JPH02219254A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH02219254A
JPH02219254A JP1040528A JP4052889A JPH02219254A JP H02219254 A JPH02219254 A JP H02219254A JP 1040528 A JP1040528 A JP 1040528A JP 4052889 A JP4052889 A JP 4052889A JP H02219254 A JPH02219254 A JP H02219254A
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JP
Japan
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bus line
integrated circuit
internal bus
semiconductor integrated
module
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JP1040528A
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Manabu Shibata
学 柴田
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Hitachi Ltd
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    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路装置に関し、特に、マイクロ
プロセッサを含むシステムを搭載する半導体集積回路装
置に適用して有効な技術に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体デバイスの高集積化にともない、マイクロプロセ
ッサモジュールを含むシステム全体を1つの半導体基板
内に集積化する、所謂1チツプマイコンの開発が進めら
れている。この種の半導体集積回路装置は前記システム
の各モジュールを個別に集積化した半導体集積回路装置
をプリント配線板上に複数個実装し構成したシステムに
比べて遥かに高速性能に優れている。
本発明者が開発中の半導体集積回路装置はASI C(
Application 5pecific I C:
特定用途向けIC)として構成されている。つまり、こ
の種の半導体集積回路装置は例えばゲートアレイ方式を
採用することにより形成されている。半導体集積回路装
置は平面形状が方形状の半導体基板(半導体チップ)の
主面の中央部分に前記システムの各モジュールを配置し
ている。前記システムの周辺には内側から外側に向って
入出力バッファ回路、外部端子(ポンディングパッド)
の夫々が配置されている。
前記半導体集積回路装置は、前記人出カバソファ回路、
外部端子の夫々を介在させ、前記システムの各モジュー
ルを外部共通バスラインに接続する方式でプリント配線
板に実装されている。外部共通バスラインはプリント配
線板の実装面上に形成されている。
なお、前記ゲートアレイ方式を採用する半導体集積回路
装置については、例えば電子材料、1987年7月号、
第49頁乃至第52頁に記載されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
前述のマイクロプロセッサモジュールを含む半導体集積
回路装置の開発中において、本発明者は次の問題点が生
じることを見出した。
前記半導体集積回路装置に搭載されたシステムの各モジ
ュールは個々に外部共通バスラインに接続されている。
つまり、この種の接続方式は、外部共通バスラインの各
信号配線の本数と前記システムのモジュールの配置数と
の積に相当する外部端子数及び入出力バッファ回路数が
半導体集積回路装置に必要となる。このため、モジュー
ルと外部共通バスラインとの接続のための外部端子数が
増大するので、回路の実装効率が低下するという問題が
あった。
また、半導体集積回路装置は高集積化を図るためにCM
O8を採用することが有利である。ところが、前記シス
テムの各モジュールからCMO8で構成された人出力バ
ッファ回路を通して外部共通バスラインに信号を出力す
る場合、人出力バッファ回路の駆動能力が低いので、外
部共通バスラインに直接々続することが難しい。このた
め、半導体集積回路装置と外部共通バスラインとの間に
駆動能力増強用のデバイスを外付けしなくてはならない
という問題があった。
本発明の目的は、マイクロプロセッサモジュルを含むシ
ステムを搭載した半導体集積回路装置において、外部共
通バスラインと接続するための外部端子数を低減し、回
路の実装効率を向上することが可能な技術を提供するこ
とにある。
本発明の他の目的は、前記目的を達成すると共に、前記
半導体集積回路装置の駆動能力を向上することが可能な
技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記目的を達成すると共に、前記
