JPH07220308A - 光ディスク原盤の露光方法及び装置 - Google Patents
光ディスク原盤の露光方法及び装置Info
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- JPH07220308A JPH07220308A JP2731594A JP2731594A JPH07220308A JP H07220308 A JPH07220308 A JP H07220308A JP 2731594 A JP2731594 A JP 2731594A JP 2731594 A JP2731594 A JP 2731594A JP H07220308 A JPH07220308 A JP H07220308A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光パワーを小さくすることにより、ピット
の微細化を可能とする。 【構成】本発明に係る露光装置は、基板５０に塗布され
たフォトレジスト５２にレーザ光１０を照射して、フォ
トレジスト５２にピット（図示せず）を形成するもので
ある。そして、フォトレジスト５２を含めた基板５０を
加熱する加熱手段として、ヒータ１２を内蔵した保持板
１４を備えている。ヒータ１２は、通電によりジュール
熱が発生する抵抗加熱体を用いている。
の微細化を可能とする。 【構成】本発明に係る露光装置は、基板５０に塗布され
たフォトレジスト５２にレーザ光１０を照射して、フォ
トレジスト５２にピット（図示せず）を形成するもので
ある。そして、フォトレジスト５２を含めた基板５０を
加熱する加熱手段として、ヒータ１２を内蔵した保持板
１４を備えている。ヒータ１２は、通電によりジュール
熱が発生する抵抗加熱体を用いている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクを大量に生
産するためのスタンパの元となる光ディスク原盤を露光
する方法及び装置に関し、詳しくは、再生専用ＲＯＭ型
光ディスクの光ディスク原盤の露光方法及び装置に関す
る。
産するためのスタンパの元となる光ディスク原盤を露光
する方法及び装置に関し、詳しくは、再生専用ＲＯＭ型
光ディスクの光ディスク原盤の露光方法及び装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】情報化社会の進展により、組織・個人共
に扱うデータ量は飛躍的に増大しつつある。その中にあ
って、光ディスクは、再生専用としてのＲＯＭ媒体、或
いは記録可能なタイプとして追記型、書換型等が開発さ
れ各方面で使用され始めている。大容量と言われる光デ
ィスクにおいても益々の高密度化が要求されつつある。
に扱うデータ量は飛躍的に増大しつつある。その中にあ
って、光ディスクは、再生専用としてのＲＯＭ媒体、或
いは記録可能なタイプとして追記型、書換型等が開発さ
れ各方面で使用され始めている。大容量と言われる光デ
ィスクにおいても益々の高密度化が要求されつつある。
【０００３】光ディスクは、次のようにして生産されて
いる。まず、ガラス製の基板に、ポジ型のフォトレジス
トを塗布する。このフォトレジストにレーザ光を記録信
号に基づいて照射することにより、多数のピットの形状
を露光する。続いて、溶剤で露光部分を除去して現像す
る。これにより、記録信号に対応した多数のピットを有
する光ディスク原盤が得られる。続いて、光ディスク原
盤を型としてスタンパを作製し、スタンパによって光デ
ィスクを大量に生産する。したがって、光ディスクの高
密度化を実現するには、フォトレジストにレーザ光で露
光されるピットの微細化を図ることが重要である。
いる。まず、ガラス製の基板に、ポジ型のフォトレジス
トを塗布する。このフォトレジストにレーザ光を記録信
号に基づいて照射することにより、多数のピットの形状
を露光する。続いて、溶剤で露光部分を除去して現像す
る。これにより、記録信号に対応した多数のピットを有
する光ディスク原盤が得られる。続いて、光ディスク原
盤を型としてスタンパを作製し、スタンパによって光デ
ィスクを大量に生産する。したがって、光ディスクの高
密度化を実現するには、フォトレジストにレーザ光で露
光されるピットの微細化を図ることが重要である。
【０００４】また、ピット幅Ｗは、フォトレジストの解
像度に起因して基本的には次式で与えられる。
