JPH07228555A - 光学活性な２−エトキシ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ヒドロキシベンゾアートおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 反強誘電性液晶化合物の中間原料として有
用な新規の光学活性なトリフルオロメチル基含有化合物
の製造方法を提供する。 【構成】 ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−
１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ヒドロキシベン
ゾアートおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ
−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ヒドロキシベ
ンゾアートの提供と、光学活性な２−ヒドロキシアルキ
ルベンゾアート誘導体のジステレオマー混合物を原料と
し、アルカリ金属水素化物、臭化エチルを用いて得たＯ
−エチル化誘導体を水素還元することにより得た前記各
化合物からなるジアステレオマー混合物を分離すること
による前記各化合物の製造方法。 【効果】 反強誘電性液晶化合物の中間原料等として有
用である新規の光学活性なトリフルオロメチル基含有化
合物および、該化合物を、簡単な操作で、効率的に、か
つ高収率で製造出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば大画面液晶ディ
スプレイおよび電子デバイス等の素材である反強誘電性
液晶化合物の中間原料として有用である新規の光学活性
なトリフルオロメチル基含有化合物およびその製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】大画面液晶ディスプレイ等の素材である
反強誘電性液晶化合物の中間原料として（Ｒ）−１−ト
リフルオロメチルアルキル＝４−ヒドロキシベンゾアー
トは知られている。しかしながら、この化合物から誘導
される反強誘電性液晶化合物は強誘電性液晶相がかなり
高温に存在するために、室温作動性に劣り、かつ応答速
度も遅く、大画面液晶ディスプレイ材料としては実用化
に至っておらず、室温でのスイッチング操作が容易な材
料の出現が強く求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、室温で作動し、スイッチング操作の容易な反強誘電
性液晶化合物の中間原料として有用な新規の光学活性な
化合物につき鋭意研究した結果、本発明の化合物を発明
し、また該化合物を効率的に製造する方法を見出し、本
発明を完成した。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、新規の光学活
性な化合物である式（１）で示されるａｎｔｉ−（１
Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルア
ルキル＝４−ヒドロキシベンゾアート〔以下、本発明化
合物（１）またはａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−エト
キシ＝ヒドロキシベンゾアートという〕、または式
（２）で示されるｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキ
シ−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ヒドロキシ
ベンゾアート〔以下、本発明化合物（２）またはｓｙｎ
体（１Ｓ，２Ｒ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾア
ートという〕である。

【０００５】

【化４】

【０００６】

【化５】

【０００７】また、本発明は、有機溶媒中で、式（３）
で示されるａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ
−１−トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキ
シベンゾアート〔以下ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−
ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートという〕およ
びｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ート〔以下、ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ
＝ベンジルオキシベンゾアートという〕からなるジアス
テレオマー混合物（以下、原料化合物という）と、アル
カリ金属水素化物を反応させ、次いで反応生成物と臭化
エチルを反応させてＯ−エチル化誘導体を得た後、該Ｏ
−エチル化誘導体を溶媒中で、パラジウム／チャコール
触媒の存在下、水素を用いて還元して得た本発明化合物
（１）および本発明化合物（２）からなるジアステレオ
マー混合物を、本発明化合物（１）と本発明化合物
（２）に分離することを特徴とする各化合物の製造方法
である。

【０００８】

【化６】

【０００９】〔本発明化合物（１）：ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアート〕
本発明化合物（１）は、上述の式（１）で示される通り
であり、式中、Ｒで表わされるアルキル基は炭素数３〜
１０の直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−
ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基およびｎ−
デシル基であり、それらの中でも製造の容易性から有用
であるアルキル基は炭素数４〜８の直鎖状アルキル基で
ある。

【００１０】本発明化合物（１）の好ましい具体例を示
すと、ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−
トリフルオロメチルヘキシル＝４−ヒドロキシベンゾア
ート、ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−
トリフルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾア
ート、およびａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ
−１−トリフルオロメチルデシル＝４−ヒドロキシベン
ゾアート等が挙げられる。

【００１１】〔本発明化合物（２）：ｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアート〕本発
明化合物（２）は、上述の式（２）で示される通りであ
り、式中、Ｒで表わされるアルキル基は炭素数３〜１０
の直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基およびｎ−デシ
ル基であり、それらの中でも製造の容易性から有用であ
るアルキル基は炭素数４〜８の直鎖状アルキル基であ
る。

【００１２】本発明化合物（２）の好ましい具体例を示
すと、ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−ト
リフルオロメチルヘキシル＝４−ヒドロキシベンゾアー
ト、ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート
およびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−ト
リフルオロメチルデシル＝４−ヒドロキシベンゾアート
等が挙げられる。

【００１３】〔原料化合物：ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）
型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートおよび
ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオ
キシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物〕前
掲の式（３）で示される原料化合物は新規化合物であ
り、出願済みである（出願日：平成６年２月１６日）。

【００１４】原料化合物は、前述の式（３）で示される
ジアステレオマー混合物であり、式中、Ｒで表わされる
アルキル基は、炭素数３〜１０の直鎖状アルキル基、す
なわち、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−ノニル基およびｎ−デシル基であり、それらの
中でも製造の容易性から有用であるアルキル基は炭素数
４〜８の直鎖状アルキル基である。

【００１５】原料化合物の特に好ましい具体例を示す
と、ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−
トリフルオロメチルヘキシル＝４−ベンジルオキシベン
ゾアートおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキ
シ−１−トリフルオロメチルヘキシル＝４−ベンジルオ
キシベンゾアートからなるジアステレオマー混合物、ａ
ｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１
−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベ
ンゾアートからなるジアステレオマー混合物、およびａ
ｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
およびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−
トリフルオロメチルデシル＝４−ベンジルオキシベンゾ
アートからなるジアステレオマー混合物等が挙げられ
る。

【００１６】原料化合物は、例えば式（４）に示される
ように、まず、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチルアルキルケトン〔以下（Ｓ）−体ケ
トンという〕を有機溶媒中、金属水素化物を用いて還元
することにより、（Ｓ）−体ケトンの１位の炭素原子に
結合したカルボニル炭素へのヒドリドのジアステレオ面
区別した攻撃を経由して得られた反応生成物を、常法に
従い酸処理することにより得られたａｎｔｉ−（２Ｓ，
３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロアルカン−２，３−
ジオール〔以下ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールと
いう〕とｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフ
ルオロアルカン−２，３−ジオール〔以下ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型ジオールという〕からなるジアステレオマ
ー混合物（以下、出発原料化合物という）を得る（以
下、この反応を出発原料化合物反応という）。

【００１７】なお、上記における（Ｓ）−体ケトンは新
規化合物であり、既に出願済みである（特願平５−７７
６４５）。

【００１８】

【化７】

【００１９】次に、式（５）に示されるように、出発原
料化合物と、出発原料化合物１モルを基準として１モル
のアルカリ金属水素化物を反応させ（原第一段反応）、
次いで反応生成物と、前記反応において用いた出発原料
化合物１モルを基準として、１モルの４−ベンジルオキ
シベンゾイルクロリドを反応させることにより（原第二
段反応）、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ
＝ベンジルオキシベンゾアートおよびｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアート
からなるジアステレオマー混合物である原料化合物を得
る（以下、これらの反応を原料化合物反応と総称す
る）。なお、原料化合物反応は出願している（出願日：
平成６年２月１７日）。

【００２０】

【化８】

【００２１】〔出発原料化合物：ａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオー
ルからなるジアステレオマー混合物〕出発原料化合物は
新規化合物であり、既に出願済みである（特願平５−１
３２４５３）。

【００２２】上記化合物について具体的に説明すると、
式中、Ｒで表わされるアルキル基は、炭素数３〜１０の
直鎖状アルキル基、すなわち、ｎ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチ
ル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基およびｎ−デシル
基であり、それらの中でも製造の容易性から有用である
アルキル基は炭素数４〜８の直鎖状アルキル基である。

【００２３】出発原料化合物の特に好ましい具体例を示
すと、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフ
ルオロヘプタン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２
Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロヘプタン−２，
３−ジオールからなるジアステレオマー混合物、ａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールか
らなるジアステレオマー混合物、およびａｎｔｉ−（２
Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロウンデカン−
２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，
１，１−トリフルオロウンデカン−２，３−ジオールか
らなるジアステレオマー混合物等が挙げられる。

【００２４】（出発原料化合物反応）出発原料化合物
は、前述した式（４）に示されるように、（Ｓ）−体ケ
トンを有機溶媒中、金属水素化物を用いて還元すること
により得られる。

【００２５】好適な金属水素化物としては、水素化アル
ミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムお
よび水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。

【００２６】これらの金属水素化物は、（Ｓ）−体ケト
ンのカルボニル基をジアステレオ面区別還元して得られ
る、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールの生成比率に最も大きな影
響を及ぼすと考えられる。従って目的に応じて金属水素
化物を適宜選択すればよい。すなわち、特定の金属水素
化物を用いることにより、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
ジオールを選択的に優位に生成させることが出来る。

