JPH07265667A - 排ガスの処理方法 - Google Patents

排ガスの処理方法

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JPH07265667A
JPH07265667A JP6062885A JP6288594A JPH07265667A JP H07265667 A JPH07265667 A JP H07265667A JP 6062885 A JP6062885 A JP 6062885A JP 6288594 A JP6288594 A JP 6288594A JP H07265667 A JPH07265667 A JP H07265667A
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JP
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exhaust gas
ammonia
temperature
amount
denitration
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JP6062885A
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English (en)
Inventor
Shinichi Yamada
慎一 山田
Kazuyoshi Takahashi
和義 高橋
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters

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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 窒素酸化物あるいは窒素酸化物と硫黄酸化物
とを含有する排ガスにアンモニアを注入し、炭素質触媒
が充填されている移動床反応器に導入して、脱硝または
脱硫・脱硝処理し、一方排ガスとの接触により不活性化
した前記炭素質触媒を加熱再生する排ガスの処理方法に
おいて、注入するアンモニア量を、排ガス温度の変化に
応じて変化させることを特徴とする排ガスの処理方法。 【効果】 本発明により、炭素質触媒充填の移動床反応
器における脱硝法または脱硫・脱硝法において、排ガス
の温度が変化してもアンモニアの排ガス中への漏洩の増
大がが防止される。また、排ガス温度の低下に際して
も、脱硝効率の減少が改善される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガスの処理方法に関
し、詳しく言えば、排ガスの温度変化に伴うアンモニア
リーク、脱硝率の低下を防止できる改良された排ガスの
処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】活性炭、活性コークスなどの炭素質触媒
を用いる排ガスの処理方法は、湿式法の様な用水の確
保、排水処理、排ガス温度の低下などの問題が無いとい
う乾式法の特徴を有している。さらに、一般のバナジウ
ム触媒担持のアンモニア接触脱硝法に対比して、比較的
低温で硫黄酸化物(SOX)のみならず窒素酸化物(N
OX)も除去できるのに加えて、簡単な加熱再生により
触媒が容易に再生できるという大きな利点を有してい
る。
【0003】具体的には、この方法は、SOX、NOXを
含有する排ガス、燒結炉排ガス、ごみ焼却炉排ガスなど
にアンモニアを注入し、活性炭あるいは活性コークスな
どの炭素質触媒を充填した反応器中を通過させて排ガス
を処理するものである。この方法では、温度は通常のボ
イラー排ガスの温度である130〜150℃であるが、
この程度の低温は炭素質触媒の酸素による消耗を防ぐ点
でも有利である。
【0004】排ガス中のSOXは、炭素質触媒にまず硫
酸の形で吸着される。排ガス中のSO2は共存するO2、
H2Oと触媒表面で反応してH2SO4に酸化されるから
である。ここに、アンモニアを注入すると、低温ではN
H3と、触媒上に生成したH2SO4とが反応し、酸性硫
安NH4HSO4や硫安(NH4)2SO4となる。大部分
のアンモニアは硫酸との反応に使われ、一部のみがNO
Xとの反応に使われるに過ぎないことになる。つまり、
触媒は硫酸を吸着することで、活性吸着点が減り、いわ
ば被毒された状態となり、また、アンモニアも硫酸のほ
うに優先的に結合するので、アンモニア量がNOXと当
量程度ではバランス的にもアンモニアは不足する。
【0005】従って、排煙中のSOXの濃度がNOXのそ
れに比べて高い場合は、脱硝率は低下してしまう。この
問題の解決法として、特公昭63ー50052号公報に