像度に起因して基本的には次式で与えられる。
【０００５】Ｗ＝ｋ・λ／ＮＡ ・・・
【０００６】ここで、ｋ：プロセス定数（フォトレジス
トの解像度、露光パワー等による），λ：使用光源の波
長，ＮＡ：対物レンズの開口数である。
トの解像度、露光パワー等による），λ：使用光源の波
長，ＮＡ：対物レンズの開口数である。
【０００７】式より、ピット幅Ｗを狭くする一つの方
法として、露光パワーを小さくすることにより、プロセ
ス定数ｋを小さくすればよいことがわかる。
法として、露光パワーを小さくすることにより、プロセ
ス定数ｋを小さくすればよいことがわかる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、露光パ
ワーを小さくすると、実際のピットは図４に示すように
形成される。図４は、ガラス製の基板５０にフォトレジ
スト５２を塗布し、矢印５１で示すようにビームスポッ
トＳを進めることでレーザ光を照射して、感光した部分
のフォトレジスト５２を除去することによりピット５３
を形成したものである。ピット５３の上面からの形状５
４は、理想的な小判型をしている。しかし、ピット５３
の前部（ビームスポットＳの進行方向前部）の壁面５６
が、後部の壁面５８の角度よりも緩くなっている。その
結果、ピット５３の前部が不明確となってジッタ（デジ
タルパルスの時間のバラツキ）が大きくなるという問題
が生ずる。したがって、露光パワーを小さくすることに
より、ピットの微細化を図ることは困難であった。
ワーを小さくすると、実際のピットは図４に示すように
形成される。図４は、ガラス製の基板５０にフォトレジ
スト５２を塗布し、矢印５１で示すようにビームスポッ
トＳを進めることでレーザ光を照射して、感光した部分
のフォトレジスト５２を除去することによりピット５３
を形成したものである。ピット５３の上面からの形状５
４は、理想的な小判型をしている。しかし、ピット５３
の前部（ビームスポットＳの進行方向前部）の壁面５６
が、後部の壁面５８の角度よりも緩くなっている。その
結果、ピット５３の前部が不明確となってジッタ（デジ
タルパルスの時間のバラツキ）が大きくなるという問題
が生ずる。したがって、露光パワーを小さくすることに
より、ピットの微細化を図ることは困難であった。
【０００９】
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、露光パワーを
小さくすることにより、ピットの微細化を可能とした光
ディスク原盤の露光方法及び装置を提供することにあ
る。
小さくすることにより、ピットの微細化を可能とした光
ディスク原盤の露光方法及び装置を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図４に示すようなピット
形状となる原因について、本発明者が実験を通じて見い
出した結果を以下に説明する。
形状となる原因について、本発明者が実験を通じて見い
出した結果を以下に説明する。
【００１１】図５は、フォトレジスト５２への露光時に
おける熱分布の平面及び深さ方向のシミュレーション結
果を示している。この図では、等温線ａ，ｂ，ｃの順に
低温となる。また、図４と同一部分は同一符号を付して
いる。
おける熱分布の平面及び深さ方向のシミュレーション結
果を示している。この図では、等温線ａ，ｂ，ｃの順に
低温となる。また、図４と同一部分は同一符号を付して
いる。
【００１２】図５から明らかなように、ピット５３の前
部よりも後部の方が太くなる等温線領域となるが、光化
学反応が生じる部分にしかピット５３は形成されないの
で、平面的には小判型の形状５４が得られる。しかしな
がら、深さ方向に関しては図５（Ｂ）に示すような温度
特性となり、この影響を受けて図４のような形状のピッ
ト５３が形成されると考えられる。
部よりも後部の方が太くなる等温線領域となるが、光化
学反応が生じる部分にしかピット５３は形成されないの
で、平面的には小判型の形状５４が得られる。しかしな
がら、深さ方向に関しては図５（Ｂ）に示すような温度
特性となり、この影響を受けて図４のような形状のピッ
ト５３が形成されると考えられる。
【００１３】すなわち、レーザ光をフォトレジスト５２
に照射し始めると、レーザ光の光エネルギの一部が熱エ
ネルギに変わることにより、ビームスポットＳ周囲の温