半導体集積回路装置の集積度を向上することが可能な技
術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
〔課題を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)マイクロプロセッサユニット、メモリユニット等
の各モジュールを含むシステムを1つの半導体基板の主
面に集積化する半導体集積回路装置であって、前記半導
体基板の主面に各モジュールに共通の内部バスラインを
設け、この内部バスラインと各モジュールとの間にバイ
ポーラトランジスタを有するバッファ回路を設ける。
(2)前記内部バスラインは中央部分を延在し、この内
部バスラインの両側に沿って前記バッファ回路を介在さ
せて前記システムの各モジュールを配置する。
(3)前記システムの各モジュールの外周に前記バッフ
ァ回路を介在させて外部端子を配置し、この外部端子と
前記バッファ回路との間又は外部端子の外側に沿って前
記内部バスラインを配置する。
(4)前記内部バスラインに接続されたバッファ回路は
それ以外に配置されたバッファ回路に比べて小さい面積
で構成する。
〔作  用〕
上述した手段(1)乃至(3)の夫々によれば、前記シ
ステムの各モジュール毎に外部共通バスラインの各信号
配線の本数に対応した外部端子(ポンディングパッド)
を配置することがなく、前記内部バスラインの各信号配
線の本数に対応するだけの外部端子を配置すればよいの
で、外部共通バスラインに接続するための外部端子の配
置数を低減することができ、回路の実装効率を向上する
ことができる”と共に、各モジュールの出力をバッファ
回路のバイポーラトランジスタで行うことができるので
、駆動能力を高めることができる。
上述した手段(4)によれば、前記内部バスラインに接
続されるバッファ回路の占有面積を縮小することができ
るので、半導体集積回路装置の集積度を向上することが
できる。
以下、本発明の構成について、一実施例とともに説明す
る。
なお、実施例を説明するための全回において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
[発明の実施例〕 (実施例1) 本発明の実施例Iであるマイクロプロセッサモジュール
を含むシステムを搭載した半導体集積回路装置の基本概
略構成を第1図(チップレイアウト図)で示す。
第1図に示すように、半導体集積回路袋w1は平面形状
が方形状のチップ(例えば単結晶珪素基板)で構成され
ている。この半導体集積回路装置1は、例えばASIC
として構成され、セミカスタム方式(ゲートアレイ方式
を含む)やカスタム方式(スタンダードセル方式、フル
カスタム方式の夫々を含む)で構成されている。
この半導体集積回路装置1の方形状の中央部分にはマイ
クロプロセッサユニット(MPU)5を含むシステムが
搭載されている。これに限定されないが、前記システム
はマイクロプロセッサユニット5の他にダイレクトメモ
リアクセスコントロラユニット(DMAC)6、メモリ
ユニット(R○M/RAM)7、ハードディスクコント
ローラユニット(HDC)8及びフロッピーディスクコ
ントローラ(FDC)9の各モジュールで構成されてい
る。前記メモリユニット7はRAMとして例えばDRA
M、SRAMのいずれか或は両者で構成されている。ま
た、ROMとしては例えばマスクROM、EPROM、
EEFROMのいずレカ或はそれらの組合せで構成され
ている。
本実施例においては、前記システムのマイクロプロセッ
サユニット5及びダイレクトメモリアクセスコントロー
ラユニット6は半導体集積回路装置1の上側の主面に配
置されている。また、前記システムのメモリユニット7
、ハードディスクコントローラユニット8及びフロッピ
ーディスクコントローラ9は半導体集積回路装置1の下
側に配置されている。前記システムの各モジュールは高
集積化を目的として0MO8を主体とする回路で構成さ
れている。また、各モジュールの出力段回路等、駆動能
力を要求される回路はバイポーラトランジスタ又はバイ
ポーラトランジスタと0MO8とを組合せた回路で構成
されている。つまり、本実施例の半導体集積回路装置1
は同一半導体基板の主面にバイポーラトランジスタとC
,MOSとを混在させた所謂Bi−CMO8で構成され
ている。
前記半導体集積回路装置1の前記システムの周囲つまり
方形状のチップの各辺に沿った周辺部分には入出力バッ
ファ回路3が複数配置されている。
また、半導体集積回路装置1の人出力バッファ回路3の
さらに周囲には外部端子(ポンディングパッド)2.2
Aの夫々が複数配置されている。
本実施例の半導体集積回路装置1はこれに限定されない
が2層配線構造で構成されている。つまリ、前記システ
ムの各モジュールを構成する半導体素子間は主に2層の
配線層で結線されている。
この2層配線構造の各配線層は例えばアルミニウム配線
で形成されている。前記外部端子2.2Aの夫々は2層
目(又は/及び1層目)の配線形成工程と同一製造工程
で形成されている。
前記外部端子2.2Aの夫々のうち、外部端子2は半導