は、まず第1の反応器に排ガスを通過させて、大部分の
SOXをあらかじめ除去し、しかる後に第2の反応器に
排ガスを通過させて、ここではNOXを専ら除去させる
方法が提案されている。この方法では、高SOX濃度の
排ガスでも70〜80%またはそれ以上の脱硝率が得ら
れる。
【0006】しかし、排ガスの温度は上流側の影響を受
けて変化し易い。通常は140℃前後と一定であるが
(ボイラーによって異なる)、ボイラー側の状態によっ
て、20℃前後の温度変化がある。例えば20℃の温度
上昇があった場合、炭素質触媒上にNH3が吸着されて
いるので、温度上昇により吸着NH3が一気に脱離して
しまうことになる。従って、処理ガス中のアンモニア濃
度が著しく高くなるというアンモニアのリークの問題が
起こる。
【0007】この問題は、特に低温排ガス(100〜1
20℃前後)において顕著になる。低温ではNH3の炭
素質触媒への吸着量が多く、僅かな温度上昇によって多
量のNH3が脱離するからである。
【0008】逆に、排ガス温度が、ボイラー側の状態に
よっては、低下することもある。この場合、炭素質触媒
上のNH3の吸着量は増加するが、NOXとNH3との反
応速度は低下するので、脱硝率は低下する。従って、余
分のNH3が吸着されたままで炭素質触媒に残り、次に
温度が上がったときにより一層のNH3を排ガス中に放
散することになる。
【0009】このようなアンモニアの排ガスへのリーク
を抑える方法の一つとして、特開昭59ー196719
号公報には、排ガス処理後のガス中に微量のSO3を添
加してNH3と反応させ、生成したアンモニアの硫酸塩
固形分を後段のバグフィルターなどの集塵機で捕集する
方法が提案されている。
【0010】また、別の方法として、特開平1−530
86号公報には、脱硫のための第1の反応器と脱硝のた
めの第2の反応器とともに第3の反応器を設け、この第
3の反応器に、第1の反応器でSOXを吸着した炭素質
触媒と、第2の反応器からのアンモニア含有ガスとを導
き、リークNH3をSOXと反応させ、結局アンモニアの
硫酸塩としてこれを除去する方法が記載されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】排ガスの温度変化があ
る場合のアンモニアリークの問題を解決する、上記の特
開昭59−196719号および特開平1−53086
号公報に記載の従来方法は、いずれもアンモニア含有ガ
スの全量を処理対象とするもので、それぞれ大型の集塵
装置と第3の反応器を必要とし、方法の煩雑さに加え、
経済性に問題が生ずる。
【0012】本発明の目的は、特別な大掛かりの設備を
用いることなく、簡便な方法でアンモニアのリーク問題
を解決することができ、しかも、排ガス温度の低下に伴
う脱硝率の低下も抑えることができる排ガスの処理方法
を提供するものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するものであり、窒素酸化物あるいは窒素酸化物と硫
黄酸化物とを含有する排ガスにアンモニアを注入し、炭
素質触媒が充填されている移動床反応器に導入して、脱
硝または脱硫・脱硝処理し、一方排ガスとの接触により
不活性化した前記炭素質触媒を加熱再生する排ガスの処
理方法において、注入するアンモニア量を、排ガス温度
の変化に応じて変化させることを特徴とする排ガスの処
理方法を要旨とするものである。
【0014】以下本発明を詳説する。
【0015】本発明の排ガス処理方法のポイントは、注
入するNH3量を、排ガスの温度変化に合わせて調節す
ることにある。例えば、排ガス温度が上昇する場合に
は、注入するアンモニア量を減少させることにより、温
度上昇に伴って炭素質触媒から離脱したNH3を、排ガ
ス中のNOXとの反応に消費させることができ、排ガス
へのアンモニアリーク量を減少させることができる。逆
に、排ガス温度が低下した場合は、注入するアンモニア
量を増加させることにより、NH3濃度を高め、脱硝反
応速度を上げ、所定の脱硝率を得ることができる。
【0016】図面を参照して本発明の排ガス処理方法を
詳述する。図1において排ガスはライン2からのアンモ
ニアを注入後、60〜180℃の範囲の温度でライン1
を経て直交流式移動床反応器3へ導入される。排ガス
は、反応器3の中を下向きに移動する炭素質触媒床4の
中を流れ、触媒と接触して脱硫、脱硝される。反応器3
を出た処理後の清浄ガスは、直接あるいは集塵機を経て
ライン5より大気中へ放出される。
【0017】反応器3の中の不活性化した炭素質触媒
は、反応器3の下部から引き抜かれ、再生器6へ送られ
る。ここで、不活性ガス雰囲気のもとに300〜600
℃に加熱されて再生が行なわれる。再生された触媒は、
