JPH0722689B2 - ポリアミドウレタンの逆浸透膜 - Google Patents
ポリアミドウレタンの逆浸透膜Info
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- JPH0722689B2 JPH0722689B2 JP3238881A JP23888191A JPH0722689B2 JP H0722689 B2 JPH0722689 B2 JP H0722689B2 JP 3238881 A JP3238881 A JP 3238881A JP 23888191 A JP23888191 A JP 23888191A JP H0722689 B2 JPH0722689 B2 JP H0722689B2
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G71/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a ureide or urethane link, otherwise, than from isocyanate radicals in the main chain of the macromolecule
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
- B01D69/1251—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction by interfacial polymerisation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/54—Polyureas; Polyurethanes
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
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- B01D71/06—Organic material
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C69/96—Esters of carbonic or haloformic acids
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- Polymers & Plastics (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、水溶液の脱塩のような逆浸透
工程に使用するための複合膜に関するものである。より
特定的には、本発明はその一層がポリアミドウレタンの
共重合体である多層膜に関するものである。
工程に使用するための複合膜に関するものである。より
特定的には、本発明はその一層がポリアミドウレタンの
共重合体である多層膜に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】逆浸透は塩水の精製用の周知の方法であ
る。この方法においては、塩水供給原料溶液の浸透圧を
超える圧力を供給原料溶液に適用して、選択浸透性半透
膜の使用により純粋な水を分離する。これにより純粋な
水が膜を通して拡散し、塩および他の不純物は膜により
保持される結果となる。
る。この方法においては、塩水供給原料溶液の浸透圧を
超える圧力を供給原料溶液に適用して、選択浸透性半透
膜の使用により純粋な水を分離する。これにより純粋な
水が膜を通して拡散し、塩および他の不純物は膜により
保持される結果となる。
【０００３】選択透過性膜は、支持用多孔性基材上に分
離層を持つ複合膜を有する。この基材は、典型的には多
孔性支持体に支持されてこの膜に機械的強度を与える。
逆浸透における使用に適した選択透過性膜は種々の形状
および構成で入手することができる。平面シート、管状
繊維膜および中空繊維膜が当該技術において周知されて
いる。これらの膜はまた、形態において変化することが
できる。均一な非対称膜も薄いフィルム複合体と同様に
操作可能である。
離層を持つ複合膜を有する。この基材は、典型的には多
孔性支持体に支持されてこの膜に機械的強度を与える。
逆浸透における使用に適した選択透過性膜は種々の形状
および構成で入手することができる。平面シート、管状
繊維膜および中空繊維膜が当該技術において周知されて
いる。これらの膜はまた、形態において変化することが
できる。均一な非対称膜も薄いフィルム複合体と同様に
操作可能である。
【０００４】選択透過性膜は微孔性膜に重ね合わせられ
た膜層を有する多層構造体の形状で入手することができ
る。基材上に使用され得る膜層にはポリアミド、ポリフ
ェニレンエステルおよびポリスルホンアミドが含まれ
る。
た膜層を有する多層構造体の形状で入手することができ
る。基材上に使用され得る膜層にはポリアミド、ポリフ
ェニレンエステルおよびポリスルホンアミドが含まれ
る。
【０００５】ポリアミドの識別層は当該技術で周知され
ている。ポリアミドは脂肪族のものであっても芳香族の
ものであってもよく、また、架橋されていてもよい。ポ
リアミド膜は環状脂肪族ジアミンと塩化イソフタロイ
ル、塩化トリメソイルまたはこれらの酸塩化物の混合物
との界面反応により製造することができる。ポリアミド
膜はまた、ｍ-フェニレンジアミンと塩化シクロヘキサ
ン-1,3,5-トリカルボニルとの反応によっても製造する
ことができる。加えて、ポリアミド膜はまた、芳香環に
少なくとも 2 個の第１級アミンを有する芳香族ポリア
ミンと、芳香環に平均として 2 個を超えるハロゲン化
アシル基を有する芳香族多官能性ハロゲン化アシルとの
反応によっても製造することができる。
ている。ポリアミドは脂肪族のものであっても芳香族の
ものであってもよく、また、架橋されていてもよい。ポ
リアミド膜は環状脂肪族ジアミンと塩化イソフタロイ
ル、塩化トリメソイルまたはこれらの酸塩化物の混合物
との界面反応により製造することができる。ポリアミド
膜はまた、ｍ-フェニレンジアミンと塩化シクロヘキサ
ン-1,3,5-トリカルボニルとの反応によっても製造する
ことができる。加えて、ポリアミド膜はまた、芳香環に
少なくとも 2 個の第１級アミンを有する芳香族ポリア
ミンと、芳香環に平均として 2 個を超えるハロゲン化
アシル基を有する芳香族多官能性ハロゲン化アシルとの
反応によっても製造することができる。
【０００６】これらの先行技術の膜は逆浸透膜として有
用ではあるが、有用寿命が短いことおよび流通性と塩排
除とが低いことのような欠点を示しがちであった。した
がって、高い塩排除率を示すと同時に改良された流通速
度をも与える改良された逆浸透膜に対する要求が存在す
る。
用ではあるが、有用寿命が短いことおよび流通性と塩排
除とが低いことのような欠点を示しがちであった。した
がって、高い塩排除率を示すと同時に改良された流通速
度をも与える改良された逆浸透膜に対する要求が存在す
る。
【０００７】
【発明の概要】本発明は、驚くほど改良された溶質排除
と透過性とを示す改良された逆浸透膜を指向するもので
ある。この膜は、ハロゲン化ハロホルミルオキシ置換ア
シルとジアミン処理した基材との反応により工程中で形
