JPH07286035A - 可溶性導電性高分子及びその製造方法 - Google Patents
可溶性導電性高分子及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式〔I〕
【化1】
(式中、HtはNH、S、O、Se又はTeを、R1 は
直鎖又は枝分れのあるアルキル基を、X1 はCO2 、C
ONH、O、S又はNHを、R2 は置換基を有していて
もよい炭素数3から21の2価の炭化水素基を、Mは酸
化により正の対イオンを生じる原子を示す。)で表わさ
れる構造単位を有する重量平均分子量が500から1,
000,000の導電性高分子及び該導電性高分子を対
応するモノマーを酸化性遷移金属ハロゲン化物の存在下
に化学重合し、重合体を酸性溶液で処理し、製造する製
造方法。 【効果】 簡便な操作で得ることができ、水などの各種
溶媒に可溶で自己ドープ性を有するため、ドーピング処
理の必要もなく、加工性、電気的、機械的性能が優れて
いる。
直鎖又は枝分れのあるアルキル基を、X1 はCO2 、C
ONH、O、S又はNHを、R2 は置換基を有していて
もよい炭素数3から21の2価の炭化水素基を、Mは酸
化により正の対イオンを生じる原子を示す。)で表わさ
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造方法。 【効果】 簡便な操作で得ることができ、水などの各種
溶媒に可溶で自己ドープ性を有するため、ドーピング処
理の必要もなく、加工性、電気的、機械的性能が優れて
いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は自己ドープ性を有し、可
溶性で加工が容易な導電性高分子、製造方法及び前駆体
に関する。
溶性で加工が容易な導電性高分子、製造方法及び前駆体
に関する。
【0002】
【従来の技術】電子伝導性を有する有機高分子材料は、
近年、帯電防止材料、電磁波シールド材料、二次電池、
コンデンサー、エレクトロクロミック表示素子等広範囲
な応用が検討されている。電子伝導性高分子としては、
ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリフェニレンビニレ
ン、ポリピロール、ポリチオフェン、等が知られてい
る。なかでも溶媒に可溶な材料としてはN−メチル−2
−ピロリドンに可溶なポリアニリン(M.Abe et
al.;J.Chm.Soc.,Chem.Comm
un.,1989,1736)、アルキル基などの置換
基を導入したポリピロール、ポリチオフェン(M.−
A.Sato,S.Tanaka,K.Kaeriya
ma:Synth.Met.1987,18,229)
がある。また、ポリフェニレンビニレン等の高分子はそ
の前駆体の高分子が可溶性であることが知られている。
これらの高分子はキャスティングによって製膜すること
が可能であることから、各種高分子フィルムの帯電防止
材料などへの応用が検討されている。しかしながら、導
電性高分子に導電性を付与するためには成形後に電子受
容性あるいは電子供容性の化合物で処理する(以下ドー
ピングとする)必要があり、酸性溶液に浸す、ドーパン
ト蒸気に曝す等の操作を伴うため、加工面での問題点と
なっていた。又、低分子量のドーパントをドープした場
合、溶剤への浸漬や加熱により脱ドープが起こり易いな
どの問題があった。これらの導電性ポリマーの問題点を
解決する手段として、ドーパントとなる対イオンを重合
体に共有結合させた自己ドープ性を有する導電性ポリマ
ー(A.O.Patil et al.J.Am.Ch
em.Soc.1987,109,1858−185
9)が提案されているが、それらのポリマーの製造方法
(特開平2−189333)においては、酸化性遷移金
属ハロゲン化物の存在下に化学重合し、生成物中の遷移
金属イオンを取り除くため塩基性溶液に溶解後、高分子
溶液を濾過することで、生成する遷移金属水酸化物を取
り除く必要があった。また、製膜後のドーピング処理や
高分子溶液とドーパントの混合等を行わずに高い導電性
の自己ドープ型ポリマーを得るためにはイオン交換樹脂
などによる処理を不可欠としていた。このような高分子
溶液の濾過やイオン交換処理は自己ドープ型導電性高分
子の工業的な製法面での障害となっていた。
