JPH07263628A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH07263628A
JPH07263628A JP6049580A JP4958094A JPH07263628A JP H07263628 A JPH07263628 A JP H07263628A JP 6049580 A JP6049580 A JP 6049580A JP 4958094 A JP4958094 A JP 4958094A JP H07263628 A JPH07263628 A JP H07263628A
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JP
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transistor array
power supply
semiconductor device
section
pad
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Withdrawn
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JP6049580A
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Kuniyuki Hayashi
邦幸 林
Masaya Kitagawa
雅也 北川
Satoru Tanizawa
哲 谷沢
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Fujitsu Ltd
Fujitsu LSI Technology Co Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Fujitsu LSI Technology Co Ltd
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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は半導体チップ上にI/O回路が形成さ
れた半導体装置に関し、レイアウト設計を適正化するこ
とにより小型化を図ることを目的とする。 【構成】半導体チップ22上にトランジスタアレイ部23と
コントローラ部24とを具備したI/Oセル回路21と、こ
のI/Oセル回路21と接続される複数のボンディングパ
ッド25,26 とを具備する半導体装置において、上記半導
体チップ22のトランジスタアレイ部23の形成位置に対す
る外側位置に形成される第1のパッド形成領域34にボン
ディングパッドの一部25を形成する。また、半導体チッ
プ22のトランジスタアレイ部23の形成位置に対する内側
位置に形成される第2のパッド形成領域35に残るボンデ
ィングパッド26を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に係り、特に
半導体チップ上にI/O回路が形成された半導体装置に
関する。
【0002】近年の電子機器では小型化,軽量化という
ダウンサイジングが急速に行われており、これに伴い電
子機器に配設される半導体装置においても小型化、高集
積化が図られている。
【0003】例えば半導体装置としてマイクロプロセッ
サを例に挙げると、マイクロプロセッサは半導体チップ
上に論理回路,メモリ回路,I/O(input and output)
回路等を配設した構成とされている。
【0004】従って、半導体装置の小型化のためには、
これらの各種回路を半導体チップ上に搭載効率よくレイ
アウトする必要がある。
【0005】
【従来の技術】図7は半導体装置の全体構成を示してお
り、また図8は従来における半導体装置のI/O回路が
配設された領域(I/O回路領域)の概略構成を示して
いる。
【0006】図7に示される半導体装置1は例えばマイ
クロプロセッサであり、半導体チップ5上に論理回路
2,メモリ回路3,I/O回路4等を形成した構成とさ
れている。またI/O回路4は、図8に示されるように
半導体チップ5の上部に入出力用I/Oセル回路6,入
出力端子となるボンディングパッド7,電源配線VDD
SS等が形成された構成とされている。
【0007】I/O回路4は半導体チップ1の外側位置
近傍に形成されており、論理回路,2及びメモリ回路3
はこのI/O回路4に囲まれるように配設されている。
またI/O回路4を構成する入出力用I/Oセル回路6
は、論理回路2及びメモリ回路3に各種信号を入出力す
るための入出力処理を行うものである。また、ボンディ
ングパッド7はリード8とワイヤ接続され、半導体チッ
プ1が接続される外部回路とワイヤ及びリード8を介し
て接続される。更に、電源配線VDD,VSSは入出力用I
/Oセル回路6に対し電源供給するものであり、I/O
回路領域(図7に梨地で示す領域)内に例えばリング状
に配設されている。
【0008】従来においては、上記した入出力用I/O
セル回路6は論理回路2及びメモリ回路3に入出力され
る配線数に応じて複数個配設されており、またボンディ
ングパッド7は入出力用I/Oセル回路6の数及び電源
配線VDD,VSSの数に対応して配設されていた。即ち、
一つの入出力用I/Oセル回路6には、これと対応する
ボンディングパッド7が配設されており、この対応する
ボンディングパッド7と入出力用I/Oセル回路6とが
接続される構成とされていた。また、複数のボンディン
グパッド7の内には電源パッド7a,7bが有り、この
電源パッド7a,7bは電源配線VDD,VSSと接続され
る構成とされていた。
【0009】更に、ボンディングパッド7の形成位置
は、入出力用I/Oセル回路6の配設位置に対して半導
体チップ5の外側に形成される構成とされていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記のよう