度が徐々に上昇する。したがって、レーザ光の照射開始
位置と照射終了位置とでは、照射終了位置の方が温度が
高くなる。一方、フォトレジスト５２の光化学反応は温
度が高いほど進むので、照射開始位置では浅い部分まで
しか反応が進まないのに対して、照射終了位置では深い
部分にまで反応が進む。これにより、図４に示すような
好ましくないピット形状となるのである。
に照射し始めると、レーザ光の光エネルギの一部が熱エ
ネルギに変わることにより、ビームスポットＳ周囲の温
度が徐々に上昇する。したがって、レーザ光の照射開始
位置と照射終了位置とでは、照射終了位置の方が温度が
高くなる。一方、フォトレジスト５２の光化学反応は温
度が高いほど進むので、照射開始位置では浅い部分まで
しか反応が進まないのに対して、照射終了位置では深い
部分にまで反応が進む。これにより、図４に示すような
好ましくないピット形状となるのである。
【００１４】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
であり、基板に塗布されたフォトレジストにレーザ光を
照射して、このフォトレジストにピットを形成する光デ
ィスク原盤の露光方法及び装置を改良したものである。
その改良点は、前記フォトレジストを含めた前記基板を
加熱して高温に保持しながら、前記フォトレジストに前
記レーザ光を照射することである。又は、前記フォトレ
ジストを含めた前記基板を加熱する加熱手段を備えたこ
とである。
であり、基板に塗布されたフォトレジストにレーザ光を
照射して、このフォトレジストにピットを形成する光デ
ィスク原盤の露光方法及び装置を改良したものである。
その改良点は、前記フォトレジストを含めた前記基板を
加熱して高温に保持しながら、前記フォトレジストに前
記レーザ光を照射することである。又は、前記フォトレ
ジストを含めた前記基板を加熱する加熱手段を備えたこ
とである。
【００１５】前記加熱手段は、前記基板を保持すると共
にヒータを内蔵した保持板、前記基板を囲繞する保温
箱、又は前記基板に加熱した気体を吹き付ける温風器と
してもよい。
にヒータを内蔵した保持板、前記基板を囲繞する保温
箱、又は前記基板に加熱した気体を吹き付ける温風器と
してもよい。
【００１６】
【作用】基板に塗布されたフォトレジストにレーザ光を
照射する。このとき、基板又はレーザ光を動かすことに
より、フォトレジスト上をレーザ光のビームスポットが
動いて所定のピット形状がフォトレジストに形成され
る。
照射する。このとき、基板又はレーザ光を動かすことに
より、フォトレジスト上をレーザ光のビームスポットが
動いて所定のピット形状がフォトレジストに形成され
る。
【００１７】このとき、本発明では、予めフォトレジス
トを含む基板を加熱して高温に保持しておく。したがっ
て、フォトレジスト上のレーザ光の照射開始位置でも、
高温となっているので、深い部分にまで光化学反応が進
む。
トを含む基板を加熱して高温に保持しておく。したがっ
て、フォトレジスト上のレーザ光の照射開始位置でも、
高温となっているので、深い部分にまで光化学反応が進
む。
【００１８】
【実施例】図１は、本発明に係る光ディスク原盤の露光
装置の第一実施例を示す構成図である。以下、この図に
基づき説明する。
装置の第一実施例を示す構成図である。以下、この図に
基づき説明する。
【００１９】本発明に係る露光装置は、基板５０に塗布
されたフォトレジスト５２にレーザ光１０を照射して、
フォトレジスト５２にピット（図示せず）を形成するも
のである。そして、フォトレジスト５２を含めた基板５
０を加熱する加熱手段として、ヒータ１２を内蔵した保
持板１４を備えている。ヒータ１２は、通電によりジュ
ール熱が発生する抵抗加熱体を用いている。
されたフォトレジスト５２にレーザ光１０を照射して、
フォトレジスト５２にピット（図示せず）を形成するも
のである。そして、フォトレジスト５２を含めた基板５
０を加熱する加熱手段として、ヒータ１２を内蔵した保
持板１４を備えている。ヒータ１２は、通電によりジュ
ール熱が発生する抵抗加熱体を用いている。
【００２０】レーザ光１０は、対物レンズ１６を介して
フォトレジスト５２上にビームスポットＳを照射する。
一方、保持板１４は、基板５０を載置したまま、図示し
ない駆動装置により矢印２０の方向に回転している。し
たがって、レーザ光１０を、記録信号に基づきパルス化
