JPH0720975B2 - 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造法 - Google Patents
含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造法Info
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- JPH0720975B2 JPH0720975B2 JP2046735A JP4673590A JPH0720975B2 JP H0720975 B2 JPH0720975 B2 JP H0720975B2 JP 2046735 A JP2046735 A JP 2046735A JP 4673590 A JP4673590 A JP 4673590A JP H0720975 B2 JPH0720975 B2 JP H0720975B2
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- trisiloxane
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- organosilicon compound
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、新規な含フッ素有機ケイ素化合物及びその製
造法に関するものであり、より詳細には、同一分子内に
含フッ素有機基と炭化水素基とを有する新規なシロキサ
ン化合物及びその製造法に関する発明である。
造法に関するものであり、より詳細には、同一分子内に
含フッ素有機基と炭化水素基とを有する新規なシロキサ
ン化合物及びその製造法に関する発明である。
(従来技術) 含フッ素有機基と炭化水素基とを同一分子内に有する化
合物は、ゴム,プラスチック等の離型剤として有効であ
ることが知られており、従来公知のこの種の化合物は、
一般にウレタン、エステル、アミド、エーテル、スルフ
ィド等の結合を介して含フッ素有機基と炭化水素基とが
連結されている。
合物は、ゴム,プラスチック等の離型剤として有効であ
ることが知られており、従来公知のこの種の化合物は、
一般にウレタン、エステル、アミド、エーテル、スルフ
ィド等の結合を介して含フッ素有機基と炭化水素基とが
連結されている。
(発明が解決しようとする課題) 然しながら、従来公知の上記化合物においては、耐熱性
が劣る、或いは加水分解性が高い等の欠点を有してい
た。
が劣る、或いは加水分解性が高い等の欠点を有してい
た。
従って本発明の目的は、離型性等の含フッ素有機基の有
する特性と、親油性等の炭化水素基の有する特性との両
方を備え、且つ耐熱性,耐薬品性等の特性にも優れた新
規な含フッ素有機ケイ素化合物を提供するにある。
する特性と、親油性等の炭化水素基の有する特性との両
方を備え、且つ耐熱性,耐薬品性等の特性にも優れた新
規な含フッ素有機ケイ素化合物を提供するにある。
(課題を達成するための手段) 本発明によれば、下記一般式〔I〕、 式中、Rfはパーフルオロアルキル基またはパーフルオロ
アルキルエーテル基を示し、 Meは、メチル基を示し、 lは、0または1の整数 mは、6〜20の整数、 nは、1〜3の整数を示す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物が提供される。
アルキルエーテル基を示し、 Meは、メチル基を示し、 lは、0または1の整数 mは、6〜20の整数、 nは、1〜3の整数を示す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物が提供される。
本発明によれば更に、 (A)下記一般式〔II〕、 式中、Rf,Me,lおよびnは、それぞれ前述した意味を示
す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物と、 (B)下記一般式〔III〕、 CmH2m 〔III〕 式中、mは前述した意味を示す、 で表わされるオレフィン系化合物、 とを白金系触媒の存在下で反応させることを特徴とする
前記一般式〔I〕で表わされる含フッ素有機ケイ素化合
物の製造方法が提供される。
す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物と、 (B)下記一般式〔III〕、 CmH2m 〔III〕 式中、mは前述した意味を示す、 で表わされるオレフィン系化合物、 とを白金系触媒の存在下で反応させることを特徴とする
前記一般式〔I〕で表わされる含フッ素有機ケイ素化合
物の製造方法が提供される。
含フッ素有機ケイ素化合物 本発明の含フッ素有機ケイ素化合物は、前述した一般式
〔I〕、即ち、 で表わされる。
〔I〕、即ち、 で表わされる。
該式中、Rfは、パーフルオロアルキル基またはパーフル
オロアルキルエーテル基を表わし、撥油性,潤滑性,離
型性等の特性を化合物に付与するための基であり、充分
な鎖長を有することが好ましい。
オロアルキルエーテル基を表わし、撥油性,潤滑性,離
型性等の特性を化合物に付与するための基であり、充分
な鎖長を有することが好ましい。
例えばパーフルオロアルキル基としては、下記一般式、 CpF2p+1− 式中、pは4〜10の整数を示す、 で表わされるもの、具体的には、ノナフルオロブチル
