JPH0661137A - フォトリソグラフィにおける現像装置 - Google Patents
フォトリソグラフィにおける現像装置Info
- Publication number
- JPH0661137A JPH0661137A JP4235371A JP23537192A JPH0661137A JP H0661137 A JPH0661137 A JP H0661137A JP 4235371 A JP4235371 A JP 4235371A JP 23537192 A JP23537192 A JP 23537192A JP H0661137 A JPH0661137 A JP H0661137A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- developing
- substrate
- photolithography
- developer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面にレジストが塗布された露光済みの半導
体や液晶などの基板上に現像液を散布し、所定の回路パ
ターンを形成するフォトリソグラフィにおける現像装置
において、現像液の散布むらや現像液が処理前の基板に
かかることによる回路パターンの現像不良を防止し、製
品の品質を向上させると共に、生産時の歩留まりを向上
させる。 【構成】 前室ａ寄りの現像処理室ｂの上部に、この現
像処理室ｂの幅方向に亙る流出口を有する入口シャワー
４を、この流出口を下向きに且つ基板搬送方向に傾斜さ
せて設けた。
体や液晶などの基板上に現像液を散布し、所定の回路パ
ターンを形成するフォトリソグラフィにおける現像装置
において、現像液の散布むらや現像液が処理前の基板に
かかることによる回路パターンの現像不良を防止し、製
品の品質を向上させると共に、生産時の歩留まりを向上
させる。 【構成】 前室ａ寄りの現像処理室ｂの上部に、この現
像処理室ｂの幅方向に亙る流出口を有する入口シャワー
４を、この流出口を下向きに且つ基板搬送方向に傾斜さ
せて設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光露光技術であるフォ
トリソグラフィにより半導体や液晶などの基板上に微細
回路パターンを形成する際に用いられる現像装置に関す
る。
トリソグラフィにより半導体や液晶などの基板上に微細
回路パターンを形成する際に用いられる現像装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の現像装置は、図４に示す
ように現像液を噴霧するノズル１を設けた現像処理室ｂ
の前方に装置内を外部から遮蔽する前室ａを設けると共
に、該現像処理室ｂの後方にエアノズル２を設けた液切
室ｃと、洗浄水噴射ノズル３を設けた水洗室ｄと、エア
ノズル２を設けた乾燥室ｅとを一連に併設して成り、前
室ａから現像処理室ｂ内に送り込まれた露光済みの液晶
や半導体などの基板（図示せず）上に現像液を散布し、
不要箇所を熔融させた後、該基板を液切室ｃに送り込
み、ここで表面に残った現像液を吹き飛ばし、次に水洗
室ｄで洗浄した後、乾燥室ｅで乾燥させることにより、
基板上に所望の回路を形成するものであった。尚、同図
において符号Ａは、基板の搬送面、矢印は基板の搬送方
向を示す。
ように現像液を噴霧するノズル１を設けた現像処理室ｂ
の前方に装置内を外部から遮蔽する前室ａを設けると共
に、該現像処理室ｂの後方にエアノズル２を設けた液切
室ｃと、洗浄水噴射ノズル３を設けた水洗室ｄと、エア
ノズル２を設けた乾燥室ｅとを一連に併設して成り、前
室ａから現像処理室ｂ内に送り込まれた露光済みの液晶
や半導体などの基板（図示せず）上に現像液を散布し、
不要箇所を熔融させた後、該基板を液切室ｃに送り込
み、ここで表面に残った現像液を吹き飛ばし、次に水洗
室ｄで洗浄した後、乾燥室ｅで乾燥させることにより、
基板上に所望の回路を形成するものであった。尚、同図
において符号Ａは、基板の搬送面、矢印は基板の搬送方
向を示す。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の現像装
置では、現像処理室で基板上に現像液を散布する際に生
じた現像液ミストが、隣接した前室内に侵入し、該前室
内で待機中の処理前の基板上に付着し、現像時にむらを
生じ、回路パターンの不良を生じたり、場合によって
は、現像液ミストが付着した箇所の熔融腐食が進み、微
細な穴（直径約５〜１０μｍ）を生じて製品歩留まりを
低下させるという問題点を有していた。本発明は、これ
ら従来の問題点を解決しようとするものである。
置では、現像処理室で基板上に現像液を散布する際に生
