JPH07261013A - カラーフィルタ製造方法およびｔｆｔ回路製造方法 - Google Patents
カラーフィルタ製造方法およびｔｆｔ回路製造方法Info
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- JPH07261013A JPH07261013A JP4877694A JP4877694A JPH07261013A JP H07261013 A JPH07261013 A JP H07261013A JP 4877694 A JP4877694 A JP 4877694A JP 4877694 A JP4877694 A JP 4877694A JP H07261013 A JPH07261013 A JP H07261013A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラーフィルタ、ＴＦＴ回路をフォトリソグ
ラフ法により製造する場合において、現像むらの発生を
防止する。 【構成】 現像部２と洗浄部４との間にニュートラル部
３を設け、ニュートラル部３においてエアーナイフ部３
ａにより残留する現像液切り処理を行ない、ガラス基板
の少なくとも一部が乾燥する前に純水シャワー３ｂによ
り純水を散布し、ガラス基板を乾燥させることなく水洗
部４に搬送する。
ラフ法により製造する場合において、現像むらの発生を
防止する。 【構成】 現像部２と洗浄部４との間にニュートラル部
３を設け、ニュートラル部３においてエアーナイフ部３
ａにより残留する現像液切り処理を行ない、ガラス基板
の少なくとも一部が乾燥する前に純水シャワー３ｂによ
り純水を散布し、ガラス基板を乾燥させることなく水洗
部４に搬送する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はカラーフィルタ製造方
法およびＴＦＴ回路製造方法に関し、さらに詳細にいえ
ば、フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にカラー
フィルタを製造する方法およびフォトリソグラフ法を用
いてガラス基板上にＴＦＴ回路を製造する方法に関す
る。
法およびＴＦＴ回路製造方法に関し、さらに詳細にいえ
ば、フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にカラー
フィルタを製造する方法およびフォトリソグラフ法を用
いてガラス基板上にＴＦＴ回路を製造する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ガラス基板上にＬＣＤ（液晶
ディスプレイ）用のカラーフィルタ、またはＴＦＴ回路
を製造するに当って、微細加工のためにフォトリソグラ
フ法を採用することがある。フォトリソグラフ法は、微
細加工を行なう場合に好適な方法の１つであり、ガラス
基板上に感光性レジストを塗布し、微細加工パターンに
適合するマスクを用いて露光処理を行なった後に現像処
理を行ない、次いで、残った感光性レジストを除去する
ことにより、ガラス基板上にマスクパターンを形成する
方法である。
ディスプレイ）用のカラーフィルタ、またはＴＦＴ回路
を製造するに当って、微細加工のためにフォトリソグラ
フ法を採用することがある。フォトリソグラフ法は、微
細加工を行なう場合に好適な方法の１つであり、ガラス
基板上に感光性レジストを塗布し、微細加工パターンに
適合するマスクを用いて露光処理を行なった後に現像処
理を行ない、次いで、残った感光性レジストを除去する
ことにより、ガラス基板上にマスクパターンを形成する
方法である。
【０００３】そして、上記現像処理は、露光処理が施さ
れたガラス基板を現像液に浸漬するとともに、必要に応
じて現像液を散布（シャワー）する第１工程と、ガラス
基板の表面に残留する現像液を低減するためにエアーナ
イフ処理（エアーによりガラス基板の表面の現像液の大
半を第１工程に戻し、または回収する処理）を行なう第
２工程と、ガラス基板に対して何らの処理を行なうこと
なく搬送のみを行なう第３工程と、ガラス基板を水洗処
理して表面に残留する現像液を排除する第４工程とから
構成されている。
れたガラス基板を現像液に浸漬するとともに、必要に応
じて現像液を散布（シャワー）する第１工程と、ガラス
基板の表面に残留する現像液を低減するためにエアーナ
イフ処理（エアーによりガラス基板の表面の現像液の大
半を第１工程に戻し、または回収する処理）を行なう第
２工程と、ガラス基板に対して何らの処理を行なうこと
なく搬送のみを行なう第３工程と、ガラス基板を水洗処
理して表面に残留する現像液を排除する第４工程とから
