき液、
洗浄液の侵入が防止され、含浸ガラス等の無機物または
樹脂層の上に無電解めっきが可能で、耐食性、密着性を
著しく改善した耐食性被膜が得られる。さらに前記の含
浸処理後、バレル研磨処理、サンドブラスト処理などの
表面研磨処理を施して、表面に形成されたガラス等の無
機物または樹脂を除去することにより、磁石の空孔が封
孔された含浸効果を保持したまま表面を改質でき、その
後、直接、電解めっきあるいは無電解めっきしても、有
害なめっき液、洗浄液の侵入が防止されているため、内
部より発錆してめっき層が剥離するなどの耐食性の劣化
がなく、耐食性、密着性を著しく改善した耐食性被膜が
得られる。めっき層も無電解めっきの上に電解めっきす
る２層構成を取ることができる他、空孔が封孔されて有
害なめっき液、洗浄液の侵入が防止され、ワット浴など
の一般的でかつ成膜効率の良いめっき浴が使用できる。
【００２１】
【実施例】
実施例１ 超急冷法で作製したＮｄ１２ａｔ％、Ｆｅ７７ａｔ％、
Ｂ６ａｔ％、Ｃｏ５ａｔ％の組成からなる平均粒径１５
０μｍの合金粉末に、エポキシ樹脂２ｗｔ％を加えて混
練し、７Ｔｏｎ／ｃｍ2の圧力で圧縮成形した後、１５
０℃で１時間の熱処理し、外径２８×内径２５×高さ５
のリング状ボンド磁石を作製した。得られたボンド磁石
の磁石の特性は、Ｂｒ６．９ｋＧ、（ＢＨ）ｍａｘ９．
８ＭＧＯｅ、ｉＨｃ９．５ｋＯｅ、Ｈｒ３．５ｋＯｅ、
密度５．９５ｇ／ｃｍ3であった。得られた磁石２０ケ
を２０ｗｔ％のケイ酸ナトリウム水溶液に５分間浸漬
後、１５０℃で１時間加熱し、水分除去、硬化処理を行
った。その後、５リットルの容積の回転バレルに一辺が
３ｍｍ程度のテトラ状メディアをバレル容積の６０％投
入し、回転数２０ｒｐｍにて１０分間表面研磨を実施し
た。次いで、２〜３分水洗後に、バレル中で電気Ｎｉめ
っきを行った。Ｎｉめっきの膜厚は内径側２０μｍ、外
径側３０μｍであった。なお、電気Ｎｉめっき条件は次
の通りである。 極電流密度 １Ａ／ｄｍ2、 めっき時間 ３．５時間 めっき液組成 硫酸Ｎｉ１００ｇ／ｌ、硫酸ナトリウ
ム５０ｇ／ｌ、硫酸Ｍｇ５０ｇ／ｌ、クエン酸アンモニ
ウム２５ｇ／ｌ、硫酸Ｃｏ２ｇ／ｌ、ホウ酸１２ｇ／
ｌ、 浴温２０℃、ｐＨ６．６
【００２２】比較例 実施例１と同様方法で得たリング状ボンド磁石を浸漬処
理、研磨処理を行うことなく、直接、実施例１と同様の
電気Ｎｉめっき処理を行った。Ｎｉめっき処理後の磁石
特性を表１に示す。また、表１にはＮｉめっき前の磁石
の空孔率も示す。空孔率は油の中に磁石を入れ、真空
（０．１Ｔｏｒｒ以下）に１０分間吸引による重量変化
より算定した含油量により測定した。なお、Ｈｋは０．
９ＢｒでのＨｃを示し、この値が低いと角形比の低下、
すなわち、めっき液による劣化の度合を表す。
【００２３】実施例２ 実施例１において、浸漬処理、硬化処理として、純水に
水溶性アクリル樹脂成分を２０％溶解した液に５分間浸
漬後、９０℃で１時間加熱する処理を行った以外は、実
施例１と同様に製造したリング状ボンド磁石の特性を表
１に示す。
【００２４】実施例３ 実施例１において、浸漬処理、硬化処理として、大日本
インキ製（商品名プライオーフェン）フェノール樹脂１
０％を含有するＭＥＫ溶液に５分間浸漬後、１８０℃で
２時間の加熱処理する処理を行った以外は、実施例１と
同様に製造したリング状ボンド磁石の特性を表１に示
す。
【００２５】実施例４ 実施例１において、浸漬処理、硬化処理として、日東電
工製、ポリアニリン（商品名アニリ−ド）１５％を含有
するＮメチルー２ーピロリドン溶液に１０分間浸漬後１
２０℃に１時間加熱処理する処理を行った以外は、実施
例１と同様に製造したリング状ボンド磁石の特性を表１
に示す。
【００２６】実施例５ 実施例１において、浸漬処理、硬化処理として、油化シ
エル製常温液状の硬化剤入りエポキシ樹脂（商品名エピ
コート）に浸漬、１０分間、真空含浸後、１５０℃で１
時間硬化処理する処理を行った以外は、実施例１と同様
に製造したリング状ボンド磁石の特性を表１に示す。
【００２７】実施例６ 実施例５と同様の方法で含浸処理、硬化処理、ついでバ
レルによる研磨処理を行った後、無電解Ｎｉめっきを３
μｍ行った後、電気Ｎｉめっきを行った。この場合、Ｎ
ｉめっき層の厚みは外径で２５μｍ、内径で２０μｍで
あった。
【００２８】以上の実施例１〜６のＮｉめっきを施した
リング状ボンド磁石は、フェロキシルテストによるピン
ホールは認められず、８０℃×温度９０％×５００時間
の耐候性試験においても発錆が認められなかった。
【００２９】
【表１】
【００３０】実施例７ １２．５Ｎｄ−１１．５Ｃｏ−６Ｂ−１Ｇａ−６９Ｆｅ
（ａｔ％）なる組成のインゴットをＡｒ中高周波溶解し
た水冷銅鋳型に鋳造することによって得た後、水素吸蔵
粉砕法により３５ｍｅｓｈ以下に粗粉砕した。その後、
水素中８００℃で２時間加熱した後、８００℃に保存し
たまま１０-6Ｔｏｒｒまで真空処理後、室温まで冷却し
た。この粉末を１５０μｍ以下に整粒した後、エポキシ
樹脂２ｗｔ％を加えて混練し、１０ｋＯｅの磁界中で６
Ｔｏｎ／ｃｍ2の圧力で成形した後、１５０℃で１時間
熱処理することにより、８×１０×１２ｍｍの異方性ボ
ンド磁石を作成した。磁石特性は、Ｂｒ８．６ｋＧ、
（ＢＨ）ｍａｘ１７．５ＭＧＯｅ、ｉＨｃ１２．５ｋＯ
ｅ、Ｈｋ５．５ｋＯｅ、密度６．３ｇ／ｃｍ3であっ
た。この磁石を実施例５と同様の方法で含浸処理、研磨
処理を行った後、Ｎｉめっきを施した。Ｎｉめっきの膜
厚は２５μｍであり、Ｎｉめっき前の空孔率は０．１％
であった。また、Ｎｉめっき後、８０℃×温度９０％×
５００時間の耐候性試験においても発錆は認められなか
った。耐候性試験後の磁石特性は、Ｂｒ８．５ｋＧ、
（ＢＨ）ｍａｘ１７．３ＭＧＯｅ、ｉＨｃ１２．４ｋＯ
ｅ、Ｈｋ５．２ｋＯｅであり、劣化は認められなかっ
た。
【００３１】
【発明の効果】この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石
にガラス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空
孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸させ、さらにバ
レル研磨処理、サンドブラスト処理などの表面研磨処理
を施すことによって、含浸効果を保持したまま表面を改
質でき、その後、直接、電解めっきあるいは無電解めっ
きしても、有害なめっき液、洗浄液の侵入が防止されて
いるため、内部より発錆してめっき層が剥離するなどの
耐食性の劣化がなく、研磨処理により磁石表面が露出
