JPH0720910B2 - 光学活性カルボン酸の製法 - Google Patents
光学活性カルボン酸の製法Info
- Publication number
- JPH0720910B2 JPH0720910B2 JP62192339A JP19233987A JPH0720910B2 JP H0720910 B2 JPH0720910 B2 JP H0720910B2 JP 62192339 A JP62192339 A JP 62192339A JP 19233987 A JP19233987 A JP 19233987A JP H0720910 B2 JPH0720910 B2 JP H0720910B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- binap
- group
- acid
- formula
- hydrogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 title description 17
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 24
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000009876 asymmetric hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 26
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 12
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- CMWTZPSULFXXJA-UHFFFAOYSA-N Naproxen Natural products C1=C(C(C)C(O)=O)C=CC2=CC(OC)=CC=C21 CMWTZPSULFXXJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- -1 diphenylphosphino Chemical group 0.000 description 9
- CMWTZPSULFXXJA-VIFPVBQESA-N naproxen Chemical compound C1=C([C@H](C)C(O)=O)C=CC2=CC(OC)=CC=C21 CMWTZPSULFXXJA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 9
- 229960002009 naproxen Drugs 0.000 description 9
- WLAMNBDJUVNPJU-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutyric acid Chemical compound CCC(C)C(O)=O WLAMNBDJUVNPJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- OVBFMEVBMNZIBR-UHFFFAOYSA-N 2-methylvaleric acid Chemical compound CCCC(C)C(O)=O OVBFMEVBMNZIBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical group OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WLAMNBDJUVNPJU-BYPYZUCNSA-N (S)-2-methylbutyric acid Chemical compound CC[C@H](C)C(O)=O WLAMNBDJUVNPJU-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 4
- MJWURUPGNUFKMR-UHFFFAOYSA-N 2-(6-methoxynaphthalen-2-yl)prop-2-enoic acid Chemical compound C1=C(C(=C)C(O)=O)C=CC2=CC(OC)=CC=C21 MJWURUPGNUFKMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- WLAMNBDJUVNPJU-SCSAIBSYSA-N (R)-2-methylbutyric acid Chemical compound CC[C@@H](C)C(O)=O WLAMNBDJUVNPJU-SCSAIBSYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GTBPUYSGSDIIMM-UHFFFAOYSA-N phosphane;ruthenium Chemical compound P.[Ru] GTBPUYSGSDIIMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- KUSYIGBGHPOWEL-SECBINFHSA-N (2r)-2-methylnonanoic acid Chemical compound CCCCCCC[C@@H](C)C(O)=O KUSYIGBGHPOWEL-SECBINFHSA-N 0.000 description 2
- ZZEWMYILWXCRHZ-QMMMGPOBSA-N (3s)-3-phenylbutanoic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C)C1=CC=CC=C1 ZZEWMYILWXCRHZ-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 2
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 2-Methyl-2-butenoic acid Natural products C\C=C(\C)C([O-])=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 2
- JJYWRQLLQAKNAD-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-pentenoic acid Natural products CCC=C(C)C(O)=O JJYWRQLLQAKNAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUSYIGBGHPOWEL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl nonaoic acid Chemical compound CCCCCCCC(C)C(O)=O KUSYIGBGHPOWEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWAXZEVKWWBDOH-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenenonanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(=C)C(O)=O OWAXZEVKWWBDOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002148 Gellan gum Polymers 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOPQYDKQISFMJI-UHFFFAOYSA-N [1-[2-bis(4-methylphenyl)phosphanylnaphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]-bis(4-methylphenyl)phosphane Chemical group C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 IOPQYDKQISFMJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- GJWSUKYXUMVMGX-UHFFFAOYSA-N citronellic acid Chemical compound OC(=O)CC(C)CCC=C(C)C GJWSUKYXUMVMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTCUCQWIICFPOD-SECBINFHSA-N (1r)-1-naphthalen-1-ylethanamine Chemical compound C1=CC=C2C([C@H](N)C)=CC=CC2=C1 RTCUCQWIICFPOD-SECBINFHSA-N 0.000 description 1
- VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene Chemical compound C\1C\C=C/CC\C=C/1 VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N 0.000 description 1
- 239000001373 (E)-2-methylpent-2-enoic acid Substances 0.000 description 1
- LKUWQWDAIWXHIY-CHNJZELVSA-N (z)-2-methylbut-2-enoic acid Chemical compound C\C=C(\C)C(O)=O.C\C=C(\C)C(O)=O LKUWQWDAIWXHIY-CHNJZELVSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylnaphthalene Chemical group C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLFDTUJKOAQSGG-UHFFFAOYSA-N 2-(6-methylidenecyclohexa-2,4-dien-1-yl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1C=CC=CC1=C NLFDTUJKOAQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWBWHPZXKLUEX-VOTSOKGWSA-N 2-Methylcinnamic Acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1\C=C\C(O)=O RSWBWHPZXKLUEX-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- JJYWRQLLQAKNAD-PLNGDYQASA-N 2-methyl-2-pentenoic acid Chemical compound CC\C=C(\C)C(O)=O JJYWRQLLQAKNAD-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- JZINNAKNHHQBOS-AATRIKPKSA-N 3-methylcinnamic acid Chemical compound CC1=CC=CC(\C=C\C(O)=O)=C1 JZINNAKNHHQBOS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- RVZRKTNERMCUSL-UHFFFAOYSA-N 5-(5-amino-2-diphenylphosphanylnaphthalen-1-yl)-6-diphenylphosphanylnaphthalen-1-amine Chemical group C=1C=C2C(N)=CC=CC2=C(C=2C3=CC=CC(N)=C3C=CC=2P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RVZRKTNERMCUSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 229930008398 Citronellate Natural products 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 102100026009 NF-kappa-B inhibitor zeta Human genes 0.000 description 1