構成されている。
【０００４】したがって、ガラス基板の表面の残留する
現像液の大半をエアーナイフ処理により排除して、現像
液の残留量が少なくなったガラス基板に対して洗浄処理
を行なうとともに、エアーナイフ処理以前の工程におい
て排除された現像液が水洗工程に混入するおそれを効果
的に防止することにより、良好な現像処理を達成するこ
とができるように思われる。
現像液の大半をエアーナイフ処理により排除して、現像
液の残留量が少なくなったガラス基板に対して洗浄処理
を行なうとともに、エアーナイフ処理以前の工程におい
て排除された現像液が水洗工程に混入するおそれを効果
的に防止することにより、良好な現像処理を達成するこ
とができるように思われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の現像方
法を採用した場合には、エアーナイフ処理が行なわれた
後、水洗処理が行なわれるまでの間に、ガラス基板の搬
送のみを行なうかなり長い第３工程が介在させられてい
るのであるから、水洗処理を開始する時点において、ガ
ラス基板が部分的に乾燥してしまい、部分的な乾燥の影
響を受けて水洗処理にむらが生じ、ひいては現像むらが
生じてしまうという不都合がある。
法を採用した場合には、エアーナイフ処理が行なわれた
後、水洗処理が行なわれるまでの間に、ガラス基板の搬
送のみを行なうかなり長い第３工程が介在させられてい
るのであるから、水洗処理を開始する時点において、ガ
ラス基板が部分的に乾燥してしまい、部分的な乾燥の影
響を受けて水洗処理にむらが生じ、ひいては現像むらが
生じてしまうという不都合がある。
【０００６】そして、現像むらが生じると、所期の微細
加工を達成することができなくなってしまう。また、以
上には現像処理についてのみ説明したが、ウェットエッ
チング処理のように、処理液を用いて所定の処理を行な
った後に、処理液を洗い流す場合には同様の不都合が生
じてしまう。
加工を達成することができなくなってしまう。また、以
上には現像処理についてのみ説明したが、ウェットエッ
チング処理のように、処理液を用いて所定の処理を行な
った後に、処理液を洗い流す場合には同様の不都合が生
じてしまう。
【０００７】
【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、処理液を用いる処理のむらの発生を防止
し、高品質のカラーフィルタ、ＴＦＴ回路を製造するこ
とができるカラーフィルタ製造方法およびＴＦＴ回路製
造方法を提供することを目的としている。
たものであり、処理液を用いる処理のむらの発生を防止
し、高品質のカラーフィルタ、ＴＦＴ回路を製造するこ
とができるカラーフィルタ製造方法およびＴＦＴ回路製
造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１のカラーフィル
タ製造方法は、処理液を用いてガラス基板上の膜に対す
る処理を行なう膜処理部と、膜処理部において付着した
処理液を洗い流す洗浄部との間に接続部を設け、該接続
部において、処理液切りの後、ガラス基板の少なくとも
一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付与する
方法である。ここで、付与される液体としては、処理液
と反応しない液体であれば、種々の液体を採用すること
ができる。
タ製造方法は、処理液を用いてガラス基板上の膜に対す
る処理を行なう膜処理部と、膜処理部において付着した
処理液を洗い流す洗浄部との間に接続部を設け、該接続
部において、処理液切りの後、ガラス基板の少なくとも
一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付与する
方法である。ここで、付与される液体としては、処理液
と反応しない液体であれば、種々の液体を採用すること
ができる。
【０００９】請求項２のカラーフィルタ製造方法は、膜
処理部として、現像液を用いてガラス基板上の感光性レ
ジストを現像するものを採用する方法である。請求項３
のカラーフィルタ製造方法は、現像液切りの後、３秒以
内に、洗浄あるいは乾燥防止のためにガラス基板に対し
て液体を付与する方法である。請求項４のカラーフィル
タ製造方法は、接続部においてガラス基板に対して付与
される液体として純水または濾過水を採用する方法であ
る。
処理部として、現像液を用いてガラス基板上の感光性レ
ジストを現像するものを採用する方法である。請求項３
のカラーフィルタ製造方法は、現像液切りの後、３秒以
内に、洗浄あるいは乾燥防止のためにガラス基板に対し
て液体を付与する方法である。請求項４のカラーフィル