近年、帯電防止材料、電磁波シールド材料、二次電池、
コンデンサー、エレクトロクロミック表示素子等広範囲
な応用が検討されている。電子伝導性高分子としては、
ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリフェニレンビニレ
ン、ポリピロール、ポリチオフェン、等が知られてい
る。なかでも溶媒に可溶な材料としてはN−メチル−2
−ピロリドンに可溶なポリアニリン(M.Abe et
al.;J.Chm.Soc.,Chem.Comm
un.,1989,1736)、アルキル基などの置換
基を導入したポリピロール、ポリチオフェン(M.−
A.Sato,S.Tanaka,K.Kaeriya
ma:Synth.Met.1987,18,229)
がある。また、ポリフェニレンビニレン等の高分子はそ
の前駆体の高分子が可溶性であることが知られている。
これらの高分子はキャスティングによって製膜すること
が可能であることから、各種高分子フィルムの帯電防止
材料などへの応用が検討されている。しかしながら、導
電性高分子に導電性を付与するためには成形後に電子受
容性あるいは電子供容性の化合物で処理する(以下ドー
ピングとする)必要があり、酸性溶液に浸す、ドーパン
ト蒸気に曝す等の操作を伴うため、加工面での問題点と
なっていた。又、低分子量のドーパントをドープした場
合、溶剤への浸漬や加熱により脱ドープが起こり易いな
どの問題があった。これらの導電性ポリマーの問題点を
解決する手段として、ドーパントとなる対イオンを重合
体に共有結合させた自己ドープ性を有する導電性ポリマ
ー(A.O.Patil et al.J.Am.Ch
em.Soc.1987,109,1858−185
9)が提案されているが、それらのポリマーの製造方法
(特開平2−189333)においては、酸化性遷移金
属ハロゲン化物の存在下に化学重合し、生成物中の遷移
金属イオンを取り除くため塩基性溶液に溶解後、高分子
溶液を濾過することで、生成する遷移金属水酸化物を取
り除く必要があった。また、製膜後のドーピング処理や
高分子溶液とドーパントの混合等を行わずに高い導電性
の自己ドープ型ポリマーを得るためにはイオン交換樹脂
などによる処理を不可欠としていた。このような高分子
溶液の濾過やイオン交換処理は自己ドープ型導電性高分
子の工業的な製法面での障害となっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、水などの溶
媒に可溶で加工性に優れ、耐溶剤性、耐熱性の改質され
た電気的、機械的特性の優れたドーピング処理の不要な
可溶性導電性高分子を提供することを目的とするもので
ある。
媒に可溶で加工性に優れ、耐溶剤性、耐熱性の改質され
た電気的、機械的特性の優れたドーピング処理の不要な
可溶性導電性高分子を提供することを目的とするもので
ある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記のよう
な問題点を解決すべく検討を重ねた結果、ある種のモノ
マーを酸化性遷移金属ハロゲン化物の存在下に化学重合
し、単に遷移金属ハロゲン化物を極性溶媒による洗浄に
より重合体中から取り除き、酸性溶液で処理するだけ
で、可溶性の自己ドープ型導電性高分子として得られる
ことを見いだし、本発明を完成するに至った。
な問題点を解決すべく検討を重ねた結果、ある種のモノ
マーを酸化性遷移金属ハロゲン化物の存在下に化学重合
し、単に遷移金属ハロゲン化物を極性溶媒による洗浄に
より重合体中から取り除き、酸性溶液で処理するだけ
で、可溶性の自己ドープ型導電性高分子として得られる
ことを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0005】即ち本発明は、一般式〔I〕
【化7】 (式中、HtはNH、S、O、Se又はTeを、R1 は
直鎖又は枝分れのあるアルキル基を、X1 はCO2 、C
ONH、O、S又はNHを、R2 は置換基を有していて
もよい炭素数3から21の2価の炭化水素基を、Mは酸
化により正の対イオンを生じる原子を示す。)で表わさ
れる構造単位を有する重量平均分子量が500から1,
000,000の導電性高分子、その製造方法及びモノ
マーの製造方法に関する。