することにより、フォトレジスト５２上に多数のピット
の形状が露光される。一つのピットの形状は、ビームス
ポットＳの照射開始位置から照射終了位置までの棒状と
なる。
フォトレジスト５２上にビームスポットＳを照射する。
一方、保持板１４は、基板５０を載置したまま、図示し
ない駆動装置により矢印２０の方向に回転している。し
たがって、レーザ光１０を、記録信号に基づきパルス化
することにより、フォトレジスト５２上に多数のピット
の形状が露光される。一つのピットの形状は、ビームス
ポットＳの照射開始位置から照射終了位置までの棒状と
なる。
【００２１】このとき、本発明では、予めフォトレジス
ト５２を含む基板５０をヒータ１２で加熱して高温に保
持しておく。したがって、フォトレジスト５２上のビー
ムスポットＳの照射開始位置でも、高温となっているの
で、深い部分にまで光化学反応が進む。
ト５２を含む基板５０をヒータ１２で加熱して高温に保
持しておく。したがって、フォトレジスト５２上のビー
ムスポットＳの照射開始位置でも、高温となっているの
で、深い部分にまで光化学反応が進む。
【００２２】図２は、本発明に係る光ディスク原盤の露
光装置の第二実施例を示す構成図である。以下、この図
に基づき説明する。ただし、図１と同一部分は同一符号
を付して説明を省略する。
光装置の第二実施例を示す構成図である。以下、この図
に基づき説明する。ただし、図１と同一部分は同一符号
を付して説明を省略する。
【００２３】この実施例における加熱手段は、基板５０
を囲繞する保温箱２２である。保温箱２２は、例えば、
断熱性及び耐熱性に優れたガラスファイバ等をステンレ
ス板で挟持した板材によって組み立てられたものであ
る。保温箱２２には、露光を行うための開口部２４が設
けられている。保持板１５は、通常のターンテーブルで
ある。
を囲繞する保温箱２２である。保温箱２２は、例えば、
断熱性及び耐熱性に優れたガラスファイバ等をステンレ
ス板で挟持した板材によって組み立てられたものであ
る。保温箱２２には、露光を行うための開口部２４が設
けられている。保持板１５は、通常のターンテーブルで
ある。
【００２４】露光に伴って発生した熱が保温箱２２内に
閉じ込められることにより、基板５０の温度が上昇する
ようになっている。このとき、露光開始時は基板５０の
温度が低くなっているので、予め恒温槽等で基板５０を
加熱しておくことが好ましい。本実施例では、特に加熱
源を必要としないので、構成が簡単になるという利点が
ある。なお、必要に応じ、保温箱２２にヒータ等を設け
てもよい。
閉じ込められることにより、基板５０の温度が上昇する
ようになっている。このとき、露光開始時は基板５０の
温度が低くなっているので、予め恒温槽等で基板５０を
加熱しておくことが好ましい。本実施例では、特に加熱
源を必要としないので、構成が簡単になるという利点が
ある。なお、必要に応じ、保温箱２２にヒータ等を設け
てもよい。
【００２５】図３は、本発明に係る光ディスク原盤の露
光装置の第三実施例を示す構成図である。以下、この図
に基づき説明する。ただし、図１及び図２と同一部分は
同一符号を付して説明を省略する。
光装置の第三実施例を示す構成図である。以下、この図
に基づき説明する。ただし、図１及び図２と同一部分は
同一符号を付して説明を省略する。
【００２６】この実施例における加熱手段は、基板５０
に加熱した気体を吹き付ける温風器３０である。温風器
３０は、先端にノズル３２を有する筐体３４と、筐体３
４内に設けられたファン３６及びヒータ３８とから構成
されている。
に加熱した気体を吹き付ける温風器３０である。温風器
３０は、先端にノズル３２を有する筐体３４と、筐体３
４内に設けられたファン３６及びヒータ３８とから構成
されている。
【００２７】外気４０は、ファン３６に取り込まれて、
ヒータ３８を介して熱風４２となり、ノズル３２から基
板５０へ向けて放出される。本実施例では、露光される
部分のフォトレジスト５２を直接加熱するので、フォト
レジスト５２を速やかに昇温できる。また、露光される
部分のフォトレジスト５２は、露光される間だけ昇温さ
れる。したがって、フォトレジスト５２を高温にさらす
時間を最小限にできることにより、フォトレジスト５２
のポリマー、溶解制御剤等の高温による分解を抑制でき
る。
ヒータ３８を介して熱風４２となり、ノズル３２から基