タ製造方法は、接続部においてガラス基板に対して付与
される液体として純水または濾過水を採用する方法であ
る。
【００１０】請求項５のＴＦＴ回路製造方法は、処理液
を用いてガラス基板上の膜に対する処理を行なう膜処理
部と、膜処理部において付着した処理液を洗い流す洗浄
部との間に接続部を設け、該接続部において、処理液切
りの後、ガラス基板の少なくとも一部が乾燥する前にガ
ラス基板に対して液体を付与する方法である。ここで、
付与される液体としては、処理液と反応しない液体であ
れば、種々の液体を採用することができる。
を用いてガラス基板上の膜に対する処理を行なう膜処理
部と、膜処理部において付着した処理液を洗い流す洗浄
部との間に接続部を設け、該接続部において、処理液切
りの後、ガラス基板の少なくとも一部が乾燥する前にガ
ラス基板に対して液体を付与する方法である。ここで、
付与される液体としては、処理液と反応しない液体であ
れば、種々の液体を採用することができる。
【００１１】請求項６のＴＦＴ回路製造方法は、膜処理
部として、現像液を用いてガラス基板上の感光性レジス
トを現像するものを採用する方法である。請求項７のＴ
ＦＴ回路製造方法は、現像液切りの後、３秒以内に、洗
浄あるいは乾燥防止のためにガラス基板に対して液体を
付与する方法である。請求項８のＴＦＴ回路製造方法
は、接続部においてガラス基板に対して付与される液体
として純水または濾過水を採用する方法である。
部として、現像液を用いてガラス基板上の感光性レジス
トを現像するものを採用する方法である。請求項７のＴ
ＦＴ回路製造方法は、現像液切りの後、３秒以内に、洗
浄あるいは乾燥防止のためにガラス基板に対して液体を
付与する方法である。請求項８のＴＦＴ回路製造方法
は、接続部においてガラス基板に対して付与される液体
として純水または濾過水を採用する方法である。
【００１２】
【作用】請求項１のカラーフィルタ製造方法であれば、
フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にカラーフィ
ルタを製造するに当って、処理液を用いてガラス基板上
の膜に対する処理を行なう膜処理部と、膜処理部におい
て付着した処理液を洗い流す洗浄部との間に接続部を設
け、該接続部において、処理液切りの後、ガラス基板の
少なくとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体
を付与するのであるから、処理液切りを行なった後、処
理液を洗い流すまでの間にガラス基板の少なくとも一部
が乾燥してしまうという不都合の発生を未然に防止する
ことができる。
フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にカラーフィ
ルタを製造するに当って、処理液を用いてガラス基板上
の膜に対する処理を行なう膜処理部と、膜処理部におい
て付着した処理液を洗い流す洗浄部との間に接続部を設
け、該接続部において、処理液切りの後、ガラス基板の
少なくとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体
を付与するのであるから、処理液切りを行なった後、処
理液を洗い流すまでの間にガラス基板の少なくとも一部
が乾燥してしまうという不都合の発生を未然に防止する
ことができる。
【００１３】請求項２のカラーフィルタ製造方法であれ
ば、膜処理部として、現像液を用いてガラス基板上の感
光性レジストを現像するものを採用しているのであるか
ら、現像処理に関して請求項１と同様の作用を達成する
ことができる。請求項３のカラーフィルタ製造方法であ
れば、現像液切りの後、３秒以内に、洗浄あるいは乾燥
防止のためにガラス基板に対して液体を付与するのであ
るから、請求項２と同様の作用を達成することができ
る。
ば、膜処理部として、現像液を用いてガラス基板上の感
光性レジストを現像するものを採用しているのであるか
ら、現像処理に関して請求項１と同様の作用を達成する
ことができる。請求項３のカラーフィルタ製造方法であ
れば、現像液切りの後、３秒以内に、洗浄あるいは乾燥
防止のためにガラス基板に対して液体を付与するのであ
るから、請求項２と同様の作用を達成することができ
る。
【００１４】請求項４のカラーフィルタ製造方法であれ
ば、接続部においてガラス基板に対して付与される液体
として純水または濾過水を採用するのであるから、現像
液を洗い流した後の水の処理に必要な負荷を低減するこ
とができる。請求項５のＴＦＴ回路製造方法であれば、
フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にＴＦＴ回路