直鎖又は枝分れのあるアルキル基を、X1 はCO2 、C
ONH、O、S又はNHを、R2 は置換基を有していて
もよい炭素数3から21の2価の炭化水素基を、Mは酸
化により正の対イオンを生じる原子を示す。)で表わさ
れる構造単位を有する重量平均分子量が500から1,
000,000の導電性高分子、その製造方法及びモノ
マーの製造方法に関する。
【0006】一般式〔I〕に属する可溶性導電性高分子
のより好ましい具体例は、HtはNH、S、及びSe;
R1 はメチル基;X1 は−COO−あるいは−CONH
−;R2 は直鎖状のアルキル基〔すなわち−(CH2 )
v −(ここで、vは3〜12である)〕である。一般式
〔I〕で示されるモノマー単位以外のモノマー単位を含
むコポリマーをも同様に意図する。代表的な分子量発明
13〜103(重量的)であり、高い分子量が好まし
い。Mで表わされる酸化により正の対イオンを生じる原
子としては水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属
及びアンモニウムイオン等が挙げられる。R2 の炭化水
素の置換基としてはハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキ
シル基、カルボキシル基、アルコキシ基等が挙げられ
る。
のより好ましい具体例は、HtはNH、S、及びSe;
R1 はメチル基;X1 は−COO−あるいは−CONH
−;R2 は直鎖状のアルキル基〔すなわち−(CH2 )
v −(ここで、vは3〜12である)〕である。一般式
〔I〕で示されるモノマー単位以外のモノマー単位を含
むコポリマーをも同様に意図する。代表的な分子量発明
13〜103(重量的)であり、高い分子量が好まし
い。Mで表わされる酸化により正の対イオンを生じる原
子としては水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属
及びアンモニウムイオン等が挙げられる。R2 の炭化水
素の置換基としてはハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキ
シル基、カルボキシル基、アルコキシ基等が挙げられ
る。
【0007】導電性高分子の製造方法は一般式〔II〕
【化8】 (式中、Ht、R1 、X1 、R2 及びMは前記と同じ意
味を示す。)で表わされる化合物を酸化性遷移金属ハロ
ゲン化物の存在下に化学重合し、重合体を酸性溶液処理
し、一般式〔I′〕
味を示す。)で表わされる化合物を酸化性遷移金属ハロ
ゲン化物の存在下に化学重合し、重合体を酸性溶液処理
し、一般式〔I′〕
【化9】 (式中、Ht、R1 、X1 及びR2 は前記と同じ意味を
示す。)とする。
示す。)とする。
【0008】本発明に使用する遷移金属ハロゲン化物
は、例えば、酸化第二鉄、塩化モリブデン、塩化タング
ステン、塩化スズ、塩化バナジュウム、塩化ルテニュウ
ム、塩化アンチモン、五フッ化ヒ素等があげられる。重
合方法としては遷移金属ハロゲン化物の溶液と一般式
〔II〕で示されるモノマーを単に混合する方法、遷移金
属ハロゲン化物とモノマーの混合溶液を硝子板等に流
し、乾燥する方法(以下、乾燥法とする)があげられ
る。乾燥法による重合では、反応を抑制するために溶媒
を選択する必要があるが、本重合体の製造には各種アル
コールや水等、あるいはそれらの混合溶媒が使用でき
る。続いて生成物中の遷移金属ハロゲン化物を取り除く
ために極性溶媒による洗浄を行う。この時使用する溶媒
は使用した遷移金属ハロゲン化物を溶解する物であれば
特に制限はない。この時点では重合体は水などへの溶解
性を有さないので、水による洗浄も可能である。最後に
重合体を単に酸性溶液中に浸すことで酸性溶液処理す
る。使用する酸性溶液は一般式〔I〕のMを水素原子に
交換できる物であれば特に制限はない。続いて、重合体
を洗浄することで処理に使用した酸を取り除く。使用す
る溶媒は、使用した酸を溶解し、かつ重合体を溶解しな
い溶媒である。洗浄に使用する溶媒としてはアセトン、
テトラヒドロフラン、各種アルコール等を好適に用いる
ことができる。こうして得られた重合体は水、メタノー
ル、DMF、NMP、酢酸等に溶解し、いかなるドーピ
ング処理も行わずに自立性の導電性重合体膜をキャステ