基,デカフルオロペンチル基,トリデカフルオロヘキシ
ル基,ペンタデカフルオロヘプチル基,ヘプタデカフル
オロオクチル基,ノナデカフルオロノニル基,ヘンエイ
コサフルオロデシル基等が挙げられる。
基,デカフルオロペンチル基,トリデカフルオロヘキシ
ル基,ペンタデカフルオロヘプチル基,ヘプタデカフル
オロオクチル基,ノナデカフルオロノニル基,ヘンエイ
コサフルオロデシル基等が挙げられる。
またパーフルオロアルキルエーテル基としては、下記一
般式、 式中、sは1〜4の整数を表わす、 で表わされるものが例示され、具体的にはヘキサフルオ
ロプロピレンオキシドのオリゴメリゼーションによって
得られるもの、例えば1-トリフルオロメチル‐2-オキサ
−パーフルオロブチル基、1,4-ビス(トリフルオロメチ
ル)‐2,5-ジオキサ−パーフルオロオクチル基、1,4,7-
トリス(トリフルオロメチル)‐2,5,8-トリオキサ−ウ
ンダシル基、1,4,7,10-テトラキス(トリフルオロメチ
ル)‐2,5,8,11-テトラオキサ−パーフルオロテトラデ
シル基等が挙げられる。
般式、 式中、sは1〜4の整数を表わす、 で表わされるものが例示され、具体的にはヘキサフルオ
ロプロピレンオキシドのオリゴメリゼーションによって
得られるもの、例えば1-トリフルオロメチル‐2-オキサ
−パーフルオロブチル基、1,4-ビス(トリフルオロメチ
ル)‐2,5-ジオキサ−パーフルオロオクチル基、1,4,7-
トリス(トリフルオロメチル)‐2,5,8-トリオキサ−ウ
ンダシル基、1,4,7,10-テトラキス(トリフルオロメチ
ル)‐2,5,8,11-テトラオキサ−パーフルオロテトラデ
シル基等が挙げられる。
また前記一般式〔I〕において、lは0または1の整数
であり、nは1〜3の整数である。
であり、nは1〜3の整数である。
更に、mは6〜20の整数である。即ち、CmH2m+1−はア
ルキル基であり、該基は化合物に親油性を付与するため
に導入される。該アルキル基は、有効な親油性を発揮さ
せるために、十分な鎖長を有することが必要となる。こ
の様なアルキル基としては、例えばヘキシル基,オクチ
ル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル
基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,
ヘキサデシル基,ヘプタデシル基,オクタデシル基,ノ
ナデシル基,エイコサニル基およびこれらの構造異性体
基を挙げることができる。
ルキル基であり、該基は化合物に親油性を付与するため
に導入される。該アルキル基は、有効な親油性を発揮さ
せるために、十分な鎖長を有することが必要となる。こ
の様なアルキル基としては、例えばヘキシル基,オクチ
ル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル
基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,
ヘキサデシル基,ヘプタデシル基,オクタデシル基,ノ
ナデシル基,エイコサニル基およびこれらの構造異性体
基を挙げることができる。
本発明の代表的な含フッ素有機ケイ素化合物としては、
次の化合物を例示することができる。
次の化合物を例示することができる。
1-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-オクチル‐1,
1,3,3-テトラメチル‐1,3-ジシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,5-ジヘキシル
‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,5-ジオクチル
‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルヘキ
シルシロキシ‐1,5-ジヘキシル‐1,1,5,5-テトラメチル
‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルオク
チルシロキシ‐1,5-ジオクチル‐1,1,5,5-テトラメチル
‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルデシ
ルシロキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,
3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロブチル)エチル‐1,5-ジヘキシル‐
1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(6,9-ビストリフルオロメチル‐6,8,8,9,11,11,12,1
2,13,13,13-ウンデカフルオロ‐4,7,10-トリオキサ)ト
リデシル‐3-ジメチルオクチルシロキシ‐1,5-ジオクチ
ル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(6,9,12-トリストリフルオロメチル‐6,8,8,9,11,1
1,12,14,14,15,15,16,16,16-テトラデカフルオロ‐4,7,
10,12-テトラオキサ)ヘキサデシル‐3-ジメチルデシル
シロオキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,