を製造するに当って、処理液を用いてガラス基板上の膜
に対する処理を行なう膜処理部と、膜処理部において付
着した処理液を洗い流す洗浄部との間に接続部を設け、
該接続部において、処理液切りの後、ガラス基板の少な
くとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付
与するのであるから、処理液切りを行なった後、処理液
を洗い流すまでの間にガラス基板の少なくとも一部が乾
燥してしまうという不都合の発生を未然に防止すること
ができる。
ば、接続部においてガラス基板に対して付与される液体
として純水または濾過水を採用するのであるから、現像
液を洗い流した後の水の処理に必要な負荷を低減するこ
とができる。請求項５のＴＦＴ回路製造方法であれば、
フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にＴＦＴ回路
を製造するに当って、処理液を用いてガラス基板上の膜
に対する処理を行なう膜処理部と、膜処理部において付
着した処理液を洗い流す洗浄部との間に接続部を設け、
該接続部において、処理液切りの後、ガラス基板の少な
くとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付
与するのであるから、処理液切りを行なった後、処理液
を洗い流すまでの間にガラス基板の少なくとも一部が乾
燥してしまうという不都合の発生を未然に防止すること
ができる。
【００１５】請求項６のカラーフィルタ製造方法であれ
ば、膜処理部として、現像液を用いてガラス基板上の感
光性レジストを現像するものを採用しているのであるか
ら、現像処理に関して請求項１と同様の作用を達成する
ことができる。請求項７のＴＦＴ回路製造方法であれ
ば、現像液切りの後、３秒以内に、洗浄あるいは乾燥防
止のためにガラス基板に対して液体を付与するのである
から、請求項４と同様の作用を達成することができる。
ば、膜処理部として、現像液を用いてガラス基板上の感
光性レジストを現像するものを採用しているのであるか
ら、現像処理に関して請求項１と同様の作用を達成する
ことができる。請求項７のＴＦＴ回路製造方法であれ
ば、現像液切りの後、３秒以内に、洗浄あるいは乾燥防
止のためにガラス基板に対して液体を付与するのである
から、請求項４と同様の作用を達成することができる。
【００１６】請求項８のＴＦＴ回路製造方法であれば、
接続部においてガラス基板に対して付与される液体とし
て純水または濾過水を採用するのであるから、現像液を
洗い流した後の水の処理に必要な負荷を低減することが
できる。
接続部においてガラス基板に対して付与される液体とし
て純水または濾過水を採用するのであるから、現像液を
洗い流した後の水の処理に必要な負荷を低減することが
できる。
【００１７】
【実施例】以下、実施例を示す添付図面によってこの発
明を詳細に説明する。図１はこの発明のカラーフィルタ
製造方法の一実施例の要部を示す概略図であり、ガラス
基板搬送ライン１の所定位置に、現像部２、ニュートラ
ル部３および水洗部４をこの順に連続させて配置してい
る。そして、ニュートラル部３のうち、現像部２に近接
する所定位置に現像液切り用のエアーナイフ部３ａが設
けられてあるとともに、エアーナイフ部３ａよりもやや
水洗部４寄り所定位置に純水シャワー３ｂが設けられて
ある。
明を詳細に説明する。図１はこの発明のカラーフィルタ
製造方法の一実施例の要部を示す概略図であり、ガラス
基板搬送ライン１の所定位置に、現像部２、ニュートラ
ル部３および水洗部４をこの順に連続させて配置してい
る。そして、ニュートラル部３のうち、現像部２に近接
する所定位置に現像液切り用のエアーナイフ部３ａが設
けられてあるとともに、エアーナイフ部３ａよりもやや
水洗部４寄り所定位置に純水シャワー３ｂが設けられて
ある。
【００１８】上記現像部２は、現像液タンク２ａに収容
された現像液中をガラス基板が搬送される、いわゆる浸
漬式のものであるが、図示しない現像液シャワーを設け
ることにより、浸漬および散布の双方によりガラス基板
に対して現像液を供給するようにしてもよい。上記ニュ
ートラル部３は、少なくともガラス基板を１枚収容し得
る長さに設定されており、現像部２と水洗部４とを完全
に分離して、水洗部４に侵入する現像液の量を著しく少
なくすることができる。
された現像液中をガラス基板が搬送される、いわゆる浸
漬式のものであるが、図示しない現像液シャワーを設け
ることにより、浸漬および散布の双方によりガラス基板
に対して現像液を供給するようにしてもよい。上記ニュ
ートラル部３は、少なくともガラス基板を１枚収容し得