【００２７】例えば、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富
んだ出発原料化合物を得るのに好適な金属水素化物とし
ては、水素化アルミニウムリチウムが最適である。

【００２８】（Ｓ）−体ケトンと金属水素化物との反応
系への供給割合は、（Ｓ）−体ケトン１モルに対して、
金属水素化物２．０〜２．４グラム当量（水素原子換
算、以下同じ）が好ましく、特に好適には２．０５〜
２．１５グラム当量である。

【００２９】有機溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ジエチ
ルエーテル、トルエンおよびＴＨＦ等が好ましい。ａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型ジオールの生成比率は、有機溶媒の種類に
よっても影響を受けるため、金属水素化物の種類に対応
させて有機溶媒を適宜選択することが望ましい。

【００３０】例えば、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富
んだ出発原料化合物を得るのに好適な有機溶媒の一例は
ジエチルエーテルである。これと、ａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型の生成を優先させる水素化アルミニウムリチウ
ム等の金属水素化物を用いることによって、生成するａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型を効果的に増加させることが
出来る。

【００３１】（Ｓ）−体ケトンと金属水素化物の好適な
混合方法は、金属水素化物の種類によって異なり、例え
ば水素化アルミニウムリチウムの場合は、これを含有し
た有機溶媒の懸濁液中に、（Ｓ）−体ケトンを含有した
有機溶媒溶液を滴下するのが好適であり、その滴下時間
は（Ｓ）−体ケトン１モルに対して６０〜１２０分程度
が好ましい。

【００３２】有機溶媒の使用量は、（Ｓ）−体ケトン１
モルを基準として、１．０〜２．０リットルが好まし
い。例えば、（Ｓ）−体ケトンと、金属水素化物として
水素化アルミニウムリチウムを前述した特に好適な量で
ある２．０５〜２．１５グラム当量用いた場合、上記し
た有機溶媒の好適な量のうちの０．５リットル程度を
（Ｓ）−体ケトンの溶媒として用い、残りの量を水素化
アルミニウムリチウムに対して用いるのが好適である。

【００３３】（Ｓ）−体ケトンと金属水素化物との反応
温度は−１０℃〜１０℃が好ましい。（Ｓ）−体ケトン
の滴下完了後、室温まで昇温し、６時間程度撹拌保持す
ることにより反応を完結させる。

【００３４】次いで得られた反応生成物を常法に従い酸
処理することにより、出発原料化合物であるａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型ジオールおよびｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型ジオールからなるジアステレオマー混合物を生成
させる。

【００３５】酸としては鉱酸が適しており、具体的には
塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。例えば、塩酸を用い
た場合は、（Ｓ）−体ケトン１モルを基準として、１規
定塩酸２〜３リットルを１３分間程度かけて滴下し、３
０分間程度撹拌保持する。

【００３６】上記酸処理温度は０℃〜１０℃が好まし
い。酸処理後、室温まで昇温した後、エーテル等の抽出
剤を加えて生成物を抽出し、次いで、抽出液を水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、
溶媒を減圧濃縮することにより、出発原料化合物を取得
する。

【００３７】上記のようにして得られた出発原料化合物
は、後記同定例１により明らかなごとく、光学異性体分
離用カラムを有するガスクロマトグラフィーで分析する
ことによって、光学活性な２本のピークが得られ、第１
ピークとしてｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型が検出され、ま
た第２ピークとしてａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型が検出
される。これらのピークの面積比から、ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の生成比率を
確認することができる。

【００３８】上記の製造方法によれば、金属水素化物の
種類にもよるが、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ
体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８〜５６／１２〜４４（面積
比）のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型に富んだジアステレ
オマー混合物である出発原料化合物が得られる。

【００３９】〔原料化合物反応〕原料化合物すなわちａ
ｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオ
キシベンゾアートおよびｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−
ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾアートからなるジア
ステレオマー混合物は、前述の式（５）で示されるよう
に、原第一段反応と原第二段反応からなる原料化合物反
応により製造することが出来る。

【００４０】上記反応は次のように推定される。出発原
料化合物の２位の不斉炭素原子に結合した水酸基はトリ
フルオロメチル基の強電子吸引力により酸性であり、他
方、３位の不斉炭素原子に結合した水酸基はアルコール
の性質を示す。従って、出発原料化合物１モルとアルカ
リ金属水素化物１モルを反応させることにより、出発原
料化合物の２位の不斉炭素原子に結合した水酸基のみが
選択的に反応して反応生成物を生成する（原第一段反
応）。

【００４１】次いで該反応生成物と、原第一段反応に用
いた出発原料化合物１モルを基準として、１モルの４−
ベンジルオキシベンゾイルクロリドを反応させると、該
反応生成物のアルカリ金属と、４−ベンジルオキシベン
ゾイルクロリドの塩素が反応し、原料化合物を生成する
（原第二段反応）。

【００４２】以下、各反応を更に詳細に説明する。

【００４３】（原第一段反応）原第一段反応は、出発原
料化合物と、出発原料化合物１モルを基準として１モル
のアルカリ金属水素化物を反応させる。

【００４４】ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）に富んだ原料化
合物を製造する場合は、出発原料化合物としては、出発
原料化合物反応により製造されたものを用いるのが好ま
しい。出発原料化合物反応によれば、前述したとおり、
ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）
型＝８８〜５６／１２〜４４（面積比）のａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型に富んだジアステレオマー混合物であ
る出発原料化合物が得られる。

【００４５】また、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率が特に高い原料化合物
を得たい場合は、金属水素化物の種類として水素化アル
ミニウムリチウムを用いて製造された出発原料化合物を
用いる方法が最適である。

【００４６】なお、後述するように原料化合物における
ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）
型の生成比率は、出発原料化合物のａｎｔｉ体（２Ｓ，
３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の生成比率と変わ
ることがない。

【００４７】アルカリ金属水素化物としては水素化リチ
ウム、水素化ナトリウムおよび水素化カリウム等が挙げ
られ、経済的に安価である等の点から、水素化ナトリウ
ムが特に好ましい。市販のアルカリ金属水素化物は通
常、油性であるので、ｎ−ヘキサン等で洗浄精製乾燥し
た後、有機溶媒に懸濁したものを用いるのがよい。

【００４８】アルカリ金属水素化物の使用量は、出発原
料化合物１モルを基準として１モルである。１モル未満
では反応生成物の収率低下を招く。１モルを超えると過
剰のアルカリ金属水素化物が出発原料化合物の３位の不
斉炭素原子に結合した水酸基とも反応し、副生成物が増
大し、最終的に原料化合物の収率を低下される他、精製
操作が煩雑になる。

【００４９】有機溶媒としては特に限定されるものでは
なく、例えばジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン、トルエ
ンおよびＴＨＦ等が挙げられ、特に好ましくはジエチル
エーテルである。

【００５０】上記有機溶媒は、出発化合物１モルを基準
として、３〜８リットルが好ましく、特に好ましくは５
〜６リットルである。３リットル未満では反応熱の上昇
により水素の発生速度が増大して危険となる場合があ
り、８リットルを超えると経済的とはいえなくなる。

【００５１】上記反応はアルカリ性で行なうことが好ま
しく、アルカリ金属水素化物の有機溶媒懸濁液中に、出
発原料化合物の有機溶媒溶液を滴下することが好まし
い。逆の滴下を行うと、アルカリ金属水素化物が出発原
料化合物の３位の不斉炭素原子に結合した水素基とも反
応し、反応生成物の収率の低下を招く恐れがあるために
好ましくない。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属水素
化物／出発原料化合物＝１／９の容量比に按分するのが
好ましい。

【００５２】出発原料化合物の反応系への供給速度は、
出発原料化合物１モルを３０〜６０分程度かけて滴下す
るのが好ましい。３０分未満では水素の発生速度が増大
して危険を伴う恐れがあり、６０分を超えると経済的と
はいえない。

【００５３】上記の反応は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると水素の発生速度が
増大し、危険を伴う恐れがある。

【００５４】出発原料化合物の滴下完了後、撹拌しなが
ら、室温迄昇温し、引きつづき６０分間程度撹拌保持し
て、反応を完結させ、反応生成物を得る。

【００５５】（原第二段反応）原第一段反応で得られた
反応生成物１モルと、原第一段反応に用いた出発原料化
合物１モルを基準として、１モルの４−ベンジルオキシ
ベンゾイルクロリドを有機溶媒中で反応させることによ
り、原料化合物を生成させる。

【００５６】有機溶媒は前述の反応で用いた有機溶媒が
使用できる。従って前述の反応により得られた反応生成
物溶液に、４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの有
機溶媒溶液を直接加えることにより、反応を行うことが
出来る。