3,5-トリシロキサン 製造法 本発明において、上述した含フッ素有機ケイ素化合物
は、前述した一般式〔II〕、即ち、 式中、Rf,Me,lおよびnは、それぞれ前述した意味を示
す、 で表わされるシロキサン化合物を出発原料とし、白金系
触媒の存在下で、前記一般式〔III〕、即ち、 CmH2m 〔III〕 式中、mは、前述した通り、4〜20の整数である、 で表わされるオレフィン化合物の2重結合と、前記シロ
キサン化合物のSi-H基との間でヒドロシリル化反応を行
なうことによって製造される。
1,3,3-テトラメチル‐1,3-ジシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,5-ジヘキシル
‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,5-ジオクチル
‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルヘキ
シルシロキシ‐1,5-ジヘキシル‐1,1,5,5-テトラメチル
‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルオク
チルシロキシ‐1,5-ジオクチル‐1,1,5,5-テトラメチル
‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルデシ
ルシロキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,
3,5-トリシロキサン、 3-(2-パーフルオロブチル)エチル‐1,5-ジヘキシル‐
1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(6,9-ビストリフルオロメチル‐6,8,8,9,11,11,12,1
2,13,13,13-ウンデカフルオロ‐4,7,10-トリオキサ)ト
リデシル‐3-ジメチルオクチルシロキシ‐1,5-ジオクチ
ル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン、 3-(6,9,12-トリストリフルオロメチル‐6,8,8,9,11,1
1,12,14,14,15,15,16,16,16-テトラデカフルオロ‐4,7,
10,12-テトラオキサ)ヘキサデシル‐3-ジメチルデシル
シロオキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,
3,5-トリシロキサン 製造法 本発明において、上述した含フッ素有機ケイ素化合物
は、前述した一般式〔II〕、即ち、 式中、Rf,Me,lおよびnは、それぞれ前述した意味を示
す、 で表わされるシロキサン化合物を出発原料とし、白金系
触媒の存在下で、前記一般式〔III〕、即ち、 CmH2m 〔III〕 式中、mは、前述した通り、4〜20の整数である、 で表わされるオレフィン化合物の2重結合と、前記シロ
キサン化合物のSi-H基との間でヒドロシリル化反応を行
なうことによって製造される。
出発原料であるシロキサン化合物は、特願平1-339792号
に記載された方法によって製造することができ、例えば (Rf,Me,lおよびnはそれぞれ前述した意味を示す) で表わされるクロルシラン化合物と1,1,3,3-テトラメチ
ル‐1,3-ジシロキサンとを酸の存在下で反応させること
によって製造することができる。
に記載された方法によって製造することができ、例えば (Rf,Me,lおよびnはそれぞれ前述した意味を示す) で表わされるクロルシラン化合物と1,1,3,3-テトラメチ
ル‐1,3-ジシロキサンとを酸の存在下で反応させること
によって製造することができる。
白金系触媒としては、通常のヒドロシリル化反応に使用
される白金系触媒を用いることができ、例えば、塩化白
金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸とビニル
シロキサンとの錯体等を使用することができる。この白
金系触媒の使用量は、所謂触媒量でよく、一般に出発原
料のシロキサン化合物と、一般式〔III〕で表わされる
オレフィン化合物との合計量当たり、0.1〜100ppm(白
金換算)の範囲である。
される白金系触媒を用いることができ、例えば、塩化白
金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸とビニル
シロキサンとの錯体等を使用することができる。この白
金系触媒の使用量は、所謂触媒量でよく、一般に出発原
料のシロキサン化合物と、一般式〔III〕で表わされる
オレフィン化合物との合計量当たり、0.1〜100ppm(白
金換算)の範囲である。
ヒドロシリル化反応は、無溶剤下および溶剤存在下の何
れでも行なうことができる。溶剤としては、白金系触媒
の触媒作用を阻害したり、Si-H結合に対する反応性を持
たないものであれば特に限定されず、例えばペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水
素,ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
等を使用することができる。
れでも行なうことができる。溶剤としては、白金系触媒
の触媒作用を阻害したり、Si-H結合に対する反応性を持