体集積回路装置1のシステムの各モジュール又はそれ以
外の論理回路と半導体集積回路装置1の外部に配置され
る外部装置とを接続する入力信号用又は出力信号用外部
端子として使用される。外部端子2は前記システムの周
囲のほぼ全域に配置されている。
外部端子2.2Aの夫々のうち、外部端子2Aは半導体
集積回路装置1の内部に配置された内部バスライン4と
半導体集積回路装置1の外部に配置された図示しない外
部共通バスラインとを接続するように構成されている。
つまり、外部端子2Aはバスライン専用の入力信号用又
は出力信号用外部端子として使用される。外部端子2A
は、本実施例の半導体集積回路装置1において、方形状
のチップの対向する2辺の夫々の中央部分に複数個配置
されている。
前記バスライン専用の外部端子2Aに接続された内部バ
スライン4は半導体集積回路装置1の中央部分に配置さ
れている。内部バスライン4は前記システムの各モジュ
ールに共通のバスラインとして構成されている。具体的
に内部バスライン4は半導体集積回路装置1の上側に配
置されたモジュール(5及び6)と下側に配置されたモ
ジュール(7〜9)との間に配置されている。内部バス
ライン4は所定のピッチで同一方向(第1図においては
横方向)に延在する複数本の信号配線で形成されている
。この内部バスライン4は2層配線構造を形成するいず
れかの配線層を形成する工程で形成されている。前記外
部共通バスラインは図示しないが例えば半導体集積回路
装置1を実装するプリント配線板に形成されている。
前記人出力バッファ回路3は前記システムの各モジュー
ルと外部端子2との間に複数個配置されている。この人
出カバソファ回路3は前記各モジュール又はそれ以外の
論理回路と外部装置とのインターフェイス回路として構
成されている。人出カバソファ回路3は第2図(等価回
路図)に示すように例えばスリーステートバッファ回路
で構成されている。同第2図に示す人出力バッファ回路
3は、CMO8、バイポーラトランジスタ、抵抗素子及
びショットキーバリアダイオード素子を主体に構成され
ている。特に、人出力バッファ回路3は、出力バッファ
回路として構成した場合に駆動能力を増強できるように
、バイポーラトランジスタからなるプルダウン構造を構
成できるようになっている。第2図中、INは入力信号
端子、OUTは出力信号端子、ENBはイネーブルバッ
ファ信号端子、Vccは電源端子である。この人出力バ
ッファ回路3は、前記各半導体素子が予じめ基本設計に
より配置された人出力バツファ回路用セルの各半導体素
子を前記2層配線構造のうちの第1層目配線で結線する
ことにより形成されている。
前記第1図に示すように、前記半導体集積回路装置1の
上側に配置されたモジュール(5及び6)、下側に配置
されたモジュール(7〜9)の夫々と内部バスライン4
との間には入出力バッファ回路3Aが複数個配置されて
いる。この人出力バッファ回路3Aは前記システムの各
モジュールと内部バスライン4とを接続するように構成
されている。
人出力バッファ回路3Aは、第2図に示す入力信号端子
INの近傍に配置されたいくつかのCM○S(点線で囲
まれた領域のCMO8)が配置されていないだけで、前
記第2図に示す人出カバソファ回路3とほぼ同一構造で
構成されている。つまり、内部バスライン4に接続され
る人出力バッファ回路3Aは、前記いくつかのCMO8
に相当する分、入出力バッファ回路3に比べて小さい面
積で構成されている。この人出力バッファ回路8Aは、
前記人出力バッファ回路3と同様に、入出力バッファ回
路用セルの各半導体素子を第1層目の配線で結線するこ
とにより形成されている。
このように、マイクロプロセッサユニット5等の各モジ
ュールを含むシステムを搭載する半導体集積回路装置1
であって、前記各モジュール(5〜9)に共通の内部バ
スライン4を設け、この内部バスライン4と各モジュー
ルとの間にバイポーラトランジスタを有する入出力バッ
ファ回路8Aを設ける。具体的には、前記内部バスライ
ン4は前記システムの中央部分に延在させ、この内部バ
スライン4の両側に沿って前記人出力バッファ回路3A
を介在させて前記システムの各モジュールを配置する。
この構成により、前記システムの各モジュール(5〜9
)毎に外部共通バスラインの各信号配線の本数に対応し
た外部端子2Aを配置することがなく、前記内部バスラ
イン4の各信号配線の本数に対応するだけの外部端子2
Aを配置すればよいので、外部共通バスラインに接続す
るための外部端子2Aの配置数を低減することができる
と共に、各モジュールの出力を入出力バッファ回路3A
のバイポーラトランジスタで行うことができるので、駆
動能力を高めることができる。
つまり、半導体集積回路装W1は、バスライン専用の外
部端子2Aの配置数を低減した分、それ以外の外部端子
2の配置数を増加することができるので、回路の実装効
率を向上することができると共に、内部バスライン4と
外部共通バスラインとを外付駆動装置を介在させずに直
接々続することができる。
また、前記内部バスライン4に接続された人出カバソフ
ァ回路3Aはそれ以外に配置された入出力バッファ回路
3に比べて小さい面積で構成する。