成された、ポリアミドウレタンの分離層を有する。
と透過性とを示す改良された逆浸透膜を指向するもので
ある。この膜は、ハロゲン化ハロホルミルオキシ置換ア
シルとジアミン処理した基材との反応により工程中で形
成された、ポリアミドウレタンの分離層を有する。
【０００８】本発明に従えば、重合体多孔性基材をジア
ミンの溶液で処理することにより、改良された逆浸透膜
が形成される。ついで、この処理された基材を上記の重
合体基材に対して非反応性の有機溶媒中のハロゲン化ハ
ロホルミルオキシ置換アシルに暴露してポリアミドウレ
タンの膜を形成させる。
ミンの溶液で処理することにより、改良された逆浸透膜
が形成される。ついで、この処理された基材を上記の重
合体基材に対して非反応性の有機溶媒中のハロゲン化ハ
ロホルミルオキシ置換アシルに暴露してポリアミドウレ
タンの膜を形成させる。
【０００９】得られる膜の驚くべきほどに改良された溶
質排除および透過性が、この膜を、高純度の透過物を必
要とする広い範囲の応用面において使用することを可能
にする。これらの応用面の例には、塩水の脱塩、半導体
製造用の純水、廃水処理における ＢＯＤ の低下、金属
の回収における溶解塩の除去、乳製品の加工、果汁の濃
縮、ワイン、ビールの脱アルコール等が含まれるが、こ
れに限定されるものではない。この種の応用面において
は、上記の液体を加圧下において本発明記載の改良され
た膜と接触させて不純物を除去する。
質排除および透過性が、この膜を、高純度の透過物を必
要とする広い範囲の応用面において使用することを可能
にする。これらの応用面の例には、塩水の脱塩、半導体
製造用の純水、廃水処理における ＢＯＤ の低下、金属
の回収における溶解塩の除去、乳製品の加工、果汁の濃
縮、ワイン、ビールの脱アルコール等が含まれるが、こ
れに限定されるものではない。この種の応用面において
は、上記の液体を加圧下において本発明記載の改良され
た膜と接触させて不純物を除去する。
【００１０】
【発明の詳細な記述】本発明を手短に概括したが、ここ
では以下の明細書および非限定的な実施例を引用して本
発明を詳細に記述する。これと異なる指示のない限り、
全ての百分率は重量％であり、全ての温度は ℃ であ
る。
では以下の明細書および非限定的な実施例を引用して本
発明を詳細に記述する。これと異なる指示のない限り、
全ての百分率は重量％であり、全ての温度は ℃ であ
る。
【００１１】一般的には、本発明記載の改良された逆浸
透膜の製造は重合体多孔性基材を多官能性アミンの、た
とえば ｍ-フェニレンジアミン、ピペラジン、キシリレ
ンジアミン等の、好ましくは芳香族ジアミン、たとえば
ｐ-フェニレンジアミン、ｍ-フェニレンジアミン等
の、最も好ましくは ｍ-フェニレンジアミンの水溶液で
処理し、この基材をさらにハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルの、たとえば塩化 5-クロロホルミルオキ
シイソフタロイル、塩化 4-クロロホルミルオキシイソ
フタロイル、塩化 2-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルの、塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロイル
のブロモ同族体、たとえば二臭化 5-ブロモホルミルオ
キシイソフタロイル、塩化 5-ブロモホルミルオキシイ
ソフタロイルの、好ましくは二ハロゲン化 5-ハロホル
ミルオキシイソフタロイルの、最も好ましくは塩化 5-
クロロホルミルオキシイソフタロイルの溶液で処理する
ことにより達成される。ハロゲン化ハロホルミルオキシ
置換アシルと多官能性アミンとの反応により、驚くべき
ほどに改良された溶質排除と改良された溶媒流通性との
双方を示すポリアミドウレタンの新規な組成物が得られ
る。このポリアミドウレタンの一般式は：
透膜の製造は重合体多孔性基材を多官能性アミンの、た
とえば ｍ-フェニレンジアミン、ピペラジン、キシリレ
ンジアミン等の、好ましくは芳香族ジアミン、たとえば
ｐ-フェニレンジアミン、ｍ-フェニレンジアミン等
の、最も好ましくは ｍ-フェニレンジアミンの水溶液で
処理し、この基材をさらにハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルの、たとえば塩化 5-クロロホルミルオキ
シイソフタロイル、塩化 4-クロロホルミルオキシイソ
フタロイル、塩化 2-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルの、塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロイル
のブロモ同族体、たとえば二臭化 5-ブロモホルミルオ
キシイソフタロイル、塩化 5-ブロモホルミルオキシイ
ソフタロイルの、好ましくは二ハロゲン化 5-ハロホル
ミルオキシイソフタロイルの、最も好ましくは塩化 5-
クロロホルミルオキシイソフタロイルの溶液で処理する
ことにより達成される。ハロゲン化ハロホルミルオキシ
置換アシルと多官能性アミンとの反応により、驚くべき
ほどに改良された溶質排除と改良された溶媒流通性との
双方を示すポリアミドウレタンの新規な組成物が得られ
る。このポリアミドウレタンの一般式は：
【００１２】
【化１】
【００１３】式中、Ｘ は三価の有機基、たとえば三置
換シクロヘキサン、三置換ベンゼン、三置換ナフタレ
ン、三置換シクロペンタン、三置換シクロヘプタン等で
あり、Ｙ は二価の有機基、たとえば ｍ-フェニレンジ
アミン、ｐ-フェニレンジアミン、ピペラジン等である である。
換シクロヘキサン、三置換ベンゼン、三置換ナフタレ
ン、三置換シクロペンタン、三置換シクロヘプタン等で
あり、Ｙ は二価の有機基、たとえば ｍ-フェニレンジ
アミン、ｐ-フェニレンジアミン、ピペラジン等である である。
【００１４】一般的には、本件塩化ハロホルミルオキシ
置換イソフタロイルは、ヒドロキシ置換イソフタル酸ま
たはヒドロキシ置換イソフタル酸の塩、触媒、ホスゲ
ン、および溶媒を自然発生的な圧力下、高温で反応させ
て製造することができる。ジアミン処理微孔性基材と最
も好適に反応する塩化 5-クロロホルミルオキシイソフ
タロイル（ＣＦＩＣ）は、好ましくは、5-ヒドロキシイ
ソフタル酸 25 g、イミダゾール 0.3 g、ホスゲン 70
g、およびクロロベンゼン溶媒 100 ml の混合物を圧力
容器中、160℃ で 18 時間、自然発生的な圧力下で加熱
して製造する。溶媒を除去し、続いて生成物を 143 −
151℃、１ｍｍＨg で蒸留すると、12.6 g の（ＣＦＩ
Ｃ）（白色固体、融点55.5 − 56.5℃）が得られる。
置換イソフタロイルは、ヒドロキシ置換イソフタル酸ま
たはヒドロキシ置換イソフタル酸の塩、触媒、ホスゲ
ン、および溶媒を自然発生的な圧力下、高温で反応させ
て製造することができる。ジアミン処理微孔性基材と最
も好適に反応する塩化 5-クロロホルミルオキシイソフ
タロイル（ＣＦＩＣ）は、好ましくは、5-ヒドロキシイ
ソフタル酸 25 g、イミダゾール 0.3 g、ホスゲン 70
g、およびクロロベンゼン溶媒 100 ml の混合物を圧力