- 101710115530 NF-kappa-B inhibitor zeta Proteins 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XNCRUNXWPDJHGV-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-cinnamic acid Chemical compound OC(=O)C(C)=CC1=CC=CC=C1 XNCRUNXWPDJHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- YPGCWEMNNLXISK-UHFFFAOYSA-N hydratropic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C1=CC=CC=C1 YPGCWEMNNLXISK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCWQJOGVLLNWEO-UHFFFAOYSA-N methylsilicon Chemical compound [Si]C NCWQJOGVLLNWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWRMIVPSTYHCNZ-UHFFFAOYSA-N n-[5-(5-acetamido-2-diphenylphosphanylnaphthalen-1-yl)-6-diphenylphosphanylnaphthalen-1-yl]acetamide Chemical group C=1C=C2C(NC(=O)C)=CC=CC2=C(C=2C3=CC=CC(NC(C)=O)=C3C=CC=2P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KWRMIVPSTYHCNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- CPTGZFLTLAJLTL-UHFFFAOYSA-L ruthenium(2+);2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Ru+2].[O-]C(=O)C(F)(F)F.[O-]C(=O)C(F)(F)F CPTGZFLTLAJLTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DTXSRICYVCKUME-UHFFFAOYSA-L ruthenium(2+);diacetate Chemical compound [Ru+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O DTXSRICYVCKUME-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LECPYKYNIWHZFT-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+) triperchlorate Chemical compound [Ru+3].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O LECPYKYNIWHZFT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は不斉合成法により光学活性カルボン酸を製造す
る方法、更に詳しくは次の一般式（II） （式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基又は置換基を有してもよいアリール基を示
し、R3は水素原子、アルキル基、アルケニル基又は置換
基を有してもよいナフチル基を示す。ただし、R1、R2及
びR3が同時に水素原子であることはなく、R1及びR2が同
時に水素原子である場合はR3がメチル基でなく、R3が水
素原子である場合はR1とR2が水素原子以外の異なる基で
ある。） で表わされるα，β−不飽和カルボン酸を、一般式（II
I）（Ｖ）又は（VII） RuｘＨｙClｚ（R4-BINAP）２（Ｓ）ｐ （III） （式中、R4-BINAPは式（IV） で表わされる三級ホスフインを示し、R4は水素原子又は
メチル基を示し、Ｓは三級アミンを示し、ｙが０のとき
ｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１のときｘは１、
ｚは１、ｐは０を示す。） （式中、X-R5-BINAPは式（VI） で表わされる三級ホスフインを示し、R5は水素原子又は
低級アルキル基を示し、Ｘは水素原子、アミノ基、アセ
チルアミノ基又はスルホン基を示し、R6及びR7は低級ア
ルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルキル基が
置換してもよいフエニル基、α−アミノアルキル基又は
α−アミノフエニルアルキル基を示すか、あるいはR6と
R7が一緒になってアルキレン基を示し、ｑは１又は２を
示す。） 〔RuHｌ（R4-BINAP）ｖ〕Ｙｗ （VII） （式中、R4-BINAPは前記と同様の意義を有し、ＹはCl
O4、BF4又はPF6を示し、ｌが０ときｖは１、ｗは２を示
し、ｌが１のときｖは２、ｗは１を示す） で表わされるルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を触
媒として不斉水素化することを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、R1、R2及びR3は前記と同様の意義を有する） で表わされる光学活性カルボン酸の製法に関する。
る方法、更に詳しくは次の一般式（II） （式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基又は置換基を有してもよいアリール基を示
し、R3は水素原子、アルキル基、アルケニル基又は置換
基を有してもよいナフチル基を示す。ただし、R1、R2及
びR3が同時に水素原子であることはなく、R1及びR2が同
時に水素原子である場合はR3がメチル基でなく、R3が水
素原子である場合はR1とR2が水素原子以外の異なる基で
ある。） で表わされるα，β−不飽和カルボン酸を、一般式（II
I）（Ｖ）又は（VII） RuｘＨｙClｚ（R4-BINAP）２（Ｓ）ｐ （III） （式中、R4-BINAPは式（IV） で表わされる三級ホスフインを示し、R4は水素原子又は
メチル基を示し、Ｓは三級アミンを示し、ｙが０のとき
ｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１のときｘは１、
ｚは１、ｐは０を示す。） （式中、X-R5-BINAPは式（VI） で表わされる三級ホスフインを示し、R5は水素原子又は
低級アルキル基を示し、Ｘは水素原子、アミノ基、アセ
チルアミノ基又はスルホン基を示し、R6及びR7は低級ア
ルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルキル基が
置換してもよいフエニル基、α−アミノアルキル基又は
α−アミノフエニルアルキル基を示すか、あるいはR6と
R7が一緒になってアルキレン基を示し、ｑは１又は２を
示す。） 〔RuHｌ（R4-BINAP）ｖ〕Ｙｗ （VII） （式中、R4-BINAPは前記と同様の意義を有し、ＹはCl
O4、BF4又はPF6を示し、ｌが０ときｖは１、ｗは２を示
し、ｌが１のときｖは２、ｗは１を示す） で表わされるルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を触
媒として不斉水素化することを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、R1、R2及びR3は前記と同様の意義を有する） で表わされる光学活性カルボン酸の製法に関する。
〔従来の技術〕 上記（Ｉ）式で表わされる光学活性カルボン酸は、種々
の有用な化合物の合成原料、例えば天然物の生理活性物
質を合成するための中間体、また、液晶材料として注目
されているものである。
の有用な化合物の合成原料、例えば天然物の生理活性物
質を合成するための中間体、また、液晶材料として注目
されているものである。
従来、この光学活性カルボン酸を不斉合成する方法とし
ては、天然に存在する光学活性体を原料とする方法、
微生物を使用する不斉水素化反応を利用する方法、あ
るいは特定の触媒を用いて不斉水素化する方法が知ら
れている。特に式（II）で表わされるα，β−不飽和カ
ルボン酸から不斉合成によつて式（Ｉ）の光学活性カル
ボン酸を得る方法としては、ロジウム−光学活性ホスフ
イン錯体を触媒として用いて不斉水素化をする方法が報
告されている。すなわち、C.Fisherら： Tetrahedron Letters,No.29,（1977）p.2487−2490で
は、アトロパ酸（2-メチレンフエニル酢酸）の不斉水素
化においては不斉収率27.5％eeで2-メチルフエニル酢酸
を得ている。P.Aviron-Violetら:J.Mol.Cat.,5、（197
9）、p.41−50では、同じくアトロパ酸の不斉水素化を7
0％eeの不斉収率で報告している。また、M.Yamashita
ら:Bull.Chem.Soc.Jpn.,55（1982）p.2917−2921では、
チグリン酸（（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸）の不斉水
素化で2-メチル酪酸を62％eeの不斉収率で得ている。
ては、天然に存在する光学活性体を原料とする方法、
微生物を使用する不斉水素化反応を利用する方法、あ
るいは特定の触媒を用いて不斉水素化する方法が知ら
れている。特に式（II）で表わされるα，β−不飽和カ
ルボン酸から不斉合成によつて式（Ｉ）の光学活性カル
ボン酸を得る方法としては、ロジウム−光学活性ホスフ
イン錯体を触媒として用いて不斉水素化をする方法が報
告されている。すなわち、C.Fisherら： Tetrahedron Letters,No.29,（1977）p.2487−2490で
は、アトロパ酸（2-メチレンフエニル酢酸）の不斉水素
化においては不斉収率27.5％eeで2-メチルフエニル酢酸
を得ている。P.Aviron-Violetら:J.Mol.Cat.,5、（197
9）、p.41−50では、同じくアトロパ酸の不斉水素化を7
0％eeの不斉収率で報告している。また、M.Yamashita
ら:Bull.Chem.Soc.Jpn.,55（1982）p.2917−2921では、
チグリン酸（（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸）の不斉水
素化で2-メチル酪酸を62％eeの不斉収率で得ている。
しかしながら、天然物を出発原料とする方法、或は微生
物による方法は比較的高い光学純度のカルボン酸を得る
ことができるが、得られる光学活性カルボン酸の絶対配
置は特定のものに限られ、鏡像体の合成は困難である。
また、ロジウム．光学活性ホスフイン触媒によるα，β
−不飽和カルボン酸誘導体の不斉水素化による方法は得
られるカルボン酸の光学純度も未だ充分でないと共に、
使毛するロジウム金属は生産地および生産量が限られて
おり、その価格も高価なものであるため、これを触媒と
して用いる場合にはその製品価格中に占めるロジウムの
価格の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与え
るという欠点があつた。
物による方法は比較的高い光学純度のカルボン酸を得る
ことができるが、得られる光学活性カルボン酸の絶対配
置は特定のものに限られ、鏡像体の合成は困難である。
また、ロジウム．光学活性ホスフイン触媒によるα，β
−不飽和カルボン酸誘導体の不斉水素化による方法は得
られるカルボン酸の光学純度も未だ充分でないと共に、
使毛するロジウム金属は生産地および生産量が限られて
おり、その価格も高価なものであるため、これを触媒と
して用いる場合にはその製品価格中に占めるロジウムの
価格の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与え
るという欠点があつた。
斯かる実状において、本発明者は上記問題点を解決せん
と鋭意研究を行つた結果、触媒として比較的安価な特定
のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を使用して不斉
水素化を行えば高い光学純度のカルボン酸が得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
と鋭意研究を行つた結果、触媒として比較的安価な特定
のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を使用して不斉
水素化を行えば高い光学純度のカルボン酸が得られるこ
とを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、α，β−不飽和カルボン酸（II）
を、前記一般式（III）、（Ｖ）又は（VII）で表わされ
るルテニウムー光学活性ホスフイン錯体を触媒とし不斉
水素化して光学活性カルボン酸（Ｉ）を製造する方法で
ある。
を、前記一般式（III）、（Ｖ）又は（VII）で表わされ
るルテニウムー光学活性ホスフイン錯体を触媒とし不斉
