JPH07235164A - ディスク・カートリッジおよびその製造方法 - Google Patents
ディスク・カートリッジおよびその製造方法Info
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- JPH07235164A JPH07235164A JP6046554A JP4655494A JPH07235164A JP H07235164 A JPH07235164 A JP H07235164A JP 6046554 A JP6046554 A JP 6046554A JP 4655494 A JP4655494 A JP 4655494A JP H07235164 A JPH07235164 A JP H07235164A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/02—Containers; Storing means both adapted to cooperate with the recording or reproducing means
- G11B23/03—Containers for flat record carriers
- G11B23/0326—Assembling of containers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/0046—Details relating to the filling pattern or flow paths or flow characteristics of moulding material in the mould cavity
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
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- G11B23/03—Containers for flat record carriers
- G11B23/0301—Details
- G11B23/0313—Container cases
- G11B23/0316—Constructional details, e.g. shape
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/2628—Moulds with mould parts forming holes in or through the moulded article, e.g. for bearing cages
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シャッタが摺動する凹部の左右非対称から生
じる射出成形時の樹脂流動のアンバランスを解消したデ
ィスク・カートリッジおよびその製造方法を提供する。 【構成】 ディスク・カートリッジのシェル（１Ａ，１
Ｂ）の中心線Ｃの左側半分または右側半分のうちシャッ
タ用凹部（５ａ，５ｂ）の面積の大きい方に凸部（21
ａ，21ｂ）を，面積の小さい方に凹部（20ａ，20ｂ）を
形成し，肉厚の左右のバランスをとる。
じる射出成形時の樹脂流動のアンバランスを解消したデ
ィスク・カートリッジおよびその製造方法を提供する。 【構成】 ディスク・カートリッジのシェル（１Ａ，１
Ｂ）の中心線Ｃの左側半分または右側半分のうちシャッ
タ用凹部（５ａ，５ｂ）の面積の大きい方に凸部（21
ａ，21ｂ）を，面積の小さい方に凹部（20ａ，20ｂ）を
形成し，肉厚の左右のバランスをとる。
Description
【０００１】
【技術分野】この発明は，ディスク・カートリッジおよ
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術とその問題点】ディスク・カートリッジは，
円板状記録媒体（磁気ディスク，光ディスク，光磁気デ
ィスク等）を回転自在に収納してこれらを保護するもの
である。ディスク・カートリッジは四角形の上下のシェ
ルから構成され，これらの内部に記録媒体が回転自在に
配設される。これらの上下のシェルには記録媒体信号を
書込むまたは読出すためのヘッドが挿入される（または
書込／読出光が通る）書込／読出窓が形成されている。
この窓は金属製または樹脂製の摺動自在なシャッタによ
って開閉される。上，下シェルの外面はこのシャッタが
摺動する範囲において窪みが形成されている。シェルを
書込／読出窓と回転記録媒体の回転中心を通る中心線で
左，右に分けた場合，シャッタ摺動範囲はこの中心線に
対して一方に偏って位置しているため，シェルの肉厚は
左右対称ではない。
円板状記録媒体（磁気ディスク，光ディスク，光磁気デ
ィスク等）を回転自在に収納してこれらを保護するもの
である。ディスク・カートリッジは四角形の上下のシェ
ルから構成され，これらの内部に記録媒体が回転自在に
配設される。これらの上下のシェルには記録媒体信号を
書込むまたは読出すためのヘッドが挿入される（または
書込／読出光が通る）書込／読出窓が形成されている。
この窓は金属製または樹脂製の摺動自在なシャッタによ
って開閉される。上，下シェルの外面はこのシャッタが
摺動する範囲において窪みが形成されている。シェルを
書込／読出窓と回転記録媒体の回転中心を通る中心線で
左，右に分けた場合，シャッタ摺動範囲はこの中心線に
対して一方に偏って位置しているため，シェルの肉厚は
左右対称ではない。
【０００３】図14は，3.5 インチ・サイズのフレキシブ
ル・ディスク・カートリッジ（flexible disk cartridg
e ；以下「ＦＤＣ」と略す）の分解斜視図である。
ル・ディスク・カートリッジ（flexible disk cartridg
e ；以下「ＦＤＣ」と略す）の分解斜視図である。
【０００４】図15(A) は，図14に示すＦＤＣの上シェル
を内側から見た平面図，図15(B) は，図15(A) のXV−XV
線にそう断面端面図である。図16(A) は，図14に示すＦ
ＤＣの下シェルを内側から見た平面図，図16(B) は，図
16(A) のXVI −XVI 線にそう断面端面図である。
を内側から見た平面図，図15(B) は，図15(A) のXV−XV
線にそう断面端面図である。図16(A) は，図14に示すＦ
ＤＣの下シェルを内側から見た平面図，図16(B) は，図
16(A) のXVI −XVI 線にそう断面端面図である。
【０００５】これらの図面において，作図の便宜上，お
よび分りやすくするために肉厚が実際よりも厚めに強調
して描かれている。このことは，後に説明するこの発明
の実施例を示す図面においても同じである。
よび分りやすくするために肉厚が実際よりも厚めに強調