容器中、160℃ で 18 時間、自然発生的な圧力下で加熱
して製造する。溶媒を除去し、続いて生成物を 143 −
151℃、１ｍｍＨg で蒸留すると、12.6 g の（ＣＦＩ
Ｃ）（白色固体、融点55.5 − 56.5℃）が得られる。
【００１５】ＣＦＩＣ はまた、上記の好ましい反応剤
の代替物を用いて製造することもできる。たとえば、5-
ヒドロキシイソフタル酸の塩たとえば 5-ヒドロキシイ
ソフタル酸二ナトリウムまたは 5-ヒドロキシイソフタ
ル酸三ナトリウムで 5-ヒドロキシイソフタル酸を置き
換えることもできる。同様に、ホスゲンと錯体形成し得
る他のヘテロ原子含有化合物でイミダゾールを置き換え
ることもできる。この種の触媒の例にはピリジン、Ｎ,
Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ,Ｎ-ジメチル
アセタミド（ＤＭＡc）等が含まれるが、これに限定さ
れるものではない。同様に、その溶媒が反応剤および生
成物と十分に非反応性のものである限り、ジオキサンお
よび塩化メチレンのような溶媒を使用することもでき
る。
の代替物を用いて製造することもできる。たとえば、5-
ヒドロキシイソフタル酸の塩たとえば 5-ヒドロキシイ
ソフタル酸二ナトリウムまたは 5-ヒドロキシイソフタ
ル酸三ナトリウムで 5-ヒドロキシイソフタル酸を置き
換えることもできる。同様に、ホスゲンと錯体形成し得
る他のヘテロ原子含有化合物でイミダゾールを置き換え
ることもできる。この種の触媒の例にはピリジン、Ｎ,
Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ,Ｎ-ジメチル
アセタミド（ＤＭＡc）等が含まれるが、これに限定さ
れるものではない。同様に、その溶媒が反応剤および生
成物と十分に非反応性のものである限り、ジオキサンお
よび塩化メチレンのような溶媒を使用することもでき
る。
【００１６】ジアミン処理基材と反応させてポリアミド
ウレタンの界面重合を行うには ＣＦＩＣ が最も好まし
いが、臭化 5-ブロモホルミルオキシイソフタロイルの
ような同族体で ＣＦＩＣ を置き換えることもできる。
ＣＦＩＣ の位置異性体、たとえば塩化 4-クロロホルミ
ルオキシイソフタロイルで ＣＦＩＣ を置き換えること
もできる。脂肪族の同族体、たとえば塩化 5-クロロホ
ルミルオキシシクロヘキサン-1,3-ジカルボニルも同様
に使用することができる。ハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルはまたハロゲン化ジアシルとの組合わせで
使用してジアミンとのポリアミドウレタンへの重合を行
わせることもでき；塩化イソフタロイルがこの種のハロ
ゲン化ジアシルの例である。
ウレタンの界面重合を行うには ＣＦＩＣ が最も好まし
いが、臭化 5-ブロモホルミルオキシイソフタロイルの
ような同族体で ＣＦＩＣ を置き換えることもできる。
ＣＦＩＣ の位置異性体、たとえば塩化 4-クロロホルミ
ルオキシイソフタロイルで ＣＦＩＣ を置き換えること
もできる。脂肪族の同族体、たとえば塩化 5-クロロホ
ルミルオキシシクロヘキサン-1,3-ジカルボニルも同様
に使用することができる。ハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルはまたハロゲン化ジアシルとの組合わせで
使用してジアミンとのポリアミドウレタンへの重合を行
わせることもでき；塩化イソフタロイルがこの種のハロ
ゲン化ジアシルの例である。
【００１７】本発明記載の膜は一般に、まず膜に適した
基材層を支持膜上に鋳込むことにより製造することがで
きる。適当な基材層は、当該技術において広範に記述さ
れている。説明的な基材物質には有機重合体物質、たと
えばポリスルホン、ポリエーテルスルホン、塩素化ポリ
塩化ビニル、スチレン／アクリロニトリル共重合体、ポ
リブチレンテレフタレート、セルローズエステル類およ
び、高度の多孔性と制御された微孔サイズ分布とを持っ
て製造し得る他の重合体が含まれる。これらの物質を、
一般には不織布または織布の支持材料、一般にはポリエ
ステルまたはポリプロピレン上に鋳込む。多孔性の有機
および無機の材料も支持材料として使用することができ
る。可能な支持材料の例にはナイロン、セルローズ、多
孔性ガラス、セラミックス、焼結金属等が含まれるが、
これに限定されるものではない。これらの支持材料に
は、たとえば繊維の形状の膜を与える平滑シート、中空
管、中空繊維等が可能である。
基材層を支持膜上に鋳込むことにより製造することがで
きる。適当な基材層は、当該技術において広範に記述さ
れている。説明的な基材物質には有機重合体物質、たと
えばポリスルホン、ポリエーテルスルホン、塩素化ポリ
塩化ビニル、スチレン／アクリロニトリル共重合体、ポ
リブチレンテレフタレート、セルローズエステル類およ
び、高度の多孔性と制御された微孔サイズ分布とを持っ
て製造し得る他の重合体が含まれる。これらの物質を、
一般には不織布または織布の支持材料、一般にはポリエ
ステルまたはポリプロピレン上に鋳込む。多孔性の有機
および無機の材料も支持材料として使用することができ
る。可能な支持材料の例にはナイロン、セルローズ、多
孔性ガラス、セラミックス、焼結金属等が含まれるが、
これに限定されるものではない。これらの支持材料に
は、たとえば繊維の形状の膜を与える平滑シート、中空
管、中空繊維等が可能である。
【００１８】微孔性重合体基材の製造は、当該技術で周
知されている。好ましい基材である微孔性ポリスルホン
の製造は、典型的には、ポリスルホンの 15− 20 ％ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶液を支持体上に鋳込
み、続いて、鋳込み材料を直ちに水に浸して微孔性ポリ
スルホンフィルムを得る工程を含む。ポリスルホンフィ
ルムの鋳込み中に空気に暴露した側を“面”と呼ぶが、
これは主として直径 200オングストローム以下の極めて
小さな孔を有する。支持体と接触しているこのフィルム
の“背”は、極めて粗い孔を有する。
知されている。好ましい基材である微孔性ポリスルホン
の製造は、典型的には、ポリスルホンの 15− 20 ％ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶液を支持体上に鋳込
み、続いて、鋳込み材料を直ちに水に浸して微孔性ポリ
スルホンフィルムを得る工程を含む。ポリスルホンフィ
ルムの鋳込み中に空気に暴露した側を“面”と呼ぶが、
これは主として直径 200オングストローム以下の極めて
小さな孔を有する。支持体と接触しているこのフィルム
の“背”は、極めて粗い孔を有する。
【００１９】鋳込みののちに、多孔性ポリスルホン基材
を水性多官能性アミン、好ましくは多官能性芳香族アミ
ンで処理する。基材の処理には水性 ｍ-フェニレンジア
ミン（ＭＰＤ）が最も有利に使用し得るが、ハロゲン化
ハロホルミルオキシ置換アシルとの界面重合に影響を与
えるのに十分な水溶性を有する他の芳香族アミンも使用
することができる。ジアミンの例には ｐ-フェニレンジ
アミン、ピペラジン、ｍ-キシリレンジアミン等が含ま
れるが、これに限定されるものではない。ついで、アミ