ィングにより調製することが可能である。得られるフィ
ルムの導電率はドーピングを行わずに10-7〜100 s
/cm程度の導電性を有している。更に、ドーピングを
行うことで導電率を向上させることができる。ドーピン
グされる化合物としては、例えば、ハロゲン化物類(ヨ
ウ素、臭素、塩化ヨウ素、臭化ヨウ素など)、ルイス酸
(五フッ化ヒ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、
二フッ化ホウ素、二塩化ホウ素、二臭化ホウ素、二酸化
硫黄など)、ブレンステッド酸類(フッ化水素、塩化水
素、フッ化スルホン酸、塩化スルホン酸、過塩素酸、ト
リフルオロメタスルホン酸、トルエンスルホン酸等)、
遷移金属塩化物類(塩化第二鉄、四塩化チタン等)、有
機化合物(テトラシアノエチレン、テトラフルオロテト
ラシアノキノジメタン、テトラフルオロベンゾキノン
等)等が挙げられる。これらのドーパントによるドーピ
ングの方法としては、化学的ドーピング、電気化学ドー
ピング、等の通常の方法が挙げられる。得られた重合体
溶液の一般式〔I〕のMを希望のアルカリ金属イオン、
アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンに変える
ことができる。即ち、重合体溶液に水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等の金属水酸化物溶液を所定量加えるる
ことにより、一般式〔I〕のMを希望のアンモニウムイ
オン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオンに変える
ことが可能である。
は、例えば、酸化第二鉄、塩化モリブデン、塩化タング
ステン、塩化スズ、塩化バナジュウム、塩化ルテニュウ
ム、塩化アンチモン、五フッ化ヒ素等があげられる。重
合方法としては遷移金属ハロゲン化物の溶液と一般式
〔II〕で示されるモノマーを単に混合する方法、遷移金
属ハロゲン化物とモノマーの混合溶液を硝子板等に流
し、乾燥する方法(以下、乾燥法とする)があげられ
る。乾燥法による重合では、反応を抑制するために溶媒
を選択する必要があるが、本重合体の製造には各種アル
コールや水等、あるいはそれらの混合溶媒が使用でき
る。続いて生成物中の遷移金属ハロゲン化物を取り除く
ために極性溶媒による洗浄を行う。この時使用する溶媒
は使用した遷移金属ハロゲン化物を溶解する物であれば
特に制限はない。この時点では重合体は水などへの溶解
性を有さないので、水による洗浄も可能である。最後に
重合体を単に酸性溶液中に浸すことで酸性溶液処理す
る。使用する酸性溶液は一般式〔I〕のMを水素原子に
交換できる物であれば特に制限はない。続いて、重合体
を洗浄することで処理に使用した酸を取り除く。使用す
る溶媒は、使用した酸を溶解し、かつ重合体を溶解しな
い溶媒である。洗浄に使用する溶媒としてはアセトン、
テトラヒドロフラン、各種アルコール等を好適に用いる
ことができる。こうして得られた重合体は水、メタノー
ル、DMF、NMP、酢酸等に溶解し、いかなるドーピ
ング処理も行わずに自立性の導電性重合体膜をキャステ
ィングにより調製することが可能である。得られるフィ
ルムの導電率はドーピングを行わずに10-7〜100 s
/cm程度の導電性を有している。更に、ドーピングを
行うことで導電率を向上させることができる。ドーピン
グされる化合物としては、例えば、ハロゲン化物類(ヨ
ウ素、臭素、塩化ヨウ素、臭化ヨウ素など)、ルイス酸
(五フッ化ヒ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、
二フッ化ホウ素、二塩化ホウ素、二臭化ホウ素、二酸化
硫黄など)、ブレンステッド酸類(フッ化水素、塩化水
素、フッ化スルホン酸、塩化スルホン酸、過塩素酸、ト
リフルオロメタスルホン酸、トルエンスルホン酸等)、
遷移金属塩化物類(塩化第二鉄、四塩化チタン等)、有
機化合物(テトラシアノエチレン、テトラフルオロテト
ラシアノキノジメタン、テトラフルオロベンゾキノン
等)等が挙げられる。これらのドーパントによるドーピ
ングの方法としては、化学的ドーピング、電気化学ドー
ピング、等の通常の方法が挙げられる。得られた重合体
溶液の一般式〔I〕のMを希望のアルカリ金属イオン、
アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンに変える
ことができる。即ち、重合体溶液に水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等の金属水酸化物溶液を所定量加えるる
ことにより、一般式〔I〕のMを希望のアンモニウムイ
オン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオンに変える
ことが可能である。
【0009】本発明の導電性高分子の原料のモノマーは
一般式〔III 〕
一般式〔III 〕
【化10】 (式中Ht及びR1 は前記と同じ意味を示し、X2 はC
O2 H、CONH2 、OH、SH又はNH2 を示す。)
で表わされる化合物と一般式〔IV〕
O2 H、CONH2 、OH、SH又はNH2 を示す。)
で表わされる化合物と一般式〔IV〕
【化11】 (式中、X3 は炭素数2から20の2価の炭化水素基を
示す。但し、炭化水素の水素原子の一つ又はそれ以上が
ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシ
ル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。)で表
わされる環状の分子内オキシスルホン酸エステルとを塩
基の存在下反応させることにより得られる。
示す。但し、炭化水素の水素原子の一つ又はそれ以上が
ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシ
ル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。)で表
わされる環状の分子内オキシスルホン酸エステルとを塩
基の存在下反応させることにより得られる。
【0010】
【実施例】次に実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例1 3−(4−メチル−3−ピロールカルボニ
ルオキシ)プロパンスルホン酸ナトリウムの製造:
る。 実施例1 3−(4−メチル−3−ピロールカルボニ
ルオキシ)プロパンスルホン酸ナトリウムの製造:
【化12】 4−メチルピロール−3−カルボン酸2gをイソプロパ
ノール15mlに懸濁し、ソジウムメトキサイド28%
メタノール溶液3.09gを加え均一な溶液とした。更
に、ここに1,3−プロパンスルトン1.95gを加え
た。70℃で20分間反応を行った後、生成した白色の
結晶を濾過することにより集め、イソプロパノール50
mlにより結晶の洗浄を行った。結晶を水に溶解し、酢
酸エチルで洗浄することで、未反応の4−メチルピロー
ル−3−カルボン酸を取り除き、水層を乾固することに
より白色結晶の目的物3.86gを得た。収率89%1 H−NMR(270MHz DMSO−d6 )TMS
に対するδ(ppm):1.9−2.05(2H,
m),2.2(3H,s),2.5−2.7(2H,
t),4.1−4.25(2H,t),6.6(1H,
s),7.33(1H,s),11.1(1H,br
s) IR(KBr,ν,cm-1):1687s,1209
s,1159s,1056s, m.p.300℃Up
ノール15mlに懸濁し、ソジウムメトキサイド28%
メタノール溶液3.09gを加え均一な溶液とした。更
に、ここに1,3−プロパンスルトン1.95gを加え
た。70℃で20分間反応を行った後、生成した白色の
結晶を濾過することにより集め、イソプロパノール50
mlにより結晶の洗浄を行った。結晶を水に溶解し、酢
酸エチルで洗浄することで、未反応の4−メチルピロー
ル−3−カルボン酸を取り除き、水層を乾固することに
より白色結晶の目的物3.86gを得た。収率89%1 H−NMR(270MHz DMSO−d6 )TMS
に対するδ(ppm):1.9−2.05(2H,
m),2.2(3H,s),2.5−2.7(2H,
t),4.1−4.25(2H,t),6.6(1H,
s),7.33(1H,s),11.1(1H,br
s) IR(KBr,ν,cm-1):1687s,1209
s,1159s,1056s, m.p.300℃Up
【0011】実施例2 導電性高分子の製造:3−
(4−メチルピロール−3−カルボニルオキシ)プロパ
