JPH0927432A - 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法 - Google Patents

高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法

Info

Publication number
JPH0927432A
JPH0927432A JP7199130A JP19913095A JPH0927432A JP H0927432 A JPH0927432 A JP H0927432A JP 7199130 A JP7199130 A JP 7199130A JP 19913095 A JP19913095 A JP 19913095A JP H0927432 A JPH0927432 A JP H0927432A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnet
resin
bonded magnet
treatment
plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7199130A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Watanabe
寛 渡辺
Harumi Hiraoka
春美 平岡
Michio Yamashita
三千雄 山下
Masataka Yoshimoto
正孝 吉本
Shigeru Yoshimoto
繁 吉本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M ENG KK
YOSHIMOTO KOGEISHA KK
Proterial Ltd
Original Assignee
M ENG KK
YOSHIMOTO KOGEISHA KK
Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M ENG KK, YOSHIMOTO KOGEISHA KK, Sumitomo Special Metals Co Ltd filed Critical M ENG KK
Priority to JP7199130A priority Critical patent/JPH0927432A/ja
Publication of JPH0927432A publication Critical patent/JPH0927432A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/026Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長時間の塩水噴霧試験でも発錆しない極めて
高い耐食性を有するR−Fe−B系ボンド磁石が容易に
得られ、磁石表面に高密着強度で耐食性被膜を設けるの
に最適な工業的工程からなる高耐食性R−Fe−B系ボ
ンド磁石の製造方法の提供。 【解決手段】 ポーラスなR−Fe−B系ボンド磁石に
ガラス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔
にガラス等の無機物または樹脂を含浸させ、さらにバレ
ル研磨処理、サンドブラスト処理などの表面研磨処理を
施すことによって、含浸効果を保持したまま表面を改質
でき、さらに、含浸処理、表面研磨処理を完了した磁石
にアルカリ性水による洗浄、あるいはアルカリ性領域の
りん酸塩水溶液によりバレル研摩することにより、磁石
表面への耐食性被膜の密着強度が著しく向上し、磁石素
材表面に直接樹脂被膜を設けるだけの処理でも長時間の
塩水噴霧試験で発錆しない耐食性が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、リング状や円板
状の種々形状からなるゴム磁石あるいはプラスチック磁
石と称されるR−Fe−B系ボンド磁石の耐食性を改善
する製造方法に係り、特にガラス等の無機物または樹脂
を含浸させて表面研磨して空孔をなくした後、アルカリ
性の水溶液で洗浄し、塗装したりワット浴などの効率的
なめっき処理を行い、耐食性、密着性を著しく改善した
塗装被膜層、Niめっきなどめっき層を量産性よく形成
できる高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】今日、ゴム磁石あるいはプラスチック磁
石とよばれるボンド磁石には、従来の等方性ボンド磁石
から異方性ボンド磁石へ、また、フェライト系ボンド磁
石からより高磁力の希土類系ボンド磁石へと高性能化が
進み、さらに、Sm−Co系磁性材から焼結磁石では最
大エネルギー積が50MGOe以上の高磁気特性を発揮
するR−Fe−B系磁性材を用いるR−Fe−B系ボン
ド磁石へと高性能化が図られてきた。
【0003】R−Fe−B系ボンド磁石は、所要のR−
Fe−B系合金を溶解し鋳造後に粉砕する溶解・粉砕法
(特開昭60−63304号、特開昭60−11907
01号)、Ca還元にて直接粉末を得る直接還元拡散法
(特開昭59−219404号、特開昭60−7794
3号)、所要のR−Fe−B系合金を溶解しジェットキ
ャスターでリボン箔を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合
金法、及び所要のR−Fe−B系合金を水素中で加熱し
て分解並びに再結晶させる方法(HDDR法)(特開平
1−132106号、特開平2−4901号)等の各種
製法で得られた種々のR−Fe−B系磁性材粉を用いる