して描かれている。このことは，後に説明するこの発明
の実施例を示す図面においても同じである。
【０００６】ＦＤＣは，合成樹脂製の四角形の上，下シ
ェル１ａ，１ｂ，および金属製または樹脂製のシャッタ
３から構成される。上，下シェル１ａ，１ｂはその周囲
に低い壁を有している。上シェル１ａと下シェル１ｂは
超音波溶接，その他の方法により四隅で相互に接着され
る。これらのシェル１ａ，１ｂの内部には記録媒体とし
ての磁気ディスク２が回転自在に配置される。
ェル１ａ，１ｂ，および金属製または樹脂製のシャッタ
３から構成される。上，下シェル１ａ，１ｂはその周囲
に低い壁を有している。上シェル１ａと下シェル１ｂは
超音波溶接，その他の方法により四隅で相互に接着され
る。これらのシェル１ａ，１ｂの内部には記録媒体とし
ての磁気ディスク２が回転自在に配置される。
【０００７】磁気ディスク２は，金属製の回転支持体11
と，これに取付けられかつ磁性体を塗布したドーナッツ
型のシート13とから構成される。上シェル１ａの内面の
中央部には円形の保持壁10が，下シェル１ｂの中央部に
は円形孔12がそれぞれ形成されている。磁気ディスク２
は，その支持体11がそれらの保持壁10および円形孔12に
回転自在にゆるく嵌め込まれることによって，ＦＤＣ内
に位置決めされる。支持体11には，磁気ディスク２をフ
レキシブル・ディスク駆動装置（ＦＤＤ）のスピンドル
にチャッキングするための孔14が形成されている。上，
下シェル１ａ，１ｂの内面には磁気ディスク２の外周縁
をガイドするための隔壁18ａ，18ｂがそれぞれ形成され
ている。
と，これに取付けられかつ磁性体を塗布したドーナッツ
型のシート13とから構成される。上シェル１ａの内面の
中央部には円形の保持壁10が，下シェル１ｂの中央部に
は円形孔12がそれぞれ形成されている。磁気ディスク２
は，その支持体11がそれらの保持壁10および円形孔12に
回転自在にゆるく嵌め込まれることによって，ＦＤＣ内
に位置決めされる。支持体11には，磁気ディスク２をフ
レキシブル・ディスク駆動装置（ＦＤＤ）のスピンドル
にチャッキングするための孔14が形成されている。上，
下シェル１ａ，１ｂの内面には磁気ディスク２の外周縁
をガイドするための隔壁18ａ，18ｂがそれぞれ形成され
ている。
【０００８】上シェル１ａおよび下シェル１ｂの内面に
は，不織布等でできたライナ（図示略）が張付けられて
おり，回転する磁気ディスク２上の埃等を除去し，磁気
ディスク２がシェル内面に直接触れて傷つくことを防い
でいる。また，上，下シェル１ａ，１ｂの内側にはクリ
ーナ（図示略）を支持するためのリブ８ａ，８ｂがそれ
ぞれ形成されている。
は，不織布等でできたライナ（図示略）が張付けられて
おり，回転する磁気ディスク２上の埃等を除去し，磁気
ディスク２がシェル内面に直接触れて傷つくことを防い
でいる。また，上，下シェル１ａ，１ｂの内側にはクリ
ーナ（図示略）を支持するためのリブ８ａ，８ｂがそれ
ぞれ形成されている。
【０００９】下シェル１ｂにおいて，その一隅にライト
・プロテクト・タブ（図示略）を摺動自在に取付けるた
めの穴９が形成されている。他の隅にはＦＤＣの種類を
表わす穴16が形成されている。穴９および穴16は共に仕
切り壁17によって囲まれており，これらの穴からＦＤＣ
内に埃等が入り込むのが防がれる。
・プロテクト・タブ（図示略）を摺動自在に取付けるた
めの穴９が形成されている。他の隅にはＦＤＣの種類を
表わす穴16が形成されている。穴９および穴16は共に仕
切り壁17によって囲まれており，これらの穴からＦＤＣ
内に埃等が入り込むのが防がれる。
【００１０】上，下シェル１ａ，１ｂの一側部には，磁
気ディスク２へのデータの書込みまたは読出しのために
磁気ヘッド（図示略）が進入するための書込／読出窓４
ａ，４ｂが形成されている。この窓４ａ，４ｂを開閉す
るためにシャッタ３が設けられる。このシャッタ３が摺
動する範囲にわたって上，下シェル１ａ，１ｂの外面に
は窪み（凹部）５ａ，５ｂがそれぞれ形成されている。
これらの凹部５ａ，５ｂの深さはシャッタ３を構成する
部材の厚さにほぼ等しい。上，下シェル１ａ，１ｂの外
面にはさらにラベル等を貼るための凹部７ａ，７ｂ，Ｆ
ＤＣの挿入方向を示す矢印18等が形成されている。
気ディスク２へのデータの書込みまたは読出しのために
磁気ヘッド（図示略）が進入するための書込／読出窓４
ａ，４ｂが形成されている。この窓４ａ，４ｂを開閉す
るためにシャッタ３が設けられる。このシャッタ３が摺
動する範囲にわたって上，下シェル１ａ，１ｂの外面に
は窪み（凹部）５ａ，５ｂがそれぞれ形成されている。
これらの凹部５ａ，５ｂの深さはシャッタ３を構成する
部材の厚さにほぼ等しい。上，下シェル１ａ，１ｂの外
面にはさらにラベル等を貼るための凹部７ａ，７ｂ，Ｆ
ＤＣの挿入方向を示す矢印18等が形成されている。
【００１１】シャッタ３は上，下シェル１ａ，１ｂの凹
部にそう２枚の遮蔽部分とこれらを連結する部分とから
構成され，上シェル１ａおよび下シェル１ｂを上下から
挟むようにして凹部５ａ，５ｂに摺動自在に取付けられ
る。シャッタ３の遮蔽部には，書込／読出窓４ａ，４ｂ
よりやや大きい長方形の窓15ａ，15ｂが形成されてい
る。通常シャッタ３はスプリング（図示略）によって凹
部５ａ，５ｂの一端側に付勢されており，その遮蔽部に
よって窓４ａ，４ｂは閉じられた状態にある。ＦＤＣが
ＦＤＤ内に挿入されると，ＦＤＤ内のシャッタ開放機構
によってシャッタ３は凹部５ａ，５ｂの他端側に動かさ
れ，窓15ａ，15ｂが窓４ａ，４ｂと一致し，窓４ａ，４
ｂが開かれる。
部にそう２枚の遮蔽部分とこれらを連結する部分とから
構成され，上シェル１ａおよび下シェル１ｂを上下から
挟むようにして凹部５ａ，５ｂに摺動自在に取付けられ
る。シャッタ３の遮蔽部には，書込／読出窓４ａ，４ｂ
よりやや大きい長方形の窓15ａ，15ｂが形成されてい
る。通常シャッタ３はスプリング（図示略）によって凹
部５ａ，５ｂの一端側に付勢されており，その遮蔽部に
よって窓４ａ，４ｂは閉じられた状態にある。ＦＤＣが
ＦＤＤ内に挿入されると，ＦＤＤ内のシャッタ開放機構
によってシャッタ３は凹部５ａ，５ｂの他端側に動かさ
れ，窓15ａ，15ｂが窓４ａ，４ｂと一致し，窓４ａ，４
ｂが開かれる。
【００１２】一般に上，下シェル１ａ，１ｂは射出成形
法によって成形される。凹部５ａ，５ｂには，射出成形
加工時のゲート跡６が残っている。溶融樹脂を注入する
ためのゲートは，一般に目立たないところ，たとえば凹
部５ａ，５ｂに２点，またはラベルを張付けるための凹
部７ａ，７ｂに２点設けられる。これらの双方に４点設
けられることもある。
法によって成形される。凹部５ａ，５ｂには，射出成形