じた現像液ミストが、隣接した前室内に侵入し、該前室
内で待機中の処理前の基板上に付着し、現像時にむらを
生じ、回路パターンの不良を生じたり、場合によって
は、現像液ミストが付着した箇所の熔融腐食が進み、微
細な穴（直径約５〜１０μｍ）を生じて製品歩留まりを
低下させるという問題点を有していた。本発明は、これ
ら従来の問題点を解決しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決する為の手段】本発明では、前室側の現像
処理室上部に、該現像処理室の幅方向に亙る流出口を有
する入口シャワーを、該流出口を基板搬送方向に傾斜さ
せて設けることにより、上記従来の問題点を解決した。
処理室上部に、該現像処理室の幅方向に亙る流出口を有
する入口シャワーを、該流出口を基板搬送方向に傾斜さ
せて設けることにより、上記従来の問題点を解決した。
【０００５】
【作用】現像処理室の前室側に設けられた入口シャワー
は、搬送される基板の表面にむらなく現像液を散布する
と共に、該現像処理室内で生じた現像液ミストが前室側
に流入することを阻止する遮蔽用のカーテンとしても作
用するものである。
は、搬送される基板の表面にむらなく現像液を散布する
と共に、該現像処理室内で生じた現像液ミストが前室側
に流入することを阻止する遮蔽用のカーテンとしても作
用するものである。
【０００６】
【実施例】図１は、本発明による現像装置の概念図であ
る。図示したように本発明の現像装置の基本的な構成
は、従来と同様に現像液を噴霧するノズル１を設けた現
像処理室ｂの前方に装置内を外部から遮蔽する前室ａを
設けると共に、該現像処理室ｂの後方にエアノズル２を
設けた液切室ｃと、洗浄水噴射ノズル３を設けた水洗室
ｄと、エアノズル２を設けた乾燥室ｅとを一連に併設し
たものである。ここにおいて本発明では、上記現像処理
室ｂ内の前室ａ側上部に現像液を内方下向きに且つ該現
像処理室ｂの幅方向に亙って帯状に流出させる入口シャ
ワー４を設けている。
る。図示したように本発明の現像装置の基本的な構成
は、従来と同様に現像液を噴霧するノズル１を設けた現
像処理室ｂの前方に装置内を外部から遮蔽する前室ａを
設けると共に、該現像処理室ｂの後方にエアノズル２を
設けた液切室ｃと、洗浄水噴射ノズル３を設けた水洗室
ｄと、エアノズル２を設けた乾燥室ｅとを一連に併設し
たものである。ここにおいて本発明では、上記現像処理
室ｂ内の前室ａ側上部に現像液を内方下向きに且つ該現
像処理室ｂの幅方向に亙って帯状に流出させる入口シャ
ワー４を設けている。
【０００７】図２は、上記入口シャワーの実施例を示
し、この例では現像液の流出口を多数の小孔４’を列設
して構成している。又、図３は他の実施例を示し、この
例では現像液の流出口を帯状のスリット４”としてい
る。
し、この例では現像液の流出口を多数の小孔４’を列設
して構成している。又、図３は他の実施例を示し、この
例では現像液の流出口を帯状のスリット４”としてい
る。
【０００８】尚、図１において符号Ａは、基板の搬送
面、矢印は基板の搬送方向を示す。
面、矢印は基板の搬送方向を示す。
【０００９】次に上記構成を有する本発明、現像装置の
働きについて述べると、まず表面にレジストが塗布され
た露光済みの半導体や液晶などの基板（図示せず）が、
前室ａから現像処理室ｂ内に搬送されると、該基板の表
面は入口シャワー４や現像液噴射ノズル１からの現像液
で均等に濡らされ、不要な箇所が熔融する。その後、該
基板は連続した液切室ｃに送り込まれ、ここでエアノズ
ル２からの圧搾空気により表面に残った現像液が吹き飛
ばされる。更に、該基板は水洗室ｄから乾燥室ｅへと送
られることにより、洗浄、乾燥が為され、表面に所定の
回路パターンが形成されるものである。
働きについて述べると、まず表面にレジストが塗布され
た露光済みの半導体や液晶などの基板（図示せず）が、
前室ａから現像処理室ｂ内に搬送されると、該基板の表
面は入口シャワー４や現像液噴射ノズル１からの現像液
で均等に濡らされ、不要な箇所が熔融する。その後、該
基板は連続した液切室ｃに送り込まれ、ここでエアノズ
ル２からの圧搾空気により表面に残った現像液が吹き飛
ばされる。更に、該基板は水洗室ｄから乾燥室ｅへと送
られることにより、洗浄、乾燥が為され、表面に所定の
回路パターンが形成されるものである。
【００１０】この時、本発明の現像装置では、現像処理
室ｂと前室ａとの間に入口シャワー４により常に現像液
が帯状に流れているので、搬送された基板の表面が現像
液で均等に濡らされると共に、現像処理室ｂで生じた現
像液ミストが前室ａ側に流れ込むことが防止され、現像
液の不均一散布による現像むらや、現像前に現像液が基
板に付着することによる回路パターンの不良が防止され
るものである。