が、いずれもその組成に極めて酸化しやすい成分相及び
Feを多量にを含むため錆びやすい問題があり、表面に
種々組成からなる樹脂層を電着塗装、スプレー法、浸漬
法、含浸法等で被着していた(例えば、特開平1−16
6519号、特開平1−245504号)。
【0004】これまでの樹脂塗装方法、例えば、スプレ
ー法ではリング状の場合、塗料のロスが大きく、裏、表
を反転する必要があるため工数が多く、また、膜厚の均
一性も劣る問題があった。また、電着法では、膜厚は均
一であるが、電極部の補修、すなわち、タッチアップが
必要であり、1つずつ電極に取り付けるため、工数がか
かり小物には不適な問題がある。浸漬法では、一定の膜
厚の均一な塗膜を得るのはタレなどがあり困難で、また
ポーラスなボンド磁石では空孔が充分に埋まらず、乾燥
時に膨れたり、製品同志のくっつき等の問題がある。
【0005】量産性を考慮すると、焼結型のR−Fe−
B系磁石で行われている金属めっきを施すこと(特開昭
60−54406号、特開昭62−120003号)が
考えられるが、ポーラスなボンド磁石に金属めっきを施
すと、浸漬した表面洗浄剤やめっき液が磁石に侵入、残
留して溶損もしくは発錆により金属めっきが不可能であ
った。
【0006】そこで、ポーラスなボンド磁石に侵入、残
留しても無害なめっき液を選定するか(特開平4−27
6092号)、下地コーティングを施した後にめっきす
る(特開平3−11714号、特開平4−276095
号)方法が提案されている。しかし、めっき液のpH調
整や完全な無害化は困難であり、かつ成膜効率のよいめ
っき浴でない。また、下地の厚みのばらつきがめっき層
の不安定要素となり、十分な厚みの下地コーティングを
施すのであれば、表面のめっき層が不要になるという矛
盾がある。
【0007】また、R−Fe−B系ボンド磁石に成膜効
率のよいNiめっきを施す方法として、特定組成のめっ
き浴が提案(特開平4−99192号)されているが、
やはりボンド磁石に侵入、残留して発錆させる恐れがあ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】そこで、発明者の一人
は先に、めっき液や洗浄液等がポーラスなR−Fe−B
系ボンド磁石に侵入、残留するのを防止して、効率よく
Niめっき等のめっき層が形成でき、耐食性及び耐熱性
を大幅に向上させ得る構成からなるR−Fe−B系ボン
ド磁石並びにその製造方法として、当該磁石にガラス等
の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス
等の無機物または樹脂を含浸させ、さらにバレル研磨処
理、サンドブラスト処理などの表面研磨処理を施す方法
を提案(特願平5−352055号)した。
【0009】上記の含浸並びに表面研磨処理により、含
浸効果を保持したままR−Fe−B系ボンド磁石の表面
を改質でき、その後、直接、電解めっきあるいは無電解
めっきしても、有害なめっき液、洗浄液の侵入が防止さ
れているため、内部より発錆してめっき層が剥離するな
どの耐食性の劣化がなく、ワット浴などの一般的でかつ
成膜効率の良いめっき浴が使用でき、また、得られたボ
ンド磁石の耐食性がすぐれている。
【0010】一方、今日R−Fe−B系ボンド磁石の用
途が拡大されており、例えば、自動車に搭載する各種電
子機器に用いる用途では、高湿潤雰囲気試験で発錆しな
い耐食性からさらに長時間の塩水噴霧試験でも発錆しな
い極めて高い耐食性が要求される。かかる耐食性を考慮
した場合、上記の含浸並びに表面研磨処理により改質さ
れてめっき液等の浸入が防止された磁石表面に設ける耐
食性の被膜は、さらに密着性よく均一に設けられる必要
がある。
【0011】この発明は、長時間の塩水噴霧試験でも発
錆しない極めて高い耐食性を有するR−Fe−B系ボン
ド磁石の提供を目的とし、高い耐食性を実現するための
種々の耐食性被膜が極めて高い密着強度で均一にR−F
e−B系ボンド磁石表面に形成できる製造方法の提供を
目的としている。また、めっき液や洗浄液等がポーラス
なR−Fe−B系ボンド磁石に侵入、残留するのを防止
した磁石表面に高密着強度で耐食性被膜を設けるのに最
適な工業的工程からなる高耐食性R−Fe−B系ボンド
磁石の製造方法の提供を目的としている。
【0012】
【課題を解決するための手段】発明者らは、先にポーラ
スなR−Fe−B系ボンド磁石にガラス等の無機物また
は樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等の無機物ま
たは樹脂を含浸させ、さらにバレル研磨処理、サンドブ
ラスト処理などの表面研磨処理を施すことによって、含
浸効果を保持したまま表面を改質できることを知見した
が、さらに、長時間の塩水噴霧試験でも発錆しない極め
て高い耐食性を有するR−Fe−B系ボンド磁石を目的
に、上記の磁石改質表面に直接設けた電解めっきあるい
は無電解めっきによるめっき層の密着強度の向上を目的
に種々検討したところ、含浸処理、表面研磨処理を完了
した磁石にアルカリ性水による洗浄を行ってから、Ni
めっきあるいはさらに樹脂塗装を施すと、めっき層の密
着強度が向上して耐食性が一段と向上することを知見し
た。
【0013】さらに発明者らは、耐食性被膜の密着強度
を向上させることができるアルカリ性水による洗浄効果
を一層向上させる下地処理方法について種々検討した結
果、アルカリ性領域のりん酸塩水溶液によりバレル研摩
することにより、磁石表面への耐食性被膜の密着強度が
著しく向上し、磁石素材表面に直接樹脂被膜を設けるだ
けの処理でも長時間の塩水噴霧試験で発錆しない耐食性