板５０へ向けて放出される。本実施例では、露光される
部分のフォトレジスト５２を直接加熱するので、フォト
レジスト５２を速やかに昇温できる。また、露光される
部分のフォトレジスト５２は、露光される間だけ昇温さ
れる。したがって、フォトレジスト５２を高温にさらす
時間を最小限にできることにより、フォトレジスト５２
のポリマー、溶解制御剤等の高温による分解を抑制でき
る。
【００２８】なお、フォトレジストを含めた基板を加熱
する際は、レーザ光の波長に基づくエネルギよりも低
く、かつ露光に伴って上昇するフォトレジスト表面の温
度よりも高い温度になるように、加熱することが好まし
い。
する際は、レーザ光の波長に基づくエネルギよりも低
く、かつ露光に伴って上昇するフォトレジスト表面の温
度よりも高い温度になるように、加熱することが好まし
い。
【００２９】例えば、加熱時のフォトレジストの最高温
度は、通常のフォトレジストが機能する１５０℃以下と
することが好ましい。
度は、通常のフォトレジストが機能する１５０℃以下と
することが好ましい。
【００３０】また、加熱手段は、例えば赤外線ランプ等
にしてもよい。加熱手段を赤外線ランプにした場合は、
赤外線をレンズで集光して、露光される部分のフォトレ
ジストにのみ照射するようにしてもよい。
にしてもよい。加熱手段を赤外線ランプにした場合は、
赤外線をレンズで集光して、露光される部分のフォトレ
ジストにのみ照射するようにしてもよい。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、露光前に予めフォトレ
ジストを含む基板を加熱して高温に保持しておくことに
より、フォトレジスト上のレーザ光の照射開始位置で
も、照射終了位置と同じように深い部分にまで光化学反
応を進ませることができる。その結果、露光パワーを小
さくしても、フォトレジストの深い部分まで小判状の理
想的なピットを形成できるので、ピットの微細化を達成
できる。
ジストを含む基板を加熱して高温に保持しておくことに
より、フォトレジスト上のレーザ光の照射開始位置で
も、照射終了位置と同じように深い部分にまで光化学反
応を進ませることができる。その結果、露光パワーを小
さくしても、フォトレジストの深い部分まで小判状の理
想的なピットを形成できるので、ピットの微細化を達成
できる。
【００３２】また、請求項４記載の露光装置によれば、
加熱手段を保温箱としたことにより、加熱源を必要とし
ないので、構成を簡単にできる。
加熱手段を保温箱としたことにより、加熱源を必要とし
ないので、構成を簡単にできる。
【００３３】請求項５記載の露光装置によれば、加熱手
段を温風器としたので、露光される部分のフォトレジス
トを直接加熱することにより、フォトレジストを速やか
に昇温できる。その結果、処理速度を上げることができ
るので生産性を向上できる。また、フォトレジストを高
温にさらす時間を最小限にできるので、フォトレジスト
の高温による反応を抑制できる。
段を温風器としたので、露光される部分のフォトレジス
トを直接加熱することにより、フォトレジストを速やか
に昇温できる。その結果、処理速度を上げることができ
るので生産性を向上できる。また、フォトレジストを高
温にさらす時間を最小限にできるので、フォトレジスト
の高温による反応を抑制できる。
【図１】本発明に係る光ディスク原盤の露光装置の第一
実施例を示す構成図である。
実施例を示す構成図である。
【図２】本発明に係る光ディスク原盤の露光装置の第二
実施例を示す構成図である。
実施例を示す構成図である。
【図３】本発明に係る光ディスク原盤の露光装置の第三
実施例を示す構成図である。
実施例を示す構成図である。
【図４】従来の露光方法により形成したピットを示し、
図４（Ａ）は平面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）における
IV-IV 線縦断面図である。
図４（Ａ）は平面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）における
IV-IV 線縦断面図である。
【図５】従来の露光方法におけるフォトレジストの熱分
布の平面及び深さ方向のシミュレーション結果を示し、
図５（Ａ）は平面的な熱分布図、図５（Ｂ）は図５
（Ａ）におけるV-V 線の温度グラフである。
布の平面及び深さ方向のシミュレーション結果を示し、