加工時のゲート跡６が残っている。溶融樹脂を注入する
ためのゲートは，一般に目立たないところ，たとえば凹
部５ａ，５ｂに２点，またはラベルを張付けるための凹
部７ａ，７ｂに２点設けられる。これらの双方に４点設
けられることもある。
【００１３】上，下シェル１ａ，１ｂにおいて，窓４
ａ，４ｂは左右の中心位置に形成されている。保持壁10
または円形孔12の中心と窓４ａ，４ｂの中心とを通る
上，下シェル１ａ，１ｂの中心線Ｃを仮想する。図15に
示す上シェル１ａにおいて，凹部５ａは中心線Ｃを中心
として左側に偏って位置しており，右側のほうが左側よ
りも厚肉部分が多くなっている。図16に示す下シェル１
ｂにおいて，凹部５ｂは中心線Ｃを中心として右側に偏
って位置しており，左側の方が右側よりも厚肉部分が多
くなっている。このようにシャッタ３の摺動範囲を定め
る凹部５ａ，５ｂの存在のために，上，下シェル１ａ，
１ｂは中心線Ｃに関して左右対称ではない。
ａ，４ｂは左右の中心位置に形成されている。保持壁10
または円形孔12の中心と窓４ａ，４ｂの中心とを通る
上，下シェル１ａ，１ｂの中心線Ｃを仮想する。図15に
示す上シェル１ａにおいて，凹部５ａは中心線Ｃを中心
として左側に偏って位置しており，右側のほうが左側よ
りも厚肉部分が多くなっている。図16に示す下シェル１
ｂにおいて，凹部５ｂは中心線Ｃを中心として右側に偏
って位置しており，左側の方が右側よりも厚肉部分が多
くなっている。このようにシャッタ３の摺動範囲を定め
る凹部５ａ，５ｂの存在のために，上，下シェル１ａ，
１ｂは中心線Ｃに関して左右対称ではない。
【００１４】これらのシェルを射出成形するための成形
金型において，シェルの肉厚の左右非対称性に起因し
て，射出成形時にキャビティに流入される樹脂の流動が
アンバランスになってしまうという問題がある。この樹
脂流動のアンバランスにより，成形時に溶融樹脂が合流
して融合するときに形成されるウエルド・ラインがシェ
ルの中心線近傍ではなく，左または右に大きく偏ってし
まう。
金型において，シェルの肉厚の左右非対称性に起因し
て，射出成形時にキャビティに流入される樹脂の流動が
アンバランスになってしまうという問題がある。この樹
脂流動のアンバランスにより，成形時に溶融樹脂が合流
して融合するときに形成されるウエルド・ラインがシェ
ルの中心線近傍ではなく，左または右に大きく偏ってし
まう。
【００１５】図17および図18はそれぞれ，従来の上シェ
ルおよび下シェルについて，２つのゲート６に溶融樹脂
を注入したときのキャビティ内の樹脂流動をシミュレー
ションした結果を示す。樹脂は流動抵抗の小さな肉厚の
厚い側より多く流入する。ウエルド・ラインＷＬは，上
シェル１ａでは左側に，下シェル１ｂでは右側に大きく
片方に偏っていることが分る。
ルおよび下シェルについて，２つのゲート６に溶融樹脂
を注入したときのキャビティ内の樹脂流動をシミュレー
ションした結果を示す。樹脂は流動抵抗の小さな肉厚の
厚い側より多く流入する。ウエルド・ラインＷＬは，上
シェル１ａでは左側に，下シェル１ｂでは右側に大きく
片方に偏っていることが分る。
【００１６】このように，片方のゲートから流入する樹
脂の流動長が他方のゲートから流入する樹脂の流動長に
比べ長くなるという現象が生じ，末端において樹脂未充
填の不良が生じる危険性が高まる。また，左右の樹脂の
充填密度の違いも発生し，成形されたシェルが反ってし
まうという不良が発生する可能性もある。
脂の流動長が他方のゲートから流入する樹脂の流動長に
比べ長くなるという現象が生じ，末端において樹脂未充
填の不良が生じる危険性が高まる。また，左右の樹脂の
充填密度の違いも発生し，成形されたシェルが反ってし
まうという不良が発生する可能性もある。
【００１７】このような問題を解決するためには，シェ
ルの肉厚を左右対称にすればよい。しかし，シャッタ摺
動部の寸法はＪＩＳＸ6221またはＸ6223で定められてい
るので変更することはできない。
ルの肉厚を左右対称にすればよい。しかし，シャッタ摺
動部の寸法はＪＩＳＸ6221またはＸ6223で定められてい
るので変更することはできない。
【００１８】シェルの肉厚に差を付けて樹脂の流れに対
し抵抗部を設けて樹脂流動を制御するという提案がある
（特開平１−２１７７８）。これは，充填終了部近傍に
おいて樹脂の流れが製品の外壁部近傍から回り込んでし
まい，この囲まれた部分の肉厚が不安定になったり，穴
が開いたりしてしまう不良を解決するため，樹脂流動に
対する抵抗部を樹脂充填の終了部近傍に設けるものであ
る。しかし，これはシェル全体への樹脂充填を制御する
ものではなく，シャッタの摺動範囲を規定する凹部の存
在に起因する樹脂充填の左右のアンバランスを解決する
ものではない。
し抵抗部を設けて樹脂流動を制御するという提案がある
（特開平１−２１７７８）。これは，充填終了部近傍に
おいて樹脂の流れが製品の外壁部近傍から回り込んでし
まい，この囲まれた部分の肉厚が不安定になったり，穴
が開いたりしてしまう不良を解決するため，樹脂流動に
対する抵抗部を樹脂充填の終了部近傍に設けるものであ
る。しかし，これはシェル全体への樹脂充填を制御する
ものではなく，シャッタの摺動範囲を規定する凹部の存
在に起因する樹脂充填の左右のアンバランスを解決する
ものではない。
【００１９】
【発明の開示】この発明は，シャッタ摺動部の肉厚の左
右非対称から生じる樹脂流動のアンバランスを解消し，
射出成形時の樹脂流動に偏りのないまたは少ない形状を
もつディスク・カートリッジおよびその製造方法を提供
することを目的とする。
右非対称から生じる樹脂流動のアンバランスを解消し，
射出成形時の樹脂流動に偏りのないまたは少ない形状を
もつディスク・カートリッジおよびその製造方法を提供
することを目的とする。
【００２０】この発明は，回転記録媒体を回転自在に収
容する上，下シェルから構成され，これらのシェルに形
成された書込／読出窓を開閉する摺動自在なシャッタを
配置するために上記シェルの外面にシャッタ用凹部が形
成され，このシャッタ用凹部の中心が上記シェルの左右
の中心線からずれて位置しているディスク・カートリッ
ジにおいて，上記上，下シェルの少なくともいずれか一
方において，上記中心線の左側半分または右側半分のう
ち上記シャッタ用凹部の面積が大きい方に肉厚を対称化
するための凸部，または上記シャッタ用凹部の面積が小
さい方に肉厚を対称化するための凹部の少なくともいず
れか一方が形成されていることを特徴とする。
容する上，下シェルから構成され，これらのシェルに形
成された書込／読出窓を開閉する摺動自在なシャッタを
配置するために上記シェルの外面にシャッタ用凹部が形
成され，このシャッタ用凹部の中心が上記シェルの左右
の中心線からずれて位置しているディスク・カートリッ