が得られることを知見し、この発明を完成した。
【0014】さらに、詳述すると、めっきなどの耐食性
被膜の密着強度を向上させる下地処理方法には、化成処
理として一般的なpH2〜3のりん酸亜鉛被膜処理が提
案(特開昭64−13707号、特開昭64−1490
2号)されているが、かかる処理では目的とするすぐれ
た耐食性が得られないことから、さらに検討したとこ
ろ、りん酸ナトリウムの水溶液等あるいはこれに必要に
応じて適量のりん酸亜鉛を添加したpH8以上のアルカ
リ性のりん酸塩水溶液によりバレル研摩することによ
り、磁石素材表面の洗浄度が一段と向上し、又必要に応
じて防錆効果も与えられことから、耐食性被膜の下地と
しての機能が十分に具備されて磁石表面への耐食性被膜
の密着強度が著しく向上することを知見し、この発明を
完成した。
【0015】すなわち、この発明は、R−Fe−B系ボ
ンド磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸さ
せた後、表面研摩処理を施して磁石表面を改質し、その
後pHが7.5以上のアルカリ性水での洗浄及び/又は
pHが7.5以上のアルカリ性水でのバレル研磨を行
い、磁石素材表面に直接めっき層を形成する高耐食性R
−Fe−B系ボンド磁石の製造方法である。
【0016】また、この発明は、上記の製造方法におい
て、めっき層を形成後、塗装を施すこと、または、洗浄
後に磁石素材表面に直接、半光沢電気Niめっき層を形
成し、さらにアルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル
研磨を行った後、塗装を施すことを特徴とする高耐食性
R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法を提案する。
【0017】また、この発明は、R−Fe−B系ボンド
磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸させた
後、表面研摩処理を施して磁石表面を改質し、その後ア
ルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル研磨を行い、塗
装を施す、あるいはりん酸塩水バレル研磨後に、めっき
層を形成し、さらに塗装を施す高耐食性R−Fe−B系
ボンド磁石の製造方法である。
【0018】さらに、この発明は、R−Fe−B系ボン
ド磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸させ
た後、表面研摩処理を施して磁石表面を改質し、その後
アルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル研磨を行い、
さらに電気Niめっき層を形成する高耐食性R−Fe−
B系ボンド磁石の製造方法である。
【0019】
【発明の実施の形態】この発明において、R−Fe−B
系ボンド磁石は、等方性、異方性ボンド磁石いずれも対
象とし、例えば、圧縮成型の場合は、所要組成、性状の
磁性粉末に熱硬化性樹脂、カップリング剤、滑剤等を添
加混練したのち、圧縮成型し加熱して樹脂を硬化して得
られ、射出成型、押し出し成型、圧延成型の場合は、磁
性粉末に熱可塑性樹脂、カップリング剤、滑剤等を添加
混練したのち、射出成型、押し出し成型、圧延成型のい
ずれかの方法にて成型して得られる。
【0020】R−Fe−B系磁性材粉には、所要のR−
Fe−B系合金を溶解し鋳造後に粉砕する溶解・粉砕
法、Ca還元にて直接粉末を得る直接還元拡散法、所要
のR−Fe−B系合金を溶解しジェットキャスターでリ
ボン箔を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合金法、所要の
R−Fe−B系合金を溶解し、これをガスアトマイズで
粉末化して熱処理するガスアトマイズ法、所要原料金属
を粉末化したのち、メカニカルアロイングにて微粉末化
して熱処理するメカニカルアロイ法及び所要のR−Fe
−B系合金を水素中で加熱して分解並びに再結晶させる
方法(HDDR法)等の各種製法で得た等方性、異方性
粉末が利用できる。
【0021】また、バインダーには、射出成形では、6
PA、12PA、PPS、PBT、EVA等、押出成
形、カレンダーロール、圧延成形には、PVC、NB
R、CPE、NR、ハイパロン等、圧縮成形には、エポ
キシ樹脂、DAP、フェノール樹脂等が利用でき、必要
に応じて、公知の金属バインダーを用いることができ
る。さらに、助材には成形を容易にする滑剤や樹脂と無
機フィラーの結合剤、シラン系、チタン系等のカップリ
ング剤などを用いることができる。
【0022】この発明において、含浸処理するガラス等
の無機物または樹脂には、無機系の水ガラス、各種低融
点金属や金属粉、顔料、あるいは有機系のメタアクリル
酸エステル、エポキシ樹脂、ポリアセチレン、ポリアニ
リンなどの単独あるいは複合した樹脂が利用できる。
【0023】この発明において、含浸処理方法として
は、ガラス等の無機物または樹脂に浸漬するか、密閉容
器内にボンド磁石を収納して、容器内を真空化してから
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、続いて加圧す
る、容器内を真空化してからガラス等の無機物または樹
脂に浸漬し、再度真空化し、次いで加圧する、容器内の
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、真空化し、次い
で加圧する、容器内のガラス等の無機物または樹脂に浸
漬し、真空化する、容器内を真空化してからガラス等の