図５（Ａ）は平面的な熱分布図、図５（Ｂ）は図５
（Ａ）におけるV-V 線の温度グラフである。
１０ レーザ光 １４ 保持板（加熱手段） ２２ 保温箱（加熱手段） ３０ 温風器（加熱手段） ５０ 基板 ５２ フォトレジスト
Claims (5)
- 【請求項１】 基板に塗布されたフォトレジストにレー
ザ光を照射して、このフォトレジストにピットを形成す
る光ディスク原盤の露光方法において、 前記フォトレジストを含めた前記基板を加熱して高温に
保持したまま、前記フォトレジストに前記レーザ光を照
射することを特徴とする光ディスク原盤の露光方法。 - 【請求項２】 基板に塗布されたフォトレジストにレー
ザ光を照射して、このフォトレジストにピットを形成す
る光ディスク原盤の露光装置において、 前記フォトレジストを含めた前記基板を加熱する加熱手
段を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記加熱手段は、前記基板を保持すると
共にヒータを内蔵した保持板であることを特徴とする請
求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記加熱手段は、前記基板を囲繞する保
温箱であることを特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記加熱手段は、前記基板に加熱した気
体を吹き付ける温風器であることを特徴とする請求項２
記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2731594A JPH07220308A (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | 光ディスク原盤の露光方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2731594A JPH07220308A (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | 光ディスク原盤の露光方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220308A true JPH07220308A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=12217660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2731594A Pending JPH07220308A (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | 光ディスク原盤の露光方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07220308A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0776005A3 (de) * | 1995-11-21 | 1999-04-07 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04248147A (ja) * | 1991-01-24 | 1992-09-03 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク原盤記録装置 |
-
1994
- 1994-01-31 JP JP2731594A patent/JPH07220308A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04248147A (ja) * | 1991-01-24 | 1992-09-03 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク原盤記録装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0776005A3 (de) * | 1995-11-21 | 1999-04-07 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990223 |