振動スクリーンなどの分離器7にかけられ、粉化した触
媒およびダストが除去される。その後再生された触媒は
コンベアーなどによってライン8を経て反応器3の上部
に戻される。再生器6で回収された高濃度のSO2ガス
はライン9を経て後段の、例えば硫酸、硫黄または石膏
製造工程に供給される。
【0018】図2においては排ガスは、60〜180℃
の範囲の温度で、直接またはライン2aよりのアンモニ
アを注入後、ライン1を経て第1の直交流式移動床反応
器3へ導入される。排ガスは、反応器3の中を下向きに
移動する炭素質触媒床4の中を流れ、触媒と接触して主
として脱硫が行なわれるが、一部脱硝も行なわれ、第1
の反応器3から排出される。第1の反応器を出たガス
は、ライン5を経て第2の直交流式移動床反応器10へ
導入される。ライン2bからアンモニアが注入されたラ
イン5のガスは、第2の反応器10の中を下向きに移動
する炭素質触媒床11の中を流れ、触媒と接触し、一部
脱硫が行なわれが、主としては脱硝が行なわれる。この
ようにして得られた清浄ガスはライン12を経て直接ま
たは集塵機を経てライン12より大気中へ放出される。
【0019】一方、上記触媒は、第2の反応器10の下
部より排出されたものが、第1の反応器3の上部に供給
される。第1の反応器3の下部より排出された不活性化
炭素質触媒は、再生器6へ送られ、不活性ガス雰囲気の
もとに300〜600℃に加熱されて再生が行なわれ
る。再生された触媒は、振動スクリーンなどの分離器7
にかけられ、粉状化した触媒およびダストが除かれる。
その後再生された触媒はコンベアーなどによってライン
8経由で反応器10の上部に戻され、循環使用されるこ
とになる。
【0020】本発明で用いる触媒は、一般には炭素含有
物質である石炭、ピッチ、あるいは木材、椰子殻などの
植物由来物質、さらにはプラスチックなどを炭化した
り、さらに水蒸気などで賦活して得られるものも使用さ
れる。触媒活性を上げるためにバナジウム、マンガン、
鉄、銅などの金属酸化物を担持あるいは含有させたりし
てもよい。
【0021】前述のように、本発明のポイントは、図1
および図2の実施態様においてライン2,2a,2bを
経て注入されるアンモニア量を、排ガスの温度に合わせ
て変化させて、処理ガス中にリークするNH3量を低減
させることにある。さらにこの方法を実施すると、排ガ
スの温度が低下しても、脱硝率の低下が抑えられるとい
う効果も得られる。
【0022】アンモニアの注入箇所について言えば、図
2の実施例では、2箇所の注入箇所でそれぞれアンモニ
アの注入量を調節して排ガスの温度変化に対応させてい
る。しかし、排ガスにSOXが多い場合は、第1の反応
器では脱硫が主体になり、脱硝は付加的に過ぎなくな
る。従って、排ガスの温度変化があっても、アンモニア
リーク量の変化も極めて少なくなる。操作の簡便性の観
点からは、第2の反応器の前でのみアンモニア注入量を
調節すれば足りることが多い。
【0023】上述のように本発明ではアンモニアの注入
量を、排ガス温度に対応して変化させるのであるが、そ
の量の調節は、図1に示されるように、ライン1中の地
点における排ガスの温度Tを検出し、その信号を基にし
てコントローラー13によりアンモニア供給バルブ14
を制御することによって行われる。
【0024】また図2に示す実施態様では、ライン1中
の地点における排ガス温度Taおよびライン5中の地点
における排ガス温度Tbを検出し、それらの信号に基づ
いてコントローラ13によりアンモニア供給バルブ14
aおよび14bの開度を制御することにより、アンモニ
ア注入量が変化される。
【0025】尚、ライン5が短くTbを検出してNH3
注入量を制御することが難しい場合は、Taを検出して
ライン2bから供給されるNH3の注入量を制御しても
よい。 さて、炭素質吸着剤(触媒)に吸着されるアン
モニア量q(gNH3/Kg触媒として表される)は、
排ガスの温度Tが上がると少なくなり、排ガス中のアン
モニアの濃度とともに増大する。すなわち、数式的には
概略次式のように表される。
【0026】q=k(Ca/Tb)−−− (A) ここで、C = アンモニア濃度(ppm) T = 排ガス温度(K) k,a,b = 定数
【0027】この関係式を、横軸に温度Tを取り、パラ
メーターをアンモニア濃度Cとして表すと図3のように
なる。
【0028】いま、標準的に排ガス温度140℃、注入
アンモニア濃度C0(ppm) で運転されているものとす
る。次に排ガス温度が160℃に上昇すると、図3に示
すようにΔq1に相当するアンモニアが触媒から離脱す
る。ところが、上記(A)式の関係からアンモニア濃度
をC1(ppm)に変更すると、脱離するアンモニアがなく
なる。つまり、アンモニアリークが制御されることにな
る。