る長さに設定されており、現像部２と水洗部４とを完全
に分離して、水洗部４に侵入する現像液の量を著しく少
なくすることができる。
【００１９】上記エアーナイフ部３ａはガラス基板の両
面に高圧の空気を噴射することにより、ガラス基板の表
面に残量する現像液の大半を除去するものである。そし
て、特には図示していないが、除去された現像液を現像
部２に戻して再利用し、または回収するようにしてい
る。上記純水シャワー３ｂは、ガラス基板の所定範囲に
純水をほぼ均一に散布するものであり、ガラス基板を水
洗部に向かって搬送することにより、ガラス基板の全範
囲に純水を散布することができる。また、純水シャワー
３ｂの配置位置は、エアーナイフ部３ａによる現像液の
除去後、３秒以内に純水を散布できるように所定位置に
配置されている。具体的には、現像部２の全長を２５０
０ｍｍ、ニュートラル部３の全長を５００ｍｍ、水洗部
４の全長を１５００ｍｍ、ガラス基板の搬送速度を１２
００ｍｍ／分、エアーナイフ部３ａと純水シャワー３ｂ
との距離を５０ｍｍとすれば、エアーナイフ部３ａによ
る現像液切り後、純水シャワー３ｂにより純水が散布さ
れるまでの時間が２．５秒になる。
面に高圧の空気を噴射することにより、ガラス基板の表
面に残量する現像液の大半を除去するものである。そし
て、特には図示していないが、除去された現像液を現像
部２に戻して再利用し、または回収するようにしてい
る。上記純水シャワー３ｂは、ガラス基板の所定範囲に
純水をほぼ均一に散布するものであり、ガラス基板を水
洗部に向かって搬送することにより、ガラス基板の全範
囲に純水を散布することができる。また、純水シャワー
３ｂの配置位置は、エアーナイフ部３ａによる現像液の
除去後、３秒以内に純水を散布できるように所定位置に
配置されている。具体的には、現像部２の全長を２５０
０ｍｍ、ニュートラル部３の全長を５００ｍｍ、水洗部
４の全長を１５００ｍｍ、ガラス基板の搬送速度を１２
００ｍｍ／分、エアーナイフ部３ａと純水シャワー３ｂ
との距離を５０ｍｍとすれば、エアーナイフ部３ａによ
る現像液切り後、純水シャワー３ｂにより純水が散布さ
れるまでの時間が２．５秒になる。
【００２０】上記水洗部４は、ガラス基板の両面に十分
な量の純水を散布してガラス基板の全範囲から現像液を
完全に洗い流すものであり、水洗処理後の水を図示しな
い水処理部に導くようにしている。したがって、ガラス
基板上の感光性レジストに対する露光処理が行なわれた
後に、現像部２において現像処理が行なわれ、ニュート
ラル部３においてエアーナイフ部３ａによる現像液の除
去、純水シャワー３ｂによる純水の散布が行なわれ、ガ
ラス基板の乾燥を未然に防止する。そして、乾燥が防止
されたガラス基板が水洗部４に導かれ、純水による現像
液の洗い流しを行なって、残留している現像液をガラス
基板の全範囲にわたって完全に除去することができる。
この結果、現像液が部分的に残留して現像が部分的に進
行するという不都合（現像むらが発生するという不都
合）を確実に防止することができる。
な量の純水を散布してガラス基板の全範囲から現像液を
完全に洗い流すものであり、水洗処理後の水を図示しな
い水処理部に導くようにしている。したがって、ガラス
基板上の感光性レジストに対する露光処理が行なわれた
後に、現像部２において現像処理が行なわれ、ニュート
ラル部３においてエアーナイフ部３ａによる現像液の除
去、純水シャワー３ｂによる純水の散布が行なわれ、ガ
ラス基板の乾燥を未然に防止する。そして、乾燥が防止
されたガラス基板が水洗部４に導かれ、純水による現像
液の洗い流しを行なって、残留している現像液をガラス
基板の全範囲にわたって完全に除去することができる。
この結果、現像液が部分的に残留して現像が部分的に進
行するという不都合（現像むらが発生するという不都
合）を確実に防止することができる。
【００２１】以上にはカラーフィルタ製造方法における
現像工程についてのみ説明したが、カラーフィルタを製
造するに当ってウェットエッチング処理を行なう場合に
は、エッチング液へのガラス基板の浸漬処理とエッチン
グ液の洗い流し処理との間にニュートラル部を設け、ニ
ュートラル部においてエアーナイフ部によるエッチング
液の除去および純水シャワーによる純水の散布を行なわ
せることにより、エッチングむらの発生を防止すること
ができる。
現像工程についてのみ説明したが、カラーフィルタを製
造するに当ってウェットエッチング処理を行なう場合に
は、エッチング液へのガラス基板の浸漬処理とエッチン
グ液の洗い流し処理との間にニュートラル部を設け、ニ
ュートラル部においてエアーナイフ部によるエッチング
液の除去および純水シャワーによる純水の散布を行なわ