にボンディングパッド7を入出力用I/Oセル回路6の
配設位置の外側のみに一列に形成した従来構成では、半
導体装置1の高集積化に伴いピン数が増大してボンディ
ングパッド数が多くなると、入出力用I/Oセル回路6
の外側にボンディングパッド7を配設するために大なる
面積を必要とし、半導体装置1が大型化してしまうとい
う問題点があった。
【0011】また、これを解決する一手段として図9に
示すように入出力用I/Oセル回路6の外側にボンディ
ングパッド7を複数列(同図では4列に配設した例を示
す)にわたり配設することが考えられる。
【0012】しかるにこの構成では、ボンディングパッ
ド7から入出力用I/Oセル回路6まで引き出される引
き出し配線11の配設位置が狭くなり、必然的に引き出
し配線11を細く設定しなければならないという問題点
が生じる。
【0013】このように、引き出し配線11が狭くなる
とインピーダンス特性が劣化すると共に寄生容量が発生
し、信号伝搬性が低下してしまう。また、電源パッド7
a,7bに接続された引き出し配線11では、大きな電
圧降下が発生してしまい消費電力が増大したり回路動作
に支承が生じるおそれがあるいう問題点があった。
【0014】また、図10に従来における電源パッド7
a,7bと電源配線VDD,VSSとの接続構造を示す。上
記のように、電源パッド7a,7bは入出力用I/Oセ
ル回路6の外側に一列に配設され、かつ電源配線VDD
SSが2本並列に配設された構成では、何れか一方の電
源パッドと電源配線(同図の場合には、電源パッド7b
と電源配線VDDがこれに該当する)を他の電源配線VSS
を跨いで接続する必要が生じる。
【0015】このため、従来では電源配線VSSの上部に
絶縁膜を介して導電配線12を形成し、この電源パッド
7b及び電源配線VDDをビア14,15を用いて導電配
線12と接続することにより電源パッド7bと電源配線
DDとの導通を図る構成とされていた。
【0016】しかるに上記の接続構造では、ビア14,
15における電気的抵抗が高くなり、よってこのビア1
4,15においても大きな電圧降下が発生してしまい消
費電力が増大したり回路動作に支承が生じるおそれがあ
るいう問題点があった。
【0017】更に、従来の半導体装置1は、入出力用I
/Oセル回路6自体が大きく、これによっても半導体装
置1が大型化してしまうという問題点があった。以下、
この理由について説明する。
【0018】入出力用I/Oセル回路6は、多数のトラ
ンジスタを集積したトランジスタ領域部9とI/Oコン
トローラ部10とにより構成されている。図8におて、
破線で示す領域がトランジスタ領域部9が形成された領
域であり、また一点鎖線で示す領域がI/Oコントロー
ラ部10が形成された領域である。同図に示すように、
入出力用I/Oセル回路6の形成領域において、トラン
ジスタ領域部9が形成された領域はI/Oコントローラ
部10が形成された領域に比べて非常に大きな面積を示
している。このように、トランジスタ領域部9がI/O
コントローラ部10に比べて非常に大きな配設面積を必
要とするのは次の理由による。 即ち、トランジスタ領
域部9の面積は、配設されるトランジスタの数に対応し
ており、このトランジスタの数は入出力処理を行うため
の駆動電流の大きさに対応している。また、トランジス
タ領域部9の性能決定を行うに際し、従来では予想され
る最大の駆動電流値を基準としていた。このため、トラ
ンジスタ領域部9の形状は大きくなってしまう。
【0019】また従来においては、各I/Oセル回路6
は同一構成とされており、従ってトランジスタ領域部9
も同一構成(同一形状)とされている。このため、半導
体チップ5の上部には形状の大きな入出力用I/Oセル
回路6が複数は配設されることになり、これによっても
半導体装置1の形状が大型化してしまう。
【0020】更に、前記したようにトランジスタ領域部
9は予想される最大の駆動電流値を基準としているた
め、複数配設される入出力用I/Oセル回路6の内、小
さな駆動電流で入出力処理できる信号にを処理する入出
力用I/Oセル回路6では、使用するトランジスタ数は
少なくてよいため使用しないトランジスタが多数発生
し、この不使用トランジスタの配設面積だけ無駄なスペ
ースが発生するという問題点があった。
【0021】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、小型化を図り得る半導体装置を提供することを目
的とする。
【0022】また、本発明の他の目的は、消費電力の低
減及び適正な回路動作を行いうる半導体装置を提供する
ことを目的とする。
【0023】
【課題を解決するための手段】上記の課題は下記の手段
を講じることにより解決することがてきる。
【0024】請求項1の発明では、半導体チップ上に、
トランジスタアレイ部とコントローラ部とを具備したI
/Oセル回路と、このI/Oセル回路と接続される複数
のボンディングパッドとを具備する半導体装置におい
て、上記半導体チップのトランジスタアレイ部の形成位
置に対する外側位置に形成される第1のパッド形成領域
にボンディングパッドの一部を形成し、半導体チップの
トランジスタアレイ部の形成位置に対する内側位置に形
成される第2のパッド形成領域に残るボンディングパッ
ドを形成したことを特徴とするものである。
【0025】また、請求項2の発明では、上記半導体チ
ップ上にトランジスタアレイ部とコントローラ部とを分
離形成したことを特徴とするものである。
【0026】また、請求項3の発明では、上記コントロ
ーラ部の上部にコントローラ部に電源供給を行う電源リ
ングを配置し、上記トランジスタアレイ部に電源供給を
行う電源配線と、コントローラ部に電源供給を行う電源
リングを独立して配設したことを特徴とするものであ
る。
【0027】また、請求項4の発明では、上記トランジ
スタアレイ部を、必要とされる駆動電流の大きさに応じ
て複数の駆動領域に領域分けしてなることを特徴とする
ものである。
【0028】また、請求項5の発明では、隣接する駆動