ジにおいて，上記上，下シェルの少なくともいずれか一
方において，上記中心線の左側半分または右側半分のう
ち上記シャッタ用凹部の面積が大きい方に肉厚を対称化
するための凸部，または上記シャッタ用凹部の面積が小
さい方に肉厚を対称化するための凹部の少なくともいず
れか一方が形成されていることを特徴とする。
【００２１】上記凸部または凹部は一般には上記シェル
の内面に形成される。
の内面に形成される。
【００２２】この発明の一実施態様では上記凸部または
凹部は上記シャッタ用凹部に相当する領域の一部，また
はその近傍に相当する領域に設けられる。
凹部は上記シャッタ用凹部に相当する領域の一部，また
はその近傍に相当する領域に設けられる。
【００２３】この発明の他の実施態様では，上記シェル
内面の上記シャッタ用凹部に相当する領域の全体に上記
凸部が形成される。
内面の上記シャッタ用凹部に相当する領域の全体に上記
凸部が形成される。
【００２４】この発明のさらに他の実施態様では，上記
シェル内面の上記シャッタ用凹部に相当する領域以外の
領域の少なくとも一部または全部に上記凹部が形成され
る。
シェル内面の上記シャッタ用凹部に相当する領域以外の
領域の少なくとも一部または全部に上記凹部が形成され
る。
【００２５】上，下のシェルの一方には回転記録媒体を
回転させるためのモータのスピンドルが進入する中心孔
があけられている。この中心孔の存在により充填される
樹脂のアンバランスが生じやすい。そこで，回転記録媒
体を回転させるための中心孔が形成されたシェルに上記
凸部または凹部を形成することが好ましい。
回転させるためのモータのスピンドルが進入する中心孔
があけられている。この中心孔の存在により充填される
樹脂のアンバランスが生じやすい。そこで，回転記録媒
体を回転させるための中心孔が形成されたシェルに上記
凸部または凹部を形成することが好ましい。
【００２６】この発明によるディスク・カートリッジの
製造方法は，上述したシェルの形状に相当する形状をも
つキャビティが形成され，かつ上記シャッタ用凹部の位
置に左右対称にゲートが設けられた成形金型を用いて，
射出成形によりディスク・カートリッジのシェルを成形
するものである。
製造方法は，上述したシェルの形状に相当する形状をも
つキャビティが形成され，かつ上記シャッタ用凹部の位
置に左右対称にゲートが設けられた成形金型を用いて，
射出成形によりディスク・カートリッジのシェルを成形
するものである。
【００２７】この発明によると，ディスク・カートリッ
ジを構成するシェルに形成されたシャッタ用凹部に起因
する肉厚の偏りを，シェルに凸部または凹部を形成する
ことにより補償し，肉厚の左右非対称性を解消してい
る。したがって，シェルを射出成形するときに左右のゲ
ートから注入される樹脂が左右バランスよく，キャビテ
ィの末端まで充填され，製品の品質を高めることができ
る。すなわち，樹脂未充填による穴開き等の不良や，左
右の樹脂の充填密度の違いによるシェルの反り等の不良
が回避される。
ジを構成するシェルに形成されたシャッタ用凹部に起因
する肉厚の偏りを，シェルに凸部または凹部を形成する
ことにより補償し，肉厚の左右非対称性を解消してい
る。したがって，シェルを射出成形するときに左右のゲ
ートから注入される樹脂が左右バランスよく，キャビテ
ィの末端まで充填され，製品の品質を高めることができ
る。すなわち，樹脂未充填による穴開き等の不良や，左
右の樹脂の充填密度の違いによるシェルの反り等の不良
が回避される。
【００２８】この発明は，フレキシブル・ディスク・カ
ートリッジに限定されるものではない。光ディスク・カ
ートリッジや光−磁気ディスク・カートリッジ等の他の
ディスク・カートリッジにも適用可能である。
ートリッジに限定されるものではない。光ディスク・カ
ートリッジや光−磁気ディスク・カートリッジ等の他の
ディスク・カートリッジにも適用可能である。
【００２９】
【実施例】実施例の説明のための図１〜図13において，
図14〜図18に示すものと同一物には同一符号を付し，重
複説明を避ける。上述した従来例と異なる点に焦点をあ
てて説明する。
図14〜図18に示すものと同一物には同一符号を付し，重
複説明を避ける。上述した従来例と異なる点に焦点をあ
てて説明する。
【００３０】第１実施例 図１(A) は，第１実施例の上シェルを内側から見た平面
図，図１(B) は，図１(A) のＩ−Ｉ線にそう断面端面図
である。図２(A) は，第１実施例の下シェルを内側から
見た平面図，図２(B) は，図２(A) のII−II線にそう断
面端面図である。
図，図１(B) は，図１(A) のＩ−Ｉ線にそう断面端面図
である。図２(A) は，第１実施例の下シェルを内側から
見た平面図，図２(B) は，図２(A) のII−II線にそう断
面端面図である。
【００３１】上，下シェル１Ａおよび１Ｂにおいて，シ
ャッタ３の摺動範囲を規定する凹部５ａ，５ｂの形状，
大きさ，位置は従来と同じである。
ャッタ３の摺動範囲を規定する凹部５ａ，５ｂの形状，
大きさ，位置は従来と同じである。
【００３２】図１(A) ，(B) の上シェル１Ａの内面にお
いて，凹部５ａの左側部分に相当する位置に凸部21ａ
（肉盛り部，肉厚部）が，凹部５ａの右側部分の外側に
相当する位置に凹部20ａ（肉薄部）がそれぞれ形成され
ている。これらの凸部21ａ，凹部20ａは図１(A) ではハ
ッチングで示されている。これらの凸部21ａの面積およ
び高さは，凹部20ａの面積および深さと同じである。凹
部５ａおよびその近傍において，中心線Ｃの左側と右側
とにおいて，シェル１Ａ部分の体積がほぼ同程度になる
ように凸部21ａと凹部20ａの大きさが定められる。これ
により，上シェル１Ａにおける肉厚の左右対称性が確保
される。
いて，凹部５ａの左側部分に相当する位置に凸部21ａ
（肉盛り部，肉厚部）が，凹部５ａの右側部分の外側に
相当する位置に凹部20ａ（肉薄部）がそれぞれ形成され
ている。これらの凸部21ａ，凹部20ａは図１(A) ではハ
ッチングで示されている。これらの凸部21ａの面積およ
び高さは，凹部20ａの面積および深さと同じである。凹
部５ａおよびその近傍において，中心線Ｃの左側と右側
とにおいて，シェル１Ａ部分の体積がほぼ同程度になる
ように凸部21ａと凹部20ａの大きさが定められる。これ
により，上シェル１Ａにおける肉厚の左右対称性が確保
される。
【００３３】図２(A) ，(B) においても同じように，下
シェル１Ｂの内面において，凹部５ｂの左側部分の外側
に相当する位置に凹部20ｂが，凹部５ｂの右側部分に相
当する位置に凸部21ｂがそれぞれ形成されている（図２
(A) にハッチングで示す）。これにより，下シェル１Ｂ
における肉厚の左右対称性が確保される。