せることにより、エッチングむらの発生を防止すること
ができる。
【００２２】また、以上にはカラーフィルタ製造方法に
ついてのみ説明したが、ＴＦＴ回路製造方法において
も、カラーフィルタ製造方法と同様に現像工程が存在
し、該当する場合にはウェットエッチング処理が存在す
るのであるから、これら現像工程、ウェットエッチング
処理に上記の方法を適用することができ、同様の作用を
達成することができる。
ついてのみ説明したが、ＴＦＴ回路製造方法において
も、カラーフィルタ製造方法と同様に現像工程が存在
し、該当する場合にはウェットエッチング処理が存在す
るのであるから、これら現像工程、ウェットエッチング
処理に上記の方法を適用することができ、同様の作用を
達成することができる。
【００２３】
【発明の効果】請求項１の発明は、処理液切りを行なっ
た後、処理液を洗い流すまでの間にガラス基板の少なく
とも一部が乾燥してしまうという不都合の発生を未然に
防止することができるという特有の効果を奏する。請求
項２の発明は、現像処理に関して請求項１と同様の効果
を奏する。
た後、処理液を洗い流すまでの間にガラス基板の少なく
とも一部が乾燥してしまうという不都合の発生を未然に
防止することができるという特有の効果を奏する。請求
項２の発明は、現像処理に関して請求項１と同様の効果
を奏する。
【００２４】請求項３の発明は、請求項２と同様の効果
を奏する。請求項４の発明は、現像液を洗い流した後の
水の処理に必要な負荷を低減することができるという特
有の効果を奏する。請求項５の発明は、処理液切りを行
なった後、処理液を洗い流すまでの間にガラス基板の少
なくとも一部が乾燥してしまうという不都合の発生を未
然に防止することができるという特有の効果を奏する。
を奏する。請求項４の発明は、現像液を洗い流した後の
水の処理に必要な負荷を低減することができるという特
有の効果を奏する。請求項５の発明は、処理液切りを行
なった後、処理液を洗い流すまでの間にガラス基板の少
なくとも一部が乾燥してしまうという不都合の発生を未
然に防止することができるという特有の効果を奏する。
【００２５】請求項６の発明は、現像処理に関して請求
項５と同様の効果を奏する。請求項７の発明は、請求項
６と同様の効果を奏する。請求項８の発明は、現像液を
洗い流した後の水の処理に必要な負荷を低減することが
できるという特有の効果を奏する。
項５と同様の効果を奏する。請求項７の発明は、請求項
６と同様の効果を奏する。請求項８の発明は、現像液を
洗い流した後の水の処理に必要な負荷を低減することが
できるという特有の効果を奏する。
【図１】この発明のカラーフィルタ製造方法の一実施例
の要部を示す概略図である。
の要部を示す概略図である。
２ 現像部 ３ ニュートラル部 ４ 洗浄部
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｇ 15/01 １１５
Claims (8)
- 【請求項１】 フォトリソグラフ法を用いてガラス基板
上にカラーフィルタを製造する方法において、処理液を
用いてガラス基板上の膜に対する処理を行なう膜処理部
（２）と、膜処理部（２）において付着した処理液を洗
い流す洗浄部（４）に接続部（３）を設け、該接続部
（３）において、処理液切りの後、ガラス基板の少なく
とも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付与
することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 【請求項２】 膜処理部（２）が、現像液を用いてガラ
ス基板上の感光性レジストを現像するものである請求項
１に記載のカラーフィルタ製造方法。 - 【請求項３】 現像液切りの後、３秒以内に、洗浄ある
いは乾燥防止のためにガラス基板に対して液体を付与す
る請求項２に記載のカラーフィルタ製造方法。 - 【請求項４】 接続部（３）においてガラス基板に対し
て付与される液体が純水または濾過水である請求項２ま
たは請求項３に記載のカラーフィルタ製造方法。 - 【請求項５】 フォトリソグラフ法を用いてガラス基板
上にＴＦＴ回路を製造する方法において、処理液を用い
てガラス基板上の膜に対する処理を行なう膜処理部
（２）と、膜処理部（２）において付着した処理液を洗
い流す洗浄部（４）との間に接続部（３）を設け、該接
続部（３）において、処理液切りの後、ガラス基板の少
なくとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を
付与することを特徴とするＴＦＴ回路製造方法。 - 【請求項６】 膜処理部（２）が、現像液を用いてガラ