水素化して光学活性カルボン酸（Ｉ）を製造する方法で
ある。
本発明を実施するには、α，β−不飽和カルボン酸（I
I）を、メタノール、エタノール、メチルセロソルブ等
のプロテツク溶媒にとかし、基質により等モルのテリエ
チルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリ‐n-
ブチルアミン等の三級アミンを加え、オートクレーブに
仕込み、これにルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を
上記のα，β−不飽和カルボン酸に対して1/100〜1/300
0倍モルを加えて、水素圧４〜135kg/cm2、水素化温度０
〜80℃で１時間から100時間撹拌して水素化を行う。反
応後、溶媒を留去して残留物を減圧下で蒸留すれば目的
とする光学活性カルボン酸（Ｉ）がほぼ定量的収率で得
られる。
I）を、メタノール、エタノール、メチルセロソルブ等
のプロテツク溶媒にとかし、基質により等モルのテリエ
チルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリ‐n-
ブチルアミン等の三級アミンを加え、オートクレーブに
仕込み、これにルテニウム−光学活性ホスフイン錯体を
上記のα，β−不飽和カルボン酸に対して1/100〜1/300
0倍モルを加えて、水素圧４〜135kg/cm2、水素化温度０
〜80℃で１時間から100時間撹拌して水素化を行う。反
応後、溶媒を留去して残留物を減圧下で蒸留すれば目的
とする光学活性カルボン酸（Ｉ）がほぼ定量的収率で得
られる。
本発明の原料であるα，β−不飽和カルボン酸（II）
は、上記式（II）中のR1及びR2がそれぞれ水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基又は置換基を有してもよいアリ
ール基であり、R3が水素原子、アルキル基、アルケニル
基又は置換基を有してもよいナフチル基であり、R1、R2
及びR3が同時に水素原子であることはなく、R1及びR2が
同時に水素原子である場合はR3がメチル基でなく、R3が
水素原子である場合はR1とR2が水素原子以外の異なる基
であることが必要である。これは本発明により得られる
目的物のカルボン酸（Ｉ）のα位或はβ位の炭素原子が
不斉水素原子となり、光学活性を有するための条件であ
る。このα，β−不飽和カルボン酸（II）の例として、
チグリン酸、アンゲリカ酸（（Ｚ）‐2-メチル‐2-ブテ
ン酸）、2-メチル‐2-ペンテン酸、2-メチレンノナン
酸、2-メチル桂皮酸、3-メチル桂皮酸、2-フエニル桂皮
酸、ゲラン酸、6-メトキシ‐α‐メチレン‐2-ナフタレ
ン酢酸等が挙げられる。
は、上記式（II）中のR1及びR2がそれぞれ水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基又は置換基を有してもよいアリ
ール基であり、R3が水素原子、アルキル基、アルケニル
基又は置換基を有してもよいナフチル基であり、R1、R2
及びR3が同時に水素原子であることはなく、R1及びR2が
同時に水素原子である場合はR3がメチル基でなく、R3が
水素原子である場合はR1とR2が水素原子以外の異なる基
であることが必要である。これは本発明により得られる
目的物のカルボン酸（Ｉ）のα位或はβ位の炭素原子が
不斉水素原子となり、光学活性を有するための条件であ
る。このα，β−不飽和カルボン酸（II）の例として、
チグリン酸、アンゲリカ酸（（Ｚ）‐2-メチル‐2-ブテ
ン酸）、2-メチル‐2-ペンテン酸、2-メチレンノナン
酸、2-メチル桂皮酸、3-メチル桂皮酸、2-フエニル桂皮
酸、ゲラン酸、6-メトキシ‐α‐メチレン‐2-ナフタレ
ン酢酸等が挙げられる。
本発明において、触媒として使用するルテニウム‐光学
活性ホスフィン錯体（III）は、T.Ikariyaら;J.Chem.So
c.,Chem.Commun.,（1985）p.922-924及び特開昭61−636
90号で開示されている方法により得ることができる。す
なわち、ｙ＝０の場合の式（III）の錯体は、ルテニウ
ムクロライドとシクロオクタ‐1,5-ジエン（以下、COD
と略す）をエタノール溶液中で反応させることにより得
られる〔RuCl2（COD）〕ｎ１モルと、2,2′‐ビス（ジ
‐p-R4-フエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル（R4
-BINAP）1.2モルをトリエチルアミンのごとき三級アミ
ン４モルの存在下、トルエンまたはエタノール等の溶媒
中で加熱反応させることにより得られる。ｙ＝１の場合
の化合物は、〔RuCl2（COD）〕ｎ１モル、R4-BINAP2.25
モル及び三級アミン4.5モルを反応させることにより得
られる。
活性ホスフィン錯体（III）は、T.Ikariyaら;J.Chem.So
c.,Chem.Commun.,（1985）p.922-924及び特開昭61−636
90号で開示されている方法により得ることができる。す
なわち、ｙ＝０の場合の式（III）の錯体は、ルテニウ
ムクロライドとシクロオクタ‐1,5-ジエン（以下、COD
と略す）をエタノール溶液中で反応させることにより得
られる〔RuCl2（COD）〕ｎ１モルと、2,2′‐ビス（ジ
‐p-R4-フエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル（R4
-BINAP）1.2モルをトリエチルアミンのごとき三級アミ
ン４モルの存在下、トルエンまたはエタノール等の溶媒
中で加熱反応させることにより得られる。ｙ＝１の場合
の化合物は、〔RuCl2（COD）〕ｎ１モル、R4-BINAP2.25
モル及び三級アミン4.5モルを反応させることにより得
られる。
以上の製造法において、光学活性なR4-BINAPを使用する
ことにより、これに対応する光学活性な性質を有するル
テニウム‐ホスフイン錯体（III）を得ることが出来
る。
ことにより、これに対応する光学活性な性質を有するル
テニウム‐ホスフイン錯体（III）を得ることが出来
る。
以上のルテニウム‐光学活性ホスフイン錯体（III）の
例として次のものが挙げられる。
例として次のものが挙げられる。
Ru2Cl4（BINAP）２（NEt3） 〔BINAPは、2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐1,
1′‐ビナフチルをいう〕 Bu2Cl4（Ｔ−BINAP）２（NEt3） 〔Ｔ−BINAPは、2,2′‐ビス（ジ‐P-トリルホスフイ
ノ）‐1,1′‐ビナフチルをいう〕 RuHCl（BINAP）２ RuHCl（T-BINAP）２ 光学活性ホスフィン錯体（Ｖ）は、例えば、さきに本発
明者らが出願した特願昭61−108888号の方法に従つて、
上記方法により得られる Ru2HCl4（X-R5-BINAP）２（NEt3）を原料とし、これと
カルボン酸塩をメタノール、エタノール、t-ブタノール
等のアルコール溶媒中で、約20〜110℃の温度で３〜15
時間反応させた後、溶媒を留去して、エーテル、エタノ
ール等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾固すれば粗
製の錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再結晶して精
製品を得ることができる。
1′‐ビナフチルをいう〕 Bu2Cl4（Ｔ−BINAP）２（NEt3） 〔Ｔ−BINAPは、2,2′‐ビス（ジ‐P-トリルホスフイ
ノ）‐1,1′‐ビナフチルをいう〕 RuHCl（BINAP）２ RuHCl（T-BINAP）２ 光学活性ホスフィン錯体（Ｖ）は、例えば、さきに本発
明者らが出願した特願昭61−108888号の方法に従つて、
上記方法により得られる Ru2HCl4（X-R5-BINAP）２（NEt3）を原料とし、これと
カルボン酸塩をメタノール、エタノール、t-ブタノール
等のアルコール溶媒中で、約20〜110℃の温度で３〜15
時間反応させた後、溶媒を留去して、エーテル、エタノ
ール等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾固すれば粗
製の錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再結晶して精
製品を得ることができる。
また、トリフロロアセテート基を有する錯体は、上記の
如くして得たジアセテート錯体Ru（X-R5-BINAP）（O2CC
H3）２にトリフロロ酢酸を塩化メチレンを溶媒として約
25℃にて約12時間反応せしめることにより得られる。
如くして得たジアセテート錯体Ru（X-R5-BINAP）（O2CC
H3）２にトリフロロ酢酸を塩化メチレンを溶媒として約
25℃にて約12時間反応せしめることにより得られる。
さらに、ルテニウム金属に２当量の配位子の配位した錯
体、すなわちｑが２のものを製造する場合は、上記の方
法で得たRuHCl（X-R5-BINAP）２を原料として、これと
カルボン酸塩を塩化メチレン等の溶媒中で反応せしめれ
ばよい。
体、すなわちｑが２のものを製造する場合は、上記の方
法で得たRuHCl（X-R5-BINAP）２を原料として、これと
カルボン酸塩を塩化メチレン等の溶媒中で反応せしめれ
ばよい。
以上の製造法において、光学活性な X-R5-BINAPを使用することにより、これに対応する光学
活性な性質を有するルテニウム‐ホスフイン錯体（Ｖ）
を得ることが出来る。斯かる錯体の例として次のものが
挙げられる。
活性な性質を有するルテニウム‐ホスフイン錯体（Ｖ）
を得ることが出来る。斯かる錯体の例として次のものが
挙げられる。
Ru（BINAP）（O2CCH3）２ Ru（BINAP）（O2CCF3）２ Ru（T-BINAP）（O2CCF3）２ Ru（T-BINAP）２（O2CCH3）２ Ru（BINAP）（O2Ct-Bu）２ Ru（BINAP）（O2CPh）２ Ru（T-BINAP）（O2CCH3）２ Ru（t-BuBINAP）（O2CCH3）２ Ru（アミノBINAP）（O2CCH3）２ Ru（アセチルアミノBINAP）（O2CCH3）２ Ru（スルホン化BINAP）（O2CCH3）２ Ru（T-BINAP）２（O2CCF3）２ 上記式中の記号の説明は次の通りである。t-Bu:ターシ
ヤリーブチル基、i-Pr:イソプロピル基、Ph:フエニル
基、t-BuBINAP:2,2′‐ビス（ジ‐p-ターシヤリ−ブチ
ルフエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル、スルホ
ン化BINAP:2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐5,
5′‐ビス（スルホン酸ソーダ）‐1,1′‐ビナフチル、
アミノBINAP:2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐
5,5′‐ビス（アミノ）‐1,1′‐ビナフチル、アセチル
アミノBINAP:2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐
5,5′‐ビス（アセチルアミノ）‐1,1′‐ビナフチル 光学活性ホスフィン錯体（VII）は、本発明者らが特願
昭61−184651号として出願した方法によつて得ることが
できる。すなわち、（VII）式の錯体のうち、ｌが０、
ｖが１、ｗが２の場合の錯体は、原料として上記方法に
より得た Ru2Cl4（R4-BINAP）２（NEt3）を用い、このものと、次
式（VIII） MY （VIII） （式中、ＭはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの金属を示し、ＹはCl
O4、BF4、PF6を意味する） で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式（IX） R8R9R10R11AB （IX） （式中、R8、R9、R10、R11は炭素数１〜16のアルキル
基、フエニル基、ベンジル基を意味し、Ａは窒素原子ま
たはリン原子を意味し、Ｂはハロゲン原子を意味する） で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム‐ホスフイン錯体を得る。Ru2Cl4（R-BINAP）２（N
Et3）と塩（VIII）との反応は、水と塩化メチレンの混
合溶媒中に両者と相間移動触媒（IX）を加えて撹拌して
行わしめる。塩（VIII）及び相間移動触媒（IX）の量
は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜10倍モル（好まし
くは５倍モル）、1/100〜1/10倍モルである。反応は５
〜30℃の温度で６〜18時間、通常は12時間の撹拌で充分
である。塩としてはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの過塩素酸塩、
ホウ弗化塩、ヘキサフルオロホスフエイトが用いられ
る。相間移動触媒（IX）としては、文献〔例えば、W.P.