【００５７】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給割合は、原第一段反応に用いた出発原料
化合物１モルを基準として１モルである。１モル未満で
は原料化合物の収率の低下を招き、１モルを超えると、
反応生成物におけるアルカリ金属が結合していない水酸
基とも反応し、副生物が増大し、原料化合物の精製操作
が煩雑になる。

【００５８】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドは
有機溶媒に溶解して反応系へ供給するのが好ましい。有
機溶媒の好適な混合割合は４−ベンジルオキシベンゾイ
ルクロリド１モルに対して１〜４リットルが好ましく、
特に好ましくは２〜３リットルである。１リットル未満
では４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドが溶解しに
くくなる恐れがあり、４リットルを超えると経済的とは
いえない。

【００５９】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリドの
反応系への供給速度は、原第一段反応に用いた出発原料
化合物１モルを基準として、１〜２時間が好ましい。１
時間未満では反応温度の制御が困難となる場合があり、
２時間を超えると経済的とはいえなくなる。

【００６０】この反応温度は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると反応温度の制御が
困難となる恐れがある。

【００６１】４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド溶
液の滴下完了後、更に常温付近で１５０分間程度撹拌保
持することにより、反応を完結させるとよい。

【００６２】反応終了後、反応液を氷水に入れ、１規定
塩酸等でｐＨを５〜６程度に調整した後、エーテルを加
えて生成物を抽出し、続いて抽出液を０．５規定炭酸水
素ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムを加えて水分を除去した後、溶媒を減圧留去
することにより、淡黄色のシロップ状の生成物を得るこ
とが出来る。

【００６３】なお上記で述べた出発原料化合物とアルカ
リ金属水素化物、あるいはこれらの化合物の反応から得
られた付加反応生成物と４−ベンジルオキシベンゾイル
クロリドの、各反応モル比は、厳密な意味での等モルで
ある必要はなく、数％程度の増減は許容される。

【００６４】得られた生成物は、下記に述べる通り、原
料化合物であるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロ
キシ＝ベンジルオキシベンゾアートおよびｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝４−ベンジルオキシベン
ゾアートからなるジアステレオマー混合物であることが
確認される。

【００６５】後記参考例３および同定例２により明らか
なように、上記生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析す
ることにより、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型およびｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型からなるジアステレオマー混合物
であることを示す２つのピークが得られ、また、上記生
成物を酸で加水分解することにより得た１，１，１−ト
リフルオロアルカン−２，３−ジオールの光学異性体分
離用カラムを有するガスクロマトグラフイーにかけた結
果によれば、２つの光学活性なピークが得られることか
ら、上記生成物が、光学活性なジアステレオマー混合
物、すなわちａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキ
シ＝ベンジルオキシベンゾアートおよびｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物であることが確認
される。

【００６６】また、後記同定例２において明らかにする
とおり、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型の生成比率が既知であるジアステレオマー
混合物である出発原料化合物の、２位の不斉炭素原子に
結合した水酸基を４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ
基に置換しても、反応前後の光学活性なａｎｔｉ体／ｓ
ｙｎ体の生成比率は変化しない。すなわち、上記生成物
におけるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型の生成比率は、出発原料化合物におけるａ
ｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型
の生成比率と変わることがない。

【００６７】従って、この製造方法（原料化合物反応）
によれば、上記生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析し
て得られた２つのピークのうち、出発原料化合物のａｎ
ｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型の面積比と一致する方が、ａｎ
ｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキ
シベンゾアートであり、出発原料化合物のｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致する方が、ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベンゾア
ートであり、また、上記各ピークの面積比から、上記生
成物におけるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体
（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率を確認することが出来る。

【００６８】また、上記の製造方法によれば、ａｎｔｉ
体（１Ｓ，２Ｓ）型２−ヒドロキシ＝ベンジルオキシベ
ンゾアート／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−ヒドロキシ
＝ベンジルオキシベンゾアート＝８８〜５６／１２〜４
４（面積比）からなるジアステレオマー混合物である原
料化合物が得られる。

【００６９】〔本発明化合物（１）：ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアートお
よび本発明化合物（２）：ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２
−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアートの各化合物の製
造）本発明化合物（１）または本発明化合物（２）は、
式（６）に示されるように、有機溶媒中で、原料化合物
とアルカリ金属水素化物を反応させ、次いで該反応生成
物と臭化エチルを反応させてＯ−エチル化誘導体を得
（第一段反応）、次いで式（７）に示されるように、該
Ｏ−エチル化誘導体を溶媒中で、パラジウム／チャコー
ル触媒の存在下、水素を用いて還元して本発明化合物
（１）および本発明化合物（２）からなるジアステレオ
マー混合物を得（第二段反応）、次いで式（８）で示さ
れるように、該ジアステレオマー混合物を分離すること
により本発明化合物（１）と本発明化合物（２）を各々
取得する（分離工程）。

【００７０】

【化９】

【００７１】

【化１０】

【００７２】

【化１１】

【００７３】以下、各反応につき更に詳細に説明する。

【００７４】（第一段反応）第一段反応は、原料化合物
の２位の不斉炭素原子に結合した水酸基がアルカリ金属
と反応して反応生成物を生成し、次いで該反応生成物の
アルカリ金属と臭化エチルの臭素を反応させＯ−エチル
化誘導体を得ることを目的とする。

【００７５】原料化合物としては、本発明化合物（１）
を優位に製造する場合は、原料化合物反応により製造さ
れたものを用いるのが好ましい。原料化合物反応によれ
ば、前述したとおり、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓ
ｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８８〜５６／１２〜４４（面
積比）のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型に富んだジアステ
レオマー混合物である原料化合物が得られる。

【００７６】また、本発明化合物（１）を特に高収率で
得たい場合は、金属水素化物の種類として水素化アルミ
ニウムリチウムにより製造された原料化合物を用いるの
が最適である。

【００７７】なお、後述するように、本発明の製造方法
において、本発明化合物（１）〔ａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアート〕／本発
明化合物（２）〔ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−エトキ
シ＝ヒドロキシベンゾアート〕の生成比率は、原料化合
物のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２
Ｒ）型の生成比率と変わることがない。

【００７８】アルカリ金属水素化物としては水素化リチ
ウム、水素化ナトリウムおよび水素化カリウム等が挙げ
られ、経済的に安価である等の点から、水素化ナトリウ
ムが特に好ましい。市販のアルカリ金属水素化物は通
常、油性であるので、ｎ−ヘキサン等で洗浄精製乾燥し
た後、有機溶媒に懸濁したものを用いるのがよい。

【００７９】アルカリ金属水素化物は、原料化合物１モ
ルを基準として１．０〜１．４モルが好ましく、特に好
ましくは、１．１〜１．３モルである。１．０モル未満
では反応生成物の収率の低下を招き、１．４モルを超え
ると経済的とはいえない。

【００８０】有機溶媒としては特に限定されるものでは
なく、例えばジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン、トルエ
ンおよびＴＨＦ等が挙げられ、特に好ましくはジエチル
エーテルである。

【００８１】上記有機溶媒は、原料化合物１モルを基準
として２〜８リットルが好ましく、特に好ましくは４〜
６リットルである。２リットル未満では水素の発生速度
が増大して危険となる場合があり、８リットルを超える
と経済的とはいえない。

【００８２】上記反応は、アルカリ金属水素化物の有機
溶媒懸濁液中に、原料化合物の有機溶媒溶液を滴下する
のが好ましい。逆の滴下を行うと、原料化合物のカルボ
キシル基が加水分解され、反応生成物の収率の低下につ
ながる恐れがある。有機溶媒の使用比率はアルカリ金属
水素化物／原料化合物＝１／９の容量比に按分するのが
好ましい。

【００８３】原料化合物の反応系への供給速度は、原料
化合物１モルを３０〜９０分程度かけて滴下するのが好
ましい。３０分未満では水素の発生速度が増大して危険
を伴う恐れがあり、９０分を超えると経済的とはいえな
い。

【００８４】上記の反応は、−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると水素の発生速度が
増大して危険を伴う恐れがある。

【００８５】原料化合物の滴下完了後、攪拌しながら、
室温迄昇温し、引きつづき１時間程度攪拌保持して反応
を完結させ、反応生成物を得る。

【００８６】次いで、該反応生成物と臭化エチルを反応
させＯ−エチル化誘導体を得る。臭化エチルは、原料化
合物１モルを基準にして、１．１〜１．５モルが好まし
く、特に好ましくは１．２〜１．４モルである。１．１
モル未満ではＯ−エチル化誘導体の収率の低下を招き、
１．５モルを超えると経済的とはいえない。