シェル１Ｂの内面において，凹部５ｂの左側部分の外側
に相当する位置に凹部20ｂが，凹部５ｂの右側部分に相
当する位置に凸部21ｂがそれぞれ形成されている（図２
(A) にハッチングで示す）。これにより，下シェル１Ｂ
における肉厚の左右対称性が確保される。
【００３４】図３は第１実施例の上シェルについて，図
４は第１実施例による下シェルについて，２つのゲート
６に溶融樹脂を注入したときのキャビティ内の樹脂流動
をシミュレーションした結果をそれぞれ示すものであ
る。
４は第１実施例による下シェルについて，２つのゲート
６に溶融樹脂を注入したときのキャビティ内の樹脂流動
をシミュレーションした結果をそれぞれ示すものであ
る。
【００３５】第１実施例による上，下シェルは肉厚の対
称性が確保されているので，２つのゲートから溶融樹脂
がバランスよくほぼ左右対称に流れ込んでおり，ウエル
ド・ラインＷＬはほぼ中央線上に形成されている。下シ
ェルは中央に孔12があるためか，従来の下シェルにおい
ては樹脂流動の偏りがかなり大きいので（図18を参
照），樹脂流動のバランスがかなりよく改善されてい
る。
称性が確保されているので，２つのゲートから溶融樹脂
がバランスよくほぼ左右対称に流れ込んでおり，ウエル
ド・ラインＷＬはほぼ中央線上に形成されている。下シ
ェルは中央に孔12があるためか，従来の下シェルにおい
ては樹脂流動の偏りがかなり大きいので（図18を参
照），樹脂流動のバランスがかなりよく改善されてい
る。
【００３６】シェル内面に凸部や凹部が形成されてお
り，シェルの外面に変化はない。ＪＩＳＸ6221またはＪ
ＩＳＸ6223で定められているシャッタ摺動用凹部５ａ，
５ｂの寸法は全く変更されていない。また，磁気ディス
ク２は上，下シェル１Ａ，１Ｂの内面に直接に接触して
回転するわけではないので，内面の形状の変更が磁気デ
ィスクに悪影響を与えることもない。
り，シェルの外面に変化はない。ＪＩＳＸ6221またはＪ
ＩＳＸ6223で定められているシャッタ摺動用凹部５ａ，
５ｂの寸法は全く変更されていない。また，磁気ディス
ク２は上，下シェル１Ａ，１Ｂの内面に直接に接触して
回転するわけではないので，内面の形状の変更が磁気デ
ィスクに悪影響を与えることもない。
【００３７】第２実施例 図５(A) は，第２実施例の上シェルを内側から見た平面
図，図５(B) は，図５(A) のＶ−Ｖ線にそう断面端面図
である。図６(A) は，第２実施例の下シェルを内側から
見た平面図，図６(B) は，図６(A) のVI−VI線にそう断
面端面図である。
図，図５(B) は，図５(A) のＶ−Ｖ線にそう断面端面図
である。図６(A) は，第２実施例の下シェルを内側から
見た平面図，図６(B) は，図６(A) のVI−VI線にそう断
面端面図である。
【００３８】上シェル１Ａの内面において，凹部５ａの
右側部分の外側に相当する位置に凹部22ａが（図５(A)
にハッチングで示す），下シェル１Ｂの内面において，
凹部５ｂの左側部分の外側に相当する位置に凹部22ｂが
それぞれ形成されることにより，中心線Ｃの左右におけ
る肉厚の対称性が確保されている。これにより射出成形
時の樹脂流動の偏りがなくなり，ウエルド・ラインがシ
ェルの中心線Ｃ付近に形成されることになる。
右側部分の外側に相当する位置に凹部22ａが（図５(A)
にハッチングで示す），下シェル１Ｂの内面において，
凹部５ｂの左側部分の外側に相当する位置に凹部22ｂが
それぞれ形成されることにより，中心線Ｃの左右におけ
る肉厚の対称性が確保されている。これにより射出成形
時の樹脂流動の偏りがなくなり，ウエルド・ラインがシ
ェルの中心線Ｃ付近に形成されることになる。
【００３９】第３実施例 図７(A) は，第３実施例の上シェルを内側から見た平面
図，図７(B) は，図７(A) のVII −VII 線にそう断面端
面図である。図８(A) は，第３実施例の下シェルを内側
から見た平面図，図８(B) は，図８(A) のVIII−VIII線
にそう断面端面図である。
図，図７(B) は，図７(A) のVII −VII 線にそう断面端
面図である。図８(A) は，第３実施例の下シェルを内側
から見た平面図，図８(B) は，図８(A) のVIII−VIII線
にそう断面端面図である。
【００４０】上シェル１Ａの内面において，凹部５ａの
左側部分に相当する位置に凸部23ａが，下シェル１Ｂの
内面において凹部５ｂの右側部分に相当する位置に凸部
23ｂがそれぞれ形成され，肉厚の対称性が実現されてい
る。このような構成によっても樹脂流動の左右のバラン
スをとることができる。
左側部分に相当する位置に凸部23ａが，下シェル１Ｂの
内面において凹部５ｂの右側部分に相当する位置に凸部
23ｂがそれぞれ形成され，肉厚の対称性が実現されてい
る。このような構成によっても樹脂流動の左右のバラン
スをとることができる。
【００４１】第４実施例 図９(A) は，第４実施例の上シェルを内側から見た平面
図，図９(B) は，図９(A) のIX−IX線にそう断面端面図
である。図10(A) は，第４実施例の下シェルを内側から
見た平面図，図10(B) は，図10(A) のＸ−Ｘ線にそう断
面端面図である。
図，図９(B) は，図９(A) のIX−IX線にそう断面端面図
である。図10(A) は，第４実施例の下シェルを内側から
見た平面図，図10(B) は，図10(A) のＸ−Ｘ線にそう断
面端面図である。
【００４２】上，下シェル１Ａ，１Ｂの内面において，
凹部５ａ，５ｂに相当する領域の全体にわたって凸部24
ａ，24ｂがそれぞれ形成されている。この部分の肉厚
は，シェル１Ａ，１Ｂの凹部５ａ，５ｂ以外の部分の肉
厚とほぼ等しい。これによって，上，下シェル１Ａ，１
Ｂの全体にわたってほぼ等しい肉厚となるので，肉厚は
中心線Ｃの左右で対称となる。
凹部５ａ，５ｂに相当する領域の全体にわたって凸部24
ａ，24ｂがそれぞれ形成されている。この部分の肉厚
は，シェル１Ａ，１Ｂの凹部５ａ，５ｂ以外の部分の肉
厚とほぼ等しい。これによって，上，下シェル１Ａ，１
Ｂの全体にわたってほぼ等しい肉厚となるので，肉厚は
中心線Ｃの左右で対称となる。
【００４３】第５実施例 第５実施例もまた，シェルの全体の肉厚を均一にしよう
と意図するものである。
と意図するものである。
【００４４】図11(A) は，第５実施例の上シェルを内側
から見た平面図，図11(B) は，図11(A) のXI−XI線にそ
う断面端面図である。図12(A) は，第５実施例の下シェ
ルを内側から見た平面図，図12(B) は，図12(A) のXII
−XII 線にそう断面端面図である。
から見た平面図，図11(B) は，図11(A) のXI−XI線にそ
う断面端面図である。図12(A) は，第５実施例の下シェ