ンスルホン酸ナトリウム0.19g、無水塩化第二鉄
0.29gをメタノール/水(=7ml/0.1ml)
に溶解し、撹拌した。この均一な溶液を64cm2 の硝
子板に流し、溶媒を室温下、減圧し、蒸発させた。残っ
た黒色フィルムは硝子板からはがし、洗浄液に色が付か
なくなるまでメタノールで洗浄することで無水塩化第二
鉄を取り除き、更に、重合体膜を6NHCl水溶液に1
5分間浸した。重合体膜をテトラヒドロフランで洗浄液
が中性になるまで洗浄し、20mlの水に重合体を溶解
させた。得られた重合体水溶液を濃縮し3.6%の高分
子溶液3gを得た。固形分濃度と溶液量から求めた収率
は62%であった。こうして得られた重合体水溶液のG
PC測定を行ったところ、重量平均分子量100,00
0、ポリスチレンスルホネート換算(0.1MKCl水
溶液を移動層に使用)であった。得られた重合体溶液を
ガラス板上に流し、溶媒を室温下で蒸発させた。こうし
て得た高分子膜をガラス板からはがし、更に、110℃
のオーブン中に2.5時間放置することで乾燥した。得
られた重合体膜について直流四端子法により導電率を測
定したところ、ドーピングを行うこと無しに1.13×
10-1s/cmと高い導電率を示した。また、更にヨウ
素をドーピングすることで導電率は3×10-1s/cm
と向上した。
(4−メチルピロール−3−カルボニルオキシ)プロパ
ンスルホン酸ナトリウム0.19g、無水塩化第二鉄
0.29gをメタノール/水(=7ml/0.1ml)
に溶解し、撹拌した。この均一な溶液を64cm2 の硝
子板に流し、溶媒を室温下、減圧し、蒸発させた。残っ
た黒色フィルムは硝子板からはがし、洗浄液に色が付か
なくなるまでメタノールで洗浄することで無水塩化第二
鉄を取り除き、更に、重合体膜を6NHCl水溶液に1
5分間浸した。重合体膜をテトラヒドロフランで洗浄液
が中性になるまで洗浄し、20mlの水に重合体を溶解
させた。得られた重合体水溶液を濃縮し3.6%の高分
子溶液3gを得た。固形分濃度と溶液量から求めた収率
は62%であった。こうして得られた重合体水溶液のG
PC測定を行ったところ、重量平均分子量100,00
0、ポリスチレンスルホネート換算(0.1MKCl水
溶液を移動層に使用)であった。得られた重合体溶液を
ガラス板上に流し、溶媒を室温下で蒸発させた。こうし
て得た高分子膜をガラス板からはがし、更に、110℃
のオーブン中に2.5時間放置することで乾燥した。得
られた重合体膜について直流四端子法により導電率を測
定したところ、ドーピングを行うこと無しに1.13×
10-1s/cmと高い導電率を示した。また、更にヨウ
素をドーピングすることで導電率は3×10-1s/cm
と向上した。
【0012】比較例1 導電性高分子の製造(酸性溶
液処理なし):4−メチルピロール−3−カルボン酸
3−プロパンスルホン酸ナトリウム0.19g、無水塩
化第二鉄0.29gをメタノール/水(=7ml/0.
1ml)に溶解し、撹拌した。この均一な溶液を64c
m2 の硝子板に流し、溶媒を室温下、減圧し、蒸発させ
た。残った黒色フィルムは硝子板からはがし、洗浄液に
色が付かなくなるまでメタノールで洗浄することで無水
塩化第二鉄を取り除き、0.1NaOH水溶液15ml
に投じ重合体を溶解させてみたが完全には溶解しなかっ
た。解け残った重合体及び生成した水酸化鉄を濾紙濾過
により取り除き、更に、重合体溶液をプロトン型イオン
交換樹脂に通した。得られた重合体溶液を濃縮し3.6
%の高分子溶液1.5gを得た。固形分濃度と溶液量か
ら求めた収率は31%であった。こうして得られた重合
体水溶液のGPC測定を行ったところ、重量平均分子量
51000、ポリスチレンスルホネート換算(0.1M
KCl水溶液を移動層に使用)であった。比較例1で得
た重合体溶液をガラス板上に流し、溶媒を室温下で蒸発
させた。こうして得た高分子膜をガラス板からはがし、
更に、110℃のオーブン中に2.5時間放置すること
で乾燥した。得られた重合体膜について直流四端子法に
より導電率を測定したところ、2.7×10-2s/cm
と実施例2より低い導電率を示した。
液処理なし):4−メチルピロール−3−カルボン酸
3−プロパンスルホン酸ナトリウム0.19g、無水塩
化第二鉄0.29gをメタノール/水(=7ml/0.