ノ鋳込みした基材をハロゲン化ハロホルミルオキシ置換
アシルに暴露する。
を水性多官能性アミン、好ましくは多官能性芳香族アミ
ンで処理する。基材の処理には水性 ｍ-フェニレンジア
ミン（ＭＰＤ）が最も有利に使用し得るが、ハロゲン化
ハロホルミルオキシ置換アシルとの界面重合に影響を与
えるのに十分な水溶性を有する他の芳香族アミンも使用
することができる。ジアミンの例には ｐ-フェニレンジ
アミン、ピペラジン、ｍ-キシリレンジアミン等が含ま
れるが、これに限定されるものではない。ついで、アミ
ノ鋳込みした基材をハロゲン化ハロホルミルオキシ置換
アシルに暴露する。
【００２０】以下の説明的な実施例においては、微孔性
ポリスルホン基材を示された重量／体積（ｗ／ｖ）パー
セント濃度の ｍ-フェニレンジアミン（ＭＰＤ）の水溶
液に、20℃ の温度で 2 ないし 5 分間暴露する。有利
には 0.5 ないし 3.0 重量％の水性 ＭＰＤ を、最も有
利には１ないし 2 重量％の水性 ＭＰＤ を使用する。
暴露ののちに基材を ＭＰＤ 溶液から取り出し、水きり
し、過剰の ＭＰＤ 溶液をゴムローラーで基材から除去
する。ついで、ＭＰＤ 処理したポリスルホン基材をハ
ロゲン化ハロホルミルオキシ置換アシルを含有する水混
和性の溶媒の溶液に、好ましくは ＣＦＩＣの溶液に、
ポリアミドウレタン膜の重合を促進する条件下で暴露す
る。ハロゲン化ハロホルミルオキシ置換アシルに適した
溶媒は、基材に有害な影響を与えない溶媒である。溶媒
の例には Ｃ5-Ｃ8 ｎ-アルカン、Ｃ4-Ｃ8 フルオロアル
カン、Ｃ5-Ｃ8 シクロフルオロアルカン、Ｃ5-Ｃ8 シク
ロアルカン、Ｃ2-Ｃ6 クロロフルオロアルカンおよび
Ｃ4-Ｃ8 シクロクロロフルオロアルカンならびにフレオ
ン ＴＦ（1,1,2-トリクロロトリフルオロエタン）が含
まれるが、これに限定されるものではない。最も好まし
くは、フレオン ＴＦ を ＣＦＩＣ 溶液用の溶媒として
使用する。
ポリスルホン基材を示された重量／体積（ｗ／ｖ）パー
セント濃度の ｍ-フェニレンジアミン（ＭＰＤ）の水溶
液に、20℃ の温度で 2 ないし 5 分間暴露する。有利
には 0.5 ないし 3.0 重量％の水性 ＭＰＤ を、最も有
利には１ないし 2 重量％の水性 ＭＰＤ を使用する。
暴露ののちに基材を ＭＰＤ 溶液から取り出し、水きり
し、過剰の ＭＰＤ 溶液をゴムローラーで基材から除去
する。ついで、ＭＰＤ 処理したポリスルホン基材をハ
ロゲン化ハロホルミルオキシ置換アシルを含有する水混
和性の溶媒の溶液に、好ましくは ＣＦＩＣの溶液に、
ポリアミドウレタン膜の重合を促進する条件下で暴露す
る。ハロゲン化ハロホルミルオキシ置換アシルに適した
溶媒は、基材に有害な影響を与えない溶媒である。溶媒
の例には Ｃ5-Ｃ8 ｎ-アルカン、Ｃ4-Ｃ8 フルオロアル
カン、Ｃ5-Ｃ8 シクロフルオロアルカン、Ｃ5-Ｃ8 シク
ロアルカン、Ｃ2-Ｃ6 クロロフルオロアルカンおよび
Ｃ4-Ｃ8 シクロクロロフルオロアルカンならびにフレオ
ン ＴＦ（1,1,2-トリクロロトリフルオロエタン）が含
まれるが、これに限定されるものではない。最も好まし
くは、フレオン ＴＦ を ＣＦＩＣ 溶液用の溶媒として
使用する。
【００２１】ジアミン処理した基材上のポリアミドウレ
タンの界面重合に影響を与えるために必要な溶液中の
ＣＦＩＣ の濃度は、特定の溶媒、基材等に応じて変化
し得るが、実験的に決定することができる。しかし、一
般的には 0.03 − 5 ％の、好ましくは 0.05 − 0.20
％ の ＣＦＩＣ 濃度 を使用することができる。
タンの界面重合に影響を与えるために必要な溶液中の
ＣＦＩＣ の濃度は、特定の溶媒、基材等に応じて変化
し得るが、実験的に決定することができる。しかし、一
般的には 0.03 − 5 ％の、好ましくは 0.05 − 0.20
％ の ＣＦＩＣ 濃度 を使用することができる。
【００２２】ポリアミドウレタン膜層が形成されたのち
に、得られた膜を ＣＦＩＣ 溶液から取り出し、5 ない
し 120 秒、好ましくは 60 ないし 120 秒、最も好まし
くは120 秒間ドリップ乾燥する。ついで、この膜を処理
して不純物、たとえば残留 ＣＦＩＣ、残留ジアミン、
生成物による反応物等を抽出する。これは、膜を水およ
び水性アルコールで順次に処理することにより達成され
る。したがって、この膜を 20 ないし 60℃ の、好まし
くは 40 ないし 60℃ の、最も好ましくは 50 − 55℃
の噴流水道水で 5 ないし 30 分、好ましくは 10 ない
し 20 分、最も好ましくは 10 分、ついで水性低級 Ｃ1
-Ｃ3 アルカノール、たとえばメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、好ましくはエタノールで洗浄す
る。使用する水性エタノールには 5 ないし 25 ％のエ
タノール、好ましくは 10 ないし 15％のエタノール、
最も好ましくは 15 ％エタノールが可能であり、残余は
水である。この水性エタノールは 20 ないし 60℃、好
ましくは 40 ないし 60℃、最も好ましくは 50 − 60
℃ のものである。上記の膜を水性アルカノールで 5 な
いし 20 分、好ましくは 10 ないし 20 分、最も好まし
くは 10 分間洗浄する。ついで、この膜を水洗してエタ
ノールを除去する。
に、得られた膜を ＣＦＩＣ 溶液から取り出し、5 ない
し 120 秒、好ましくは 60 ないし 120 秒、最も好まし
くは120 秒間ドリップ乾燥する。ついで、この膜を処理
して不純物、たとえば残留 ＣＦＩＣ、残留ジアミン、
生成物による反応物等を抽出する。これは、膜を水およ
び水性アルコールで順次に処理することにより達成され
る。したがって、この膜を 20 ないし 60℃ の、好まし
くは 40 ないし 60℃ の、最も好ましくは 50 − 55℃
の噴流水道水で 5 ないし 30 分、好ましくは 10 ない
し 20 分、最も好ましくは 10 分、ついで水性低級 Ｃ1
-Ｃ3 アルカノール、たとえばメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、好ましくはエタノールで洗浄す
る。使用する水性エタノールには 5 ないし 25 ％のエ
タノール、好ましくは 10 ないし 15％のエタノール、
最も好ましくは 15 ％エタノールが可能であり、残余は
水である。この水性エタノールは 20 ないし 60℃、好
ましくは 40 ないし 60℃、最も好ましくは 50 − 60
℃ のものである。上記の膜を水性アルカノールで 5 な
いし 20 分、好ましくは 10 ないし 20 分、最も好まし
くは 10 分間洗浄する。ついで、この膜を水洗してエタ
ノールを除去する。
【００２３】ついで、透過性および流通性を試験するま
で、この膜を湿潤状態で貯蔵する。これに替えて、この
膜に湿潤剤、たとえばグリセリンを含浸させて、乾燥貯
蔵とこれに続く再湿潤を行うこともできる。
で、この膜を湿潤状態で貯蔵する。これに替えて、この
膜に湿潤剤、たとえばグリセリンを含浸させて、乾燥貯
蔵とこれに続く再湿潤を行うこともできる。
【００２４】本発明記載の膜は種々の構成で製造するこ
とができ、種々の装置に組み立てることができる。この