ルを内側から見た平面図，図12(B) は，図12(A) のXII
−XII 線にそう断面端面図である。
【００４５】上，下シェル１Ａ，１Ｂの内面おいて，シ
ャッタ３の摺動範囲を規定する凹部５ａ，５ｂに相当す
る領域以外の領域において，凹部25ａ，25ｂが形成され
ている。シェル１Ａ，１Ｂの肉厚は，すべての部分にお
いてほぼ均一である。
ャッタ３の摺動範囲を規定する凹部５ａ，５ｂに相当す
る領域以外の領域において，凹部25ａ，25ｂが形成され
ている。シェル１Ａ，１Ｂの肉厚は，すべての部分にお
いてほぼ均一である。
【００４６】第６実施例 図13(A) は，第６実施例の下シェルを内側から見た平面
図，図13(B) は，図13(A) のXIII−XIII線にそう断面端
面図，図13(C) は，図13(A) のXIV −XIV 線にそう断面
端面図である。
図，図13(B) は，図13(A) のXIII−XIII線にそう断面端
面図，図13(C) は，図13(A) のXIV −XIV 線にそう断面
端面図である。
【００４７】第６実施例は，この発明のより実現に適し
た実施例である。上述したシミュレーションの結果によ
ると，上シェルの樹脂流動の偏りは下シェルの樹脂流動
の偏りに比してかなり小さいので，下シェルについての
み肉厚分布の対称性が追求されている。
た実施例である。上述したシミュレーションの結果によ
ると，上シェルの樹脂流動の偏りは下シェルの樹脂流動
の偏りに比してかなり小さいので，下シェルについての
み肉厚分布の対称性が追求されている。
【００４８】第６実施例では，下シェル１Ｂにおいてシ
ャッタ摺動領域を規定する凹部５ｂの内面，中央孔12の
近傍，およびラベル張付け用凹部７ｂの内面を除く下シ
ェル内面の全体にわたって凹部26が形成されている。
ャッタ摺動領域を規定する凹部５ｂの内面，中央孔12の
近傍，およびラベル張付け用凹部７ｂの内面を除く下シ
ェル内面の全体にわたって凹部26が形成されている。
【００４９】シャッタ摺動用凹部５ｂおよびラベル張付
け用凹部７ｂは凹状で肉薄になっているため，さらに肉
を削り取ると強度が低下する可能性があるので，これら
の領域には凹部は形成されていない。また，上記領域を
除く全体から肉を削り取ることによって，下シェルの軽
量化が図られている。
け用凹部７ｂは凹状で肉薄になっているため，さらに肉
を削り取ると強度が低下する可能性があるので，これら
の領域には凹部は形成されていない。また，上記領域を
除く全体から肉を削り取ることによって，下シェルの軽
量化が図られている。
【００５０】上，下シェルを超音波溶着する際磁気ディ
スクが振動して窓４ｂの縁にぶつかり傷付くことを防止
するために，窓４ｂの周縁が内側に向けて斜めに形成さ
れている。また，左右に２本ずつ平行に並んだリブ27
（凸条）が，窓４ｂの両側に形成されている。このリブ
27は上シェルの同じ位置にも形成され，回転する磁気デ
ィスク２を上下から挟むように配置されている。これら
のリブは窓４ｂから埃等が入り込むのを防ぐとともに，
磁気ディスクに付着した埃等を取り除くためのものであ
る。
スクが振動して窓４ｂの縁にぶつかり傷付くことを防止
するために，窓４ｂの周縁が内側に向けて斜めに形成さ
れている。また，左右に２本ずつ平行に並んだリブ27
（凸条）が，窓４ｂの両側に形成されている。このリブ
27は上シェルの同じ位置にも形成され，回転する磁気デ
ィスク２を上下から挟むように配置されている。これら
のリブは窓４ｂから埃等が入り込むのを防ぐとともに，
磁気ディスクに付着した埃等を取り除くためのものであ
る。
【００５１】上述した実施例の中から，任意の上シェル
と下シェルとを選択して，適宜組合わせることによりＦ
ＤＣを構成することが可能である。また，上シェルにお
ける樹脂流動の偏りが比較的小さいので，下シェルにつ
いてのみ凹部や凸部を形成して形成して肉厚分布の左右
対称化を図るようにしてもよい。
と下シェルとを選択して，適宜組合わせることによりＦ
ＤＣを構成することが可能である。また，上シェルにお
ける樹脂流動の偏りが比較的小さいので，下シェルにつ
いてのみ凹部や凸部を形成して形成して肉厚分布の左右
対称化を図るようにしてもよい。
【００５２】上述した実施例では，溶融樹脂注入のため
のゲートがシャッタ摺動用凹部に２点設けられた場合に
ついて説明されている。ゲートがラベル張付け用凹部に
２点設けられているシェルや，これらの双方に４点設け
られているシェル場合についてもこの発明は適用でき
る。
のゲートがシャッタ摺動用凹部に２点設けられた場合に
ついて説明されている。ゲートがラベル張付け用凹部に
２点設けられているシェルや，これらの双方に４点設け
られているシェル場合についてもこの発明は適用でき
る。
【００５３】上述した上，下シェルは射出成形により製
造される。この射出成形において用いられる成形金型の
キャビティの形状は図１，２，図５〜図13に示すシェル
と相似（ほぼ同一）に形成される。ゲートは凹部５ａ，
５ｂまたは凹部７ａ，７ｂに相当する位置に設けられ
る。このような成形金型を用いて射出成形することによ
り，上記実施例のシェルが得られる。
造される。この射出成形において用いられる成形金型の
キャビティの形状は図１，２，図５〜図13に示すシェル
と相似（ほぼ同一）に形成される。ゲートは凹部５ａ，
５ｂまたは凹部７ａ，７ｂに相当する位置に設けられ
る。このような成形金型を用いて射出成形することによ
り，上記実施例のシェルが得られる。
【図１】第１実施例による上シェルを示すもので，(A)
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のＩ−Ｉ
線にそう断面端面図である。
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のＩ−Ｉ
線にそう断面端面図である。
【図２】第１実施例による下シェルを示すもので，(A)
は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のII−II
線にそう断面端面図である。
は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のII−II
線にそう断面端面図である。
【図３】図１に示す上シェルを形成する金型のキャビテ
ィのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流動のシミ
ュレーション結果を示す。
ィのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流動のシミ
ュレーション結果を示す。
【図４】図２に示す下シェルを形成する金型のキャビテ
ィのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流動のシミ