ス基板上の感光性レジストを現像するものである請求項
５に記載のＴＦＴ回路製造方法。 - 【請求項７】 現像液切りの後、３秒以内に、洗浄ある
いは乾燥防止のためにガラス基板に対して液体を付与す
る請求項６に記載のＴＦＴ回路製造方法。 - 【請求項８】 接続部（３）においてガラス基板に対し
て付与される液体が純水または濾過水である請求項６ま
たは請求項７に記載のＴＦＴ回路製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04877694A JP3404871B2 (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | カラーフィルタ製造方法およびｔｆｔ回路製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04877694A JP3404871B2 (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | カラーフィルタ製造方法およびｔｆｔ回路製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07261013A true JPH07261013A (ja) | 1995-10-13 |
| JP3404871B2 JP3404871B2 (ja) | 2003-05-12 |
Family
ID=12812671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04877694A Ceased JP3404871B2 (ja) | 1994-03-18 | 1994-03-18 | カラーフィルタ製造方法およびｔｆｔ回路製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3404871B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010035012A (ko) * | 2000-10-07 | 2001-05-07 | 김동관 | 에칭 후처리 시스템 및 그 장치 |
| KR100735601B1 (ko) * | 2001-04-02 | 2007-07-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 세정시스템 및 웨이퍼 건조방법 |
| WO2010145787A1 (en) * | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Rena Gmbh | Process module for the inline-treatment of substrates |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5221463B2 (ja) | 2009-07-09 | 2013-06-26 | 株式会社村松工業 | 避難支援装置 |
-
1994
- 1994-03-18 JP JP04877694A patent/JP3404871B2/ja not_active Ceased
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010035012A (ko) * | 2000-10-07 | 2001-05-07 | 김동관 | 에칭 후처리 시스템 및 그 장치 |
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| WO2010145787A1 (en) * | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Rena Gmbh | Process module for the inline-treatment of substrates |
| CN102804331A (zh) * | 2009-06-19 | 2012-11-28 | 睿纳有限责任公司 | 用于基板的列式处理的处理模块 |
| TWI494978B (zh) * | 2009-06-19 | 2015-08-01 | 雷納公司 | 用於單列式處理基板的處理模組 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3404871B2 (ja) | 2003-05-12 |
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