【００８７】反応は、臭化エチルの有機溶媒溶液を、反
応生成物溶液に滴下するのが好ましい。有機溶媒の好適
な混合割合は臭化エチル１モルに対して０．５リットル
〜２リットルが好ましく、特に好ましくは１リットル〜
１．５リットルである。０．５リットル未満では反応熱
の除去が困難となる場合があり、２リットルを超えると
経済的とはいえなくなる。

【００８８】臭化エチルの反応系への供給速度は、原料
化合物１モルを基準として１〜２時間が好ましい。１時
間未満では反応温度の制御が困難となる恐れがあり、２
時間を超えると経済的とはいえない。

【００８９】この反応温度は−１０℃〜１０℃が好まし
く、特に好ましくは０℃付近である。−１０℃未満では
経済的とはいえず、１０℃を超えると反応温度の制御が
困難となる恐れがある。

【００９０】臭化エチルの有機溶媒溶液の滴下完了後、
更に室温まで昇温し、室温で２時間程度攪拌保持するこ
とにより反応を完結させるとよい。

【００９１】反応終了後、上記のようにして得たＯ−エ
チル化誘導体を精製するのが好適である。精製方法とし
ては、Ｏ−エチル化誘導体含有している反応液を、攪拌
されている水中に滴下した後、例えば２％炭酸水素ナト
リウム水溶液等でＰＨ８に調整し、エーテル等の有機溶
媒で抽出し、抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムにて水分を除去し、該有機溶媒を減圧留去し、得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、淡黄色のシロップ状のＯ−エチル化誘導体
を得る。

【００９２】（第二段反応）第二段反応は、前述の式
（７）に示されるように、第一段反応で得られたＯ−エ
チル化誘導体を、溶媒中で、パラジウム／チャコール触
媒の存在下、水素を用いて還元して本発明化合物（１）
および本発明化合物（２）からなるジアステレオマー混
合物を得る。

【００９３】この反応は、第一段反応で得られたＯ−エ
チル化誘導体のベンジルオキシ基が水素により還元され
て脱トルエンし、ヒドロキシル基となり、本発明化合物
（１）および本発明化合物（２）からなるジアステレオ
マー混合物を生成することを目的とする。

【００９４】溶媒としては、例えばメタノール、エタノ
ール、水、ジエチルエーテル、ｎ−ヘキサンおよびＴＨ
Ｆ等が挙げられ、特に好ましくはメタノールである。

【００９５】上記溶媒は、Ｏ−エチル化誘導体１モルを
基準として２〜１２リットルが好ましく、特に好ましく
は６〜８リットルである。２リットル未満では反応系の
粘性が増し、パラジウム／チャコール触媒が均一に分散
されにくく、収率の低下を招く恐れがある。また１２リ
ットルを超えると反応速度が遅くなり、経済的とはいえ
ない。

【００９６】パラジウム／チャコール触媒は、例えばパ
ラジウム含有量１％、３％、５％または１０％のパラジ
ウム／チャコール触媒が挙げられ、それらの中でも安価
であることから１０％パラジウム／チャコール触媒が好
適である。

【００９７】パラジウム／チャコール触媒の反応系への
供給割合は、Ｏ−エチル化誘導体１モルを基準として、
２ｇ〜７ｇ（パラジウム純度換算、以下同じ）が好まし
く、特に好ましくは４ｇ〜５ｇである。２ｇ未満では、
還元能力の不足により還元時間が長くなりすぎ、収率の
低下を招く恐れがあり、また７ｇを超えると経済的とは
いえない。

【００９８】反応方式は、例えば密閉式の反応容器に、
Ｏ−エチル化誘導体と溶媒を加えて均一な溶液を調合
し、次いで攪拌しながら、パラジウム／チャコール触媒
を入れ、出来るだけ均一に分散された懸濁液を調整す
る。次いで１．０５〜１．１５気圧程度の水素ガス等で
反応系をシールする。

【００９９】還元時間は水素ガスの吸収がなくなるま
で、例えばＯ−エチル化誘導体１モルを基準として、水
素ガスを１０〜１４時間程度供給するのが好ましい。１
０時間未満では還元が不足し、収率の低下を招く恐れが
あり、１４時間を超えると経済的とはいえない。

【０１００】還元反応温度は１５℃〜３０℃が好まし
い。１５℃未満では還元速度が遅く、経済的とはいえ
ず、３０℃を超えると水素ガスの使用量が多くなり、収
率の低下を招く恐れがある。

【０１０１】反応終了後、例えば濾過によりパラジウム
／チャコール触媒を除去し、濾液を減圧濃縮し、次いで
真空ポンプ等で生成する溶媒を除去して得た粗生成物
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等で精製し
て、無色透明な生成物を得ることが出来る。

【０１０２】得られた生成物は、下記に述べる通り、本
発明化合物（１）〔ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−エ
トキシ＝ヒドロキシベンゾアート〕および本発明化合物
（２）〔ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型２−エトキシ＝ヒド
ロキシベンゾアート〕からなるジアステレオマー混合物
であることが確認される。

【０１０３】後記実施例１により明らかなように、上記
反応で得られた生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで分析す
ることにより、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型およびｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型からなるジアステレオマー混合物
であることを示す２つのピークが得られ、また、光学活
性な液体クロマトグラフィーで測定した結果によれば、
２つの光学活性なピークが得られることから、第二段反
応で得られた生成物が光学活性なジアステレオマー混合
物、すなわち本発明化合物（１）および本発明化合物
（２）からなるジアステレオマー混合物であることが確
認される。

【０１０４】また、上記の製造方法によれば、後記同定
例３において明らかにするとおり、ａｎｔｉ体（１Ｓ，
２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率が既知
のジアステレオマー混合物である原料化合物の、２位の
不斉炭素原子に結合した水酸基をエトキシ基に置換した
場合、反応前後の光学活性なａｎｔｉ体／ｓｙｎ体の生
成比率は変化しない。すなわち、第二段反応の生成物に
おけるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型の生成比率は、原料化合物におけるａｎｔｉ体
（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の生成比
率と変わることがない。

【０１０５】従って、第二段反応で得られた生成物を¹⁹
ＦＮＭＲスペクトルで分析して得られた２つのピークの
うち、原料化合物のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の面積
比と一致する方が、本発明化合物（１）〔ａｎｔｉ体
（１Ｓ，２Ｓ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアー
ト〕であり、原料化合物のｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の
面積比と一致する方が、本発明化合物（２）〔ｓｙｎ体
（１Ｓ，２Ｒ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアー
ト〕であり、また、上記各ピークの面積比から、本発明
化合物（１）および本発明化合物（２）からなるジアス
テレオマー混合物におけるａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型
／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率を確認すること
が出来る。

【０１０６】また、上記の製造方法によれば、ａｎｔｉ
体（１Ｓ，２Ｓ）型〔本発明化合物（１）〕／ｓｙｎ体
（１Ｓ，２Ｒ）型〔本発明化合物（２）〕＝８８〜５６
／１２〜４４（面積比）からなるジアステレオマー混合
物が得られる。

【０１０７】（分離工程）次いで、第二段反応で得られ
た本発明化合物（１）および本発明化合物（２）からな
るジアステレオマー混合物を、該混合物に採用されてい
る通常の分離手段、例えば液体クロマトグラフィーまた
は精留等によって分離することにより、本発明化合物
（１）または本発明化合物（２）の各目的生成物を取得
する。

【０１０８】すなわち、第二段反応で得られた本発明化
合物（１）および本発明化合物（２）からなるジアステ
レオマー混合物を、通常の条件、例えばシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにかけることにより、２つのピー
クが確認され、これらのピークのうち、原料化合物のａ
ｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の面積比と一致する方のピー
クであるフラクションとして本発明化合物（１）〔ａｎ
ｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベン
ゾアート〕を、また原料化合物のｓｙｎ体（１Ｓ，２
Ｒ）型の面積比と一致する方のピークであるフラクショ
ンとして本発明化合物（２）〔ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）
型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアート〕を各々分取
し、溶媒を留去することにより、無色透明な液状の本発
明化合物（１）または無色透明な液状の本発明化合物
（２）を取得することが出来る。

【０１０９】

【実施例】以下参考例および実施例に基づいて、本発明
を具体的に説明する。 （参考例１）〔（Ｓ）−体ケトン：（Ｓ）−１−ヒドロ
キシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシル
ケトンの製造〕 還流冷却器、温度計、撹拌機、ロートを備えた四ツ口丸
底フラスコに、立体配置既知の（Ｓ）−トリフルオロ乳
酸（光学純度９９．５％ｅ．ｅ）〔日本化学会誌、１９
８９（９）Ｐ１５７６〜１５８６、久保田等著「含トリ
フルオロメチル化合物構成試薬としてのα−アルコキシ
−１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロペンの合成
と反応」の文献記載の方法により合成したもの〕より誘
導された（Ｓ）−トリフルオロ乳酸エチルエステル５
１．６ｇ（３００ミリモル）とエーテル１５００ｍｌを
入れ、ドライアイスアセトンバス中に浸漬し、撹拌しな
がら−７８℃に冷却した。