領域間に形成される不使用トランジスタをオフ状態とす
ることにより、上記トランジスタアレイ部を複数の駆動
領域に領域分けしたことを特徴とするものである。
【0029】また、請求項6の発明では、上記トランジ
スタアレイ部の上部にボンディングパッドの列設方向に
沿って2本の電源配線を配設し、この電源配線を近接す
るボンディングパッドに接続する構成としたことを特徴
とするものである。
【0030】更に、請求項7の発明では、上記電源配線
の一部が、内側に配設されたボンディングパッドの配設
位置よりも更に内側に配設された構成としたことを特徴
とするものである。
【0031】
【作用】上記の各構成は下記のように作用する。
【0032】請求項1の発明によれば、トランジスタア
レイ部の形成位置の外側位置に形成された第1のパッド
形成領域にボンディングパッドの一部を形成し、トラン
ジスタアレイ部の形成位置に対する内側位置に形成され
る第2のパッド形成領域に残るボンディングパッドを形
成したことにより、ボンディングパッドはトランジスタ
アレイ部の配設領域を挟んで2列形成される構成とな
る。
【0033】これにより、トランジスタアレイ部と各ボ
ンディングパッドとの間に配設される引き出し配線の引
回しを自由度を有して行うことができ、よってトランジ
スタアレイ部と各ボンディングパッドとを短い配線長で
接続することが可能となると共に、引き出し配線を太く
することができる。よって、引き出し配線を短くできる
分だけ半導体装置の小型化を図ることができる。また、
引き出し配線を短くかつ太くできることにより、トラン
ジスタアレイ部とボンディングパッドとを接続する配線
のインピーダンスを低減することができ信号の伝搬及び
電源供給にロスが発生することを防止することができ
る。
【0034】また、請求項2の発明によれば、半導体チ
ップ上にトランジスタアレイ部とコントローラ部とを分
離形成したことにより、トランジスタアレイ部及びコン
トローラ部の配設領域を独立して設定することが可能と
なるため、効率的なレイアウトを行うことができる。こ
れにより、半導体チップ上にデッドスペースが発生する
のを防止でき、半導体装置の小型化を図ることができ
る。
【0035】また、請求項3の発明によれば、コントロ
ーラ部の上部にコントローラ部に電源供給を行う電源リ
ングを配置し、上記トランジスタアレイ部に電源供給を
行う電源配線とコントローラ部に電源供給を行う電源リ
ングを独立して配設したことにより、一つの電源配線よ
りトランジスタアレイ部及びコントローラ部に夫々配線
を引き回す必要がなくなる。よって、電源配設において
も効率的なレイアウトを行うことが可能となり、半導体
チップ上にデッドスペースが発生するのを防止でき半導
体装置の小型化を図ることができる。
【0036】また、請求項4の発明によれば、トランジ
スタアレイ部を必要とされる駆動電流の大きさに応じて
複数の駆動領域に領域分けしたことにより、従来のよう
にボンディングパッド毎にI/Oセル回路を設けると共
に各I/Oセル回路が一律に最大駆動電流値に対応でき
るトランジスタ数を有した構成に比べ、不要トランジス
タを大幅に低減するとができ、トランジスタアレイ部を
小型化することができる。このように、トランジスタア
レイ部が小型化されることにより、半導体装置の小型化
をも図ることができる。
【0037】また、請求項5の発明によれば、隣接する
駆動領域間に形成される不使用トランジスタをオフ状態
とすることによりトランジスタアレイ部を複数の駆動領
域に領域分けすることにより、領域分けを行うための特
別に構成を要することなく電気的に駆動領域の領域分け
を行うことができるため、簡単に駆動領域の領域分けを
行うことができる。
【0038】また、請求項6の発明によれば、トランジ
スタアレイ部の上部にボンディングパッドの列設方向に
沿って2本の電源配線を配設し、この電源配線を近接す
るボンディングパッドに接続することにより、トランジ
スタアレイ部の上部に2本配設された電源配線の内近接
した側の電源配線にボンディングパッドを接続すること
が可能となる。これにより、一方の電源配線を接続する
のに他方の電源配線を跨いで配線を行う必要がなくな
り、電源配線とボンディングパッドとの接続部分におけ
るインピーダンスの増大を防止することができ、電源供
給にロスが発生することを防止することができる。
【0039】更に、請求項7の発明によれば、内側に配
設されたボンディングパッドの配設位置よりも更に内側
に電源配線の一部を配設した構成とすることにより、半
導体チップの内側の電源パッドは更に内側にある電源線
と従来用いられていたビアを用いることなく接続するこ
とができ、これによっても電源配線とボンディングパッ
ドとの接続部分におけるインピーダンスの増大を防止す
ることができ、電源供給にロスが発生することを防止す
ることができる。
【0040】
【実施例】次に本発明の実施例について図面と共に説明
する。
【0041】図1乃至図3は本発明の一実施例である半
導体装置20を示している。半導体装置20の全体構成
は図7を用いて説明した半導体装置1と略同一の構成で
あるためその図示は省略する。また、本発明の特徴と図
7におけるI/O回路領域(梨地で示す領域)であるの
で、図1及び図2はこのI/O回路領域のみを拡大して
示している。図1はI/O回路領域の詳細説明図であ
り、図2はI/O回路のレイアウト図である。更に、図
3は図1に図示される領域に対応する回路図である。
【0042】先ず、図2を用いてI/Oセル回路21の
レイアウトについて説明する。本実施例に係るI/Oセ
ル回路21は、大略すると半導体チップ22上にトラン
ジスタアレイ部23、コントローラ部24、ボンディン
グパッド25,26、電源配線27,28、電源リング
29,30等を形成した構成とされている。
【0043】半導体チップ22は例えばシリコン基板で
あり、その上部にI/Oセル回路21を始めとして論理
回路,メモリ回路等(図7参照)が形成される。I/O
セル回路21は、この半導体チップ22の外側位置近傍
に形成されている。