膜は、好ましくはフィルムまたは繊維の形状にする。た
とえば、この膜の平滑なシートは平板と枠との装置、ま
たは螺旋状の装置中で使用することができる。管状また
は中空の繊維膜は、一般には膜の他端に管状シートを有
する装置内で平行な束にに組み立てることができる。中
空繊維装置では、半径方向の、軸方向の、または微孔内
を流下する流動供給を利用することができる。重合体基
材、たとえばポリスルホン上に得られるポリアミドウレ
タンの膜を、pＨ 6.8、25 − 30℃ の、0.26 ％ − 0.2
8 ％の水性 ＮaＣl の供給原料を交差流透過セル中でこ
の膜に負荷することにより、塩排除および流通性に関し
て評価する。直径 47 ｍｍ の寸法の膜をセルに入れ、
0.75 l／分の ＮaＣl 水溶液に暴露する。この膜を 420
psig の供給圧に少なくとも 14 時間暴露し、そののち
に供給圧を 225 psig に低下させて透過性を測定した。
膜の性能は、排除された塩ＮａＣl の百分率（Ｒ）、透
過性（Ｋｗ）および透過物の生産性によって特定され
る。排除された塩の百分率は
とができ、種々の装置に組み立てることができる。この
膜は、好ましくはフィルムまたは繊維の形状にする。た
とえば、この膜の平滑なシートは平板と枠との装置、ま
たは螺旋状の装置中で使用することができる。管状また
は中空の繊維膜は、一般には膜の他端に管状シートを有
する装置内で平行な束にに組み立てることができる。中
空繊維装置では、半径方向の、軸方向の、または微孔内
を流下する流動供給を利用することができる。重合体基
材、たとえばポリスルホン上に得られるポリアミドウレ
タンの膜を、pＨ 6.8、25 − 30℃ の、0.26 ％ − 0.2
8 ％の水性 ＮaＣl の供給原料を交差流透過セル中でこ
の膜に負荷することにより、塩排除および流通性に関し
て評価する。直径 47 ｍｍ の寸法の膜をセルに入れ、
0.75 l／分の ＮaＣl 水溶液に暴露する。この膜を 420
psig の供給圧に少なくとも 14 時間暴露し、そののち
に供給圧を 225 psig に低下させて透過性を測定した。
膜の性能は、排除された塩ＮａＣl の百分率（Ｒ）、透
過性（Ｋｗ）および透過物の生産性によって特定され
る。排除された塩の百分率は
【００２５】
【数１】Ｒ ＝（１−（Ｃp／Ｃf））× 100 ％ 式中、Ｃp および Ｃf は、それぞれ透過物および供給
原料中の ＮaＣl の濃度である。
原料中の ＮaＣl の濃度である。
【００２６】として定義される。透過物および供給原料
中の ＮaＣl の濃度は、ベックマン（Beckman）Ｇ1 伝
導度セル（セル定数 1.0）と ＹＳＩ 34 型伝導度計と
を用いて伝導度的に決定することができる。
中の ＮaＣl の濃度は、ベックマン（Beckman）Ｇ1 伝
導度セル（セル定数 1.0）と ＹＳＩ 34 型伝導度計と
を用いて伝導度的に決定することができる。
【００２７】透過性（Ｋｗ）は、流通性が膜を通しての
水の流通速度であり、有効圧が供給圧マイナス逆浸透圧
に等しいとして（流通性／有効圧）として定義される。
流通性は透過物生産性として、すなわち、25℃、225 ps
ig における（透過物のガロン数／膜面積平方フィート
／日）（ＧＦＤ）で表わされる。したがって、透過性は
メートル／秒／テレパスカル（ｍ／ｓ／ＴＰａ）で表さ
れる。透過性、塩排除および膜の透過性の値は以下に与
えられている。単位時間あたりの透過物の体積を体積時
間あたりの供給原料の体積で割ったものとして表現した
転化率は、典型的には 2 ％以下である。
水の流通速度であり、有効圧が供給圧マイナス逆浸透圧
に等しいとして（流通性／有効圧）として定義される。
流通性は透過物生産性として、すなわち、25℃、225 ps
ig における（透過物のガロン数／膜面積平方フィート
／日）（ＧＦＤ）で表わされる。したがって、透過性は
メートル／秒／テレパスカル（ｍ／ｓ／ＴＰａ）で表さ
れる。透過性、塩排除および膜の透過性の値は以下に与
えられている。単位時間あたりの透過物の体積を体積時
間あたりの供給原料の体積で割ったものとして表現した
転化率は、典型的には 2 ％以下である。
【００２８】本発明記載の膜は、たとえばジアミン処理
した基材の処理に使用するハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルの濃度を変化させて、容易に特定の応用
面、たとえば飲料水からの塩の除去、乳製品の加工等に
適するように仕上げることができる。たとえば、ポリア
ミドウレタン層は、90 パーセント以下から 99 パーセ
ント以上までの塩排除を達成するのに適するように形成
させることができる。
した基材の処理に使用するハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルの濃度を変化させて、容易に特定の応用
面、たとえば飲料水からの塩の除去、乳製品の加工等に
適するように仕上げることができる。たとえば、ポリア
ミドウレタン層は、90 パーセント以下から 99 パーセ
ント以上までの塩排除を達成するのに適するように形成
させることができる。
【００２９】余分な労力を費やすことなく、当業者はこ
れまでの記述を使用して本発明をその最も広い範囲で利
用することができると考えられる。したがって、以下の
好ましい特定の具体例は単に説明的なものであって、本
件開示の残余の部分に関して決して限定的なものではな
いと解釈すべきである。以下の実施例においては、これ
と異なる指示のない限り、全ての温度は ℃ で表され、
全ての部および百分率は重量部および重量％である。
れまでの記述を使用して本発明をその最も広い範囲で利
用することができると考えられる。したがって、以下の
好ましい特定の具体例は単に説明的なものであって、本
件開示の残余の部分に関して決して限定的なものではな
いと解釈すべきである。以下の実施例においては、これ
と異なる指示のない限り、全ての温度は ℃ で表され、
全ての部および百分率は重量部および重量％である。
【００３０】
【実施例】実施例１−１０ ユニオンカーバイド社（Union Carbide Corp.）の ＵＤ
ＥＬ Ｐ3500 ポリエーテルスルホンを 0.3 ％の水を含
有する Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解
させた 16 ％溶液を、ポリエステル帆布の支持体上に鋳
込んで微孔性ポリスルホン基材を製造する。この溶液は
5.5 ミルのナイフ逃げで鋳込む。鋳込みポリエーテル
スルホン溶液を持った帆布を鋳込みの 2 秒以内に水浴
に浸漬して微孔性ポリスルホン基材を製造する。この基
材を水洗して Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド溶媒を除去
し、使用するまで湿潤状態で貯蔵する。
ＥＬ Ｐ3500 ポリエーテルスルホンを 0.3 ％の水を含
有する Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に溶解
させた 16 ％溶液を、ポリエステル帆布の支持体上に鋳
込んで微孔性ポリスルホン基材を製造する。この溶液は
5.5 ミルのナイフ逃げで鋳込む。鋳込みポリエーテル