【０１１０】この溶液を撹拌しながら、ｎ−ヘキシルマ
グネシウム＝ブロミド１１３．４ｇ（６００ミリモル）
のエーテル溶液１，５００ｍｌを滴下ロートから、反応
温度−５０℃以下で１８０分間かけて滴下した。滴下完
了後、−７８℃で２時間撹拌保持した後、ドライアイス
アセトンバスを取り去り、撹拌しながら６０分間かけ
て、室温まで昇温した。

【０１１１】次いで、上述で得られた反応液に２規定塩
酸水溶液６００ｍｌを室温で５０分間かけて滴下し、滴
下完了後３０分間撹拌した。得られた反応液をエーテル
で抽出し、抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて水分
を除去した後、エーテルを減圧留去し、シロップ状の粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶離液
ｎ−ヘキサン／イソプロパノール＝９０／１０（容量
比）〕で精製し、無色透明な液状の生成物〔収量３８．
２ｇ（１８０ミリモル）収率６０％〕を得た。

【０１１２】この生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、¹⁹Ｆ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、１−ヒドロキ
シ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケ
トンであることが確認された。

【０１１３】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ) ：０．５〜２．０５ｐｐｍ （１１Ｈ，ｍ） ：２．２０〜２．９５ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．４５ｐｐｍ （１Ｈ，ｍ） ：３．７２〜４．５０ｐｐｍ （１Ｈ，ｂ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−２．１７ｐｐｍ ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，７３０ｃｍ^-1 （ＣＯ） ：３，５１０ｃｍ^-1 （ＯＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／ｚ ２１２ （Ｍ⁺ ）

【０１１４】また、 ¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ
吸収スペクトル図を、それぞれ図１および図２に示す。

【０１１５】また、この生成物を次の条件下で、光学活
性な液体クロマトグラフィーにかけた。 ・光学異性体分離カラム〔商品名：アミロース系光学異
性体分離用ＨＰＬＣカラム；ダイセル化学工業（株）
製〕 ：分離剤…アミロース・トリス〔（Ｓ）−１−フェニル
エチルカルバメートをシリカゲルでコーティングしたも
の（商品名 ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＳ）〕 ：サイズ４．６mmφ×２５０mmH ・溶離液 ：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝
９６／４（容量比） ・流速 ：０．５ml／min ・カラム温度 ：常温 ・検出 ：紫外検出器で波長２５４nmの紫外吸収を用い
た。 ・試料 ：０．１ｍｇ

【０１１６】上記光学活性な液体クロマトグラフィーの
チャートは図３の通りであり、１本の光学活性なピーク
が得られ、その保持時間は以下の通りであった。保持時
間：１０．６９分

【０１１７】次いで上記生成物の比施光度〔α〕²⁵ _D お
よび光学純度を求めたところ以下の通りであった。 比施光度〔α〕²⁵ _D ：−９．５０（ｃ＝３．４７、メタ
ノール） 光学純度：９９．５％ｅｅ

【０１１８】以上の結果より、生成物は（Ｓ）−１−ヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフルオロエチル ｎ−ヘキ
シルケトンであることが確認された。

【０１１９】（参考例２）〔出発原料化合物：ａｎｔｉ
−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン−
２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，
１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールからな
るジアステレオマー混合物の製造〕 （金属水素化物：水素化アルミニウムリチウム）還流冷
却器、温度計、攪拌機、滴下ロートを備えた四ツ口丸底
フラスコに、水素化アルミニウムリチウム３．６ｇ（９
５ミリモル）とジエチルエーテル２００ｍｌを入れ、氷
水バス中に挿入し、０℃の水素化アルミニウムリチウム
懸濁液を調合した。

【０１２０】次いで、滴下ロートに参考例１で得た
（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，２，２−トリフルオロエ
チル ｎ−ヘキシルケトン３８．２ｇ（１８０ミリモ
ル）とジエチルエーテル９０ｍｌとの均一な溶液を入
れ、撹拌しながら４０分間で滴下した。滴下完了後、氷
水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温し、室
温で６時間撹拌保持し、反応を完結させた。

【０１２１】次いで、反応液を再度氷水バスで０℃に冷
却し、撹拌しながら、１規定塩酸４５０ｍｌを５分間か
けて滴下し、０℃で撹拌しながら３０分間保持した。次
いで氷水バスを取り去り、撹拌しながら、室温まで昇温
した後、反応液にジエチルエーテルを加えて生成物を抽
出し、抽出液に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水後、
減圧濃縮し、無色透明な液状の生成物〔３７．８ｇ（１
７６ミリモル）収率９８％〕を得た。

【０１２２】得られた生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は次の通りであり、１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールであること
が確認された。¹ ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．６５〜２．１６ｐｐｍ （１３Ｈ，ｍ） ：２．９０〜３．６０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ：３．６０〜４．２４ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ）¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（from ext. ＣＦ₃ ＣＯＯＨ） ：−０．４０ｐｐｍ 面積比 １２％〔ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型^*1〕 ：−１．８５ｐｐｍ 面積比 ８８％〔ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型^*1〕 （*1 後記同定例１により確認） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：３，４００ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２１４（Ｍ⁺ ）

【０１２３】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、およびＩＲ
吸収スペクトル図をそれぞれ図４および図５に示す。

【０１２４】上記で得た生成物を下記条件で光学異性体
分離用カラムを有するガスクロマトグラフィーにかけ
た。 カラム ：商品名シクロデックスβ２３６Ｍ（クロム
パック社製） 内径０．２５ｍｍφ，長さ２５ｍ シリカキャピラリーカラム カラム温度：８０℃×１０分保持した後、昇温速度４℃
／ｍｉｎで、２００℃まで昇温 キャリアーガス：ヘリウム ：流速 ガス流量７０ｍｌ／ｍｉｎ ：スプリット比１００／１ 検出 ：ＦＩＤ

【０１２５】上記ガスクロマトグラフィーのチャートは
図６の通りである。

【０１２６】第１ピーク 〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*1〕 ・保持時間：３７．０分 ・面積比 ：１２％ 第２ピーク 〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*1〕 ・保持時間：３８．５分 ・面積比 ：８８％ （*1 後記同定例１により確認）

【０１２７】図６の解析結果より、光学活性な２本のピ
ークが検出され、第１ピークおよび第２ピークの保持時
間に間隔が有り、また第１ピーク／第２ピーク＝１２／
８８（面積比）であることを確認した。

【０１２８】従って得られた生成物は、（Ｓ）−体ケト
ンを用いて、ジアステレオ面区別還元して得たジオール
誘導体であること、上記の結果および後記の同定例１よ
り、ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフル
オロノナン−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，
３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジ
オールからなるジアステレオマー混合物であり、その生
成比率はａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２
Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積比）であることが判明
した。

【０１２９】（同定例１）参考例２で得た生成物〔８．
５６ｇ（４０ミリモル）〕をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液ｎ−ヘキサン）にかけ、第１フラク
ションと第２フラクションを分取し、溶媒を留去して次
の通り第１フラクションと第２フラクションを得た。

【０１３０】第１フラクション 〔ｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオール^*2〕 ・収得量 ：０．９３ｇ（４．３６ミリモル） ・収得率 ：１０．９％ 第２フラクション 〔ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオール^*2〕 ・収得量 ：６．８５ｇ（３２ミリモル） ・収得率 ：８０％ （*2 本同定例により確認）

【０１３１】還流冷却器、温度計、攪拌機および滴下ロ
ートを備えた四つ口丸底フラスコに、上記第１フラクシ
ョンまたは第２フラクションの各生成物４ミリモルと、
２，２−ジメトキシプロパン４ｍｇおよびパラトルエン
スルホン酸０．１ｇを加えて、９０℃で５時間還流し、
アセタール交換反応を行い、反応終了後、各反応生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ｎ−ヘ
キサン）を用いて分取し、８２℃で蒸留し、留分を濃縮
して、いずれも無色透明な液状の誘導生成物を得た。

【０１３２】これらの各誘導生成物の６０ＭＨｚの ¹Ｈ
ＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳスペ
クトルを測定した結果は次の通りであり、いずれも２，
２−ジメチル−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメ
チル−１，３−ジオキソラン（以下、１，３−ジオキソ
ラン誘導体という）であることが確認された。

【０１３３】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．８０〜２．００ｐｐｍ （１３Ｈ，ｍ） ：２．８０〜４．３０ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，０９０ｃｍ^-1 （ＣＯＣ） ：２，９４０ｃｍ^-1 （ＣＨ） ＭＳスペクトル ：ｍ／Ｚ ２５４ （Ｍ⁺ ）