1ml)に溶解し、撹拌した。この均一な溶液を64c
m2 の硝子板に流し、溶媒を室温下、減圧し、蒸発させ
た。残った黒色フィルムは硝子板からはがし、洗浄液に
色が付かなくなるまでメタノールで洗浄することで無水
塩化第二鉄を取り除き、0.1NaOH水溶液15ml
に投じ重合体を溶解させてみたが完全には溶解しなかっ
た。解け残った重合体及び生成した水酸化鉄を濾紙濾過
により取り除き、更に、重合体溶液をプロトン型イオン
交換樹脂に通した。得られた重合体溶液を濃縮し3.6
%の高分子溶液1.5gを得た。固形分濃度と溶液量か
ら求めた収率は31%であった。こうして得られた重合
体水溶液のGPC測定を行ったところ、重量平均分子量
51000、ポリスチレンスルホネート換算(0.1M
KCl水溶液を移動層に使用)であった。比較例1で得
た重合体溶液をガラス板上に流し、溶媒を室温下で蒸発
させた。こうして得た高分子膜をガラス板からはがし、
更に、110℃のオーブン中に2.5時間放置すること
で乾燥した。得られた重合体膜について直流四端子法に
より導電率を測定したところ、2.7×10-2s/cm
と実施例2より低い導電率を示した。
【0013】
【発明の効果】本発明の導電性高分子は簡便な操作で得
ることができ、水などの各種溶媒に可溶で、自己ドープ
性を有するためドーピング処理の必要も無く、加工性、
電気的、機械的性能の優れた導電性高分子である。
ることができ、水などの各種溶媒に可溶で、自己ドープ
性を有するためドーピング処理の必要も無く、加工性、
電気的、機械的性能の優れた導電性高分子である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳沢 篤 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内 (72)発明者 神山 昌士 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 (式中、HtはNH、S、O、Se又はTeを、R1 は
直鎖又は枝分れのあるアルキル基を、X1 はCO2 、C
ONH、O、S又はNHを、R2 は置換基を有していて
もよい炭素数3から21の2価の炭化水素基を、Mは酸
化により正の対イオンを生じる原子を示す。)で表わさ
れる構造単位を有する重量平均分子量が500から1,
000,000の導電性高分子。 - 【請求項2】 一般式〔II〕 【化2】 (式中、Ht、R1 、X1 、R2 及びMは前記と同じ意
味を示す。)で表わされる化合物を酸化性遷移金属ハロ
ゲン化物の存在下に化学重合し、重合体を酸性溶液処理
することを特徴とする一般式〔I′〕 【化3】 (式中、Ht、R1 、X1 及びR2 は前記と同じ意味を
示す。)で表わされる構造単位を有する重量平均分子量
500から1,000,000の導電性高分子の製造方
法。 - 【請求項3】 一般式〔III 〕 【化4】 (式中、Ht及びR1 は前記と同じ意味を示し、X2 は
CO2 H、CONH2 、OH、SH又はNH2 を示
す。)で表わされる化合物と一般式〔IV〕 【化5】 (式中、X3 は炭素数2から20の2価の炭化水素基を
示す。但し、炭化水素の水素原子の一つ又はそれ以上が
ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシ
ル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。)で表
わされる環状の分子内オキシスルホン酸エステルとを塩
基の存在下反応させることを特徴とする一般式〔II〕 【化6】 (式中、Ht、R1 、X1 、R2 及びMは前記と同じ意
味を示す。)で表わされる化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10340494A JPH07286035A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 可溶性導電性高分子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10340494A JPH07286035A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 可溶性導電性高分子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07286035A true JPH07286035A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=14353121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10340494A Pending JPH07286035A (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 可溶性導電性高分子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07286035A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10140141A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Showa Denko Kk | 帯電防止処理材の製造方法 |
| JP2009235261A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Tokyo Institute Of Technology | N−アルキレンスルホン酸基またはn−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環を含む高分子有機化合物およびn−アルキレンスルホン酸基またはn−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環を有する有機化合物、それらを用いた医薬品、消毒剤あるいは抗菌剤、イオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2009235262A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Tokyo Institute Of Technology | O−アルキレンスルホン酸基またはo−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環を含む高分子有機化合物およびo−アルキレンスルホン酸基またはo−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環誘導体、それらを用いた医薬品、消毒剤あるいは抗菌剤、イオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2010090309A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Tokyo Institute Of Technology | 新高分子有機化合物およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2010090308A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Tokyo Institute Of Technology | 新規高分子有機化合物およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2010090307A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Tokyo Institute Of Technology | 新規な高分子有機化合物およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
-
1994
- 1994-04-18 JP JP10340494A patent/JPH07286035A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10140141A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Showa Denko Kk | 帯電防止処理材の製造方法 |
| JP2009235261A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Tokyo Institute Of Technology | N−アルキレンスルホン酸基またはn−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環を含む高分子有機化合物およびn−アルキレンスルホン酸基またはn−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環を有する有機化合物、それらを用いた医薬品、消毒剤あるいは抗菌剤、イオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2009235262A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Tokyo Institute Of Technology | O−アルキレンスルホン酸基またはo−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環を含む高分子有機化合物およびo−アルキレンスルホン酸基またはo−アルキレンスルホン酸塩基を有する含窒素複素環誘導体、それらを用いた医薬品、消毒剤あるいは抗菌剤、イオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2010090309A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Tokyo Institute Of Technology | 新高分子有機化合物およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2010090308A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Tokyo Institute Of Technology | 新規高分子有機化合物およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2010090307A (ja) * | 2008-10-09 | 2010-04-22 | Tokyo Institute Of Technology | 新規な高分子有機化合物およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
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