たないものであれば特に限定されず、例えばペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和脂肪族炭化水
素,ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
等を使用することができる。
反応温度は、通常のヒドロシリル化を円滑に進めるのに
必要とされる温度範囲でよく、一般的には60〜130℃の
範囲とされる。
必要とされる温度範囲でよく、一般的には60〜130℃の
範囲とされる。
(発明の効果) 本発明によれば、出発原料であるシロキサン化合物の種
類及びこれと反応させるオレフィンの種類に応じて、目
的とする含フッ素有機ケイ素化合物中の含フッ素有機基
および炭化水素基の占めるウエートを広範囲に変化させ
ることができる。
類及びこれと反応させるオレフィンの種類に応じて、目
的とする含フッ素有機ケイ素化合物中の含フッ素有機基
および炭化水素基の占めるウエートを広範囲に変化させ
ることができる。
本発明により得られた含フッ素有機ケイ素化合物は、含
フッ素有機基が有する撥油性,潤滑性,離型性等の特性
と、炭化水素基が有する親油性等の特性、および耐熱
性,耐加水分解性等の諸特性に優れており、ゴム,プラ
スチック等の内添離型剤,セラミックス部品に用いる潤
滑剤,潤滑油に添加される耐摩耗性向上剤等の用途とし
て極めて有用である。
フッ素有機基が有する撥油性,潤滑性,離型性等の特性
と、炭化水素基が有する親油性等の特性、および耐熱
性,耐加水分解性等の諸特性に優れており、ゴム,プラ
スチック等の内添離型剤,セラミックス部品に用いる潤
滑剤,潤滑油に添加される耐摩耗性向上剤等の用途とし
て極めて有用である。
(実施例) 実施例1 500mlの四つ口フラスコに、 1-オクテン 44.8g(0.40モル) トルエン 200ml を仕込み、さらに、 トルエン(塩化白金酸0.07g含有)5ml を加えて100〜110℃に加熱した。
このフラスコに、内容物を攪拌しながら、 1-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,1,3,3-テトラ
メチル‐1,3-ジシロキサン 186g(0.32モル) を滴下した。
メチル‐1,3-ジシロキサン 186g(0.32モル) を滴下した。
滴下後、110〜120℃で反応を行わせ、ガスクロマトグラ
フィーによりシランの消費量を確認した後、減圧下にト
ルエンを除去した。次いで生成物を減圧蒸留したとこ
ろ、125〜126℃/4.0×10-5mmHgの留分として260g(収率
94%)を得た。
フィーによりシランの消費量を確認した後、減圧下にト
ルエンを除去した。次いで生成物を減圧蒸留したとこ
ろ、125〜126℃/4.0×10-5mmHgの留分として260g(収率
94%)を得た。
得られた留分を、元素分析、GC-MS分析,赤外吸収スペ
クトル,1H‐NMRスペクトルの測定を行なったところ、
下記の結果が得られた。
クトル,1H‐NMRスペクトルの測定を行なったところ、
下記の結果が得られた。
元素分析:(*C23H33F17OSi2として計算) C H Si 計算値* 38.2 4.8 8.1 実測値 38.1 4.9 8.3 GCMS:692 赤外吸収スペクトル:第1図に示す。波数1200〜1260cm
-1にC-Fに由来する特性吸収ピークが認られた。
-1にC-Fに由来する特性吸収ピークが認られた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.63〜1.50ppm(m,2H,-CF2‐CH2‐C) 1.50〜0.30ppm(m,19H,Si-CH2,Si-C8H17) 0.03,0.07ppm(2d,12H,Si-CH3) 以上の結果により、得られた物質は下記式 で表わされる、1-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐
3-オクチル‐1,1,3,3-テトラメチル‐1,3-ジシロキサン
であることが確認された。
3-オクチル‐1,1,3,3-テトラメチル‐1,3-ジシロキサン
であることが確認された。
実施例2 実施例1において用いた1-オクテン及びジシロキサンの
代わりに、 1-ヘキセン 74g(0.88モル) 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,1,3,5,5-ペン
タメチル‐1,3,5-トリシロキサン 256g(0.4モル) を使用した以外は実施例1と全く同様にして反応生成物
318g(収率94%)を得た。
代わりに、 1-ヘキセン 74g(0.88モル) 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,1,3,5,5-ペン
タメチル‐1,3,5-トリシロキサン 256g(0.4モル) を使用した以外は実施例1と全く同様にして反応生成物
318g(収率94%)を得た。
この生成物を、分取ガスクロマトグラフィー(カラム:S
E-30,1%,3m)で精製し、実施例1と同様の分析を行な
った。
E-30,1%,3m)で精製し、実施例1と同様の分析を行な
った。
元素分析:(*C27H45F17O2Si3として計算) C H Si 計算値* 40.1 5.6 10.4 実測値 40.3 5.8 10.5 GCMS:808 赤外吸収スペクトル:第2図に示す。波数1200〜1260に