【０１３４】また ¹ＨＮＭＲスペクトル図、ＩＲ吸収ス
ペクトル図をそれぞれ図７および図８に示す。

【０１３５】更に、上記各１，３−ジオキソラン誘導体
を¹⁹ＦＮＭＲスペクトルで測定した結果は、次の通りで
あった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） 第１フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体 ：−０．２７ｐｐｍ〔ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型^*2〕 第２フラクションから誘導された１，３−ジオキソラン
誘導体 ：−３．５０ｐｐｍ〔ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型^*2〕 （*2 本同定例により確認）

【０１３６】また、上記の各１，３−ジオキソラン誘導
体の２７０ＭＨｚの ¹ＨＮＭＲスペクトルを求めた結果
は表１の通りであり、メチル基とメチンプロトンの位置
から、第１フラクションから誘導された生成物は、ｔｒ
ａｎｓ−２，２−ジメチル−４−ｎ−ヘキシル−５−ト
リフルオロメチル−１，３−ジオキソランであり、第２
フラクションから誘導された生成物は、ｃｉｓ−２，２
−ジメチル−４−ｎ−ヘキシル−５−トリフルオロメチ
ル−１，３−ジオキソランであることが確認された。

【０１３７】

【表１】

【０１３８】上記の結果より、前述の第１フラクション
はｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオールであり、第２フラクションは
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオールであることが確認された。

【０１３９】また、それらのフラクションの収得比率は
第１フラクション／第２フラクション＝１０．９／８０
（％）〔１２／８８（収得比）〕であり、それが参考例
２で得た光学異性体分離用カラムを有するガスクロマト
グラフィーで検出した第１ピークと第２ピークの各ピー
クの面積比と一致したことより、参考例２で得た光学異
性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフィーで検
出した第１ピークはｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，
１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールで、第２ピ
ークはａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフ
ルオロノナン−２，３−ジオールであり、その生成比率
はａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型＝８８／１２（面積比）であることが判明した。
従って、参考例２で得られた生成物は、ａｎｔｉ−（２
Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン−２，３
−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１
−トリフルオロノナン−２，３−ジオールのジアステレ
オマー混合物であり、その生成比率はａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２
（面積比）であることが確認された。

【０１４０】〔参考例３〕〔原料化合物：ａｎｔｉ−
（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよび
ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トからなるジアステレオマー混合物の製造〕 （原第一段反応）温度計、攪拌機、還流冷却器および滴
下ロートを備えた四つ口丸底フラスコにｎ−ヘキサンで
洗浄精製乾燥した水素化ナトリウム３．６ｇ（１５０ミ
リモル）とジエチルエーテル８０ｍｌを入れ、該フラス
コを氷水バス中に挿入し、攪拌しながら、０℃の懸濁液
を調合した。

【０１４１】次いで滴下ロートに参考例２で得たａｎｔ
ｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオールおよびｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールの
ジアステレオマー混合物〔ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２（面積比）〕
３２．１ｇ（１５０ミリモル）とジエチルエーテル７２
０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、攪拌しながら、１８分
間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バスを取り去り、
攪拌しながら２５℃迄昇温し、引きつづき２５℃で６０
分間攪拌保持し、反応を完結させた。

【０１４２】（原第二段反応）次いで上記フラスコを再
度、氷水バス中に挿入し、０℃に保持した。滴下ロート
に４−ベンジルオキシベンゾイルクロリド３７ｇ（１５
０ミリモル）とジエチルエーテル３６０ｍｌを、攪拌し
ながら、３５分間かけて滴下した。滴下完了後、氷水バ
スを取り去り、攪拌しながら、２５℃迄昇温させ、引き
つづき２５℃で１５０分間攪拌保持して、反応を完結さ
せた。

【０１４３】反応終了後、反応液を氷水中に入れ、１規
定塩酸によりｐＨを５〜６に調整した。次いでエーテル
抽出し、得られた抽出液を０．５規定炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムを加えて水分を除去し、減圧濃縮により溶媒を留去
し、淡黄色のシロップ状の生成物〔収量５０．９ｇ（１
２０ミリモル）、収率８０％〕を得た。

【０１４４】この生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、ＩＲ
吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結果は
次の通りであり、２−ヒドロキシ−１−トリフルオロメ
チルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートである
ことが確認された。

【０１４５】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．４５〜１．９２ｐｐｍ （１３Ｈ、ｍ） ：２．８３〜３．２０ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：３．８４〜４．２１ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：４．２１〜４．６４ｐｐｍ （ＯＨ、ｂ） ：４．７６〜４．９３ｐｐｍ （２Ｈ、ｍ） ：６．６４〜７．８３ｐｐｍ （１０Ｈ、ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，１１０ｃｍ^-1（ＣＯＣ） ：１，７６０ｃｍ^-1（ＣＯ） ：３，４５０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／Ｚ ４２４（Ｍ⁺ ）

【０１４６】¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ吸収ス
ペクトル図を、それぞれ図９および図１０に示す。

【０１４７】また、この生成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトル
を測定した結果は次の通りであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−１．３３ｐｐｍ 面積比 １２％〔ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型^*3〕 ：−３．５０ｐｐｍ 面積比 ８８％〔ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型^*3〕 （*3 後記同定例２により確認）

【０１４８】この生成物は後記同定例２より、ａｎｔｉ
−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロ
メチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートおよ
びｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物であり、その生成
比率はａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型＝８８／１２（面積比）であることが判明し
た。

【０１４９】〔同定例２〕参考例３で得られた生成物を
用いて以下の同定を行った。すなわちまず、該生成物を
酸で加水分解することにより、１，１，１−トリフルオ
ロノナン−２，３−ジオールを生成した。具体的には、
還流冷却器、温度計、撹拌機、ロートを備えた四ツ口丸
底フラスコに、実施例１で得た目的生成物４．２４ｇ
（１０ミリモル）と３規定塩酸５０ｍｌとメタノール２
００ｍｌを加えて、撹拌しながら、８０℃の温度まで昇
温し、８０℃で６時間還流して、加水分解反応を行っ
た。

【０１５０】反応終了後、室温まで冷却した後、エーテ
ルで抽出し、得られた抽出液を２０％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液２０ｍｌで洗浄し、次いで水２００ｍｌで洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去
し、粒状活性炭０．０２ｇを入れ３０分間攪拌した後、
濾過して得たろ液より溶媒を減圧留去して、無色透明な
液状の生成物〔収量１．７１ｇ（８ミリモル）収率８０
％〕を得た。

【０１５１】得られた生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、
¹⁹ＦＮＭＲスペクトル、ＩＲ吸収スペクトルおよびＭＳ
スペクトルを測定した結果は参考例２と同じであり、
１，１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールで
あることが確認された。

【０１５２】次いでこの生成物を、参考例２と同様にし
て光学異性体分離用カラムを有するガスクロマトグラフ
ィーにより分析した結果、図６と同様なチャートが得ら
れた。すなわち、第１ピークおよび第２ピークの各保持
時間および面積比が、参考例２の結果と一致した。すな
わち、この生成物はａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，
１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオール／ｓｙ
ｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，１，１−トリフルオロノナン
−２，３−ジオール＝８８／１２（面積比）からなるジ
アステレオマー混合物である。

【０１５３】ところで出発原料化合物〔ａｎｔｉ体（２
Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝８８／１２
（面積比）〕の２位の不斉炭素原子に結合した水酸基
を、４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ基に置換した
場合、仮に、２位の不斉炭素原子上で１００％のラセミ
化を起こせば、生成物であるジアステレオマー混合物
は、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３
Ｒ）型＝５０／５０の生成比率となる。

【０１５４】また、各反応のいずれかにおいて２位の不
斉炭素原子上で不斉中心がわずかでもラセミ化を起こせ
ば、それに対応して、ａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型／ｓ
ｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型＝５０／５０の生成比率に近づ
く。

【０１５５】しかしながら、前述したように、参考例３
で得られた生成物を加水分解して得た生成物が、出発原
料化合物と同一のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型ジオール
およびｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型ジオールからなるジア
ステレオマー混合物であり、かつａｎｔｉ体（２Ｓ，３
Ｓ）型／ｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の面積比と一致する
事と、上記の考察から、出発原料化合物の２位の不斉炭
素原子に結合した水酸基の４−ベンジルオキシベンゾイ
ルオキシ基による置換では、２位の不斉炭素原子の不斉
中心のラセミ化は起こらないことが確認された。

【０１５６】従って、参考例３で得られた生成物はａｎ
ｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
およびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−
トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベン
ゾアートからなるジアステレオマー混合物であり、ａｎ
ｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝
８８／１２（面積比）であることが確認された。