スルホン溶液を持った帆布を鋳込みの 2 秒以内に水浴
に浸漬して微孔性ポリスルホン基材を製造する。この基
材を水洗して Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド溶媒を除去
し、使用するまで湿潤状態で貯蔵する。
【００３１】表示した濃度の ｍ-フェニレンジアミン
（ＭＰＤ）の水溶液に、微孔性ポリスルホン基材を 5
分間浸漬する。基材を取り出し、短時間水きりし、ゴム
ローラーでロールして表面の過剰の ＭＰＤ の小滴を除
去する。ついで、この ＭＰＤ 浸漬基材を、表示した濃
度の塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロイル（Ｃ
ＦＩＣ）のフレオンＴＦ（1,1,2-トリクロロトリフルオ
ロエタン）溶媒中の溶液に 20 − 40 秒間浸漬してポリ
アミドウレタンの膜を形成させる。
（ＭＰＤ）の水溶液に、微孔性ポリスルホン基材を 5
分間浸漬する。基材を取り出し、短時間水きりし、ゴム
ローラーでロールして表面の過剰の ＭＰＤ の小滴を除
去する。ついで、この ＭＰＤ 浸漬基材を、表示した濃
度の塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロイル（Ｃ
ＦＩＣ）のフレオンＴＦ（1,1,2-トリクロロトリフルオ
ロエタン）溶媒中の溶液に 20 − 40 秒間浸漬してポリ
アミドウレタンの膜を形成させる。
【００３２】この膜を ＣＦＩＣ 溶液から取り出し、2
分間滴下乾燥する。ついで、この膜を熱（55℃）噴流水
道水で 10 分間、ついで撹拌 15 ％水性エタノール（50
−60℃）で 10 分間、順次に処理する。この膜を、透
過性および流通性に関して試験するまで 0.1 ％の炭酸
水素ナトリウムを含有する水中で貯蔵する。溶媒中の
ＣＦＩＣ を用いて形成した膜の性能は表１に報告して
ある。
分間滴下乾燥する。ついで、この膜を熱（55℃）噴流水
道水で 10 分間、ついで撹拌 15 ％水性エタノール（50
−60℃）で 10 分間、順次に処理する。この膜を、透
過性および流通性に関して試験するまで 0.1 ％の炭酸
水素ナトリウムを含有する水中で貯蔵する。溶媒中の
ＣＦＩＣ を用いて形成した膜の性能は表１に報告して
ある。
【００３３】
【表１】 表 １ 実施例 ＭＰＤ ＣＦＩＣ ％ ＮaＣl 透過性 Ｋw 生産性 ＃ 濃度(％) 濃度(％) 排除 (m／s／ＴＰa) (gfd ＠ 225 psig) １ 1.0 0.05 99.29 5.48 15.4 ２ 2.0 0.05 99.20 3.96 11.5 ３ 1.0 0.10 99.47 4.18 11.9 ４ 1.2 0.10 99.44 2.85 8.1 ５ 1.5 0.10 99.51 3.47 9.8 ６ 1.8 0.10 99.31 2.73 7.8 ７ 2.0 0.10 98.95 3.98 11.3 ８ 1.0 0.15 99.76 2.92 8.2 ９ 1.5 0.15 99.74 3.31 9.3 10 2.0 0.15 99.47 3.19 9.1 供給原料の pＨ の ＮaＣl 排除に対する影響を、0.27
％ ＮaＣl 供給原料のpＨ を ＨＣl および ＮaＯＨ を
用いて調整して、実施例４および５の膜に関して測定す
る。結果は表２に与えてある。
％ ＮaＣl 供給原料のpＨ を ＨＣl および ＮaＯＨ を
用いて調整して、実施例４および５の膜に関して測定す
る。結果は表２に与えてある。
【００３４】
【表２】 表 ２ pＨ 6.8 pＨ 3.5 pＨ 4.0 pＨ 4.9 pＨ 6.8 実施例 膜を製造した ％ ＮaＣl ％ ＮaＣl ％ ＮaＣl ％ ＮaＣl ％ ＮaＣl ＃ 実施例 ＃ 排除 排除 排除 排除 排除 11 ４ 99.34 89.40 95.18 99.17 12 ５ 99.64 91.89 95.24 99.34 99.70 表３に表した実施例 13 − 16 は、ＭＰＤ-処理した支
持体を、表示した濃度の塩化イソおよびテレフタロイル
（Ｉ／Ｔ）の 70：30 混合物を含有する表示した濃度の
ＣＦＩＣ 溶液で、実施例１− 10 の条件下で処理して
製造した膜の性能を説明する。
持体を、表示した濃度の塩化イソおよびテレフタロイル
（Ｉ／Ｔ）の 70：30 混合物を含有する表示した濃度の
ＣＦＩＣ 溶液で、実施例１− 10 の条件下で処理して
製造した膜の性能を説明する。
【００３５】
【表３】 表 ３ 実施例 ＭＰＤ ＣＦＩＣ Ｉ／Ｔ ％ ＮaＣl 透過性 Ｋw 生産性(gfd ＃ 濃度(％) 濃度(％) 濃度(％) 排除 (m／s／ＴＰa) ＠ 225 psig) 13 1.0 0.05 0.10 98.53 3.5 10.0 14 1.0 0.15 0.10 99.64 3.0 8.5 15 2.0 0.05 0.10 98.70 3.0 8.5 16 2.0 0.15 0.10 99.77 3.2 9.0 実施例 17 − 18 は、本発明記載の膜の、供給原料から
不純物のシリカを除去する驚くべき能力を説明する。表
４に示した結果は、実施例１および 16 記載の膜に関し
て達成される溶解シリカ排除を説明する。シリカ排除
は、130 ppm のメタケイ酸ナトリウム無水物を 0.27 ％
ＮaＣl 水性供給原料に添加して ＳiＯ2 として 27 pp
m の溶解シリカを与えて測定する。シリカ排除は 225 p
sig で、上記のようにして ＮaＣl排除に関して測定す
る。供給原料と透過物とのシリカ濃度は ＡＳＴＭ Ｄ 8
59 の方法 Ｂ により測定する。％シリカ排除は下に与
えてある。
不純物のシリカを除去する驚くべき能力を説明する。表
４に示した結果は、実施例１および 16 記載の膜に関し
て達成される溶解シリカ排除を説明する。シリカ排除
は、130 ppm のメタケイ酸ナトリウム無水物を 0.27 ％
ＮaＣl 水性供給原料に添加して ＳiＯ2 として 27 pp
m の溶解シリカを与えて測定する。シリカ排除は 225 p
sig で、上記のようにして ＮaＣl排除に関して測定す
る。供給原料と透過物とのシリカ濃度は ＡＳＴＭ Ｄ 8
59 の方法 Ｂ により測定する。％シリカ排除は下に与
えてある。
【００３６】
【表４】 表 ４ 実施例＃ 膜を製造した実施例 ％シリカ排除 17 1 99.89 18 16 99.53 これまでの記述から、当業者は容易に本発明の基本的な
特徴を確認することができ、その精神および範囲から外
れることなく、本発明を種々の用途および条件に適合さ
せるために、種々の変更および改良を行うことができ
る。
特徴を確認することができ、その精神および範囲から外
れることなく、本発明を種々の用途および条件に適合さ
せるために、種々の変更および改良を行うことができ
る。
【００３７】
【００３８】
【実施態様項１】 重合体溶液を支持体に鋳込んで多孔
性重合体基材を得、上記の基材を多官能性アミンで処理
して埋め込み基材を得、上記の埋め込み基材をハロゲン
化ハロホルミルオキシ置換アシルの溶液で処理して、ポ
リアミドウレタン分離層を有し、改良された溶質排除と
溶媒浸透性とを示す逆浸透膜を得ることよりなる、改良
された溶質排除と溶媒浸透性とを示す逆浸透膜の製造方
法。