【0029】逆に、排ガス温度140℃、注入アンモニ
ア濃度C0(ppm)で運転していたものが、120℃へ排
ガス温度が低下したとする。この場合、アンモニア吸着
量はΔq2だけ増加するので、アンモニア濃度をC2(pp
m)に設定すればよい。
【0030】次に、本発明を化学反応の面から詳細に説
明する。注入されたNH3は、次の式(1)、(2)、
(3)、(4)、(5)に従い、脱硝反応、脱硫反応お
よび炭素質触媒への吸着によって消費される。NOXと
の反応では窒素と水が生成し、SOXが触媒の表面で酸
化されて生成した硫酸との反応では、酸性硫安と硫安が
生成し、さらに物理的に触媒表面に吸着されるのであ
る。
【0031】脱硝反応 NO+NH3+1/4O2→N2+3/2H2O (1) NO+NO2+2NH3→2N2+3H2O (2) 硫酸との反応 H2SO4+NH3→NH4HSO4* (3) NH4HSO4+NH3→(NH4)2SO4* (4) 炭素質触媒への吸着 NH3+C→C・・・・NH3* (5) *:吸着状態を示す C:炭素質触媒を表す
【0032】式(5)に示される、炭素質触媒に吸着さ
れるNH3の量は、式(A)に示されるようにNH3濃度
が高い程多く、また炭素質触媒の温度が低いほど多い。
従って、排ガス温度が上昇すると、炭素質触媒に吸着さ
れていたNH3が急激に脱着して排ガス中へリークする
ことになる。
【0033】排煙脱硝法では、勿論NOXの除去が目的
であるが、アンモニアをリークさせてしまうことは薬剤
のロスのみならず環境の面でも許されることではない。
NH3の注入量の制御は必須の技術である。従来の方法
では反応器の出口のNH3濃度を検出し、これを信号と
して反応器の入口のNH3の注入量を制御することが一
般であった。しかし、このようなフィードバック方式で
あると、アンモニアの脱着が急速に起きた場合は、NH
3濃度を検出してから信号を送って入口のアンモニア注
入量を絞っても、効果が少なく、所望の制御は困難であ
った。
【0034】これに対して本発明によれば、本発明者ら
が見い出した式(A)に従い、排ガス温度が上がったと
きに出口のNH3濃度の上昇を待たずにアンモニア注入
量の減少を操作すべき信号が得られるので、急激なアン
モニアの脱着にも速やかに応答することができる。注入
量を減少させても、脱着によりNH3がある程度は出て
くるが、これはNOXとの反応に使われる程度の量なの
で処理ガス中にリークするNH3を非常に低いレベルに
保持することができる。
【0035】また、排ガス温度が急激に低下した場合
も、アンモニアの増加した吸着量に対応するために必要
な不足のアンモニアを、NOXの出口濃度の変化を待た
ずに式(A)に従い補うことができるので、極めて正確
な制御を行なうことができる。
【0036】
【実施例】以下、図1の構成に従う本発明の実施例を、
従来技術を用いる比較例と対比しつつ詳細に説明する。
【0037】実施例1 50ppmのSOXと200ppmのNOXを含む140
℃のボイラー排ガスを1000Nm3 /hで取り出し、
これにNH3を250ppm注入後、活性炭を1.67
m3充填した直交流式移動床反応器に導入し、同反応器
内を下降する活性炭触媒床と接触させて脱硫と脱硝の同
時処理を行なった。活性炭の反応器内の滞留時間は、3
0時間となるように移動速度を設定した。
【0038】上記の条件で運転を続けていたが、その後
排ガス温度が140℃から160℃に上昇した。この温
度変化に見合うアンモニア濃度を、上記の式(A)に従
って200ppmと算出し、ただちにNH3注入量を2
50ppmから200ppmへと変化させた。得られた
結果を図4に示す。図4に示すように排ガス温度が16
0℃に上昇しても、アンモニアのリーク濃度に異常は無
く、従前通り数ppm以下に保たれていた。
【0039】比較例1 実施例1で述べたと同一の条件で、140℃で運転を続
けていたが、その後排ガス温度が160℃に上昇した。
しかし、NH3注入量は排ガス温度が変わっても250
ppmと一定になるようにしておいた。得られた結果を
図5に示す。図5に示すように排ガス温度の上昇に応答
して、アンモニアのリーク濃度は異常に上昇し、従前の
数ppmから40ppm以上にもなった。
【0040】実施例2 50ppmのSOXと200ppmのNOXを含む140
℃のボイラー排ガスを1000Nm3/hで取り出し、
これにNH3を250ppm注入後、活性炭を1.67
m3 充填した直交流式移動床反応器に導入し、同反応器
内を下降する活性炭触媒床と接触させて脱硫と脱硝の同
時処理を行なった。活性炭の反応器内の滞留時間は、3
0時間となるように移動速度を設定した。
【0041】上記の条件で運転を続けていたが、その後
排ガス温度が120℃に降下した。この温度変化に見合