【０１５７】また、参考例３で得られた生成物の¹⁹ＦＮ
ＭＲスペクトルの第１ピーク（−１．３３ｐｐｍ）と第
２ピーク（−３．５０ｐｐｍ）の面積比は１２／８８で
あり、この比が、上記で明らかとなった該生成物のｓｙ
ｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型／ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の
面積比と一致したことより、上記生成物を、¹⁹ＦＮＭＲ
スペクトルで分析することにより得られる２本のピーク
のうち、出発原料化合物のｓｙｎ体（２Ｓ，３Ｒ）型の
面積比と一致するピーク（−１．３３ｐｐｍ）はｓｙｎ
−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオロ
メチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアートであ
り、また出発原料化合物のａｎｔｉ体（２Ｓ，３Ｓ）型
の面積比と一致するピーク（−３．５０ｐｐｍ）はａｎ
ｔｉ体−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トであること、また、上記各ピークの面積比から、上記
生成物のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型およびｓｙｎ体
（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率を確認出来ることが明確と
なった。

【０１５８】（実施例１）〔本発明化合物（１）：ａｎ
ｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリフルオ
ロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート、およ
び本発明化合物（２）：ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−
エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ヒド
ロキシベンゾアートの各化合物の製造〕 （第一段反応）ドライアイスコンデンサー、温度計、攪
拌機、ロートを備えた四ツ口丸底フラスコに、ｎ−ヘキ
サンで洗浄精製乾燥した水素化ナトリウム２．８８ｇ
（１２０ミリモル）とジエチルエーテル６０ｍｌを入
れ、該フラスコを氷水バス中に挿入し、攪拌しながら、
０℃の均一に分散した懸濁液を調合した。

【０１５９】次いで滴下ロートに参考例３で得たａｎｔ
ｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフルオ
ロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート／
ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
ト＝８８／１２（面積比）からなるジアステレオマー混
合物４２．４ｇ（１００ミリモル）とジエチルエーテル
５４０ｍｌを入れ、均一な溶液とし、攪拌しながら１９
分間かけて滴下した。滴下終了後、氷水バスを取り去
り、攪拌しながら室温まで昇温し、室温で１時間攪拌保
持して、反応を完結させ、反応生成物溶液を得た。

【０１６０】次いで、該反応生成物溶液の入ったフラス
コを、再度氷水バス中に挿入し、攪拌しながら、０℃に
調整した。別途滴下ロートに臭化エチル１４．２０ｇ
（１３０ミリモル）とジエチルエーテル１６０ｍｌを入
れ、攪拌しながら３０分間かけて滴下した。滴下完了
後、氷水バスを取り去り、攪拌しながら、室温まで昇温
し、室温で２時間攪拌保持して、反応を完結させた。

【０１６１】反応終了後、攪拌しながら、反応液を水中
に入れ、２％炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ８に調整
した後、エーテルにて抽出し、抽出液を水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムを加えて水分を除去した後、
エーテルを減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー〔溶離液ｎ−ヘキサン／イソ
プロピルアルコール＝９６／４（容量比）〕で精製した
後、溶離液を減圧留去し、淡黄色のシロップ状のＯ−エ
チル誘導体である生成物〔収量３６．２ｇ（８０ミリモ
ル）収率８０％〕を得た。

【０１６２】（第二段反応）スターラー、温度計、滴下
ロートおよびポリエチレン樹脂風船を備えた密閉型の三
ツ口丸底フラスコに、第一段反応で得た生成物３１．７
ｇ（７０ミリモル）とメタノール４５０ｍｌを入れ、２
５℃で攪拌しながら、均一な溶液を調合した。

【０１６３】別途、滴下ロートに１０％パラジウム／チ
ャコール触媒３．２ｇを入れ、上記溶液を攪拌しなが
ら、ゆっくりと滴下し、均一に分散した懸濁液を調合
し、反応温度２５℃で、攪拌しながら圧力１．１ｋｇ／
ｃｍ² 程度の水素ガスで反応系をシールして、還元反応
を行った。還元反応は、懸濁液を攪拌しながら、水素ガ
スをその吸収がなくなるまで（１２時間）供給し、反応
を完結させた。

【０１６４】還元反応終了後、得られた反応懸濁液を濾
過し、パラジウム／チャコール触媒を除去し、濾液を減
圧濃縮することによりメタノールを留去した後、副生し
たトルエンを真空ポンプで除去し、無色透明な粗生成物
を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー〔溶離液ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコ
ール＝９６／４（容量比）〕で精製し、溶離液を減圧留
去し、無色透明な液状の生成物〔収量２２．８ｇ（６３
ミリモル）収率９０％〕を得た。

【０１６５】上記生成物の ¹ＨＮＭＲスペクトル、ＩＲ
吸収スペクトルおよびＭＳスペクトルを測定した結果は
次の通りであり、２−エトキシ−１−トリフルオロメチ
ルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアートであることを
確認した。

【０１６６】¹ＨＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ₃ ） ：０．５５〜１．８９ｐｐｍ （１６Ｈ、ｍ） ：２．２９〜２．５５ｐｐｍ （ＯＨ、ｂ） ：２．９８〜３．８３ｐｐｍ （３Ｈ、ｍ） ：４．８５〜５．３３ｐｐｍ （１Ｈ、ｍ） ：７．０５〜７．９８ｐｐｍ （４Ｈ、ｍ） ＩＲ吸収スペクトル（ｎｅａｔ） ：１，１３０ｃｍ^-1（ＣＯＣ） ：１，７６０ｃｍ^-1（ＣＯ） ：３，５７０ｃｍ^-1（ＯＨ） ＭＳスペクトル ｍ／Ｚ ３６２（Ｍ⁺ ）

【０１６７】¹ＨＮＭＲスペクトル図およびＩＲ吸収ス
ペクトル図を、それぞれ図１１および図１２に示す。

【０１６８】また、上記生成物を¹⁹ＦＮＭＲスペクトル
で測定した結果、次の通りであった。¹⁹ ＦＮＭＲスペクトル（ｆｒｏｍ ｅｘｔ．ＣＦ₃ ＣＯ
ＯＨ） ：−１．６７ｐｐｍ 面積比 １２％〔ｓｙｎ体（１
Ｓ，２Ｒ）型^*4〕 ：−２．１７ｐｐｍ 面積比 ８８％〔ａｎｔｉ体（１
Ｓ，２Ｓ）型^*4〕 〔*4 後記同定例３により確認〕

【０１６９】また、この生成物を次の条件下で、光学活
性な液体クロマトグラフィーにかけた。 ・光学異性体分離カラム〔商品名：アミロース系光学異
性体分離用ＨＰＬＣカラム；ダイセル化学工業（株）
製〕 ：分離剤…アミロース・トリス〔（Ｓ）−１−フェニル
エチルカルバメートをシリカゲルでコーティングしたも
の（商品名 ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＳ）〕 ：サイズ４．６mmφ×２５０mmH ・溶離液 ：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝
９６／４（容量比） ・流速 ：０．５ml／min ・カラム温度 ：常温 ・検出 ：紫外検出器で波長２５４nmの紫外吸収を用い
た。 ・試料 ：０．１ｍｇ

【０１７０】上記光学活性な液体クロマトグラフィーの
チャートは図１３の通りであり、図１３の解析結果よ
り、２本の光学活性なピークが得られ、その保持時間と
面積比は以下の通りであった。

【０１７１】第１ピーク 〔ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート
^*4〕 ・保持時間：１０．６９分 ・面積比 ：８８％ 第２ピーク 〔ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアー
ト^*4〕 ・保持時間：１２．７６分 ・面積比 ：１２％ （*4 後記同定例３により確認）

【０１７２】上記結果と後記同定例３より、この生成物
は、ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−ト
リフルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアー
トおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−
トリフルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾア
ートからなるジアステレオマー混合物であり、その生成
比率はａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，
２Ｒ）型＝８８／１２（面積比）であることが確認され
た。

【０１７３】（分離工程）第二段反応で得られた生成物
であるジアステレオマー混合物〔２１．７２ｇ（６０ミ
リモル）〕を分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔商品名：イナートシエル ＰＲＥＰ−ＯＤＳ分取、
ガードカラム２点セット（Ｎｏ．５０２０−３５１１
２） ジーエルサイエンス（株）製、内径１０ｍｍ×高
さ２５０ｍｍ、充填剤：純度９９．９％の１０ミクロン
シリカゲルにオクタデシル基を化学結合したもの、溶離
液：ｎ−ヘキサン／イソプロピルアルコール＝９６／４
（容量比）、流速２ｍｌ／ｍｉｎ、試料供給量１ｇ、検
出：紫外検出器 波長２５４ｎｍ〕を用いて、第１ピー
クである第１フラクションおよび第２ピークである第２
フラクションを各々分取し、溶離液を減圧留去して、い
ずれも無色透明な液状の各目的生成物である第１フラク
ションおよび第２フラクションを得た。