C-Fに由来する特性吸収ピークが認められた。
C-Fに由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.60〜1.50ppm(m,2H,-CF2CH2‐C-) 1.50〜0.23ppm(m,28H,-CH2Si,SiC6H13) 0.08ppm(s,15H,SiMe) 以上の結果により、得られた物質は下記式 で表わされる、3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐
1,5-ジヘキシル‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリ
シロキサンであることが確認された。
1,5-ジヘキシル‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリ
シロキサンであることが確認された。
実施例3 反応成分として、 1-オクテン 49.3g(0.44モル) 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐1,1,3,5,5-ペン
タメチル‐1,3,5-トリシロキサン 128g(0.2モル) を使用した以外は、実施例1と全く同様にして反応生成
物165g(収率96%)を得た。
タメチル‐1,3,5-トリシロキサン 128g(0.2モル) を使用した以外は、実施例1と全く同様にして反応生成
物165g(収率96%)を得た。
この生成物について、実施例1と同様の分析を行なっ
た。
た。
元素分析:(*C31H53F17O2Si3として計算) C H Si 計算値* 43.1 6.2 9.7 実測値 43.0 6.0 9.9 GCMS:780 赤外吸収スペクトル:波数1200〜1260cm-1付近にC-Fに
由来する特性吸収ピークが認められた。
由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.50〜1.57ppm(m,2H,-CF2CH2‐C) 1.50〜0.30ppm(m,36H,SiCH2,SiC8H17) 0.10ppm(s,15H,SiCH3) 以上の結果により得られた物質は下記式 で表わされる。3-(2-パーフルオロオクチル)エチル
‐,1,5-ジオクチル‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-
トリシロキサンであることが確認された。
‐,1,5-ジオクチル‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-
トリシロキサンであることが確認された。
実施例4 反応成分として、 1-ヘキセン 82g(1.0モル) 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルシロ
キシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン21
0g(0.3モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行ない、
160℃/2mmHgでトルエンを除いたところ、反応生成物260
g(収率91%)を得た。
キシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン21
0g(0.3モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行ない、
160℃/2mmHgでトルエンを除いたところ、反応生成物260
g(収率91%)を得た。
この生成物を分取ガスクロマトグラフィーで精製し、実
施例1と同様の分析を行なった。
施例1と同様の分析を行なった。
元素分析:(*C34H61F17O3Si4として計算) C H Si 計算値* 42.8 6.5 11.8 実測値 42.8 6.6 11.6 GCMS:952 赤外吸収スペクトル:波数1200〜1260cm-1付近にC-Fに
由来する特性吸収ピークが認められた。
由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.53〜1.67ppm(m,2H,CF2CH2C) 1.67〜0.30ppm(m,41H,Si-CH2,Si-C6H13) 0.03ppm(s,18H,SiCH3) 以上の結果により得られた物質は で表わされる、3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐
3-ジメチルヘキシルシロキシ‐1,5-ジヘキシル‐1,1,5,
5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確
認された。
3-ジメチルヘキシルシロキシ‐1,5-ジヘキシル‐1,1,5,
5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確
認された。
実施例5 反応成分として、 1-オクテン 74g(0.66モル) 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルシロ
キシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン14