性重合体基材を得、上記の基材を多官能性アミンで処理
して埋め込み基材を得、上記の埋め込み基材をハロゲン
化ハロホルミルオキシ置換アシルの溶液で処理して、ポ
リアミドウレタン分離層を有し、改良された溶質排除と
溶媒浸透性とを示す逆浸透膜を得ることよりなる、改良
された溶質排除と溶媒浸透性とを示す逆浸透膜の製造方
法。
【００３９】
【実施態様項２】 上記の担体が多孔性ガラス、焼結金
属、セラミックスおよび有機重合体よりなるグループか
ら選択したものであることを特徴とする実施態様項１記
載の方法。
属、セラミックスおよび有機重合体よりなるグループか
ら選択したものであることを特徴とする実施態様項１記
載の方法。
【００４０】
【実施態様項３】 上記の有機重合体がポリオレフィ
ン、ポリセウテルおよびポリアミドよりなるグループか
ら選択したものであることを特徴とする実施態様項２記
載の方法。
ン、ポリセウテルおよびポリアミドよりなるグループか
ら選択したものであることを特徴とする実施態様項２記
載の方法。
【００４１】
【実施態様項４】 上記の多官能性アミンが ｍ-フェニ
レンジアミン、ｐ-フェニレンジアミン、ピペラジン、
ｍ-キシリレンジアミンまたはこれらの混合物よりなる
グループから選択したものであることを特徴とする実施
態様項１記載の方法。
レンジアミン、ｐ-フェニレンジアミン、ピペラジン、
ｍ-キシリレンジアミンまたはこれらの混合物よりなる
グループから選択したものであることを特徴とする実施
態様項１記載の方法。
【００４２】
【実施態様項５】 上記のハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルが二臭化 5-ブロモホルミルオキシイソフ
タロイル、塩化 4-クロロホルミルオキシイソフタロイ
ル、塩化 2-クロロホルミルオキシイソフタロイルおよ
び塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロイルよりな
るグループから選択したものであることを特徴とする実
施態様項４記載の方法。
シ置換アシルが二臭化 5-ブロモホルミルオキシイソフ
タロイル、塩化 4-クロロホルミルオキシイソフタロイ
ル、塩化 2-クロロホルミルオキシイソフタロイルおよ
び塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロイルよりな
るグループから選択したものであることを特徴とする実
施態様項４記載の方法。
【００４３】
【実施態様項６】 上記の多官能性アミンが ｍ-フェニ
レンジアミンであることを特徴とする実施態様項４記載
の方法。
レンジアミンであることを特徴とする実施態様項４記載
の方法。
【００４４】
【実施態様項７】 上記のハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルが塩化5-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルであることを特徴とする実施態様項６記載の方法。
シ置換アシルが塩化5-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルであることを特徴とする実施態様項６記載の方法。
【００４５】
【実施態様項８】 上記のハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルを塩化イソフタロイル、塩化テレフタロイ
ルまたはそれらの混合物との組合わせで使用することを
特徴とする実施態様項５記載の方法。
シ置換アシルを塩化イソフタロイル、塩化テレフタロイ
ルまたはそれらの混合物との組合わせで使用することを
特徴とする実施態様項５記載の方法。
【００４６】
【実施態様項９】 上記のハロゲン化ハロホルミルオキ
シ置換アシルが塩化5-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルであることを特徴とする実施態様項８記載の方法。
シ置換アシルが塩化5-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルであることを特徴とする実施態様項８記載の方法。
【００４７】
【実施態様項１０】 上記のポリアミドウレタンが式：
【００４８】
【化２】
【００４９】式中、Ｘ は三価の有機基であり、Ｙ は二
価の有機基であるのものであることを特徴とする実施態
様項１記載の方法。
価の有機基であるのものであることを特徴とする実施態
様項１記載の方法。
【００５０】
【実施態様項１１】 上記の重合体基材がポリスルホン
であることを特徴とする実施態様項７記載の方法。
であることを特徴とする実施態様項７記載の方法。
【００５１】
【実施態様項１２】 上記のハロゲン化ハロホルミルオ
キシ置換アシルの溶液が、1,1,2-トリクロロトリフルオ
ロエタン、ｎ-アルカン類およびシクロアルカン類より
なるグループから選択した溶媒を含有することを特徴と
する実施態様項５記載の方法。
キシ置換アシルの溶液が、1,1,2-トリクロロトリフルオ
ロエタン、ｎ-アルカン類およびシクロアルカン類より
なるグループから選択した溶媒を含有することを特徴と
する実施態様項５記載の方法。
【００５２】
【実施態様項１３】 上記の溶媒が 1,1,2-トリクロロ
トリフルオロエタンであることを特徴とする実施態様項
12 記載の方法。
トリフルオロエタンであることを特徴とする実施態様項
12 記載の方法。
【００５３】
【実施態様項１４】 上記の Ｘ が三置換シクロヘキサ
ン、三置換ベンゼン、三置換ナフタレン、三置換シクロ
ペンタン、および三置換シクロヘプタンよりなるグルー
プから選択したものであることを特徴とする実施態様項
10 記載の方法。
ン、三置換ベンゼン、三置換ナフタレン、三置換シクロ
ペンタン、および三置換シクロヘプタンよりなるグルー
プから選択したものであることを特徴とする実施態様項
10 記載の方法。
【００５４】
【実施態様項１５】 上記の Ｙ が ｍ-フェニレンジア
ミン、ｐ-フェニレンジアミンおよびピペラジンよりな
るグループから選択したものであることを特徴とする実
施態様項 14 記載の方法。
ミン、ｐ-フェニレンジアミンおよびピペラジンよりな
るグループから選択したものであることを特徴とする実
施態様項 14 記載の方法。
【００５５】
【実施態様項１６】 上記のＸ が三置換ベンゼンであ
り、Ｙ が ｍ-フェニレンジアミンであることを特徴と
する実施態様項 10 記載の方法。
り、Ｙ が ｍ-フェニレンジアミンであることを特徴と
する実施態様項 10 記載の方法。
【００５６】
【実施態様項１７】 重合体基材上のポリアミドウレタ
ン分離層を有する、改良された塩排除、浸透性および生
産性を示す逆浸透膜。
ン分離層を有する、改良された塩排除、浸透性および生
産性を示す逆浸透膜。
【００５７】
【実施態様項１８】 上記のポリアミドウレタンが式：
【００５８】
【化３】
【００５９】式中、Ｘ は三価の有機基であり、Ｙ は二
価の有機基であるのものであることを特徴とする実施態
様項 17 記載の逆浸透膜。
価の有機基であるのものであることを特徴とする実施態
様項 17 記載の逆浸透膜。
【００６０】
【実施態様項１９】 上記の基材がポリスルホンである