ュレーション結果を示す。
ィのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流動のシミ
ュレーション結果を示す。
【図５】第２実施例による上シェルを示すもので，(A)
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のＶ−Ｖ
線にそう断面端面図である。
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のＶ−Ｖ
線にそう断面端面図である。
【図６】第２実施例による下シェルを示すもので，(A)
は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のVI−VI
線にそう断面端面図である。
は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のVI−VI
線にそう断面端面図である。
【図７】第３実施例による上シェルを示すもので，(A)
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のVII −
VII 線にそう断面端面図である。
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のVII −
VII 線にそう断面端面図である。
【図８】第３実施例による下シェルを示すもので，(A)
は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のVIII−
VIII線にそう断面端面図である。
は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のVIII−
VIII線にそう断面端面図である。
【図９】第４実施例による上シェルを示すもので，(A)
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のIX−IX
線にそう断面端面図である。
は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のIX−IX
線にそう断面端面図である。
【図１０】第４実施例による下シェルを示すもので，
(A) は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のＸ
−Ｘ線にそう断面端面図である。
(A) は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のＸ
−Ｘ線にそう断面端面図である。
【図１１】第５実施例による上シェルを示すもので，
(A) は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のXI
−XI線にそう断面端面図である。
(A) は上シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のXI
−XI線にそう断面端面図である。
【図１２】第５実施例による下シェルを示すもので，
(A) は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のXI
I −XII 線にそう断面端面図である。
(A) は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のXI
I −XII 線にそう断面端面図である。
【図１３】第６実施例による下シェルを示すもので，
(A) は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のXI
II−XIII線にそう断面端面図，(C) は(A) のXIV −XIV
線にそう断面端面図である。
(A) は下シェルを内側から見た平面図，(B) は(A) のXI
II−XIII線にそう断面端面図，(C) は(A) のXIV −XIV
線にそう断面端面図である。
【図１４】従来のディスク・カートリッジの分解斜視図
である。
である。
【図１５】従来のディスク・カートリッジの上シェルを
示すもので，(A) は上シェルを内側から見た平面図，
(B) は(A) のXV−XV線にそう断面端面図である。
示すもので，(A) は上シェルを内側から見た平面図，
(B) は(A) のXV−XV線にそう断面端面図である。
【図１６】従来のディスク・カートリッジの下シェルを
示すもので，(A) は下シェルを内側から見た平面図，
(B) は(A) のXVI −XVI 線にそう断面端面図である。
示すもので，(A) は下シェルを内側から見た平面図，
(B) は(A) のXVI −XVI 線にそう断面端面図である。
【図１７】図15に示す従来の上シェルを成形する金型の
キャビティのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流
動のシミュレーション結果を示す。
キャビティのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流
動のシミュレーション結果を示す。
【図１８】図16に示す従来の下シェルを成形する金型の
キャビティのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流
動のシミュレーション結果を示す。
キャビティのゲートに溶融樹脂を注入したときの樹脂流
動のシミュレーション結果を示す。
１ａ，１ｂ シェル ２ 磁気ディスク ３ シャッタ ４ａ，４ｂ ヘッド・ウィンドウ ５ａ，５ｂ シャッタ摺動部 ６ ゲート（跡） 20ａ，20ｂ 肉削り部 21ａ，21ｂ 肉盛り部 Ｃ 中心線
Claims (6)
- 【請求項１】 回転記録媒体を回転自在に収容する上，
下シェルから構成され，これらのシェルに形成された書
込／読出窓を開閉する摺動自在なシャッタを配置するた
めに上記シェルの外面にシャッタ用凹部が形成され，こ
のシャッタ用凹部の中心が上記シェルの左右の中心線か
らずれて位置しているディスク・カートリッジにおい
て，上記上，下シェルの少なくともいずれか一方におい
て，上記中心線の左側半分または右側半分のうち上記シ
ャッタ用凹部の面積が大きい方に肉厚を対称化するため
の凸部，または上記シャッタ用凹部の面積が小さい方に
肉厚を対称化するための凹部の少なくともいずれか一方
が形成されている，ディスク・カートリッジ。 - 【請求項２】 上記凸部または凹部が上記シェルの内面
に形成されている請求項１に記載のディスク・カートリ
ッジ。 - 【請求項３】 上記シェル内面の上記シャッタ用凹部に
相当する領域の全体に上記凸部が形成されている請求項