0g(0.2モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-オクテンを
除いたところ、油状の反応生成物197g(収率95%)が得
られた。
キシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン14
0g(0.2モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-オクテンを
除いたところ、油状の反応生成物197g(収率95%)が得
られた。
この生成物を分取ガスクロマトグラフィーで精製し、実
施例1と同様の分析を行なった。
施例1と同様の分析を行なった。
元素分析:(*C40H73F17O3Si4として計算) C H Si 計算値* 46.3 7.1 10.8 実測値 46.5 7.2 10.7 GCMS:1063 赤外吸収スペクトル:波数1200〜1260cm-1付近にC-Fに
由来する特性吸収ピークが認められた。
由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.48〜1.60ppm(m,2H,-CF2‐CH2‐C) 1.43〜0.18ppm(m,53H,SiCH2,SiC8H17) 0.03ppm(s,18H,SiCH3) 以上の結果により得られた物質は で表わされる、3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐
3-ジメチルオクチルシロキシ‐1,5-ジオクチル‐1,1,5,
5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確
認された。
3-ジメチルオクチルシロキシ‐1,5-ジオクチル‐1,1,5,
5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確
認された。
実施例6 反応成分として、 1-デセン 92.4g(0.66モル) 3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐3-ジメチルシロ
キシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン14
0g(0.2モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-デセンを除
いたところ油状の反応生成物206g(収率92%)を得た。
ガスクロ分取、精製したサンプルで分析したところ下記
の結果を得た。
キシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン14
0g(0.2モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-デセンを除
いたところ油状の反応生成物206g(収率92%)を得た。
ガスクロ分取、精製したサンプルで分析したところ下記
の結果を得た。
元素分析:(*C46H85F17O3Si4として計算) C H Si 計算値* 49.3 7.6 10.0 実測値 49.4 7.8 10.2 GCMS:1120 赤外吸収スペクトル:波数1200〜1260cm-1付近にC-Fに
由来する特性吸収ピークが認められた。
由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.50〜1.63ppm(m,2H,-CF2CH2C‐) 1.60〜0.17ppm(m,65,Si-CH2,Si-C10H21) 0.03ppm(s,18H,Si-CH3) 以上の結果により得られた物質は で表わされる、3-(2-パーフルオロオクチル)エチル‐
3-ジメチルデシルシロキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テ
トラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確認さ
れた。
3-ジメチルデシルシロキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テ
トラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確認さ
れた。
実施例7 反応成分として、 1-ヘキセン 67g(0.8モル) 3-(2-パーフルオロブチル)エチル‐1,1,3,5,5-ペンタ
メチル‐1,3,5-トリシロキサン 132g(0.3モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、トルエンを減圧下に留去したのち、減圧蒸留したと
ころ、130〜131℃/4.0×10-6mmHgの留分173g(収率95
%)を得た。この生成物について実施例1と同様の分析
を行なった。
メチル‐1,3,5-トリシロキサン 132g(0.3モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、トルエンを減圧下に留去したのち、減圧蒸留したと
ころ、130〜131℃/4.0×10-6mmHgの留分173g(収率95
%)を得た。この生成物について実施例1と同様の分析
を行なった。
GCMS:608 元素分析:(*C23H45F9O2Si3として計算) C H Si 計算値* 45.4 7.5 13.8 実測値 45.2 7.6 13.9 赤外吸収スペクトル:波数1200〜1260cm-1付近にC-Fに