し、電気伝導度が改善されるとともに表面が均一化され
、めっき膜の密着度が向上し、また、研磨行程で磁石
エッジ部のバリ除去、Ｒ加工ができるため、全面に均一
なめっき膜が形成でき、耐食性及び耐熱性がさらに向上
する。さらに、無電解めっきを下地に施すことによっ
て、小さい穴や複雑な形状に均一なめっき処理が可能と
なり、電気めっき前の電導性改善のためリング形状での
内径、外径の膜厚差が小さくなる。また、樹脂層がない
ため耐熱性が向上する効果があり、めっき膜強度、硬度
が向上したことにより、機械的破壊強度が大幅に向上
し、外観性、取扱い、搬送等に種々の利点がある。めっ
き処理にバレルめっき、一般的なワット浴等が採用で
き、量産性よく安価に提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 26/00 Ｂ Ｃ２５Ｄ 7/00 Ｋ Ｈ０１Ｆ 1/053 1/08

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の空孔に含浸
    させたガラス等の無機物または樹脂を有し、磁石素材自
    体の裸表面に直接めっき層が形成されたことを特徴とす
    るＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石。
  2. 【請求項２】 磁石の空孔率が３％以下であることを特
    徴とする請求項１のＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石。
  3. 【請求項３】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に樹脂を含浸
    処理して磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含
    浸させかつ表面に樹脂層を形成した後、ガラス等の無機
    物または樹脂層上にめっき層を形成することを特徴とす
    るＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
  4. 【請求項４】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石にガラス等の
    無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等
    の無機物または樹脂を含浸させた後、表面に形成された
    ガラス等の無機物または樹脂層を除去することを特徴と
    するＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
  5. 【請求項５】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石にガラス等の
    無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等
    の無機物または樹脂を含浸させた後、表面に形成された
    ガラス等の無機物または樹脂層を除去し、さらに磁石表
    面にめっき層を形成することを特徴とするＲ−Ｆｅ−Ｂ
    系ボンド磁石の製造方法。
  6. 【請求項６】 めっき層の形成手段が無電解めっき法で
    あることを特徴とする請求項５のＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
    磁石の製造方法。
  7. 【請求項７】 めっき層の形成手段が電解めっき法であ
    ることを特徴とする請求項５のＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁
    石の製造方法。
  8. 【請求項８】 無電解めっき法にてめっき層を形成した
    後、さらに電解めっき法にてめっき層を形成することを
    特徴とする請求項５のＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造
    方法。
JP5352055A 1993-12-29 1993-12-29 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法 Pending JPH07201620A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5352055A JPH07201620A (ja) 1993-12-29 1993-12-29 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5352055A JPH07201620A (ja) 1993-12-29 1993-12-29 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07201620A true JPH07201620A (ja) 1995-08-04

Family

ID=18421479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5352055A Pending JPH07201620A (ja) 1993-12-29 1993-12-29 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07201620A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999023676A1 (fr) * 1997-10-30 1999-05-14 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Procede de fabrication d'aimants a liaison r-fe-b presentant une haute resistance a la corrosion
JP2003073888A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Sumitomo Special Metals Co Ltd ニッケルめっき被膜の接着性劣化防止方法
WO2004064086A1 (ja) * 2003-01-10 2004-07-29 Neomax Co., Ltd. 耐酸化性希土類系磁石粉末およびその製造方法、希土類系ボンド磁石用コンパウンド、希土類系ボンド磁石およびその製造方法