１に記載のディスク・カートリッジ。 - 【請求項４】 上記シェル内面の上記シャッタ用凹部に
相当する領域以外の領域の少なくとも一部に上記凹部が
形成されている，請求項１に記載のディスク・カートリ
ッジ。 - 【請求項５】 上記回転記録媒体を回転させるための中
心孔が形成されたシェルに上記凸部または凹部が形成さ
れている，請求項１から４のいずれか一項に記載のディ
スク・カートリッジ。 - 【請求項６】 請求項１から５のいずれか一項に記載の
ディスク・カートリッジを構成するシェルの形状に相当
する形状をもつキャビティが形成され，かつ上記シャッ
タ用凹部の位置に左右対称にゲートが設けられた成形金
型を用いて，射出成形によりディスク・カートリッジの
シェルを成形する製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6046554A JP2614590B2 (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ディスク・カートリッジおよびその製造方法 |
| US08/392,154 US5631791A (en) | 1994-02-22 | 1995-02-22 | Disk cartridge and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6046554A JP2614590B2 (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ディスク・カートリッジおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07235164A true JPH07235164A (ja) | 1995-09-05 |
| JP2614590B2 JP2614590B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=12750548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6046554A Expired - Lifetime JP2614590B2 (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ディスク・カートリッジおよびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5631791A (ja) |
| JP (1) | JP2614590B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7103898B2 (en) * | 2001-06-29 | 2006-09-05 | Sony Corporation | Method for producing inner shell for a disc cartridge |
| US7284254B2 (en) * | 2001-09-21 | 2007-10-16 | Sony Corporation | Disk cartridge and disk recording medium device having shutter members |
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| US5748420A (en) * | 1996-11-19 | 1998-05-05 | Swan Instruments, Inc. | Ultra-high capacity removable media cartridge configured to prevent insertion in a conventional floppy disk drive |
| JPH10162468A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Sony Corp | ディスクカートリッジ |
| JPH10320955A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Sony Corp | ディスクカートリッジ |
| JP4124384B2 (ja) * | 1998-05-15 | 2008-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープカートリッジ |
| JP2001297555A (ja) * | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Sony Corp | ディスクカートリッジとシャッターおよびその製造方法と製造装置。 |
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Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2659385B2 (ja) * | 1988-02-25 | 1997-09-30 | 日立マクセル株式会社 | デイスクカートリツジ |
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| JPH0283876A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-23 | Hitachi Maxell Ltd | デイスクカートリツジ |
| JP3279595B2 (ja) * | 1991-08-30 | 2002-04-30 | ソニー株式会社 | ディスクカートリッジのリフター及びディスクカートリッジ |
| EP0568061A3 (en) * | 1992-05-01 | 1994-08-17 | Minnesota Mining & Mfg | Cassette base with triangular strengthening braces |
-
1994
- 1994-02-22 JP JP6046554A patent/JP2614590B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-02-22 US US08/392,154 patent/US5631791A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2614590B2 (ja) | 1997-05-28 |
| US5631791A (en) | 1997-05-20 |
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