由来する特性吸収ピークが認められた。
由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 2.47〜1.67ppm(m,2H,-CF2‐CH2‐C-) 1.53〜0.23ppm(m,28H,-SiCH2,Si-C6H13) 0ppm(s,15H,Si-CH3) 以上の結果より得られた物質は で表わされる3-(2-パーフルオロブチル)エチル‐1,5-
ジヘキシル‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロ
キサンであることが確認された。
ジヘキシル‐1,1,3,5,5-ペンタメチル‐1,3,5-トリシロ
キサンであることが確認された。
実施例8 反応成分として、 1-オクテン 48g(0.43モル) 3-(6,9-ビストリフルオロメチル‐6,8,8,9,11,11,12,1
2,13,13-ウンデカフルオロ‐4,7,10-トリオキサ)トリ
デシル‐3-ジメチルシロキシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐
1,3,5-トリシロキサン 101g(0.13モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-オクテンを
除いたところ、油状の反応生成物129g(収率90%)を得
た。ガスクロ分取、精製したサンプルで分析したところ
下記の結果を得た。
2,13,13-ウンデカフルオロ‐4,7,10-トリオキサ)トリ
デシル‐3-ジメチルシロキシ‐1,1,5,5-テトラメチル‐
1,3,5-トリシロキサン 101g(0.13モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-オクテンを
除いたところ、油状の反応生成物129g(収率90%)を得
た。ガスクロ分取、精製したサンプルで分析したところ
下記の結果を得た。
元素分析:(*C42H77F17O6Si4として計算) C H Si 計算値* 45.3 7.0 10.1 実測値 45.4 6.8 9.9 GCMS:1112 赤外吸収スペクトル:第3図に示す。波数1200〜1260cm
-1付近にC-Fに由来する特性吸収ピークが認められた。
-1付近にC-Fに由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 4.03〜3.72ppm(d,2H,-CF-CH2‐O) 3.57〜3.30ppm(t,2H,-O-CH2‐C) 1.90〜0.63ppm(m,55H,Si-CH2CH2‐C,Si-C8H17) 0.04ppm(s,18H,Si-CH3) 以上の結果から得られた物質は で表わされる3-(6,9-ビストリフルオロメチル‐6,8,8,
9,11,11,12,12,13,13,13-ウンデカフルオロ‐4,7,10-ト
リオキサ)トリデシル‐3-ジメチルオクチルシロキシ‐
1,5-ジオクチル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシ
ロキサンであることが確認された。
9,11,11,12,12,13,13,13-ウンデカフルオロ‐4,7,10-ト
リオキサ)トリデシル‐3-ジメチルオクチルシロキシ‐
1,5-ジオクチル‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシ
ロキサンであることが確認された。
実施例9 反応成分として、 1-デセン 140g(1.0モル) 3-(6,9,12-トリストリフルオロメチル‐6,8,8,9,11,1
1,12,14,14,15,15,16,16,16-テトラデカフルオロ‐4,7,
10,12-テトラオキサ)ヘキサデシル‐3-ジメチルシロキ
シ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン283g
(0.3モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-デセンを除
いたところ、油状の反応生成物388g(収率95%)を得
た。
1,12,14,14,15,15,16,16,16-テトラデカフルオロ‐4,7,
10,12-テトラオキサ)ヘキサデシル‐3-ジメチルシロキ
シ‐1,1,5,5-テトラメチル‐1,3,5-トリシロキサン283g
(0.3モル) を使用した以外は実施例1と同様にして反応を行った
後、160〜170℃/2mmHgでトルエンと過剰の1-デセンを除
いたところ、油状の反応生成物388g(収率95%)を得
た。
この生成物について、実施例1と同様の分析を行なっ
た。
た。
元素分析:(*C51H89F23O7Si4として計算) C H Si 計算値* 44.9 6.6 8.2 実測値 45.0 6.3 8.0 GCMS:1362 赤外吸収スペクトル:波数1200〜1260cm-1付近にC-Fに
由来する特性吸収ピークが認められた。
由来する特性吸収ピークが認められた。
NMRスペクトル:内部標準クロロホルム 4.10〜3.77ppm(d,2H,-CF-CH2‐O-) 3.60〜3.30ppm(t,2H,-OCH2‐C-) 1.90〜0.60ppm(m,67H,-Si-CH2CH2‐,SiC10H21) 0.03ppm(s,18H,Si-CH3) 以上の結果により得られた物質は で表わされる3-(6,9,12-トリストリフルオロメチル‐