無機物または樹脂に浸漬する、容器内を真空化してから
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、再度真空化す
る、などの手順で含浸することができる。また、含浸処
理後の乾燥、硬化処理には、大気中、不活性ガス中また
は真空中で加熱する手段を用いることができる。さら
に、大きな空孔に含浸処理を施すために、金属粉や顔料
などをバレル中に挿入してボンド磁石表面にこすりつけ
たり、たたき込むなどの手段を用いることによって、よ
り効果的に含浸処理を施すことが可能である。
【0024】この発明において、含浸処理後に磁石表面
に形成されたガラス等の無機物または樹脂層の除去方法
としては、バレル研磨処理、サンドブラスト処理などの
表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持した
まま表面を改質できる。バレル研磨としては、一般の回
転バレル、遠心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採
用することができ、また、サンドブラストとしては、一
般に用いられる研磨砂による表面研磨法、及び被研磨物
を容器内に投入し、その容器を回転させながらサンドブ
ラストを行う回転サンドブラスト法等を採用することが
できる。上記の表面研磨処理によって、含浸処理により
磁石表面に形成されたガラスなどの無機物または樹脂層
を除去するのみならず、磁石の表面酸化層も除去して、
活性なR−Fe−B系磁性粉の表面を得ることができ、
後述するアルカリ性水の洗浄、またはアルカリ性溶液の
バレル研磨を経て、極めて密着性にすぐれた樹脂層、め
っき層あるいは多層膜の形成が可能となる。
【0025】この発明の特徴であるアルカリ性水での洗
浄(バレル研磨)及び/またはアルカリ性のりん酸塩水
溶液内でのバレル研磨は、上述の表面研磨処理によって
得られた活性なR−Fe−B系磁性粉の表面を、被覆す
る樹脂層やめっき層にとってより密着強度を高めること
が可能な最適化表面となすことができると考えられ、ア
ルカリ性水または水溶液のすぐれた洗浄効果並びバレル
研磨の併用により、被覆する耐食性膜の密着強度を疎外
する不純物の完全な除去並びに改質効果が発揮されると
考えられる。
【0026】この発明において、アルカリ性水での洗浄
並びにバレル研磨は、水のpHを7.5以上に調整して
行うもので、pHの調整は公知の方法や薬剤の使用が可
能であり、洗浄はアルカリ性水に磁石を浸漬して、水流
による撹拌、バブリング、振動付加する他、水噴射な
ど、磁石形状寸法に応じて適宜選定すると良い。また、
アルカリ性水でのバレル研磨は、一般の回転バレル、遠
心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採用することが
でき、特に限定しないが、媒体に粒径0.5〜3mm、
好ましくは2〜3mm程度のセラミック球や金属球を用
いて、該球とアルカリ性水及び磁石との相対的な移動運
動が行われる条件で行うことが好ましく、水温は、10
〜30℃が好ましい。
【0027】この発明において、アルカリ性のりん酸塩
水溶液は、pHが8以上のりん酸塩水溶液であることが
望ましく、りん酸塩としては、りん酸ナトリウム、ピロ
りん酸カリなどがあり、水溶液濃度としては、りん酸塩
を0.5〜10wt%含有してpHが8以上となるよう
調整されたものが好ましく、pHの調整は公知の方法や
薬剤の使用が可能である。好ましいpHは8〜10であ
る。また、水溶液に防錆効果を磁石に与えることを目的
にりん酸亜鉛、酸化亜鉛、鉛丹、りん酸マンガン等を適
量添加することも可能であるが、この場合も水溶液のp
Hを8以上に保持する必要がある。
【0028】また、pHが8以上のアルカリ性のりん酸
塩水溶液を用いたバレル研磨は、一般の回転バレル、遠
心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採用することが
でき、特に限定しないが、媒体に粒径0.5〜3mm、
好ましくは2〜3mm程度のセラミック球や金属球を用
いて、該球とアルカリ性水及び磁石との相対的な移動運
動が行われる条件で行うことが好ましく、水溶液温度
は、10〜40℃が好ましい。
【0029】この発明において、電解めっき方法として
は、Ni,Cu,Sn,Co,Zn等から選ばれた少な
くとも1種の卑金属またはそれらの合金など、B,S,
Pが含有するめっき法が好ましい。めっき厚みは50μ
m以下、好ましくは20μm以下である。めっき浴はP
H5.6以上が好ましい。この発明では、前述の含浸処
理が有効に作用するため、一般的なワット浴によっても
めっき可能であり、十分な密着性、耐食性及び耐熱性の
あるめっき層が得られる。
【0030】特に、Niめっき浴とめっき方法として
は、洗浄→電気Niめっき→洗浄→乾燥の工程で行うと
よい、Niめっき浴液に塩素イオンを含まない浴が好ま
しく、硫酸ニッケル、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウ
ム、クエン酸アンモニウムまたはクエン酸ナトリウム、
硫酸コバルト、ホウ酸の6成分を、R−Fe−B系ボン
ド磁石の組成に応じて適宜選定し、A成分(硫酸ニッケ
ル)を100g/l〜150g/lとして、B成分(硫
酸ナトリウム)、C成分(硫酸マグネシウム)との間
に、A=B+Cという関係が望ましく、B、Cの組成比
はB:C=3〜7:7〜3が好ましい。クエン酸アンモ
ニウムまたはクエン酸ナトリウムは、A成分の20〜2