Weber、G.W.Gokel共著、田伏岩夫、西谷孝子共訳「相間
移動触媒」（株）化学同人（1978-9-5）第１版〕に記載
されているものが用いられる。反応終了後、反応物を静
置し、分液操作を行い、水層を除き、塩化メチレン溶液
を水洗した後、減圧下、塩化メチレンを留去し目的物を
得る。
ヤリーブチル基、i-Pr:イソプロピル基、Ph:フエニル
基、t-BuBINAP:2,2′‐ビス（ジ‐p-ターシヤリ−ブチ
ルフエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル、スルホ
ン化BINAP:2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐5,
5′‐ビス（スルホン酸ソーダ）‐1,1′‐ビナフチル、
アミノBINAP:2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐
5,5′‐ビス（アミノ）‐1,1′‐ビナフチル、アセチル
アミノBINAP:2,2′‐ビス（ジフエニルホスフイノ）‐
5,5′‐ビス（アセチルアミノ）‐1,1′‐ビナフチル 光学活性ホスフィン錯体（VII）は、本発明者らが特願
昭61−184651号として出願した方法によつて得ることが
できる。すなわち、（VII）式の錯体のうち、ｌが０、
ｖが１、ｗが２の場合の錯体は、原料として上記方法に
より得た Ru2Cl4（R4-BINAP）２（NEt3）を用い、このものと、次
式（VIII） MY （VIII） （式中、ＭはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの金属を示し、ＹはCl
O4、BF4、PF6を意味する） で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式（IX） R8R9R10R11AB （IX） （式中、R8、R9、R10、R11は炭素数１〜16のアルキル
基、フエニル基、ベンジル基を意味し、Ａは窒素原子ま
たはリン原子を意味し、Ｂはハロゲン原子を意味する） で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム‐ホスフイン錯体を得る。Ru2Cl4（R-BINAP）２（N
Et3）と塩（VIII）との反応は、水と塩化メチレンの混
合溶媒中に両者と相間移動触媒（IX）を加えて撹拌して
行わしめる。塩（VIII）及び相間移動触媒（IX）の量
は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜10倍モル（好まし
くは５倍モル）、1/100〜1/10倍モルである。反応は５
〜30℃の温度で６〜18時間、通常は12時間の撹拌で充分
である。塩としてはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの過塩素酸塩、
ホウ弗化塩、ヘキサフルオロホスフエイトが用いられ
る。相間移動触媒（IX）としては、文献〔例えば、W.P.
Weber、G.W.Gokel共著、田伏岩夫、西谷孝子共訳「相間
移動触媒」（株）化学同人（1978-9-5）第１版〕に記載
されているものが用いられる。反応終了後、反応物を静
置し、分液操作を行い、水層を除き、塩化メチレン溶液
を水洗した後、減圧下、塩化メチレンを留去し目的物を
得る。
もう一つの方法として、前記のRu（R4-BINAP）（O2CC
H3）２を原料とし、次式（Ｘ） HY （Ｘ） （式中、ＹはClO4、BF4、PF6を意味する） で表わされる酸とを、塩化メチレンとメタノールの混合
溶媒中で撹拌して反応させる。酸（Ｘ）の量はルテニウ
ムに対して２〜６倍モル、好ましくは４倍モルである。
反応は５〜30℃の温度で、６〜18時間、通常は12時間撹
拌することで充分である。
H3）２を原料とし、次式（Ｘ） HY （Ｘ） （式中、ＹはClO4、BF4、PF6を意味する） で表わされる酸とを、塩化メチレンとメタノールの混合
溶媒中で撹拌して反応させる。酸（Ｘ）の量はルテニウ
ムに対して２〜６倍モル、好ましくは４倍モルである。
反応は５〜30℃の温度で、６〜18時間、通常は12時間撹
拌することで充分である。
（VII）式の錯体のうち、ｌが１、ｖが２、ｗが１に相
当する錯体を製造する場合は、上記方法で得たRuHCl（R
4-BINAP）２を原料として、これと塩（VIII）とを相間
移動触媒（IX）の存在下に塩化メチレン等と水の混合溶
媒中で反応せしめればよい。塩（VIII）と相間移動触媒
（IX）の量は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜10倍モ
ル（好ましくは５倍モル）、１〜100〜1/10倍モルであ
る。反応は、５〜30℃の温度で６〜18時間、通常は12時
間の撹拌で充分である。
当する錯体を製造する場合は、上記方法で得たRuHCl（R
4-BINAP）２を原料として、これと塩（VIII）とを相間
移動触媒（IX）の存在下に塩化メチレン等と水の混合溶
媒中で反応せしめればよい。塩（VIII）と相間移動触媒
（IX）の量は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜10倍モ
ル（好ましくは５倍モル）、１〜100〜1/10倍モルであ
る。反応は、５〜30℃の温度で６〜18時間、通常は12時
間の撹拌で充分である。
斯かる（VII）式の錯体の例として次のものが挙げられ
る。
る。
次に参考例及び実施例により本発明を説明する。
尚実施例中の分析は、次の分析機器を用いて行つた。
ガスクロマトグラフイ：島津GC−9A（株式会社島 津製作所製） カラム:OV-101シリカキヤピラリー、φ 0.25mm×25m（ガスクロ工業株式会 社製） 測定温度100〜250℃で３℃／分で 昇温 高速液体クロマトグラフイー：日立液体クロマトグラフ イー665A-11（株式会社日立製作所 製） カラム:Chemeopack Nucleosil 100-3、φ4.6 mm×300mm（Chemco社製） 展開溶媒：ヘキサン：エーテル＝7:3 1ml/分 検出器:UV検出器635M（UV-254）（株式会社日立製作所
製）1 H核磁気共鳴スペクトル:JNM-GX400型（400 MHz）（日本電子株式会社製） 内部標準：テトラメチルケイ素 旋光度計：旋光度計DIP-4（日本分光工業株式会社製）31 P核磁気共鳴スペクトル（以下31PNMRと略す）： JNM-GX400型（161MHz）を用い て測定し、化学シフトは85％リン酸を
外部標準として測定 参考例１ Ru2Cl4（（−）‐T-BINAP）２（NEt3）（ジ〔2,2′‐ビ
ス（ジ‐p-トリルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕
テトラクロロジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2（COD）〕n1g（3.6ミリモル）と（−）‐T-BINA
P2.9g（4.3ミリモル）を、250mlのシユレンク管に入
れ、充分窒素置換を行つてから、トリエチルアミン1.5
g、トルエン50mlを加え、６時間加熱還流して反応させ
た。反応終了後、溶媒を減圧下で留去した。結晶を塩化
メチレンに溶解した後、セライト上で過し、液を濃
縮乾固し、濃赤色の固体Ru2Cl4（（−）‐T-BINAP）２
（NEt3）3.6gを得た。収率100％。
製）1 H核磁気共鳴スペクトル:JNM-GX400型（400 MHz）（日本電子株式会社製） 内部標準：テトラメチルケイ素 旋光度計：旋光度計DIP-4（日本分光工業株式会社製）31 P核磁気共鳴スペクトル（以下31PNMRと略す）： JNM-GX400型（161MHz）を用い て測定し、化学シフトは85％リン酸を
外部標準として測定 参考例１ Ru2Cl4（（−）‐T-BINAP）２（NEt3）（ジ〔2,2′‐ビ
ス（ジ‐p-トリルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕
テトラクロロジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2（COD）〕n1g（3.6ミリモル）と（−）‐T-BINA
P2.9g（4.3ミリモル）を、250mlのシユレンク管に入
れ、充分窒素置換を行つてから、トリエチルアミン1.5
g、トルエン50mlを加え、６時間加熱還流して反応させ
た。反応終了後、溶媒を減圧下で留去した。結晶を塩化
メチレンに溶解した後、セライト上で過し、液を濃
縮乾固し、濃赤色の固体Ru2Cl4（（−）‐T-BINAP）２
（NEt3）3.6gを得た。収率100％。
元素分析値:C102H95Cl4NP4Ru2として Ru C H P 理論値（％）:11.21 67.96 5.31 6.87 実測値（％）:10.97 67.51 5.88 6.4631 P NMR（CDCl3）δppm:49.65（ｓ） 49.89（ｓ） 51.07（ｓ） 51.30（ｓ） 参考例２ RuHCl（（＋）‐BINAP）２（ジ〔2,2′‐ビス（ジフエ
ニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ヒドリドクロ
リドルテニウム）の合成： 〔RuCl2（COD）〕n0.5g（1.8ミリモル）、（＋）‐BINA
P2.6g（4.1ミリモル）を、250mlのシユレンク管に入
れ、充分窒素置換を行つてから、トリエチルアミン0.8g
（８ミリモル）及びエタノール50mlを反応器に入れ、６
時間加熱還流して反応させた。反応終了後、エタノール
を減圧下で留去し、乾燥すると黄色の結晶RuHCl
（（＋）‐BINAP）22.8gを得た。収率100％。
ニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ヒドリドクロ
リドルテニウム）の合成： 〔RuCl2（COD）〕n0.5g（1.8ミリモル）、（＋）‐BINA
P2.6g（4.1ミリモル）を、250mlのシユレンク管に入
れ、充分窒素置換を行つてから、トリエチルアミン0.8g
（８ミリモル）及びエタノール50mlを反応器に入れ、６
時間加熱還流して反応させた。反応終了後、エタノール
を減圧下で留去し、乾燥すると黄色の結晶RuHCl
（（＋）‐BINAP）22.8gを得た。収率100％。
元素分析値:C88H65ClP4Ruとして Ru C H P 理論値（％）:7.31 76.43 4.74 8.96 実測値（％）:6.95 76.17 5.15 8.6731 P NMR（CDCl3）δppm:21.90（t,J＝0.83Hz） 37.74（t,J＝0.83Hz） 参考例３ Ru（（−）‐BINAP）（O2CCH3）２（〔2,2′‐ビス（ジ
フエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ルテニウ
ム−ジアセテート）の合成： 参考例１に示した方法に準じて（−）‐BINAPを原料と
して合成したRu2Cl4（（−）‐BINAP）２（NEt3）1.43g
（0.9ミリモル）と酢酸ソーダ3.06g（37ミリモル）を、
250mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行つてか
ら、t-ブタノール100mlを加え、12時間加熱還流して反
応させた。反応終了後、20mmHgの減圧下で、t-ブタノー
ルを留去して乾固した後、エチルエーテル10mlで２回抽
出した。エチルエーテルを留去して乾固し、得られた固
体を更にエタノール10mlで２回抽出した。抽出液を濃縮
して乾固し、粗製のRu（（−）‐BINAP）（O2CCH3）21.
5gを得た。このものを更に酢酸エチルエステルから再結
晶を行い、黄褐色の固体0.79gを得た。収率52％。
フエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ルテニウ
ム−ジアセテート）の合成： 参考例１に示した方法に準じて（−）‐BINAPを原料と
して合成したRu2Cl4（（−）‐BINAP）２（NEt3）1.43g
（0.9ミリモル）と酢酸ソーダ3.06g（37ミリモル）を、
250mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行つてか
ら、t-ブタノール100mlを加え、12時間加熱還流して反
応させた。反応終了後、20mmHgの減圧下で、t-ブタノー
ルを留去して乾固した後、エチルエーテル10mlで２回抽
出した。エチルエーテルを留去して乾固し、得られた固
体を更にエタノール10mlで２回抽出した。抽出液を濃縮
して乾固し、粗製のRu（（−）‐BINAP）（O2CCH3）21.
5gを得た。このものを更に酢酸エチルエステルから再結
晶を行い、黄褐色の固体0.79gを得た。収率52％。
融 点:180〜181℃（分解）。
元素分析値:C48H38O4P2Ruとして Ru P C H 理論値（％）:12.01 7.36 68.48 4.55 実測値（％）:11.85 7.28 68.35 4.6131 P NMR（CDCl3）δppm: 65.00（ｓ）1 H NMR（CDCl3）δppm: 6.5〜7.8（m,32H,ナフチル環とフエ
ニルプロトン） 参考例４ Ru（（−）‐T-BINAP）（O2CCF3）２（2,2′‐ビス（ジ
‐p-トリルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ルテニ
ウム‐ジトリフロロアセテート）の合成： 参考例３に示した方法に準じて（−）‐T-BINAPを原料
として合成したRu（（−）‐T-BINAP）（O2CCH3）20.74
g（0.82ミリモル）を、あらかじめ窒素置換を行つた250
mlのシユレンク管に入れ、塩化メチレン10mlにとかし、
均一溶液とした。この中にトリフロロ酢酸0.14ml（1.81
ミリモル）を加えて、室温で12時間撹拌した。反応終了
後、反応液を濃縮乾固し、茶褐の固体Ru（（−）‐T-BI
NAP）（O2CCF3）20.7gを得た。収率91％。
ニルプロトン） 参考例４ Ru（（−）‐T-BINAP）（O2CCF3）２（2,2′‐ビス（ジ
‐p-トリルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ルテニ
ウム‐ジトリフロロアセテート）の合成： 参考例３に示した方法に準じて（−）‐T-BINAPを原料
として合成したRu（（−）‐T-BINAP）（O2CCH3）20.74
g（0.82ミリモル）を、あらかじめ窒素置換を行つた250
mlのシユレンク管に入れ、塩化メチレン10mlにとかし、
均一溶液とした。この中にトリフロロ酢酸0.14ml（1.81
ミリモル）を加えて、室温で12時間撹拌した。反応終了
後、反応液を濃縮乾固し、茶褐の固体Ru（（−）‐T-BI
NAP）（O2CCF3）20.7gを得た。収率91％。
元素分析値:C52H40F6O4P2Ruとして Ru C Ｈ P 理論値（％）:10.05 62.09 4.01 6.16 実測値（％）:9.89 62.27 4.15 5.8231 P NMR（CDCl3）δppm: 59.91（ｓ） 参考例５ Ru（（−）‐BINAP）〕（BF4）２（〔2,2′‐ビス（ジ
フエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ルテニウ
ム‐ジテトラフロロボレート）の合成： 上記参考例３で得たRu（（−）‐BINAP）（O2CCH3）20.
51g（0.61ミリモル）をシユレンク管に入れ、充分窒素
置換を行つてから、塩化メチレン7ml、メタノール7ml、
42％ホウ弗化水素酸水溶液0.52ml（2.48ミリモル）を加
え、室温にて12時間撹拌した。その後減圧下で濃縮し、
黄褐色の固体〔Ru（（−）‐BINAP）〕（BF4）20.53gを
得た。収率97.2％。
フエニルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ルテニウ
ム‐ジテトラフロロボレート）の合成： 上記参考例３で得たRu（（−）‐BINAP）（O2CCH3）20.