室ｂと前室ａとの間に入口シャワー４により常に現像液
が帯状に流れているので、搬送された基板の表面が現像
液で均等に濡らされると共に、現像処理室ｂで生じた現
像液ミストが前室ａ側に流れ込むことが防止され、現像
液の不均一散布による現像むらや、現像前に現像液が基
板に付着することによる回路パターンの不良が防止され
るものである。
【００１１】
【発明の効果】以上のように本発明のフォトリソグラフ
ィにおける現像装置では、基板上に現像液を噴霧する現
像処理室内に、帯状に現像液を流下させる入口シャワー
を設けたので、基板上への現像液の散布がより均一にな
ると共に、現像処理室内で生じた現像液ミストが前室内
に流入することがなくなり、より確実、高精度の現像が
為されると共に、処理前の基板に現像液が付着すること
による回路パターンの不良が防止され、製品の品質の向
上並びに生産時の歩留まりの向上に優れた効果を奏す
る。
ィにおける現像装置では、基板上に現像液を噴霧する現
像処理室内に、帯状に現像液を流下させる入口シャワー
を設けたので、基板上への現像液の散布がより均一にな
ると共に、現像処理室内で生じた現像液ミストが前室内
に流入することがなくなり、より確実、高精度の現像が
為されると共に、処理前の基板に現像液が付着すること
による回路パターンの不良が防止され、製品の品質の向
上並びに生産時の歩留まりの向上に優れた効果を奏す
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明、現像装置の概念図である。
【図２】同上、入口シャワーの実施例を示す簡略斜視図
である。
である。
【図３】同上、入口シャワーの他の実施例を示す簡略斜
視図である。
視図である。
【図４】現像装置の従来例を示す概念図である。
１ 現像液噴霧ノズル ２ エアノズル ３ 洗浄水噴射ノズル ４ 入口シャワー ４’ 小孔 ４” スリット ａ 前室 ｂ 現像処理室 ｃ 液切室 ｄ 水洗室 ｅ 乾燥室
Claims (1)
- 【請求項１】 前室、現像処理室、液切室、水洗室、乾
燥室を一連に設けて成り、フォトリソグラフィにより露
光した基板に現像液をかけ、所望の回路を形成する現像
装置において、上記現像処理室の前室側上部に現像液を
該現像処理室の幅方向に亙って帯状に流下させる入口シ
ャワーを設けたことを特徴とするフォトリソグラフィに
おける現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4235371A JPH0661137A (ja) | 1992-08-10 | 1992-08-10 | フォトリソグラフィにおける現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4235371A JPH0661137A (ja) | 1992-08-10 | 1992-08-10 | フォトリソグラフィにおける現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0661137A true JPH0661137A (ja) | 1994-03-04 |
Family
ID=16985099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4235371A Pending JPH0661137A (ja) | 1992-08-10 | 1992-08-10 | フォトリソグラフィにおける現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0661137A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100451843C (zh) * | 2000-01-21 | 2009-01-14 | 友达光电股份有限公司 | 液体喷洒装置 |
| CN107479340A (zh) * | 2017-09-05 | 2017-12-15 | 武汉华星光电技术有限公司 | 盖板及显影设备 |
-
1992
- 1992-08-10 JP JP4235371A patent/JPH0661137A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100451843C (zh) * | 2000-01-21 | 2009-01-14 | 友达光电股份有限公司 | 液体喷洒装置 |
| CN107479340A (zh) * | 2017-09-05 | 2017-12-15 | 武汉华星光电技术有限公司 | 盖板及显影设备 |
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