5%が最適な組成範囲であり、この成分の1/3〜1/
2量のホウ酸が建浴時の添加量として適当である。硫酸
コバルトはA成分の1〜5%量が密着性を向上させる効
果を示すため好ましい。pH調整はアンモニア水にて行
い、pH5.4〜6.8範囲で使用し、常温状態の浴温
が好ましい。
【0031】Niめっきは上述しためっき浴を用い、陽
極板にSあるいはさらにCo成分を含有するニッケルチ
ップを使用して所要電流を流し、電気Niめっきする
が、上記Niめっき浴のNi成分の溶け出しを安定させ
るためは、電極にSを含有するエスランドニッケルチッ
プを使用することが望ましい。めっき浴槽には、ボンド
磁石形状に応じて種々浴槽を使用することができ、特に
リング状ボンド磁石の場合、バレルめっき処理が望まし
い。
【0032】この発明において、無電解めっき方法とし
ては、Ni,Cu,Sn,Co等にB,S,Pが含有す
るめっき浴が好ましく、めっき厚みは10μm以下が好
ましく、めっき浴はpH5〜9が好ましい。
【0033】また、樹脂塗装の下地としての半光沢Ni
電気めっきは、Niめっき浴液に塩素イオンを含まない
浴が好ましく、硫酸ニッケル、硫酸ナトリウム、硫酸マ
グネシウム、クエン酸アンモニウムまたはクエン酸ナト
リウム、硫酸コバルト、ホウ酸の6成分を、R−Fe−
B系ボンド磁石の組成に応じて適宜選定し、A成分(硫
酸ニッケル)を100g/l〜150g/lとして、B
成分(硫酸ナトリウム)、C成分(硫酸マグネシウム)
との間に、A=B、1/2B=C という関係が望まし
い。
【0034】この発明において、磁石素材表面に直接、
あるいはめっき層の上に被覆する塗装には、公知のいず
れの樹脂塗装も可能であるが、電着塗装、静電塗装、ス
プレー法、真空含浸法、浸漬法等が好ましく、選定した
塗装法に応じて塗装前の乾燥工程が採用される。樹脂と
しては、エポキシ樹脂、熱硬化型アクリル樹脂、フェノ
ール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂、ビニル樹脂等の塗料用合成樹脂あるいはこれらの複
合樹脂を用い、浸漬法、スプレー法の場合、例えば、溶
液中の不揮発残部を5wt%〜20wt%に希釈するこ
とにより、磁石表面への浸透性を高め、密着度を向上さ
せ、その後焼付けるが、得られた樹脂層の厚みは、5μ
m以上であれば永久磁石体の耐食性が向上するが、25
μmを越えると、すぐれた寸法精度が得難くなるため、
5μm〜25μm厚みが好ましい。さらに上記の樹脂中
に酸化チタン、酸化鉄、シリカ微粉末等の金属酸化物や
カーボンブラック等の防錆用顔料を含有してもよい。
【0035】
【実施例】
実施例1 超急冷法で作製したNd12at%、Fe77at%、
B6at%、Co5at%の組成からなる平均粒径15
0μmの合金粉末に、エポキシ樹脂2wt%を加えて混
練し、7ton/cm2の圧力で圧縮成形した後、15
0℃で1時間の熱処理し、外径18×内径16×高さ5
mmのリング状ボンド磁石を作製した。得られたボンド
磁石の磁石の特性は、Br6.9kG、(BH)max
9.8MGOe、iHc9.5kOe、Hk3.5kO
e、密度5.95g/cm3であった。
【0036】得られた磁石100ケを20wt%のケイ
酸ナトリウム水溶液に5分間浸漬後、150℃で1時間
加熱し、水分除去、硬化処理を行った。その後、5リッ
トルの容積の回転バレルに一辺が3mm程度のテトラ状
粒体をバレル容積の60%投入し、磁石を回転数20r
pmにて10分間表面研磨を実施した。表面研磨後の磁
石の空孔率を、油の中に磁石を入れ、真空(0.1To
rr以下)に10分間吸引による重量変化より算定した
含油量により測定したところ、0.5%であった。
【0037】表面研摩処理を施して磁石表面を改質した
後、2.9リットルの容積の振動バレルに直径3mmの
スチールボールを見かけ容積1.8リットル入れて、p
H7.8の水とともに磁石を、10分間の水バレル研磨
した。
【0038】次いで、2〜3分、pH7.8の水で水洗
後に、バレル中で電気Niめっきを行った。Niめっき
の膜厚は内径側20μm、外径側30μmであった。な
お、電気Niめっき条件は次の通りである。 極電流密度 1A/dm2、 めっき時間 3.5時間 めっき液組成 硫酸Ni100g/l、硫酸ナトリウ
ム50g/l、硫酸Mg50g/l、クエン酸アンモニ
ウム25g/l、硫酸Co2g/l、ホウ酸12g/
l、 浴温20℃、pH6.6
【0039】比較例1 実施例1と同様方法で得たリング状ボンド磁石を樹脂浸
漬処理、研磨処理を行ったのち、アルカリ性水バレル研
摩を行うことなく、直接、実施例1と同様の電気Niめ
っき処理を行った。実施例1及び比較例1で得られたリ
ング状ボンド磁石を、温度35℃、濃度5%の塩水を噴
霧する環境に放置して48時間後、72時間後にボンド
磁石表面の発錆状況を観察した。比較例1の場合は48
時間後に表面に直径1mm以上の点錆のある磁石が見ら
れた。実施例1の場合は48時間後では30倍の顕微鏡
で確認できる直径1mm未満の点錆のある磁石が見られ
た。
【0040】実施例2 実施例1と同一条件で製造したリング状ボンド磁石に、
浸漬処理、硬化処理として、純水に水溶性アクリル樹脂
成分を20%溶解した液に5分間浸漬後、90℃で1時
間加熱する処理を行い、実施例1と同じ表面研摩処理を
施して磁石表面を改質した後、pH7.8の水を噴射し
て水洗した。
【0041】その後、半光沢電気Niめっき処理を行っ
た。Niめっきの膜厚は内径側20μm、外径側30μ
mであった。なお、電気Niめっき条件は次の通りであ