51g（0.61ミリモル）をシユレンク管に入れ、充分窒素
置換を行つてから、塩化メチレン7ml、メタノール7ml、
42％ホウ弗化水素酸水溶液0.52ml（2.48ミリモル）を加
え、室温にて12時間撹拌した。その後減圧下で濃縮し、
黄褐色の固体〔Ru（（−）‐BINAP）〕（BF4）20.53gを
得た。収率97.2％。
元素分析値:C44H32B2F8P2Ruとして Ru P C H 理論値（％）:11.26 6.90 58.90 3.59 実測値（％）:10.88 6.51 58.62 3.8231 P NMR（CDCl3）δppm: 10.357（d,J＝48.9Hz） 77.450（d,J＝48.9Hz） 参考例６ 〔Ru（（＋）‐T-BINAP）〕（ClO4）２（〔2,2′‐ビス
（ジ‐p-トリルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ル
テニウム過塩素酸塩）の合成： 上記参考例１に示した方法により得られた Ru2Cl4（（＋）‐T-BINAP）２（NEt3）0.54g（0.3ミリ
モル）を、250mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換
を行つてから、塩化メチレン60mlを加え、つづいて過塩
素酸ソーダ0.36g（3.0ミリモル）を60mlの水に溶解した
ものと、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド16
mg（0.06ミリモル）を3mlの水に溶かしたものを加えた
後、室温にて12時間撹拌して反応させた。反応終了後、
静置し、分液操作を行い水層を取り除き、塩化メチレン
を減圧下にて留去し、減圧下で乾燥を行い、濃褐色の固
体〔Ru（（＋）‐T-BINAP）〕（ClO4）20.59gを得た。
収率99.6％。
（ジ‐p-トリルホスフイノ）‐1,1′‐ビナフチル〕ル
テニウム過塩素酸塩）の合成： 上記参考例１に示した方法により得られた Ru2Cl4（（＋）‐T-BINAP）２（NEt3）0.54g（0.3ミリ
モル）を、250mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換
を行つてから、塩化メチレン60mlを加え、つづいて過塩
素酸ソーダ0.36g（3.0ミリモル）を60mlの水に溶解した
ものと、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド16
mg（0.06ミリモル）を3mlの水に溶かしたものを加えた
後、室温にて12時間撹拌して反応させた。反応終了後、
静置し、分液操作を行い水層を取り除き、塩化メチレン
を減圧下にて留去し、減圧下で乾燥を行い、濃褐色の固
体〔Ru（（＋）‐T-BINAP）〕（ClO4）20.59gを得た。
収率99.6％。
元素分析値:C48H40Cl2O8P2Ruとして Ru P C H 理論値（％）:10.32 6.33 58.90 4.12 実測値（％）:10.08 5.97 58.61 4.5331 P NMR（CDCl3）δppm: 12.920（d,J＝41.1Hz） 61.402（d,J＝41.1Hz） 実施例１ （2S）‐（＋）‐2-メチル酪酸の製造： あらかじめアルゴン置換した100mlのステンレスオート
クレーブに（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸0.2g（２ミリ
モル）とメタノール20mlを入れ、続いて参考例５で合成
したRu〔（−）‐BINAP）〕（BF4）2 6.0mg（0.007ミリ
モル）を入れ、水素圧4Kg/cm2、反応温度20℃で12時間
水素化を行い、溶媒を留去して0.2gの2-メチル酪酸を得
た。収率100％。1 HNMR（CDCI3）δppm:0.95（t,3H）、1.17（d, 3H）、1.15〜2.00（m,2H）、 2.4（m,1H）、9.76（s, 1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋18.05゜（neat） 得られたカルボン酸と（Ｒ）‐（＋）‐1-（1-ナフチ
ル）エチルアミンとからアミドを合成し、高速液体クロ
マトグラフイー分析を行つた結果、もとのカルボン酸は
（2S）‐（＋）‐2-メチル酪酸95.8％と（2R）‐（−）
‐2-メチル酪酸4.2％の混合物であり（2S）‐（＋）‐2
-メチル酪酸の光学純度は91.6％eeであつた。
クレーブに（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸0.2g（２ミリ
モル）とメタノール20mlを入れ、続いて参考例５で合成
したRu〔（−）‐BINAP）〕（BF4）2 6.0mg（0.007ミリ
モル）を入れ、水素圧4Kg/cm2、反応温度20℃で12時間
水素化を行い、溶媒を留去して0.2gの2-メチル酪酸を得
た。収率100％。1 HNMR（CDCI3）δppm:0.95（t,3H）、1.17（d, 3H）、1.15〜2.00（m,2H）、 2.4（m,1H）、9.76（s, 1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋18.05゜（neat） 得られたカルボン酸と（Ｒ）‐（＋）‐1-（1-ナフチ
ル）エチルアミンとからアミドを合成し、高速液体クロ
マトグラフイー分析を行つた結果、もとのカルボン酸は
（2S）‐（＋）‐2-メチル酪酸95.8％と（2R）‐（−）
‐2-メチル酪酸4.2％の混合物であり（2S）‐（＋）‐2
-メチル酪酸の光学純度は91.6％eeであつた。
実施例２ （2R）‐（−）‐2-メチル酪酸の製造： あらかじめアルゴン置換した100mlのステンレスオート
クレーブに（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸0.2g（２ミリ
モル）とジシクロヘキシルメチルアミン0.39g（２ミリ
モル）とテトラヒドロフラン2mlとエタノール20mlを入
れ、続いて参考例１と同様にして（＋）‐BINAPを原料
として合成したRu2Cl4（（＋）‐BINAP）２（NEt3）6.3
mg（0.004ミリモル）を入れ、水素圧4kg/cm2、反応温度
０℃で12時間水素化を行い、溶媒を留去して0.2gの2-メ
チル酪酸を得た。収率100％。
クレーブに（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸0.2g（２ミリ
モル）とジシクロヘキシルメチルアミン0.39g（２ミリ
モル）とテトラヒドロフラン2mlとエタノール20mlを入
れ、続いて参考例１と同様にして（＋）‐BINAPを原料
として合成したRu2Cl4（（＋）‐BINAP）２（NEt3）6.3
mg（0.004ミリモル）を入れ、水素圧4kg/cm2、反応温度
０℃で12時間水素化を行い、溶媒を留去して0.2gの2-メ
チル酪酸を得た。収率100％。
旋光度：▲〔α〕25 D▼−17.30゜（neat） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し分析を行つた結
果、2-メチル酪酸の光学純度は86.9％eeであつた。
果、2-メチル酪酸の光学純度は86.9％eeであつた。
実施例３ （2R）‐（−）‐2-メチル酪酸の製造： アルゴン置換した100mlのステンレスオートクレーブ
に、（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸0.2g（２ミリモル）
とトリエチルアミン0.2g（２ミリモル）とテトラヒドロ
フラン2mlとエタノール20mlを入れ、続いて参考例２で
合成したRuHCl（（＋）‐BINAP）26.9mg（0.005ミリモ
ル）を入れ、水素圧30kg/cm2、反応温度80℃で14時間水
素化を行い、溶媒を留去して0.2gの2-メチル酪酸を得
た。収率100％。
に、（Ｅ）‐2-メチル‐2-ブテン酸0.2g（２ミリモル）
とトリエチルアミン0.2g（２ミリモル）とテトラヒドロ
フラン2mlとエタノール20mlを入れ、続いて参考例２で
合成したRuHCl（（＋）‐BINAP）26.9mg（0.005ミリモ
ル）を入れ、水素圧30kg/cm2、反応温度80℃で14時間水
素化を行い、溶媒を留去して0.2gの2-メチル酪酸を得
た。収率100％。
旋光度：▲〔α〕25 D▼＋15.60゜（neat） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し分析を行つた結
果、2-メチル酪酸の光学純度は77.0％eeであつた。
果、2-メチル酪酸の光学純度は77.0％eeであつた。
実施例４ （2S）‐（＋）‐2-メチル酪酸の製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに（Ｚ）‐2-
メチル‐ブテン酸0.2g（２ミリモル）とメタノール20m
l、ジシクロヘキシルメチルアミン0.39g（２ミリモル）
を加え溶解し、参考例３に示した方法に準じて（＋）‐
BINAPを原料として合成したRu（（＋）‐BINAP）（O2CC
H3）23.4mg（0.004ミリモル）を加え、水素圧125kg/cm2
で25℃の反応温度で４時間撹拌して水素化を行い、溶媒
を留去して、0.2gの2-メチル酪酸を得た。収率100％。
メチル‐ブテン酸0.2g（２ミリモル）とメタノール20m
l、ジシクロヘキシルメチルアミン0.39g（２ミリモル）
を加え溶解し、参考例３に示した方法に準じて（＋）‐
BINAPを原料として合成したRu（（＋）‐BINAP）（O2CC
H3）23.4mg（0.004ミリモル）を加え、水素圧125kg/cm2
で25℃の反応温度で４時間撹拌して水素化を行い、溶媒
を留去して、0.2gの2-メチル酪酸を得た。収率100％。
旋光度：▲〔α〕25 D▼−12.25゜（neat） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、（2S）‐（＋）‐2-メチル酪酸の光学純度は57.9
％eeであつた。
結果、（2S）‐（＋）‐2-メチル酪酸の光学純度は57.9
％eeであつた。
実施例５ 2-メチル吉草酸の製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに（Ｅ）‐2-
メチル‐2-ペンテン酸0.23g（２ミリモル）とメタノー
ル20mlを加え、これに参考例３で合成したRu（（−）‐
BINAP）（O2CCH3）28.4mg（0.01ミリモル）を入れ、水
素圧4kg/cm2で25℃の反応温度で24時間水素化を行い、
溶媒を留去して、0.23gの2-メチル吉草酸を得た。収率1
00％。
メチル‐2-ペンテン酸0.23g（２ミリモル）とメタノー
ル20mlを加え、これに参考例３で合成したRu（（−）‐
BINAP）（O2CCH3）28.4mg（0.01ミリモル）を入れ、水
素圧4kg/cm2で25℃の反応温度で24時間水素化を行い、
溶媒を留去して、0.23gの2-メチル吉草酸を得た。収率1
00％。
沸 点:50℃/0.07mmHg1 H NMR（CDCl3）δppm:0.92（t,3H）、 1.18（d,3H）、1.3〜1.5（m,2H）、