【0044】また本実施例では、従来I/Oセル回路6
(図8参照)として一体化されていたトランジスタ領域
部9とコントローラ部10とを分離した構成とされてい
る。トランジスタアレイ部23は多数のトランジスタを
アレイ状に配設した構成を有しており、本実施例におい
ては図1に示されるように半導体チップ22の外側(図
1及び図2において、下側が外側となる)にPチャンネ
ル型のトランジスタアレイ31が配設され、また半導体
チップ22の内側にNチャンネル型のトランジスタアレ
イ32が配設された構成とされている。このトランジス
タアレイ部23は、後述するコントローラ部24からの
コントロール信号に基づき、入力される信号の増幅処理
やバッファリング処理を行うものである。
【0045】コントローラ部24は、トランジスタアレ
イ部23の配設領域に対して内側に離間した領域に配設
されている。このコントローラ部24とトランジスタア
レイ部23とは図示しないコントロール配線により接続
されており、トランジスタアレイ部23を構成する各ト
ランジスタに対してコントロール信号を供給する構成と
されている。
【0046】尚、コントローラ部24とトランジスタア
レイ部23とを接続するコントロール配線は、例えば半
導体チップ22を多層構造とし、内層に形成された配線
層をこのコントロール配線として用いることが考えられ
る。このように、半導体チップ22を多層構造とする技
術は一般に用いられている技術であり、コントロール配
線を上記構成とすることも容易である。また、コントロ
ール配線を半導体チップ22の表面で引き回さない構成
とすることにより、後述するボンディングパッド25,
26に対する配線の引回しを容易に行うことができる。
【0047】上記のように、トランジスタアレイ部23
とコントローラ部24とを分離した構成とすることによ
り、トランジスタアレイ部23及びコントローラ部24
の配設領域を夫々独立して設定することが可能となるた
め、半導体チツプ22上におけるレイアウトが容易とな
る。即ち、トランジスタ領域部9とコントローラ部10
とを一体化した従来構成では、内部回路の設計上どうし
てもI/Oセル回路6を一つのユニットとして扱わざる
おえず、レイアウト設計の自由度がなくデッドスペース
が発生し易かった。これに対し、トランジスタアレイ部
23とコントローラ部24とを分離することにより、レ
イアウトの自由度が増し半導体チップ22上にデッドス
ペースが発生するのを防止でき、延いては半導体装置2
0の小型化を図ることができる。
【0048】電源配線27はトランジスタアレイ部23
の上部に形成されたVSSの電源母線であり、また電源配
線28はトランジスタアレイ部23の上部に形成された
DDの電源母線である。この電源配線27はNチャンネ
ル型のトランジスタアレイ32に電源供給を行い、また
電源配線28はPチャンネル型のトランジスタアレイ3
1に電源供給を行う。この各電源配線27,28は、ト
ランジスタアレイ部23の形成方向(図中、左右方向)
に沿って延在するよう形成されている。
【0049】また、電源リング29,30はコントロー
ラ部24の上部に形成されており、各コントローラ部2
4に対して電源供給する機能を奏する。電源リング29
はV SSに接続されており、電源リング30はVDDに接続
された構成とされている。このように、トランジスタア
レイ部23に電源供給を行うための電源配線27,28
と各コントローラ部24に電源供給を行うための電源リ
ング29,30を夫々独立して形成することによっても
電源供給を行うための各配線27〜30の配設位置を自
由度を持って設定するとができるため、面倒な配線の引
き回しを不要とすることができレイアウト設計を容易に
行うことができる。
【0050】続いて、ボンディングパッド25,26の
レイアウトについて説明する。
【0051】図5に示されるように、ボンディングパッ
ド25,26はリード8(図7参照)と電気的に接続す
るために、ワイヤ33が接続される部位である。ワイヤ
33が確実にボンディングされるためには、このボンデ
ィングパッド25,26の面積は或る一定の大きさを必
要とし、よって半導体装置20の小型化を図るためにボ
ンディングパッド25,26を小さくすることには限界
がある。また、半導体装置20の高集積化に伴いリード
数は増大する傾向にあり、よって半導体チップ22に形
成するボンディングパッド25,26の数も増大する傾
向にある。このため、ボンディングパッド25,26を
半導体チップ22の上部に配設効率よく形成することが
半導体装置20を小型化する面からは重要となる。
【0052】そこで本実施例においては、ボンディング
パッド25,26を半導体チップ22の上部に形成する
に際し、トランジスタアレイ部23の形成位置に対する
外側位置に形成された第1のパッド形成領域34に第1
列目のボンディングパッド25を形成し、トランジスタ
アレイ部23の形成位置に対する内側位置に形成された
第2のパッド形成領域35に残る第2列目のボンディン
グパッド26を形成したことを特徴とするものである。
この第1列目のボンディングパッド25及び第2列目の
ボンディングパッド26の総数が半導体装置20に必要
とされるボンディングパッド数となる。
【0053】このように、トランジスタアレイ部23の
配設領域を挟んで第1列目のボンディングパッド25と
第2列目のボンディングパッド26とが配設される構成
とすることにより、ボンディングパッド25,26のパ
ッド数が増大しても第1のパッド形成領域34内で第1
列目のボンディングパッド25の配設レイアウトを設定
し、第2のパッド形成領域35内で第2列目のボンディ
ングパッド26の配設レイアウトを設定すればよいた
め、そのレイアウトを容易に行うことができる(従来で
は、第1のパッド形成領域34内に総てのボンディング
パッドを配設していたためレイアウトが困難であっ
た)。また、ボンディングパッド25,26の各隣接ピ
ッチも、従来のように第1のパッド形成領域34内に総
てのボンディングパッドを配設していた構成に比べて広
くすることができる。