6,8,8,9,11,11,12,14,14,15,15,16,16,16-テトラデカフ
ルオロ‐4,7,10,12-テトラオキサ)ヘキサデシル‐3-ジ
メチルデシルシロオキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テト
ラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確認され
た。
6,8,8,9,11,11,12,14,14,15,15,16,16,16-テトラデカフ
ルオロ‐4,7,10,12-テトラオキサ)ヘキサデシル‐3-ジ
メチルデシルシロオキシ‐1,5-ジデシル‐1,1,5,5-テト
ラメチル‐1,3,5-トリシロキサンであることが確認され
た。
第1図〜第3図は実施例1,2及び8で得られた含フッ素
有機ケイ素化合物の赤外吸収スペクトルを示したもので
ある。
有機ケイ素化合物の赤外吸収スペクトルを示したもので
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鷹合 俊雄 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社シリコーン電子材料技術研 究所内 (56)参考文献 特開 昭63−300246(JP,A) 特開 昭64−71887(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式〔I〕、 式中、Rfはパーフルオロアルキル基またはパーフルオロ
アルキルエーテル基を示し、 Meは、メチル基を示し、 lは、0または1の整数、 mは、6〜20の整数、 nは、1〜3の整数を示す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物。 - 【請求項2】(A)下記一般式〔II〕、 式中、Rf,Me,lおよびnは、それぞれ前述した意味を示
す、 で表わされる含フッ素有機ケイ素化合物と、 (B)下記一般式〔III〕、 CmH2m 〔III〕 式中、mは前述した意味を示す、 で表わされるオレフィン系化合物、とを白金系触媒の存
在下で反応させることを特徴とする請求項1記載の含フ
ッ素有機ケイ素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046735A JPH0720975B2 (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046735A JPH0720975B2 (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03251589A JPH03251589A (ja) | 1991-11-11 |
| JPH0720975B2 true JPH0720975B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=12755588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2046735A Expired - Lifetime JPH0720975B2 (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0720975B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5831110A (en) * | 1997-10-23 | 1998-11-03 | Chisso Corporation | Fluorine-containing siloxane compound and process for production thereof |
| JP4666667B2 (ja) * | 2008-08-21 | 2011-04-06 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素表面処理剤及び該表面処理剤で処理された物品 |
| JP5570841B2 (ja) * | 2010-02-24 | 2014-08-13 | 花王株式会社 | フッ素変性シリコーンを含有する化粧料 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63300246A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Ricoh Co Ltd | 静電潜像現像用トナ− |
| JPS6471887A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-16 | Shinetsu Chemical Co | Organosilicon compound |
-
1990
- 1990-02-27 JP JP2046735A patent/JPH0720975B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03251589A (ja) | 1991-11-11 |
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