る。 極電流密度 1A/dm2、 めっき時間 3.5時間 めっき液組成 硫酸Ni150g/l、硫酸ナトリウ
ム150g/l、硫酸Mg300g/l、クエン酸アン
モニウム25g/l、硫酸Co2g/l、ホウ酸12g
/l、 浴温 30℃、pH6.5
【0042】半光沢電気Niめっき処理を行ったのち、
2.9リットルの容積の振動バレルに直径3mmのアル
ミナセラミックボールを見かけ容積1.8リットル入れ
て、5wt%のりん酸ナトリウム、0.5wt%りん酸
亜鉛を添加したpH9.0のりん酸塩水溶液とともに磁
石を、10分間のバレル研磨した。
【0043】アルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル
研磨を行った後、カチオン電着塗装を行った。カチオン
電着塗料として、エポキシ系のエスビアCED,S−2
0(神東塗料株式会社製)を使用し、磁石を陰極とし、
SUS316材板を陽極とし、温度28℃、電圧150
V、3分間の条件で電着塗装を施し、水洗し、風乾した
のち、180℃で30分間保持して、表面20μmの樹
脂層を被着した。
【0044】得られたリング状ボンド磁石を、比較例1
で説明した塩水噴霧試験に供したところ、48時間後、
72時間後のいずれも発錆は見られなかった。
【0045】実施例3 実施例1と同一条件で製造したリング状ボンド磁石に、
実施例1と同様の浸漬処理、硬化処理を施した後、アル
カリ性水バレル研磨を実施例2と同一のアルカリ性のり
ん酸塩水溶液内でのバレル研磨に代えた以外は、実施例
1と同様の電気Niめっき処理を行った。得られたリン
グ状ボンド磁石を比較例1で説明した塩水噴霧試験に供
したところ、48時間後、30倍の顕微鏡で確認できる
直径1mm未満の点錆のある磁石が見られたが、実施例
1の場合より数が少なかった。
【0046】実施例4 12.5Nd−11.5Co−6B−1Ga−69Fe
(at%)なる組成のインゴットをAr中高周波溶解し
た水冷銅鋳型に鋳造することによって得た後、水素吸蔵
粉砕法により35mesh以下に粗粉砕した。その後、
水素中800℃で2時間加熱した後、800℃に保存し
たまま10-6Torrまで真空処理後、室温まで冷却し
た。この粉末を150μm以下に整粒した後、エポキシ
樹脂2wt%を加えて混練し、10kOeの磁界中で6
ton/cm2の圧力で成形した後、150℃で1時間
熱処理することにより、18×16×5mmの異方性ボ
ンド磁石を作成した。磁石特性は、Br8.6kG、
(BH)max17.5MGOe、iHc12.5kO
e、Hk5.5kOe、密度6.3g/cm3であっ
た。
【0047】浸漬処理、硬化処理として、油化シエル製
常温液状の硬化剤入りエポキシ樹脂(商品名エピコー
ト)に浸漬、10分間、真空含浸後、150℃で1時間
硬化処理する処理を行った。その後、実施例1と同様の
回転バレルによる表面研磨を実施した。改質処理後の空
孔率は0.1%であった。
【0048】改質処理後、2.9リットルの容積の振動
バレルに直径3mmのアルミナセラミックボールを見か
け容積1.8リットル入れて、5wt%のピロりん酸カ
リ、0.5wt%りん酸亜鉛を添加した0.4リット
ル、pH9.5のりん酸塩水溶液とともに磁石を、10
分間のバレル研磨した。
【0049】アルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル
研磨を行った後、アニオン電着塗装を行った。アニオン
電着塗料として、アクリル系のエスビアED,108−
U(神東塗料株式会社製)を使用し、磁石を陽極とし、
SUS316材板を陰極とし、温度28℃、電圧230
V、2分間の条件で電着塗装を施し、水洗し、風乾した
のち、180℃で30分間保持して、表面20μmの樹
脂層を被着した。
【0050】得られたリング状ボンド磁石を比較例1で
説明した塩水噴霧試験に供したところ、48時間後には
全く発錆が認められず、72時間後に30倍の顕微鏡で
確認できる直径1mm未満の点錆のある磁石が見られ
た。
【0051】実施例5 実施例4と同一条件で製造したリング状ボンド磁石に、
実施例4と同様の浸漬処理、硬化処理を施した後、実施
例4と同一のアルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル
研磨した後、実施例2と同様の半光沢電気Niめっき処
理を行ったのち、実施例2と同様のカチオン電着塗装を
行った。得られたリング状ボンド磁石を比較例1で説明
した塩水噴霧試験に供したところ、48時間後全く異常
なく、72時間後も全く発錆が認められなかった。
【0052】
【発明の効果】この発明により、ポーラスなR−Fe−
B系ボンド磁石にガラス等の無機物または樹脂を含浸処
理して磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸
させ、さらにバレル研磨処理、サンドブラスト処理など
の表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持し
たまま表面を改質でき、さらに、含浸処理、表面研磨処
理を完了した磁石にアルカリ性水による洗浄、あるいは
アルカリ性領域のりん酸塩水溶液によりバレル研摩する
ことにより、磁石表面への耐食性被膜の密着強度が著し
く向上し、磁石素材表面に直接樹脂被膜を設けるだけの
処理でも長時間の塩水噴霧試験で発錆しない耐食性が得
られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平岡 春美 東京都町田市本町田3450番地102 有限会 社エム・エンジニアリング内 (72)発明者 山下 三千雄 大阪府三島郡島本町江川2丁目15ー17 住 友特殊金属株式会社山崎製作所内 (72)発明者 吉本 正孝 大阪府柏原市今町1丁目4−3 株式会社 吉本工芸社内 (72)発明者 吉本 繁 大阪府柏原市今町1丁目4−3 株式会社 吉本工芸社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 R−Fe−B系ボンド磁石の空孔にガラ
    ス等の無機物または樹脂を含浸させた後、表面研摩処理
    を施して磁石表面を改質し、その後pHが7.5以上の
    アルカリ性水での洗浄及び/又はpHが7.5以上のア
    ルカリ性水でのバレル研磨を行い、磁石素材表面に直接
    めっき層を形成する高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、めっき層を形成後、
    塗装を施す高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 請求項2において、洗浄後に磁石素材表
    面に直接、半光沢電気Niめっき層を形成し、さらにア
    ルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル研磨を行った
    後、塗装を施す高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製
    造方法。
  4. 【請求項4】 R−Fe−B系ボンド磁石の空孔にガラ
    ス等の無機物または樹脂を含浸させた後、表面研摩処理
    を施して磁石表面を改質し、その後アルカリ性のりん酸
    塩水溶液内でのバレル研磨を行い、塗装を施す高耐食性
    R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項4において、りん酸塩水バレル研
    磨後に、めっき層を形成し、さらに塗装を施す高耐食性
    R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法。
  6. 【請求項6】 R−Fe−B系ボンド磁石の空孔にガラ
    ス等の無機物または樹脂を含浸させた後、表面研摩処理
    を施して磁石表面を改質し、その後アルカリ性のりん酸
    塩水溶液内でのバレル研磨を行い、さらに電気Niめっ
    き層を形成する高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製
    造方法。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6において、改質後の磁石の
    空孔率が3%以下である高耐食性R−Fe−B系ボンド
    磁石の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項3〜6において、りん酸塩水溶液
    のpHが8以上である高耐食性R−Fe−B系ボンド磁
    石の製造方法。
JP7199130A 1995-07-11 1995-07-11 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法 Pending JPH0927432A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7199130A JPH0927432A (ja) 1995-07-11 1995-07-11 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7199130A JPH0927432A (ja) 1995-07-11 1995-07-11 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0927432A true JPH0927432A (ja) 1997-01-28

Family

ID=16402646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7199130A Pending JPH0927432A (ja) 1995-07-11 1995-07-11 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0927432A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006148157A (ja) * 2006-01-26 2006-06-08 Daido Electronics Co Ltd 希土類ボンド磁石
JP2007281433A (ja) * 2006-03-13 2007-10-25 Hitachi Ltd 結着剤を使用した磁石およびその製造方法
JP2008130780A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Hitachi Ltd 希土類磁石
JP2011134995A (ja) * 2009-12-25 2011-07-07 Tdk Corp ボンド磁石
CN107301916A (zh) * 2016-04-15 2017-10-27 北京中科三环高技术股份有限公司 各向异性钕铁硼粘结磁体及其制备方法
CN112992521A (zh) * 2021-03-09 2021-06-18 合肥工业大学 一种低失重烧结NdFeB磁体的制备方法
CN113555208A (zh) * 2021-06-11 2021-10-26 杭州电子科技大学 一种烧结钕铁硼磁体的表面处理方法及烧结钕铁硼磁体

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006148157A (ja) * 2006-01-26 2006-06-08 Daido Electronics Co Ltd 希土類ボンド磁石
JP2007281433A (ja) * 2006-03-13 2007-10-25 Hitachi Ltd 結着剤を使用した磁石およびその製造方法
JP2008130780A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Hitachi Ltd 希土類磁石
JP2011134995A (ja) * 2009-12-25 2011-07-07 Tdk Corp ボンド磁石
CN107301916A (zh) * 2016-04-15 2017-10-27 北京中科三环高技术股份有限公司 各向异性钕铁硼粘结磁体及其制备方法
CN112992521A (zh) * 2021-03-09 2021-06-18 合肥工业大学 一种低失重烧结NdFeB磁体的制备方法
CN113555208A (zh) * 2021-06-11 2021-10-26 杭州电子科技大学 一种烧结钕铁硼磁体的表面处理方法及烧结钕铁硼磁体
CN113555208B (zh) * 2021-06-11 2023-11-10 杭州电子科技大学 一种烧结钕铁硼磁体的表面处理方法及烧结钕铁硼磁体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7053745B2 (en) Rare earth metal-based permanent magnet, and process for producing the same
KR100374398B1 (ko) 고내식성을 갖는 R-Fe-B계 본드 자석과 그 제조 방법
US6281774B1 (en) Corrosion-resistant permanent magnet and method for producing the same
JPH0927432A (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法
JPH0927433A (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法
JPH03173106A (ja) 耐食性被膜を有する希土類永久磁石およびその製造方法
JP2000133541A (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石の製造方法
KR100371786B1 (ko) 고내식성 R-Fe-B계 본드 자석의 제조 방법
JPH07201620A (ja) R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JPH09205013A (ja) 防錆被覆層を有するボンド磁石とその防錆被覆処理方法
US6423369B1 (en) Process for sealing pores in molded product, and bonded magnet with pores sealed by the process
EP1583111B1 (en) Oxidation-resistant rare earth containing magnet powder and method for production thereof, compound for rare earth containing bonded magnet, rare earth containing bonded magnet and method for production thereof
JP3519069B2 (ja) 希土類系焼結磁石
JP3236813B2 (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JP3236815B2 (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JP3232037B2 (ja) 圧壊強度にすぐれた高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石
JP3236816B2 (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JPH04288804A (ja) 永久磁石およびその製造方法
EP1032000A1 (en) Corrosion-resistant permanent magnet and method for producing the same
JP3236814B2 (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石及びその製造方法
JPH11260614A (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JPH0499192A (ja) 樹脂成形型磁石へのNiめっき方法とNiめっき浴
JPH11283818A (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JPH11238641A (ja) 高耐食性R−Fe−B系ボンド磁石とその製造方法
JP4265168B2 (ja) 永久磁石の製造方法