JP2006148157A (ja) * 2006-01-26 2006-06-08 Daido Electronics Co Ltd 希土類ボンド磁石
KR101147571B1 (ko) * 2007-03-16 2012-05-21 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 Ｆｅ 기재의 연자성 합금, 비정질 합금 박대, 및 자성 부품
JP2014120632A (ja) * 2012-12-17 2014-06-30 Canon Electronics Inc 希土類ボンドマグネット及びその製造方法
CN119920563A (zh) * 2024-12-25 2025-05-02 东莞顺络电子有限公司 一种磁性体结构及其制备方法和电子设备

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999023676A1 (fr) * 1997-10-30 1999-05-14 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Procede de fabrication d'aimants a liaison r-fe-b presentant une haute resistance a la corrosion
US6365030B1 (en) * 1997-10-30 2002-04-02 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Method of manufacturing R-Fe-B bond magnets of high corrosion resistance
KR100371786B1 (ko) * 1997-10-30 2003-02-12 스미토모 도큐슈 긴조쿠 가부시키가이샤 고내식성 Ｒ-Ｆｅ-Ｂ계 본드 자석의 제조 방법
JP2003073888A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Sumitomo Special Metals Co Ltd ニッケルめっき被膜の接着性劣化防止方法
WO2004064086A1 (ja) * 2003-01-10 2004-07-29 Neomax Co., Ltd. 耐酸化性希土類系磁石粉末およびその製造方法、希土類系ボンド磁石用コンパウンド、希土類系ボンド磁石およびその製造方法
JP2006148157A (ja) * 2006-01-26 2006-06-08 Daido Electronics Co Ltd 希土類ボンド磁石
KR101147571B1 (ko) * 2007-03-16 2012-05-21 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 Ｆｅ 기재의 연자성 합금, 비정질 합금 박대, 및 자성 부품
JP2014120632A (ja) * 2012-12-17 2014-06-30 Canon Electronics Inc 希土類ボンドマグネット及びその製造方法
CN119920563A (zh) * 2024-12-25 2025-05-02 东莞顺络电子有限公司 一种磁性体结构及其制备方法和电子设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7053745B2 (en) Rare earth metal-based permanent magnet, and process for producing the same
CN1618108A (zh) 稀土类烧结磁体及其制造方法
KR100374398B1 (ko) 고내식성을 갖는 R-Fe-B계 본드 자석과 그 제조 방법
JPH07201620A (ja) Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法
JPH0927433A (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法
KR100371786B1 (ko) 고내식성 Ｒ-Ｆｅ-Ｂ계 본드 자석의 제조 방법
JP2000133541A (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法
JPH0927432A (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法
US6423369B1 (en) Process for sealing pores in molded product, and bonded magnet with pores sealed by the process
WO2004064086A1 (ja) 耐酸化性希土類系磁石粉末およびその製造方法、希土類系ボンド磁石用コンパウンド、希土類系ボンド磁石およびその製造方法
JP2003064454A (ja) 耐食性希土類磁石及びその製造方法
JP3232037B2 (ja) 圧壊強度にすぐれた高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石
JP3236816B2 (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法
JP3236815B2 (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法
JPH0613211A (ja) 耐食性のすぐれた永久磁石及びその製造方法
JP2631493B2 (ja) 耐食性永久磁石の製造方法
JPH11195515A (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法
JPH0646603B2 (ja) 耐食性のすぐれた永久磁石及びその製造方法
JP2631492B2 (ja) 耐食性永久磁石の製造方法
JP2922601B2 (ja) 樹脂成形型磁石
JP3236814B2 (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石及びその製造方法
JPH0545045B2 (ja)
JPH0569283B2 (ja)
JPWO1999023676A1 (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法
JPH11260614A (ja) 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040414