ことを特徴とする実施態様項 18 記載の逆浸透膜。
ことを特徴とする実施態様項 18 記載の逆浸透膜。
【００６１】
【実施態様項２０】 上記の膜が少なくとも約 90 パー
セントのパーセント塩排除を有することを特徴とする実
施態様項 19 記載の逆浸透膜。
セントのパーセント塩排除を有することを特徴とする実
施態様項 19 記載の逆浸透膜。
【００６２】
【実施態様項２１】 上記の膜が少なくとも約 99 パー
セントのパーセント塩排除を有することを特徴とする実
施態様項 18 記載の逆浸透膜。
セントのパーセント塩排除を有することを特徴とする実
施態様項 18 記載の逆浸透膜。
【００６３】
【実施態様項２２】 上記のもの以外に多孔性ガラス、
焼結金属、セラミックスおよび有機重合体よりなるグル
ープから選択した支持膜と接触している重合体基材をも
含有する実施態様項 17 記載の逆浸透膜。
焼結金属、セラミックスおよび有機重合体よりなるグル
ープから選択した支持膜と接触している重合体基材をも
含有する実施態様項 17 記載の逆浸透膜。
【００６４】
【実施態様項２３】 上記の有機重合体がポリエステル
であることを特徴とする実施態様項 22 記載の逆浸透
膜。
であることを特徴とする実施態様項 22 記載の逆浸透
膜。
【００６５】
【実施態様項２４】 上記の膜が繊維の形状のものであ
ることを特徴とする実施態様項 17 記載の逆浸透膜。
ることを特徴とする実施態様項 17 記載の逆浸透膜。
【００６６】
【実施態様項２５】 上記の Ｘ が三置換シクロヘキサ
ン、三置換ベンゼン、三置換ナフタレン、三置換シクロ
ペンタンおよび三置換シクロヘプタンよりなるグループ
から選択したものであることを特徴とする実施態様項 1
8記載の膜。
ン、三置換ベンゼン、三置換ナフタレン、三置換シクロ
ペンタンおよび三置換シクロヘプタンよりなるグループ
から選択したものであることを特徴とする実施態様項 1
8記載の膜。
【００６７】
【実施態様項２６】 上記の Ｙ が ｍ-フェニレンジア
ミン、ｐ-フェニレンジアミンおよびピペラジンよりな
るグループから選択したものであることを特徴とする実
施態様項 25 記載の膜。
ミン、ｐ-フェニレンジアミンおよびピペラジンよりな
るグループから選択したものであることを特徴とする実
施態様項 25 記載の膜。
【００６８】
【実施態様項２７】 Ｘ が三置換ベンゼンであり、Ｙ
が ｍ-フェニレンジアミンであることを特徴とする実施
態様項 18 記載の膜。
が ｍ-フェニレンジアミンであることを特徴とする実施
態様項 18 記載の膜。
【００６９】
【実施態様項２８】 塩水を加圧下に逆浸透膜と接触さ
せることよりなる逆浸透による塩水の脱塩方法におけ
る、実施態様項 17 記載の逆浸透膜を上記の逆浸透膜と
して使用することよりなる改良。
せることよりなる逆浸透による塩水の脱塩方法におけ
る、実施態様項 17 記載の逆浸透膜を上記の逆浸透膜と
して使用することよりなる改良。
【００７０】
【実施態様項２９】 牛乳と果汁とよりなるグループか
ら選択した液体を加圧下に逆浸透膜と接触させることよ
りなる逆浸透による上記の液体の不純物除去方法におけ
る、実施態様項 17 記載の逆浸透膜を上記の逆浸透膜と
して使用することよりなる改良。
ら選択した液体を加圧下に逆浸透膜と接触させることよ
りなる逆浸透による上記の液体の不純物除去方法におけ
る、実施態様項 17 記載の逆浸透膜を上記の逆浸透膜と
して使用することよりなる改良。
【００７１】
【実施態様項３０】 ヒドロキシ置換イソフタル酸、触
媒、ホスゲンおよび溶媒の混合物を形成させ、上記の混
合物を圧力容器中、自然発生的な圧力下で加熱し、上記
の混合物を処理して上記の溶媒を除去し、上記の混合物
を蒸留して上記の塩化クロロホルミルオキシ置換イソフ
タロイルを得ることよりなる塩化クロロホルミルオキシ
置換イソフタロイルの製造方法。
媒、ホスゲンおよび溶媒の混合物を形成させ、上記の混
合物を圧力容器中、自然発生的な圧力下で加熱し、上記
の混合物を処理して上記の溶媒を除去し、上記の混合物
を蒸留して上記の塩化クロロホルミルオキシ置換イソフ
タロイルを得ることよりなる塩化クロロホルミルオキシ
置換イソフタロイルの製造方法。
【００７２】
【実施態様項３１】 上記の塩化クロロホルミルオキシ
置換イソフタロイルが塩化 4-クロロホルミルオキシイ
ソフタロイル、塩化 2-クロロホルミルオキシイソフタ
ロイルおよび塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルよりなるグループから選択したものであることを特
徴とする実施態様項30 記載の方法。
置換イソフタロイルが塩化 4-クロロホルミルオキシイ
ソフタロイル、塩化 2-クロロホルミルオキシイソフタ
ロイルおよび塩化 5-クロロホルミルオキシイソフタロ
イルよりなるグループから選択したものであることを特
徴とする実施態様項30 記載の方法。
【００７３】
【実施態様項３２】 上記のヒドロキシ置換イソフタル
酸が 5-ヒドロキシイソフタル酸であることを特徴とす
る実施態様項 30 記載の方法。
酸が 5-ヒドロキシイソフタル酸であることを特徴とす
る実施態様項 30 記載の方法。
【００７４】
【実施態様項３３】 上記の触媒がイミダゾールである
ことを特徴とする実施態様項 32 記載の方法。
ことを特徴とする実施態様項 32 記載の方法。
【００７５】
【実施態様項３４】 上記の溶媒が塩素化ベンゼンであ
ることを特徴とする実施態様項 33 記載の方法。
ることを特徴とする実施態様項 33 記載の方法。
【００７６】
【実施態様項３５】 上記の塩化クロロホルミルオキシ
置換イソフタロイルが塩化 5-クロロホルミルオキシイ
ソフタロイルであることを特徴とする実施態様項 34 記
載の方法。
置換イソフタロイルが塩化 5-クロロホルミルオキシイ
ソフタロイルであることを特徴とする実施態様項 34 記
載の方法。
Claims (4)
- 【請求項１】 重合体溶液を支持体に鋳込んで多孔性重
合体基材を得、上記の基材を多官能性アミンで処理して
埋め込み基材を得、上記の埋め込み基材をハロゲン化ハ
ロホルミルオキシ置換アシルの溶液で処理して、ポリア
ミドウレタン分離層を有し、改良された溶質排除と溶媒
流通性とを示す逆浸透膜を得ることよりなる、改良され
た溶質排除と溶媒流通性とを示す逆浸透膜の製造方法。 - 【請求項２】 重合体基材上のポリアミドウレタン分離
層を有し、該ポリアミドウレタンが式： 式中、 Ｘは三価の有機基であり、 Ｙは二価の有機基であ
るのものである、改良された塩排除、流通性および生産
性を示す逆浸透膜。 - 【請求項３】 塩水を加圧下に逆浸透膜と接触させるこ
とよりなる逆浸透による塩水の脱塩方法において、請求
項２記載の逆浸透膜を上記の逆浸透膜として使用するこ
とよりなる改良された方法。 - 【請求項４】 牛乳と果汁とよりなるグループから選択
した液体を加圧下に逆浸透膜と接触させることよりなる
逆浸透による上記の液体の不純物除去方法において、請
求項２記載の逆浸透膜を上記の逆浸透膜として使用する
ことよりなる改良された方法。
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