【０１７４】これらの各目的生成物の収得量および収得
率は以下の通りである。 第１フラクション 〔ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート
^*4〕 ・収得量 ：１７．２０ｇ（４７．５ミリモル） ・収得率 ：７９．２％ （原料化合物からの収率：５
７％） 第２フラクション 〔ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアー
ト^*4〕 ・収得量 ：２．３５ｇ（６．５ミリモル） ・収得率 ：１０．８％ （原料化合物からの収率：
７．８％） （*4 後記同定例３により確認）

【０１７５】後記同定例３より、上記各目的生成物にお
いて、第１フラクションはａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−
２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−
ヒドロキシベンゾアートであり、また第２フラクション
はｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアートで
あり、かつ、その生成比率はａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）
型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８８／１２（面積比）
であることが確認された。

【０１７６】（同定例３）第二段反応で得られた生成物
がａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート
およびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−ト
リフルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアー
トからなり、かつその生成比率がａｎｔｉ体（１Ｓ，２
Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８８／１２（面積
比）であるジアステレオマー混合物であること、また、
分離工程で得られた各目的生成物が、第１フラクション
はａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート
であり、また第２フラクションはｓｙｎ−（１Ｓ，２
Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル
＝４−ヒドロキシベンゾアートであり、その生成比率が
ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）
型＝８８／１２（面積比）であることの同定について以
下に述べる。

【０１７７】実施例１において、反応に供した原料化合
物は、ａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１
−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベ
ンゾアート／ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ
−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキ
シベンゾアート＝８８／１２（面積比）からなるジアス
テレオマー混合物である。

【０１７８】上記原料化合物の２位の不斉炭素原子に結
合した水酸基のエトキシ基への置換によるＯ−エチル化
誘導体の生成（第一段反応）、次いで該Ｏ−エチル化誘
導体のベンジルエーテル部分の水素化分解による脱トル
エン反応（第二段反応）で、ラセミ化を起こす可能性が
ある反応は第一段反応である。

【０１７９】第一段反応において、原料化合物〔ａｎｔ
ｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８
８／１２（面積比）〕の２位の不斉炭素原子に結合した
水酸基をエトキシ基に置換した場合、仮に、２つの不斉
炭素原子上で１００％のラセミ化を起こせば、第二段反
応の生成物であるジアステレオマー混合物は、ａｎｔｉ
体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝５０
／５０の生成比率となる。

【０１８０】また、各反応のいずれかにおいて２つの不
斉炭素原子上で不斉中心がわずかでもラセミ化を起こせ
ば、それに対応して、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓ
ｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝５０／５０の生成比率に近づ
く。

【０１８１】実施例１に記載したとおり、第二段反応の
生成物を光学活性な液体クロマトグラフィーにかけた結
果は、光学活性なピークは２本しか得られず、第１ピー
ク／第２ピーク＝８８／１２（面積比）であり、参考例
３に記載した原料化合物のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型
／ｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型＝８８／１２（面積比）と
一致することと、上記の考察から、原料化合物の２つの
不斉炭素原子の立体化学は変化していないことが確認さ
れた。

【０１８２】従って、第二段反応の生成物はａｎｔｉ−
（１Ｓ，２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチ
ルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート／ｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチ
ルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート＝８８／１２
（面積比）からなるジアステレオマー混合物であること
が確認された。

【０１８３】また、実施例１の第二段反応で得られた生
成物の¹⁹ＦＮＭＲスペクトルは２本のピークが認めら
れ、その第１ピーク（−１．６７ｐｐｍ）／第２ピーク
（−２．１７ｐｐｍ）の面積比は、上記で明らかとなっ
た第二段反応で得られた生成物のｓｙｎ体（１Ｓ，２
Ｒ）型／ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型（＝１２／８８）
の生成比率と一致したことより、上記生成物を¹⁹ＦＮＭ
Ｒスペクトルで分析することにより得られる２本のピー
クのうち、原料化合物のｓｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の面
積比と一致するピーク（−１．６７ｐｐｍ）はｓｙｎ−
（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチ
ルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアートを示し、原料
化合物のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型の面積比と一致す
るピーク（−２．１７ｐｐｍ）はａｎｔｉ−（１Ｓ，２
Ｓ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル
＝４−ヒドロキシベンゾアートであること、また上記各
ピークの面積比から、ａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型／ｓ
ｙｎ体（１Ｓ，２Ｒ）型の生成比率を確認出来ることが
明確となった。

【０１８４】上記のように明らかにされた第二段反応で
得られた生成物、すなわちａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−
２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−
ヒドロキシベンゾアート／ｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２
−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−ヒ
ドロキシベンゾアート＝８８／１２（面積比）からなる
ジアステレオマー混合物を、分離工程で述べたとおり、
分取用シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて分
離した結果、（第１ピークである第１フラクション）／
（第２ピークである第２フラクション）＝７９．２／１
０．８（％）〔８８／１２（収得比）〕の収得比率であ
り、前記生成物の生成比率と一致したことから、分離工
程における第１フラクションはａｎｔｉ−（１Ｓ，２
Ｓ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル
＝４−ヒドロキシベンゾアートであり、第２フラクショ
ンはｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−エトキシ−１−トリ
フルオロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアート
であることが確認された。

【０１８５】

【発明の効果】本発明は、大画面液晶ディスプレイ等の
素材である反強誘電性液晶化合物の中間原料として有用
である新規のａｎｔｉ体（１Ｓ，２Ｓ）型２−エトキシ
＝ヒドロキシベンゾアートおよびｓｙｎ体（１Ｓ，２
Ｒ）型２−エトキシ＝ヒドロキシベンゾアートの提供で
あり、各化合物を効率的に製造することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンの ¹ＨＮＭＲ
スペクトル図である。

【図２】参考例１で得た１−ヒドロキシ−２，２，２−
トリフルオロエチル ｎ−ヘキシルケトンのＩＲ吸収ス
ペクトル図である。

【図３】参考例１で得た（Ｓ）−１−ヒドロキシ−２，
２，２−トリフルオロエチルｎ−ヘキシルケトンの光学
活性な液体クロマトグラフィーのチャートである。

【図４】参考例２で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールの ¹ＨＮＭＲスペクトル図であ
る。

【図５】参考例２で得た１，１，１−トリフルオロノナ
ン−２，３−ジオールのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図６】参考例２で得たｓｙｎ−（２Ｓ，３Ｒ）−１，
１，１−トリフルオロノナン−２，３−ジオールおよび
ａｎｔｉ−（２Ｓ，３Ｓ）−１，１，１−トリフルオロ
ノナン−２，３−ジオールの光学異性体分離用カラムを
有するガスクロマトグラフィーのチャートである。

【図７】同定例１で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−ヘ
キシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラ
ンの ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図８】同定例１で得た２，２−ジメチル−４−ｎ−ヘ
キシル−５−トリフルオロメチル−１，３−ジオキソラ
ンのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図９】参考例３で得た２−ヒドロキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
の ¹ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１０】参考例３で得た２−ヒドロキシ−１−トリフ
ルオロメチルオクチル＝４−ベンジルオキシベンゾアー
トのＩＲ吸収スペクトル図である。

【図１１】実施例１で得た２−エトキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアートの ¹
ＨＮＭＲスペクトル図である。

【図１２】実施例１で得た２−エトキシ−１−トリフル
オロメチルオクチル＝４−ヒドロキシベンゾアートのＩ
Ｒ吸収スペクトル図である。

【図１３】実施例１で得たａｎｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−
２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４−
ヒドロキシベンゾアートおよびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）
−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルオクチル＝４
−ヒドロキシベンゾアートからなるジステレオマー混合
物の光学活性な液体クロマトグラフィーのチャートであ
る。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１）で示されるａｎｔｉ−（１Ｓ，
   ２Ｓ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルアルキ
   ル＝４−ヒドロキシベンゾアート。 【化１】
2. 【請求項２】 式（２）で示されるｓｙｎ−（１Ｓ，２
   Ｒ）−２−エトキシ−１−トリフルオロメチルアルキル
   ＝４−ヒドロキシベンゾアート。 【化２】
3. 【請求項３】 有機溶媒中で、式（３）で示されるａｎ
   ｔｉ−（１Ｓ，２Ｓ）−２−ヒドロキシ−１−トリフル
   オロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベンゾアート
   およびｓｙｎ−（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒドロキシ−１−
   トリフルオロメチルアルキル＝４−ベンジルオキシベン
   ゾアートからなるジアステレオマー混合物と、アルカリ
   金属水素化物を反応させ、次いで該反応生成物と臭化エ
   チルを反応させてＯ−エチル化誘導体を得た後、該Ｏ−
   エチル化誘導体を溶媒中で、パラジウム／チャコール触
   媒の存在下、水素を用いて還元して得た請求項１記載の
   化合物および請求項２記載の化合物からなるジアステレ
   オマー混合物を、請求項１記載の化合物と請求項２記載
   の化合物に分離することを特徴とする各化合物の製造方
   法。 【化３】