この構成により、前記内部バスライン4に接続され′る
入出力バッファ回路3Aの占有面積を縮小することがで
きるので、半導体集積回路装置1の集積度を向上するこ
とができる。
(実施例■) 本実施例■は、前記実施例Iの半導体集積回路装置にお
いて、内部バスラインを前記システムの周囲に配置した
、本発明の第2実施例である。
本発明の実施例■であるマイクロプロセッサモジュール
を含むシステムを搭載した半導体集積回路装置の基本概
略構成を第3図(チップレイアウト図)で示す。
第3図に示すように、本実施例Hの半導体集積回路装置
1は、マイクロプロセッサユニット5等のモジュールを
含むシステムの周囲に内部バスライン4を配置している
。つまり、内部バスライン4は、人出力バッファ回路3
と外部端子2との間(又は外部端子2の外周でもよい)
に配置され、前記システムの周囲を取り囲むように延在
させている。
前記システムと内部バスライン4との間には複数個の人
出力バッファ回路3が配置されている。
前記システムの各モジュールと内部バスライン4との間
に配置されるバスライン専用の入出力バッファ回路3A
は、人出カバソファ回路3が配置される周辺の領域にお
いて、規則的に或はランダムに配置されている。また、
前記外部端子2のうち、所定の領域例えば入出力バッフ
ァ回路3Aの近傍に配置された外部端子2は、配線形成
工程で内部バスライン4に接続され、バスライン専用の
外部端子2Aとして使用される。
このように、マイクロプロセッサユニット5等の各モジ
ュールを含むシステムを搭載する半導体集積回路装置1
であって、前記システムの各モジュールの外周に入出力
バッファ回路3Aを介在させて外部端子2Aを配置し、
この外部端子2Aと前記人出力バッファ回路8Aとの間
又は外部端子2Aの外側に沿って内部バスライン4を配
置する。
この構成により、前記実施例Iと実質的に同様の効果を
奏することができる。
以上、本発明者によりなされた発明を前記実施例に基づ
き具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において
、種々変更し得ることは勿論である。
〔発明の効果〕
本願において開示された発明のうち、代表的なものの効
果を簡単に説明すれば、次のとおりである。
マイクロプロセッサモジュールを含むシステムを搭載す
る半導体集積回路装置において、バスライン専用の外部
端子数を低減することができると共に、外部装置の駆動
能力を向上することができる。
また、前記半導体集積回路装置において、集積度を向上
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例Iであるマイクロプロセッサ
モジュールを含むシステムを搭載した半導体集積回路装
置の基本概略構成を示すチップレイアウト図、 第2図は、前記半導体集積回路装置の入出力バッファ回
路の等価回路図、 第3図は、本発明の実施例■であるマイクロプロセッサ
モジュールを含むシステムを搭載した半導体集積回路装
置の基本概略構成を示すチップレイアウト図である。 図中、1・・・半導体集積回路装置、2,2A・・・外
部端子、3,3A・・・入出力バッファ回路、4・・・
内部バスライン、5〜9・・・モジュールである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、マイクロプロセッサユニット、メモリユニット等の
    各モジュールを含むシステムを1つの半導体基板の主面
    に集積化する半導体集積回路装置であって、前記半導体
    基板の主面に各モジュールに共通の内部バスラインを設
    け、該内部バスラインと各モジュールとの間にバイポー
    ラトランジスタを有するバッファ回路を設けたことを特
    徴とする半導体集積回路装置。 2、前記内部バスラインは前記半導体基板の中央部分を
    延在し、この内部バスラインの両側に沿った半導体基板
    の主面には前記システムの各モジュールを配置し、前記
    内部バスラインと各モジュールとの間の主面には前記バ
    ッファ回路が配置されていることを特徴とする請求項1
    に記載の半導体集積回路装置。 3、前記システムの各モジュールの外周に沿った半導体
    基板の主面には前記バッファ回路を介在させて外部端子
    を配置し、該外部端子と前記バッファ回路との間又は外
    部端子の外側に沿った半導体基板の主面には前記内部バ
    スラインを配置したことを特徴とする請求項1に記載の
    半導体集積回路装置。 4、前記内部バスラインに接続されたバッファ回路はそ
    れ以外に配置されたバッファ回路に比べて小さい面積で
    構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3
    に記載の夫々の半導体集積回路装置。
JP1040528A 1989-02-20 1989-02-20 半導体集積回路装置 Pending JPH02219254A (ja)

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