【0054】これにより、トランジスタアレイ部23と
各ボンディングパッド25,26との間に配設される引
き出し配線36,37(図1に示す)の引き回しの自由
度を向上させることができ、トランジスタアレイ部23
と各ボンディングパッド25,26とを短い配線長で接
続することが可能となる。よって、引き出し配線36,
37を短くできる分だけ半導体装置20の小型化を図る
ことができると共に、引き出し配線36,37のインピ
ーダンスを低減することができ信号の伝搬及び電源供給
にロスが発生することを防止することができる。
【0055】続いて、図1及び図3を用いてトランジス
タアレイ部23の構成について詳述する。
【0056】上記したように、トランジスタアレイ部2
3はPチャンネル型のトランジスタアレイ31とNチャ
ンネル型のトランジスタアレイ32とにより構成されて
おり、図3に示されるように各トランジスタアレイ3
1,32はMOS型の多数のトランジスタがアレイ状に
列設された構成とされている。また、トランジスタアレ
イ部23を挟むように形成された各ボンディングパッド
25,26は、引き出し配線36,37によりトランジ
スタアレイ部23の所定位置に接続されている。
【0057】また、同図において、25-IN,26-IN は
入力用ボンディングパッドであり、25-OUT, 26-OUT
は出力用ボンディングパッドであり、25-VDD,25-V
SSは電源用ボンディングパッドを夫々示している。
【0058】尚、図1においてハッチングで示す部分
は、各ボンディングパッド25,26とトランジスタア
レイ部23との間、及びPチャンネル型のトランジスタ
アレイ31とNチャンネル型のトランジスタアレイ32
との間を接続するための配線である。
【0059】本実施例では、上記のトランジスタアレイ
部23は複数の駆動領域に領域分けされた構成とされて
おり、この領域の設定は各ボンディングパッド25,2
6に入出力される信号に対し所定の入出力処理を行うの
に必要とされる駆動電流の大きさに応じて領域分けされ
た構成とされている。即ち、例えば信号レベルが小さく
半導体装置20内の論理回路に入出力するのに大きな増
幅処理が必要な信号が入出力されるボンディングパッド
に接続される領域においては、大なる駆動電流を必要と
するため駆動領域は広く設定される。逆に、信号レベル
が大きくさほど増幅処理を必要としない信号が入出力さ
れるボンディングパッドと接続される領域はその駆動領
域が狭く設定されている。
【0060】また、トランジスタアレイ部23を領域分
けするためには、この領域の境界部分において隣接する
トランジスタを電気的に分離する必要がある。このた
め、本実施例においては、この境界部分に配設されたト
ランジスタをオフ(OFF)することにより隣接する駆
動領域の電気的分離を行っている。
【0061】図1において、黒塗りした部分は、駆動領
域の領域分けを行うためにOFFされたトランジスタの
ゲートを示している。また、同図において矢印Wで示す
のはボンディングパッドの幅で決まっていた従来のI/
Oセル回路の幅寸法である。同図より、ボンディングパ
ッド25,26の幅寸法W内に、複数の駆動領域(黒塗
りされたトランジスタのゲートに挟まれた領域が一つの
駆動領域である)が混在しているのが判る。
【0062】このように、トランジスタアレイ部23を
必要とされる駆動電流の大きさに応じて複数の駆動領域
に領域分けしたことにより、従来のようにI/Oセル回
路が最大駆動電流値に対応できるようにトランジスタを
多数配設していた構成に比べて不要トランジスタを大幅
に低減するとができ、トランジスタアレイ部23の小型
化を図ることができる。このように、トランジスタアレ
イ部23が小型化されることにより半導体装置20の小
型化を図ることができる。
【0063】また前記したように図3は、I/Oセル回
路21の図1に図示される部分に対応する回路図を示し
ている。図中、A〜Cで示す端子は出力端子であり出力
用ボンディングパッド25-OUT, 26-OUTと接続される
ものであり、またDで示す端子は入出力端子であり入出
力用ボンディングパッド25-IN,OUT と接続されるもの
であり、G,Hで示す端子は入力端子であり入力用ボン
ディングパッド25-IN,26-IN と接続されるものであ
り、またE,Fで示す端子は電源端子であり電源用ボン
ディングパッド25-VDD,26-VSSはと接続されるもの
である。更に、A1〜D1はコントローラ部24と接続
されるコントロール端子を示している。尚、D2,G
1,H1はボンディングパッドからの入力信号端子であ
る。
【0064】同図において、ダイオードとして示してい
る部分は、その両側に位置するトランジスタがOFFす
るように各トランジスタのゲートへ電圧が印加されてお
り、これにより隣接するトランジスタ群(駆動領域)は
電気的に分離される。このように、隣接する駆動領域間
に形成される不使用トランジスタをオフ状態とし、こと
によりトランジスタアレイ部23を複数の駆動領域に領
域分けすることにより、領域分けを行うための特別に構
成を要することなくトランジスタのスイッチングで電気
的に駆動領域の領域分けを行うことができるため、簡単
に駆動領域の領域分けを行うことができる。また、トラ
ンジスタアレイの中でアプリケーションの関係上未使用
領域が発生しても、この領域に静電破壊防止用のダイオ
ード(ESD保護ダイオード)を形成することにより、
未使用領域を有効に利用することができる。
【0065】図4は電源用ボンディングパッド25-
VDD,26-VSSと電源配線27,28との接続構造を拡
大して示している。電源配線27,28はトランジスタ
アレイ部23の上部にボンディングパッド25,26の
列設方向に沿って2本配設されており、この電源配線2
8の配設位置の外側にボンディングパッド25が、また
電源配線27の配設位置の内側にボンディングパッド2
6が夫々配設された構成とされている。従って、列設さ
れた複数のボンディングパッド25の一つである電源用