1.6〜1.75 （m,1H）、2.48（m,1H）、 11.00（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋14.40゜（neat） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、2-メチル吉草酸の光学純度は77.9％eeであつた。
1.6〜1.75 （m,1H）、2.48（m,1H）、 11.00（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋14.40゜（neat） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、2-メチル吉草酸の光学純度は77.9％eeであつた。
実施例６ （2R）‐（−）‐2-メチルノナン酸の製造： アルゴン置換した200mlのオートクレーブに2-メチレン
ノナン酸3.0g（17.6ミリモル）とエタノール50mlを加
え、これに参考例６に示した方法に準じて（−）‐T-BI
NAPを原料として合成した〔Ru（（−）‐T-BINAP）〕
（ClO4）26.9mg（0.007ミリモル）を入れ、水素圧30kg/
cm2で、20℃の反応温度で、15時間水素化を行ない、溶
媒を留去し、3.0gの2-メチルノナン酸を得た。収率100
％。
ノナン酸3.0g（17.6ミリモル）とエタノール50mlを加
え、これに参考例６に示した方法に準じて（−）‐T-BI
NAPを原料として合成した〔Ru（（−）‐T-BINAP）〕
（ClO4）26.9mg（0.007ミリモル）を入れ、水素圧30kg/
cm2で、20℃の反応温度で、15時間水素化を行ない、溶
媒を留去し、3.0gの2-メチルノナン酸を得た。収率100
％。
沸 点:110〜112℃/2mmHg1 H NMR（CDCl3）δppm:0.85〜1.80（m,18H）、2.24 〜2.75（m,1H）、11.90（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼−5.40゜（c2.11,エタノール） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、（2R）‐（−）‐2-メチルノナン酸の光学純度は
37％eeであつた。
結果、（2R）‐（−）‐2-メチルノナン酸の光学純度は
37％eeであつた。
実施例７ （3S）‐（−）‐シトロネリル酸の製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに、ゲラン酸
0.34g（２ミリモル）とメタノール20ml、ジシクロヘキ
シルメチルアミン0.39g（２ミリモル）とを加え、参考
例３に示した方法に準じて（＋）‐BINAPを原料として
合成したRu（（＋）‐BINAP）（O2CCH3）25.6mg（0.007
ミリモル）を入れ、水素圧100kg/cm2、25℃の反応温度
で12時間反応を行い、溶媒を留去して、0.34gのシトロ
ネリル酸を得た。収率100％。
0.34g（２ミリモル）とメタノール20ml、ジシクロヘキ
シルメチルアミン0.39g（２ミリモル）とを加え、参考
例３に示した方法に準じて（＋）‐BINAPを原料として
合成したRu（（＋）‐BINAP）（O2CCH3）25.6mg（0.007
ミリモル）を入れ、水素圧100kg/cm2、25℃の反応温度
で12時間反応を行い、溶媒を留去して、0.34gのシトロ
ネリル酸を得た。収率100％。
沸 点:100℃〜0.07mmHg1 H NMR（CDCl3）δppm:0.97（d,3H）、1.1〜1.5（m, 2H）、1.60（s,3H）、1.67（s, 3H）、1.73〜2.50（m,4H）、 5.08（t,1H）、12.30（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼−7.82゜（c2.99,メタノール） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、（3S）‐（−）‐シトロネリル酸の光学純度は8
7.0％eeであつた。
結果、（3S）‐（−）‐シトロネリル酸の光学純度は8
7.0％eeであつた。
実施例８ ナプロキセン（6-メトキシ‐α‐メチル‐2-ナフタレン
酢酸）の製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに、6-メトキ
シ‐α‐メチレン‐2-ナフタレン酢酸0.45g（２ミリモ
ル）とメタノール20ml、ジシクロヘキシルメチルアミン
0.39g（２ミリモル）を加え、これに参考例３に準じて
（−）‐T-BINAPを原料として合成したRu（（−）‐T-B
INAP）（O2CCH3）29.0mg（0.010ミリモル）を入れ、水
素圧135kg/cm2、17℃の反応温度で12時間水素化を行
い、溶媒を留去して、0.39gのナプロキセンを得た。収
率84％。
酢酸）の製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに、6-メトキ
シ‐α‐メチレン‐2-ナフタレン酢酸0.45g（２ミリモ
ル）とメタノール20ml、ジシクロヘキシルメチルアミン
0.39g（２ミリモル）を加え、これに参考例３に準じて
（−）‐T-BINAPを原料として合成したRu（（−）‐T-B
INAP）（O2CCH3）29.0mg（0.010ミリモル）を入れ、水
素圧135kg/cm2、17℃の反応温度で12時間水素化を行
い、溶媒を留去して、0.39gのナプロキセンを得た。収
率84％。
融 点:154〜155℃1 H NMR（CDCl3）δppm:1.57（d,3H）、3.86（q,1H）、 3.90（s,3H）、7.07〜7.87（m, 6H）、10.83（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋59.21゜（c1.08,クロロホル
ム） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、ナプロキセンの光学純度は90.4％eeであつた。
ム） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、ナプロキセンの光学純度は90.4％eeであつた。
実施例９ ナプロキセンの製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに、6-メトキ
シ‐α‐メチレン‐2-ナフタレン酢酸0.45g（２ミリモ
ル）とメタノール20mlを加え、これに参考例１で合成し
たRu2Cl4（（−）−Ｔ−BINAP）２（NEt3）3.6mg（0.00
4ミリモル）を入れ、水素圧40kg/cm2、20℃の反応温度
で24時間水素化を行い、溶媒を留去して、0.42gのナプ
ロキセンを得た。収率92％。
シ‐α‐メチレン‐2-ナフタレン酢酸0.45g（２ミリモ
ル）とメタノール20mlを加え、これに参考例１で合成し
たRu2Cl4（（−）−Ｔ−BINAP）２（NEt3）3.6mg（0.00
4ミリモル）を入れ、水素圧40kg/cm2、20℃の反応温度
で24時間水素化を行い、溶媒を留去して、0.42gのナプ
ロキセンを得た。収率92％。
融 点:154〜155℃1 H NMR（CDCl3）δppm:1.57（d,3H）、3.86（q,1H）、 3.90（s,3H）、7.07〜7.87（m, 6H）、10.83（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋49.0゜（c1.01,クロロホル
ム） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、ナプロキセンの光学純度は74％eeであつた。
ム） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、ナプロキセンの光学純度は74％eeであつた。
実施例10 ナプロキセンの製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに、6-メトキ
シ‐α‐メチレン‐2-ナフタレン酢酸0.45g（２ミリモ
ル）とメタノール20mlを加え、これに参考例４で合成し
たRu（（−）‐T-BINAP）（O2CCF3）22.0mg（0.002ミリ
モル）を入れ、水素圧40kg/cm2、20℃の反応温度で24時
間水素化を行い、溶媒を留去して、0.43gのナプロキセ
ンを得た。収率93.7％。
シ‐α‐メチレン‐2-ナフタレン酢酸0.45g（２ミリモ
ル）とメタノール20mlを加え、これに参考例４で合成し
たRu（（−）‐T-BINAP）（O2CCF3）22.0mg（0.002ミリ
モル）を入れ、水素圧40kg/cm2、20℃の反応温度で24時
間水素化を行い、溶媒を留去して、0.43gのナプロキセ
ンを得た。収率93.7％。
融 点:154〜155℃1 H NMR（CDCl3）δppm:1.57（d,3H）、3.86（q,1H） 、3.90（s,3H）、7.07〜7.87（m, 6H）、10.83（s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋38.87゜（c0.98,クロロホル
ム） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、ナプロキセンの光学純度は58.8％eeであつた。
ム） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、ナプロキセンの光学純度は58.8％eeであつた。
実施例11 （3S）‐（＋）‐3-フエニル酪酸の製造： アルゴン置換した100mlのオートクレーブに（Ｚ）‐3-
メチル桂皮酸0.32g（２ミリモル）とメタノール20mlを
加え、これに参考例３に準じて（＋）‐BINAPを原料と
して合成したRu（（＋）‐BINAP）（O2CCH3）22.9mg
（0.0034ミリモル）を入れ、水素圧104kg/cm2、25℃で7
0時間反応を行い、溶媒を留去し、0.32gの（3S）‐
（＋）‐3-フエニル酪酸を得た。収率100％。
メチル桂皮酸0.32g（２ミリモル）とメタノール20mlを
加え、これに参考例３に準じて（＋）‐BINAPを原料と
して合成したRu（（＋）‐BINAP）（O2CCH3）22.9mg
（0.0034ミリモル）を入れ、水素圧104kg/cm2、25℃で7
0時間反応を行い、溶媒を留去し、0.32gの（3S）‐
（＋）‐3-フエニル酪酸を得た。収率100％。
沸 点:170℃〜0.05mmHg1 H NMR（CDCl3）δppm:1.30（d,3H）、2.57（d,1H）、 2.60（d,1H）、3.27（m,1H）、 7.32（broads,5H）、12.20 （s,1H） 旋光度：▲〔α〕25 D▼＋0.44゜（c0.94,ベンゼン） 実施例１と同様な方法でアミドを合成し、分析を行つた
結果、（3S）‐（＋）‐フエニル酪酸の光学純度は84.8
％eeであつた。
結果、（3S）‐（＋）‐フエニル酪酸の光学純度は84.8
％eeであつた。
本発明は、ルテニウム‐光学活性ホスフイン錯体を触媒
として用いて、α，β‐不飽和カルボン酸を不斉水素化
することにより、種々の有用な化合物の合成原料、例え
ば天然物の生理活性物質を合成するための中間体、また
液晶材料等に広範囲に利用できる光学活性カルボン酸を
工業的に有利に製造することのできるものである。