うアンモニア濃度を、上記の式(A)に従って300p
pmと算出し、ただちにNH3注入量を250ppmか
ら300ppmへと変化させた。得られた結果を図6に
示す。図6に示すように排ガス温度が低下しても、アン
モニアのリーク濃度に異常は無く、従前通り数ppm以
下に保たれていた。また、脱硝率の低下も僅かであっ
た。
【0042】比較例2 実施例2の上記の条件でまず140℃で運転を続けてい
たが、その後排ガス温度が120℃に低下した。しか
し、NH3注入量は排ガス温度が変わっても250pp
mと一定になるようにしておいた。得られた結果を図7
に示す。図7に示すように排ガス温度の低下に応答し
て、アンモニアのリーク濃度は少し減少したものの、一
方では脱硝率が異常に低下し、従前の80%から65%
以下にも下がってしまった。
【0043】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、炭素質触
媒充填移動床反応器を用いる排煙脱硝法または排煙脱硫
・脱硝法において、注入されるアンモニア量を、排ガス
の温度に合わせて変化させることにより、処理ガス中に
リークするNH3量を低減させることができる。また、
本発明によれば、排ガスの温度が低下しても脱硝率の低
下が抑えられるという利点も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法を実施するための脱硫・脱硝装置
の構成例の一つを示す図である。
【図2】本発明の方法を実施するための脱硫・脱硝装置
の構成例の別の一つを示す図である。
【図3】炭素質触媒に吸着されるアンモニアの量を、温
度Tを横軸に、アンモニア濃度Cをパラメーターとして
示す図である。
【図4】本発明の実施例1において、排ガス温度の上昇
に応じてNH3注入量を低下させた場合の脱硝率とアン
モニアリークの応答を示す図である。
【図5】比較例1において、排ガス温度上昇の際にもN
H3注入量を一定にしておいた場合の脱硝率とアンモニ
アリークの応答を示す図である。
【図6】本発明の実施例2において、排ガス温度の低下
に応じてNH3注入量を増加させた場合の脱硝率とアン
モニアリークの応答を示す図である。
【図7】比較例2において、排ガス温度の低下の際にも
NH3注入量を一定にしておいた場合の脱硝率とアンモ
ニアリークの応答を示す図である。
【符号の説明】
1 排ガスライン 2,2a,2b アンモニア注入ライン 3 移動床反応器 4 炭素質触媒床 5 ライン 6 加熱再生器 7 分離器 8 ライン 9 ライン 10 第2移動床反応器 11 第2炭素質触媒床 12 ライン 13 コントローラ 14,14a,14b アンモニア調節バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/77 53/56 53/74 53/60 53/86 ZAB 53/96 B01D 53/34 125 B 129 E 132 Z 53/36 ZAB 102 E

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒素酸化物あるいは窒素酸化物と硫黄酸
    化物とを含有する排ガスにアンモニアを注入し、炭素質
    触媒が充填されている移動床反応器に導入して、脱硝ま
    たは脱硫・脱硝処理し、一方排ガスとの接触により不活
    性化した前記炭素質触媒を加熱再生する排ガスの処理方
    法において、注入するアンモニア量を、排ガス温度の変
    化に応じて変化させることを特徴とする排ガスの処理方
    法。
  2. 【請求項2】 排ガス温度が上昇する場合には注入する
    アンモニア量を減少させ、逆に排ガス温度が低下した場
    合は注入するアンモニア量を増加させることを特徴とす
    る請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 排ガスの温度と排ガス中のアンモニア濃
    度とアンモニアの触媒への吸着量との関係式によって定
    まる排ガス中のアンモニア濃度になるように排ガスへの
    アンモニアの注入量を変化させることを特徴とする請求
    項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 排ガス温度が低下した場合に注入するア
    ンモニア量を増加させることによって脱硝率の低下を抑
    えることを特徴とする請求項3記載の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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