ボンディングパッド25-VDDと電源配線28とは近接配
設された構成であり、また列設された複数のボンディン
グパッド26の一つである電源用ボンディングパッド2
6-VSSと電源配線27とも近接配設された構成となって
いる。また、電源用ボンディングパッド25-VDDと電源
配線28とは引き出し配線36aにより接続されると共
に、電源用ボンディングパッド26-VSSと電源配線27
とは引き出し配線37aにより接続されている。
【0066】上記構成とすることにより、一方の電源配
線を接続するのに他方の電源配線を跨いで配線を行う必
要がなくなり、電源配線27,28と電源用ボンディン
グパッド25-VDD,26-VSSとを接続する引き出し配線
36a,37aのインピーダンスを低減することがで
き、よってこの引き出し配線36a,37aで発生する
電圧降下を低減することが可能となる。これにより、従
来用いていたビア14,15(図10参照)に比べて電
源供給にロスが発生することを防止することができ消費
電力の低減を図ることができる。
【0067】尚、上記した実施例においては、図1及び
図2に示されるようにボンディングパッド25,26を
トランジスタアレイ部23の延在方向に沿ってその内側
及び外側に夫々1列つづ形成した構成を例に挙げて説明
した。しかるに、配設されるリード数が増大しこれに伴
いボンディングパッドが増大した場合には、図6に示さ
れるように、トランジスタアレイ部23の内側及び外側
に夫々複数列(図6には2列)でボンディングパッド3
8,39を形成する構成としてもよい。
【0068】トランジスタアレイ部23の内側及び外側
に夫々形成されている第1及び第2のパッド形成領域3
4,35は、トランジスタアレイ部23を挟んでその両
側に夫々形成されているため従来に比べて広い面積を有
している。従って、各形成領域34,35にボンディン
グパッド38,39を複数列にわたり形成しても各バッ
ド38,39の配設ピッチを広く保つことができる。よ
って引き出し配線の引き回し設計を容易にでき、また引
き出し配線の太く形成できるためインピーダンスが低減
することもない。
【0069】また、電源配線の一部が、内側に配設され
たボンディングパッドの配設位置よりも更に内側に配設
された構成としてもよい。この構成とすることにより、
半導体チップの内側の電源パッドは更に内側にある電源
線と従来用いられていたビアを用いることなく接続する
ことができ、これによっても電源配線とボンディングパ
ッドとの接続部分におけるインピーダンスの増大を防止
することができ、電源供給にロスが発生することを防止
することができる。
【0070】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、下記の種々
の効果を奏する。
【0071】請求項1の発明によれば、ボンディングパ
ッドはトランジスタアレイ部の配設領域を挟んで2列形
成される構成となり、このようにボンディングパッドが
トランジスタアレイ部の配設領域を挟んで2列形成され
ることにより、ボンディングパッドのバッド数が増大し
てもそのレイアウトを容易に行うことができ、隣接する
ボンディングパッドのピッチも従来のようにI/Oセル
回路の外側に一例に配設していた構成に比べて広くする
ことができる。
【0072】これにより、トランジスタアレイ部と各ボ
ンディングパッドとの間に配設される引き出し配線の引
回しを自由度を有して行うことができ、よってトランジ
スタアレイ部と各ボンディングパッドとを短い配線長で
接続することが可能となる。よって、引き出し配線を短
くできる分だけ半導体装置の小型化を図ることができる
と共に、トランジスタアレイ部とボンディングパッドと
を接続する配線のインピーダンスを低減することができ
信号の伝搬及び電源供給にロスが発生することを防止す
ることができる。
【0073】また、請求項2の発明によれば、トランジ
スタアレイ部及びコントローラ部の配設領域を独立して
設定することが可能となるため、効率的なレイアウトを
行うことができる。これにより、半導体チップ上にデッ
ドスペースが発生するのを防止でき、半導体装置の小型
化を図ることができる。
【0074】また、請求項3の発明によれば、一つの電
源配線よりトランジスタアレイ部及びコントローラ部に
夫々配線を引き回す必要がなくなり、よって電源配設に
おいても効率的なレイアウトを行うことが可能となり、
半導体チップ上にデッドスペースが発生するのを防止で
き半導体装置の小型化を図ることができる。
【0075】また、請求項4の発明によれば、トランジ
スタアレイ部を必要とされる駆動電流の大きさに応じて
複数の駆動領域に領域分けしたことにより、従来のよう
にボンディングパッド毎にI/Oセル回路を設けると共
に各I/Oセル回路が一律に最大駆動電流値に対応でき
るトランジスタ数を有した構成に比べ、不要トランジス
タを大幅に低減するとができ、トランジスタアレイ部を
小型化することができる。このように、トランジスタア
レイ部が小型化されることにより、半導体装置の小型化
をも図ることができる。
【0076】また、請求項5の発明によれば、領域分け
を行うための特別に構成を要することなく電気的に駆動
領域の領域分けを行うことができるため、簡単に駆動領
域の領域分けを行うことができる。
【0077】また、請求項6の発明によれば、トランジ
スタアレイ部の上部にボンディングパッドの列設方向に
沿って2本の電源配線を配設し、この電源配線を近接す
るボンディングパッドに接続することにより、トランジ
スタアレイ部の上部に2本配設された電源配線の内近接
した側の電源配線にボンディングパッドを接続すること
が可能となる。これにより、一方の電源配線を接続する
のに他方の電源配線を跨いで配線を行う必要がなくな
り、電源配線とボンディングパッドとの接続部分におけ
るインピーダンス低減を防止することができ、信号の伝
搬及び電源供給にロスが発生することを防止することが
できる。
【0078】更に、請求項7の発明によれば、内側に配
設されたボンディングパッドの配設位置よりも更に内側
に電源配線の一部を配設した構成とすることにより、半
導体チップの内側の電源パッドは更に内側にある電源線
と従来用いられていたビアを用いることなく接続するこ
とができ、これによっても電源配線とボンディングパッ
ドとの接続部分におけるインピーダンスの増大を防止す
ることができ、電源供給にロスが発生することを防止す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である半導体装置のI/O回
路領域の詳細説明図である。
【図2】本発明の一実施例である半導体装置のレイアウ
ト図である。
【図3】図1に図示される領域に対応する回路図であ
る。
【図4】本発明の一実施例である電源配線とボンディン
グパッドとの接続構造を説明するための図である。
【図5】ボンディングパッドとワイヤ33とが接続され
た状態を示す図である。
【図6】図1に示す半導体装置の変形例を示す図であ
る。
【図7】半導体装置の全体構成を示す図である。
【図8】従来における半導体装置のI/O回路が配設さ
れた領域(I/O回路領域)の概略構成を示す図であ
る。
【図9】従来における半導体装置において、入出力用I
/Oセル回路の外側にボンディングパッドを複数列にわ
たり配設した構成を示す図である。
【図10】従来における電源パッドと電源配線VDD,V
SSとの接続構造を示す図である。
【符号の説明】
20 半導体装置 21 I/O回路 22 半導体チップ 23 トランジスタアレイ部 24 コントローラ部 25,26 ボンディングパッド 27,28 電源配線 29,30 電源リング 31 Pチャンネル型トランジスタアレイ 32 Nチャンネル型トランジスタアレイ 33 ワイヤ 34 第1のパッド形成領域 35 第2のパッド形成領域 36,37 引き出し配線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北川 雅也 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 谷沢 哲 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップ(22)上に、トランジス
    タアレイ部(23)とコントローラ部(24)とを具備
    したI/Oセル回路(21)と、該I/Oセル回路(2
    1)と接続される複数のボンディングパッド(25,2
    6,38,39)とを具備する半導体装置において、 該半導体チップ(22)の該トランジスタアレイ部(2
    3)の形成位置に対する外側位置に形成される第1のパ
    ッド形成領域(34)に該ボンディングパッドの一部
    (25,38)を形成し、 該半導体チップ(22)の該トランジスタアレイ部(2
    3)の形成位置に対する内側位置に形成される第2のパ
    ッド形成領域(35)に残る該ボンディングパッド(2
    6,39)を形成したことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 該半導体チップ(22)上に該トランジ
    スタアレイ部(23)と該コントローラ部(24)とを
    分離形成したことを特徴とする請求項1記載の半導体装
    置。
  3. 【請求項3】 該コントローラ部(24)の上部に該コ
    ントローラ部(24)に電源供給を行う電源リング(2
    9,30)を配置し、該トランジスタアレイ部(23)
    に電源供給を行う電源配線(27,28)と、該コント
    ローラ部(24)に電源供給を行う該電源リング(2
    9,30)とを独立して配設したことを特徴とする請求
    項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 該トランジスタアレイ部(23)を、必
    要とされる駆動電流の大きさに応じて複数の駆動領域に
    領域分けしてなることを特徴とする請求項1または3の
    いずれかに記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 隣接する該駆動領域間に形成される不使
    用トランジスタをオフ状態とすることにより、該トラン
    ジスタアレイ部(23)を複数の該駆動領域に領域分け
    したことを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 該トランジスタアレイ部(23)の上部
    に該ボンディングパッド(25,26,38,39)の
    列設方向に沿って2本の電源配線(27,28)を配設
    し、該電源配線(27,28)を近接する該ボンディン
    グパッド(25-VDD,26-VSS)に接続する構成として
    なることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載
    の半導体装置。
  7. 【請求項7】 該電源配線の一部が、内側に配設された
    ボンディングパッドの配設位置よりも更に内側に配設さ
    れた構成としてなる請求項1記載の半導体装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007129018A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Nec Electronics Corp 半導体装置
JP2008512850A (ja) * 2004-07-27 2008-04-24 イージック・コーポレーション 構造化された集積回路デバイス
JP2012094909A (ja) * 2012-02-01 2012-05-17 Rohm Co Ltd 半導体集積回路装置

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3989038B2 (ja) * 1996-04-17 2007-10-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
US6057169A (en) * 1998-04-17 2000-05-02 Lsi Logic Corporation Method for I/O device layout during integrated circuit design
WO2001050526A1 (en) * 1999-12-30 2001-07-12 Intel Corporation Optimized driver layout for integrated circuits with staggered bond pads
US6784558B2 (en) * 1999-12-30 2004-08-31 Intel Corporation Semiconductor device inlcluding optimized driver layout for integrated circuit with staggered bond pads
JP3433731B2 (ja) 2000-11-10 2003-08-04 セイコーエプソン株式会社 I/oセル配置方法及び半導体装置
JP2002280453A (ja) * 2001-03-19 2002-09-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
US6489688B1 (en) * 2001-05-02 2002-12-03 Zeevo, Inc. Area efficient bond pad placement
US6858945B2 (en) * 2002-08-21 2005-02-22 Broadcom Corporation Multi-concentric pad arrangements for integrated circuit pads
JP4056348B2 (ja) * 2002-10-07 2008-03-05 株式会社ルネサステクノロジ 集積回路チップモジュールおよび携帯電話機
JP4093018B2 (ja) * 2002-11-08 2008-05-28 沖電気工業株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP3986989B2 (ja) 2003-03-27 2007-10-03 松下電器産業株式会社 半導体装置
FR2868222A1 (fr) * 2004-03-25 2005-09-30 St Microelectronics Sa Circuit integre comprenant une partie de coeur et une partie peripherique formee sur plusieurs rangees
JP4975398B2 (ja) * 2006-08-30 2012-07-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその製造方法
US20120241972A1 (en) * 2011-03-24 2012-09-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Layout scheme for an input output cell
WO2020073901A1 (en) * 2018-10-11 2020-04-16 Changxin Memory Technologies, Inc. Semiconductor structure, memory device, semiconductor device and method of manufacturing the same
CN109390304B (zh) * 2018-10-11 2024-02-09 长鑫存储技术有限公司 半导体结构、存储装置、半导体器件及其制造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5162893A (en) * 1988-05-23 1992-11-10 Fujitsu Limited Semiconductor integrated circuit device with an enlarged internal logic circuit area
DE69230019T2 (de) * 1991-07-18 2000-01-05 Fujitsu Ltd., Kawasaki Anordnung von Transistoren zur Fertigung einer Basiszelle für eine integrierte Masterslice-Halbleiteranordnung und integrierte Masterslice-Halbleiteranordnung

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008512850A (ja) * 2004-07-27 2008-04-24 イージック・コーポレーション 構造化された集積回路デバイス
JP2007129018A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Nec Electronics Corp 半導体装置
US8598703B2 (en) 2005-11-02 2013-12-03 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
US8598704B2 (en) 2005-11-02 2013-12-03 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
JP2012094909A (ja) * 2012-02-01 2012-05-17 Rohm Co Ltd 半導体集積回路装置

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