として用いて、α，β‐不飽和カルボン酸を不斉水素化
することにより、種々の有用な化合物の合成原料、例え
ば天然物の生理活性物質を合成するための中間体、また
液晶材料等に広範囲に利用できる光学活性カルボン酸を
工業的に有利に製造することのできるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ０１Ｊ 31/24 Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｂ 7419−4Ｈ 61/00 ３００ (72)発明者 芥川 進 神奈川県横浜市港北区篠原町1080−22 (56)参考文献 特開 昭62−185044（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−152337（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】次の一般式（II） （式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基又は置換基を有してもよいアリール基を示
し、R3は水素原子、アルキル基、アルケニル基又は置換
基を有してもよいナフチル基を示す。ただし、R1、R2及
びR3が同時に水素原子であることはなく、R1及びR2が同
時に水素原子である場合はR3がメチル基でなく、R3が水
素原子である場合はR1とR2が水素原子以外の異なる基で
ある。） で表わされるα，β−不飽和カルボン酸を、次の一般式
（III）、（Ｖ）又は（VII） RuｘＨｙClｚ（R4-BINAP）２（Ｓ）ｐ （III） （式中、R4-BINAPは式（IV） で表わされる三級ホスフィンを示し、R4は水素原子又は
メチル基を示し、Ｓは三級アミンを示し、ｙが０のとき
ｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが１のときｘは１、
ｚは１、ｐは０を示す。） （式中、X-R5-BINAPは式（VI） で表わされる三級ホスフィンを示し、R5は水素原子又は
低級アルキル基を示し、Ｘは水素原子、アミノ基、アセ
チルアミノ基又はスルホン基を示し、R6及びR7は低級ア
ルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルキル基が
置換してもよいフェニル基、α−アミノアルキル基又は
α−アミノフェニルアルキル基を示すか、あるいはR6と
R7が一緒になってアルキレン基を示し、ｑは１又は２を
示す。） 〔RuHｌ（R4-BINAP）ｖ〕Ｙｗ （VII） （式中、R4-BINAPは前記と同様の意義を有し、ＹはCl
O4、BF4又はPF6を示し、ｌが０ときｖは１、ｗは２を示
し、ｌが１のときｖは２、ｗは１を示す） で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
媒として不斉水素化することを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、R1、R2及びR3は前記と同様の意義を有する） で表わされる光学活性カルボン酸の製法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP87310023A EP0272787B1 (en) | 1986-11-14 | 1987-11-12 | Catalytic production of optically active carboxylic acid |
| DE8787310023T DE3778857D1 (de) | 1986-11-14 | 1987-11-12 | Katalytische produktion von optisch aktiven carbonsaeuren. |
| US07/121,247 US4962230A (en) | 1986-11-14 | 1987-11-16 | Process for producing optically active carboxylic acid |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-269589 | 1986-11-14 | ||
| JP26958986 | 1986-11-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63239245A JPS63239245A (ja) | 1988-10-05 |
| JPH0720910B2 true JPH0720910B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=17474462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62192339A Expired - Fee Related JPH0720910B2 (ja) | 1986-11-14 | 1987-07-31 | 光学活性カルボン酸の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720910B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0816078B2 (ja) * | 1987-06-29 | 1996-02-21 | 住友化学工業株式会社 | 光学活性フェニル酢酸誘導体の製造法 |
| JP4751579B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2011-08-17 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性テトラヒドロイソキノリン類の製造方法 |
| WO2005097811A1 (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-20 | Takasago International Corporation | ホスフィン化合物、それを配位子とする遷移金属錯体及び光学活性カルボン酸の製造法 |
| AT501193B1 (de) * | 2004-12-27 | 2007-03-15 | Dsm Fine Chem Austria Gmbh | Verfahen zur übergangsmetall - katalysierten asymmetrischen hydrierung von acrylsäurederivaten |
| EP1944354B1 (en) | 2005-09-12 | 2011-02-16 | Takasago International Corporation | Flavor composition or fragrance composition, and flavor-improving agent |
| CN101565366B (zh) * | 2008-04-25 | 2013-04-17 | 浙江九洲药业股份有限公司 | 铱络合物在不饱和羧酸不对称催化氢化中的应用 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62185044A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性フエニル酢酸誘導体の製造法 |
-
1987
- 1987-07-31 JP JP62192339A patent/JPH0720910B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63239245A (ja) | 1988-10-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0272787B1 (en) | Catalytic production of optically active carboxylic acid | |
| EP0295109B1 (en) | Process for preparing optically active alcohol | |
| EP0245959B1 (en) | Ruthenium-phosphine complexes | |
| JPS63316744A (ja) | 光学活性アルコ−ルの製造方法 | |
| JP2681057B2 (ja) | ２，２’―ビス（ジフェニルホスフィノ）―５，５’，６，６’，７，７’，８，８’―オクタヒドロ―１，１’―ビナフチル及びこれを配位子とする遷移金属錯体 | |
| EP0271311A2 (en) | Ruthenium-phosphine complexes | |
| JPH064543B2 (ja) | 光学活性アルコ−ルの製造法 | |
| JPH0733392B2 (ja) | ２，２’―ビス〔ジー（ｍ―トリル）ホスフィノ〕―１，１’―ビナフチル | |
| JPH0713076B2 (ja) | ロジウム―ジホスフイン錯体及びその製造方法 | |
| US5198561A (en) | Ruthenium-BINAP asymmetric hydrogenation catalyst | |
| EP0271310A2 (en) | Ruthenium-phosphine complexes | |
| JP2739254B2 (ja) | イリジウム―光学活性ホスフィン錯体及びこれを用いた光学活性アルコールの製造方法 | |
| EP0478147B1 (en) | Process for producing optically active gamma-butyrolactone derivatives | |
| JP3020128B2 (ja) | 光学活性カルボン酸の製造法 | |
| JP3493206B2 (ja) | 光学活性β−アミノ酸類の製法 | |
| US5919962A (en) | Process for preparing ruthenium-phosphine complex | |
| JPH05111639A (ja) | ルテニウム−ホスフイン錯体及びこれを触媒とする光学活性１−置換−１，３−プロパンジオールの製造方法 | |
| JPH08245664A (ja) | 光学活性非対称ジホスフィン及び該化合物の存在下にて光学活性体を得る方法 | |
| JPS63239245A (ja) | 光学活性カルボン酸の製法 | |
| WO2005016943A1 (ja) | 新規な遷移金属錯体、及び該錯体を用いた光学活性アルコールの製造法 | |
| US5334758A (en) | Process for preparing optically active carboxylic acid | |
| US4906773A (en) | Process for preparing optically active threonine | |
| JPH0466461B2 (ja) | ||
| JPH05170718A (ja) | ２（ｒ）−ベンジルコハク酸モノアミド誘導体のエナンチオ選択的合成方法 | |
| JP3568558B2 (ja) | 新規δ−ラクトンおよびその製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |