JPH07294725A - カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH07294725A JPH07294725A JP15244094A JP15244094A JPH07294725A JP H07294725 A JPH07294725 A JP H07294725A JP 15244094 A JP15244094 A JP 15244094A JP 15244094 A JP15244094 A JP 15244094A JP H07294725 A JPH07294725 A JP H07294725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- transparent electrode
- electrodeposition
- liquid crystal
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造方法の改良により格子状遮光膜を有する
電着カラーフィルターを用いた多色液晶製造装置は，電
着カラーフィルターのアクティブマトリックスを用いた
多色液晶表示装置への拡大適用し，多色液晶表示装置の
低廉価を実現する。 【構成】 電着カラーフィルターの製造方法において，
電着カラーフィルター用透明電極パターン，電着カラー
フィルターおよび電着カラフィルター上の透明電極の３
つの構成要素のうち全てかその一部の部分的な領域をレ
ーザにより除去した後，背面露光法により遮光膜を形成
して，この遮光膜形状を格子状にした電着カラーフィル
ターを用いた多色液晶表示装置の製造方法。 【効果】 従来できなかった格子状遮光膜を電着カラー
フィルターにおいて実現させることにより，光リーク劣
化を起こすＴＦＴ等のアクティブマトリックスを用いた
カラー液晶表示装置への適用を拡大し，その製造コスト
を低下することができる。
電着カラーフィルターを用いた多色液晶製造装置は，電
着カラーフィルターのアクティブマトリックスを用いた
多色液晶表示装置への拡大適用し，多色液晶表示装置の
低廉価を実現する。 【構成】 電着カラーフィルターの製造方法において，
電着カラーフィルター用透明電極パターン，電着カラー
フィルターおよび電着カラフィルター上の透明電極の３
つの構成要素のうち全てかその一部の部分的な領域をレ
ーザにより除去した後，背面露光法により遮光膜を形成
して，この遮光膜形状を格子状にした電着カラーフィル
ターを用いた多色液晶表示装置の製造方法。 【効果】 従来できなかった格子状遮光膜を電着カラー
フィルターにおいて実現させることにより，光リーク劣
化を起こすＴＦＴ等のアクティブマトリックスを用いた
カラー液晶表示装置への適用を拡大し，その製造コスト
を低下することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，カラーフィルターを用
いた多色液晶表示装置の製造方法，特にそのカラーフィ
ルターが高分子電着カラーフィルターによる多色液晶表
示装置の製造方法に関する。
いた多色液晶表示装置の製造方法，特にそのカラーフィ
ルターが高分子電着カラーフィルターによる多色液晶表
示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１に従来の高分子電着法によるカラー
フィルターの製造方法を示す。図１は複数の透明電極
を有するガラス基板１で，着色用端子２ａを用いて透明
電極２上に順次着色層が形成される。高分子電着法によ
るカラーフィルターの製造方法についての詳細は，特開
昭５９−１１４５７２に示されているが，ここではその
概略について説明する。
フィルターの製造方法を示す。図１は複数の透明電極
を有するガラス基板１で，着色用端子２ａを用いて透明
電極２上に順次着色層が形成される。高分子電着法によ
るカラーフィルターの製造方法についての詳細は，特開
昭５９−１１４５７２に示されているが，ここではその
概略について説明する。
【０００３】はじめに，他のカラーフィルターの製造方
法について簡単に説明する。カラーフィルターの製造方
法は，高分子電着法（以後電着法と呼ぶ）の他に染色
法，顔料分散法，印刷法などがある。染色法は，染色基
質をガラス基板上に塗布し，所望のパターンにフォトリ
ソグラフィー法によりパターニングした後，染料を用い
て染色する方法で，Ｒ・Ｇ・Ｂ３原色カラーフィルター
の場合は，これを３回繰り返して製作する。
法について簡単に説明する。カラーフィルターの製造方
法は，高分子電着法（以後電着法と呼ぶ）の他に染色
法，顔料分散法，印刷法などがある。染色法は，染色基
質をガラス基板上に塗布し，所望のパターンにフォトリ
ソグラフィー法によりパターニングした後，染料を用い
て染色する方法で，Ｒ・Ｇ・Ｂ３原色カラーフィルター
の場合は，これを３回繰り返して製作する。
【０００４】顔料分散法は，予め反応剤を含有した高分
子基質いわゆる感光性樹脂中に顔料を分散・含有させた
着色感光性樹脂をガラス基板に塗布し，フォトリソグラ
フィーにより所望のパターンを形成してカラーフィルタ
ーを製作する物である。染色法と同様に，Ｒ・Ｇ・Ｂ３
原色カラーフィルターの場合は，これを３回繰り返す。
子基質いわゆる感光性樹脂中に顔料を分散・含有させた
着色感光性樹脂をガラス基板に塗布し，フォトリソグラ
フィーにより所望のパターンを形成してカラーフィルタ
ーを製作する物である。染色法と同様に，Ｒ・Ｇ・Ｂ３
原色カラーフィルターの場合は，これを３回繰り返す。
【０００５】印刷法は，高分子樹脂と顔料を混合した着
色高分子材料をインキとして，オフセット印刷法等によ
りガラス基板上に所望のパターンを印刷してカラフィル
ターを形成する。Ｒ・Ｇ・Ｂ３原色カラーフィルターの
場合は同様に３回繰り返すことによって，印刷カラーフ
ィルターが形成される。
色高分子材料をインキとして，オフセット印刷法等によ
りガラス基板上に所望のパターンを印刷してカラフィル
ターを形成する。Ｒ・Ｇ・Ｂ３原色カラーフィルターの
場合は同様に３回繰り返すことによって，印刷カラーフ
ィルターが形成される。
【０００６】高分子電着法は，前述したように図１に
示した予めパターニングされた透明電極２上に３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂのカラーフィルターを順次電着させてカラーフ
ィルターを形成させる方法である。透明電極パターン２
はフォトリソグラフィー技術を用いるが，カラーフィル
ターを形成する前にガラス基板上に実施するため，カラ
ーフィルターの位置精度とは無関係に製作可能である。
この理由は，透明電極パターン２上に電着法により３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂのカラーフィルターを形成するので，そ
の位置精度は初めに行われたパターニングの位置精度に
よって規定されることになる。いわゆるセルフアライメ
ントでカラーフィルターパターンが形成されることが特
徴である。
示した予めパターニングされた透明電極２上に３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂのカラーフィルターを順次電着させてカラーフ
ィルターを形成させる方法である。透明電極パターン２
はフォトリソグラフィー技術を用いるが，カラーフィル
ターを形成する前にガラス基板上に実施するため，カラ
ーフィルターの位置精度とは無関係に製作可能である。
この理由は，透明電極パターン２上に電着法により３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂのカラーフィルターを形成するので，そ
の位置精度は初めに行われたパターニングの位置精度に
よって規定されることになる。いわゆるセルフアライメ
ントでカラーフィルターパターンが形成されることが特
徴である。
【０００７】また通常カラーフィルターには，各色間に
遮光膜を設けている。この遮光膜の製作方法も各カラー
フィルターの製法によって異なる方法が採用されてい
る。染色法，顔料分散法及び印刷法の場合は，カラーフ
ィルターを形成する前にクロム等の金属膜をスパッタリ
ング等の製膜法により形成した後，フォトリソグラフィ
ーによって所望の遮光膜パターンを設けている。もう一
つの遮光膜形成法として，金属膜を用いずに隣合わせた
カラーフィルターを２色重ね合わせることによって，光
に透過率を低減させることで遮光膜の代用とする方法も
広く行われている。前者，は光リークにより特性が劣化
するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｒｍ−Ｔｒａｎｓｉｓｔａ
ｒ）等のアクティブマトリックス方式のカラーＬＣＤ
（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｉｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）用
として採用されている。後者は，より安価なＴＮ（Ｔｗ
ｉｓｔｅｄ Ｎｍａｔｉｃ）またはＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ
Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）−ＬＣＤようとして
採用されている。
遮光膜を設けている。この遮光膜の製作方法も各カラー
フィルターの製法によって異なる方法が採用されてい
る。染色法，顔料分散法及び印刷法の場合は，カラーフ
ィルターを形成する前にクロム等の金属膜をスパッタリ
ング等の製膜法により形成した後，フォトリソグラフィ
ーによって所望の遮光膜パターンを設けている。もう一
つの遮光膜形成法として，金属膜を用いずに隣合わせた
カラーフィルターを２色重ね合わせることによって，光
に透過率を低減させることで遮光膜の代用とする方法も
広く行われている。前者，は光リークにより特性が劣化
するＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｒｍ−Ｔｒａｎｓｉｓｔａ
ｒ）等のアクティブマトリックス方式のカラーＬＣＤ
（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｉｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）用
として採用されている。後者は，より安価なＴＮ（Ｔｗ
ｉｓｔｅｄ Ｎｍａｔｉｃ）またはＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ
Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）−ＬＣＤようとして
採用されている。
【０００８】これらの遮光膜は，フォトリソグラフィー
法により製作されるため，予め用意した露光用マスクに
よりパターン形状は自由度がある。格子状でもストライ
プ状でも必要に応じて遮光膜形状が選択できる。電着法
の場合の遮光膜は，図１に示したように先に電着カラー
フィルターを形成した後に，このカラーフィルターをマ
スクとして背面露光法により形成している。電着カラー
フィルターをマスクにできることから，カラーフィルタ
ーの場合と同様にセルフアライメントによって遮光膜が
形成できるという特徴を有している。しかしカラフィル
ターが，予めパターニングされた透明電極の上に形成さ
れることから，遮光膜の形状はカラーフィルター間隙部
にのみ形成可能である。遮光膜の形状という面で自由度
が小さいという特徴も有している。
法により製作されるため，予め用意した露光用マスクに
よりパターン形状は自由度がある。格子状でもストライ
プ状でも必要に応じて遮光膜形状が選択できる。電着法
の場合の遮光膜は，図１に示したように先に電着カラー
フィルターを形成した後に，このカラーフィルターをマ
スクとして背面露光法により形成している。電着カラー
フィルターをマスクにできることから，カラーフィルタ
ーの場合と同様にセルフアライメントによって遮光膜が
形成できるという特徴を有している。しかしカラフィル
ターが，予めパターニングされた透明電極の上に形成さ
れることから，遮光膜の形状はカラーフィルター間隙部
にのみ形成可能である。遮光膜の形状という面で自由度
が小さいという特徴も有している。
【０００９】次に，これらのカラーフィルターを用いた
多色液晶表示装置について説明する。図２に，従来のＴ
ＦＴ方式のカラーＬＣＤの断面模式図を示す。（２−
１）はＴＦＴアレイ基板１に形成された透明表示電極７
とＴＦＴ８に液晶９層を介してカラーフィルター基板が
対向配置されている。（２−２）はＴＦＴアレイ基板１
１の一部を拡大してＴＦＴ８とカラーフィルター３およ
び遮光膜６との位置関係を示したものである。（２−
３）は（２−２）の点線で囲まれた部分と同位置のカラ
ーフィルター部分のみを示したものである。これらの図
からＴＦＴ８が遮光膜６におおわれていることがわか
る。また，カラーフィルター３の表示領域以外の部分か
ら光の漏れがないように，カラーフィルター３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂ間隙部だけでなくカラーフィルター３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂと直交する遮光膜も設けて，遮光膜６としては
いわゆる格子状に形成されている。
多色液晶表示装置について説明する。図２に，従来のＴ
ＦＴ方式のカラーＬＣＤの断面模式図を示す。（２−
１）はＴＦＴアレイ基板１に形成された透明表示電極７
とＴＦＴ８に液晶９層を介してカラーフィルター基板が
対向配置されている。（２−２）はＴＦＴアレイ基板１
１の一部を拡大してＴＦＴ８とカラーフィルター３およ
び遮光膜６との位置関係を示したものである。（２−
３）は（２−２）の点線で囲まれた部分と同位置のカラ
ーフィルター部分のみを示したものである。これらの図
からＴＦＴ８が遮光膜６におおわれていることがわか
る。また，カラーフィルター３の表示領域以外の部分か
ら光の漏れがないように，カラーフィルター３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂ間隙部だけでなくカラーフィルター３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂと直交する遮光膜も設けて，遮光膜６としては
いわゆる格子状に形成されている。
【００１０】この遮光膜６は一般的に，ＴＦＴ８素子の
受光による特性低化（以後光リークと呼ぶ）を防止する
役割をしている。光リークとは，ＴＦＴ８素子に形成さ
れたアモルファスシリコン薄膜部に一定量の光が当たる
ことによりアモルファスシリコンの抵抗値を低下させ
て，透明表示電極７に保持していた電圧をリークさせて
しまう反応である。この光リークが生じると透明電極４
と透明表示電極７との電圧差異が液晶９のしきい値電圧
以下になり，液晶９のコントロールができなくなり表示
不良になるものである。
受光による特性低化（以後光リークと呼ぶ）を防止する
役割をしている。光リークとは，ＴＦＴ８素子に形成さ
れたアモルファスシリコン薄膜部に一定量の光が当たる
ことによりアモルファスシリコンの抵抗値を低下させ
て，透明表示電極７に保持していた電圧をリークさせて
しまう反応である。この光リークが生じると透明電極４
と透明表示電極７との電圧差異が液晶９のしきい値電圧
以下になり，液晶９のコントロールができなくなり表示
不良になるものである。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】以上述べてきたよう
に，電着カラーフィルターはセルフアライメント法で簡
易的にカラーフィルターおよび遮光膜を製作できるとい
うメリットはあるものの，そのメリットが故にＴＦＴ等
の光リークにより特性劣化を伴うアクティブマトリック
スＬＣＤに適した格子状の遮光膜が形成できないという
問題が生じる。
に，電着カラーフィルターはセルフアライメント法で簡
易的にカラーフィルターおよび遮光膜を製作できるとい
うメリットはあるものの，そのメリットが故にＴＦＴ等
の光リークにより特性劣化を伴うアクティブマトリック
スＬＣＤに適した格子状の遮光膜が形成できないという
問題が生じる。
【００１２】その理由は，図１に示したように電着カラ
ーフィルター形成に不可欠の透明電極パターン２が存在
するために，カラーフィルターが連続したストライプ状
になるためである。したがって，背面露光法によってカ
ラーフィルター間隙部に製作される遮光膜６の形状も形
状も結果的にストライプ状に形成されるためである。
ーフィルター形成に不可欠の透明電極パターン２が存在
するために，カラーフィルターが連続したストライプ状
になるためである。したがって，背面露光法によってカ
ラーフィルター間隙部に製作される遮光膜６の形状も形
状も結果的にストライプ状に形成されるためである。
【００１３】一般に，電着カラーフィルターで形成され
るＲｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ３色の分光特性を図３
に示す。この分光特性から透過する光量のレベルが理解
でき，図２−１に示したように液晶層９を通してＴＦＴ
素子に透過光が照射されて，ＴＦＴ素子の特性が劣化す
るという問題となる。
るＲｅｄ・Ｇｒｅｅｎ・Ｂｌｕｅ３色の分光特性を図３
に示す。この分光特性から透過する光量のレベルが理解
でき，図２−１に示したように液晶層９を通してＴＦＴ
素子に透過光が照射されて，ＴＦＴ素子の特性が劣化す
るという問題となる。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明で用いられる，Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤに使用可能な格子状遮光膜付きカラーフィ
ルターを形成するために，高分子電着法で形成されたカ
ラーフィルタの一部を遮光膜形成の前に予め除去する方
法を採用した。
ＦＴ−ＬＣＤに使用可能な格子状遮光膜付きカラーフィ
ルターを形成するために，高分子電着法で形成されたカ
ラーフィルタの一部を遮光膜形成の前に予め除去する方
法を採用した。
【００１５】本発明では，この電着カラーフィルターの
一部を除去するための手段として最も効果的な方法は，
レーザを用いる方法であるという結論に達した。その理
由は，ＴＦＴ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルターお
よび遮光膜の位置精度が±１０ミクロン以下と高精度で
あること，また，電着カラーフィルターの一部を除去し
た後の表面の平滑性は±０．１５ミクロン以下という高
平滑性が求められることである。少なくともこれら２つ
の要件を満たさなければ，ＴＦＴ−ＬＣＤ用カラーフィ
ルターとして使用することはできない。
一部を除去するための手段として最も効果的な方法は，
レーザを用いる方法であるという結論に達した。その理
由は，ＴＦＴ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルターお
よび遮光膜の位置精度が±１０ミクロン以下と高精度で
あること，また，電着カラーフィルターの一部を除去し
た後の表面の平滑性は±０．１５ミクロン以下という高
平滑性が求められることである。少なくともこれら２つ
の要件を満たさなければ，ＴＦＴ−ＬＣＤ用カラーフィ
ルターとして使用することはできない。
【００１６】電着カラーフィルターの一部を除去する方
法として，レーザを用いる以外にも種々の方法がある。
機械的切削法，サンドブラスト法，化学薬品（たとえば
アルカリ液）処理等があるが，いずれの方法も上記２つ
の要件を満たすことはできなかった。機械切削法では表
面の凹凸が大きく，サンドブラスト法では微細パターン
の加工ができない等の問題が生じた。また，化学薬品処
理の場合はカラーフィルターの均一除去ができなかっ
た。
法として，レーザを用いる以外にも種々の方法がある。
機械的切削法，サンドブラスト法，化学薬品（たとえば
アルカリ液）処理等があるが，いずれの方法も上記２つ
の要件を満たすことはできなかった。機械切削法では表
面の凹凸が大きく，サンドブラスト法では微細パターン
の加工ができない等の問題が生じた。また，化学薬品処
理の場合はカラーフィルターの均一除去ができなかっ
た。
【００１７】レーザを用いて電着カラーフィルターの一
部を除去する場合は，高精度の駆動テーブルを使用する
ことで±１０ミクロン以下の位置精度は確保可能であ
る。この高精度駆動テーブルは露光装置に使われている
ステッパ用のものや高速に駆動するためのリニアモータ
方式のものなどがある。
部を除去する場合は，高精度の駆動テーブルを使用する
ことで±１０ミクロン以下の位置精度は確保可能であ
る。この高精度駆動テーブルは露光装置に使われている
ステッパ用のものや高速に駆動するためのリニアモータ
方式のものなどがある。
【００１８】また，レーザエネルギーの照射によって電
着カラーフィルタを除去すると，除去されるカラーフィ
ルター層およびカラーフィルター形成用の透明電極は瞬
時に気化状になって飛散するので，表面への汚染はきわ
めて微量である。同様に，カラーフィルター上に成膜さ
れた保護膜樹脂や透明電極が存在する場合もレーザによ
る除去は可能である。また，レーザエネルギーによって
除去された飛散物の表面への影響を完全に防止するため
に，レーザが照射されたカラーフィルター表面近傍に局
所的吸排気装置を取り付ければ良い。
着カラーフィルタを除去すると，除去されるカラーフィ
ルター層およびカラーフィルター形成用の透明電極は瞬
時に気化状になって飛散するので，表面への汚染はきわ
めて微量である。同様に，カラーフィルター上に成膜さ
れた保護膜樹脂や透明電極が存在する場合もレーザによ
る除去は可能である。また，レーザエネルギーによって
除去された飛散物の表面への影響を完全に防止するため
に，レーザが照射されたカラーフィルター表面近傍に局
所的吸排気装置を取り付ければ良い。
【００１９】レーザの種類は，ＹＡＧレーザ，キセノン
レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザなど希ガスレーザ，エキシマ
レーザ等カラーフィルターや透明電極が除去できるもの
であればどれでも使用可能である。したがって，遮光膜
形成前に予め電着カラーフィルターの一部をレーザによ
り除去する方法を用いることにより，ＴＦＴ−ＬＣＤに
使用可能な格子状遮光膜を有した電着カラーフィルター
が製造することができるようになった。
レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザなど希ガスレーザ，エキシマ
レーザ等カラーフィルターや透明電極が除去できるもの
であればどれでも使用可能である。したがって，遮光膜
形成前に予め電着カラーフィルターの一部をレーザによ
り除去する方法を用いることにより，ＴＦＴ−ＬＣＤに
使用可能な格子状遮光膜を有した電着カラーフィルター
が製造することができるようになった。
【００２０】これまで述べてきた本発明の多色液晶表示
装置に用いられるカラーフィルターの製造工程は少なく
とも以下製造工程を含むものである。 透明電極をパターニングする工程。 パターニングされた透明電極上にカラーフィルターを
形成する工程。
装置に用いられるカラーフィルターの製造工程は少なく
とも以下製造工程を含むものである。 透明電極をパターニングする工程。 パターニングされた透明電極上にカラーフィルターを
形成する工程。
【００２１】該カラーフィルター上に透明電極を形成
する工程。 該カラーフィルターおよび該透明電極の一部を除去す
る工程。 遮光膜を形成する工程。
する工程。 該カラーフィルターおよび該透明電極の一部を除去す
る工程。 遮光膜を形成する工程。
【００２２】
【実施例】以下，本発明の製造方法について図面を用い
て詳細に説明する。 （実施例１）図４に，本発明に使用されるカラーフィル
ターの製造方法の一実施例である製造工程別のフローチ
ャート，図５に，図４に示したフローチャートの各製造
工程別の模式図を示す。 まず始めに，透明電極の設け
られたガラス基板を図５（Ａ）に示したように，高分子
電着法によるカラーフィルター（電着カラーフィルタ
ー）を形成するために必要な透明電極パターンを製作す
る（パターニング）。このパターニングは広く行われて
いるフォトリソグラフィー法により実施した。また，透
明電極はスパッタリング法により製作されたインジウム
−スズ（ＩＴＯ）膜で，シート抵抗１５Ω／ロ，膜厚１
５００オングストロームのものを用いた。
て詳細に説明する。 （実施例１）図４に，本発明に使用されるカラーフィル
ターの製造方法の一実施例である製造工程別のフローチ
ャート，図５に，図４に示したフローチャートの各製造
工程別の模式図を示す。 まず始めに，透明電極の設け
られたガラス基板を図５（Ａ）に示したように，高分子
電着法によるカラーフィルター（電着カラーフィルタ
ー）を形成するために必要な透明電極パターンを製作す
る（パターニング）。このパターニングは広く行われて
いるフォトリソグラフィー法により実施した。また，透
明電極はスパッタリング法により製作されたインジウム
−スズ（ＩＴＯ）膜で，シート抵抗１５Ω／ロ，膜厚１
５００オングストロームのものを用いた。
【００２３】図５（Ａ）の１はガラス基板，２は透明電
極パターンを示す。透明電極パターン２は，Ｒｅｄ，Ｇ
ｒｅｅｎ，Ｂｌｕｅの３色のカラーフィルターが順次形
成できるように，２本置きに端の長さを変えてある。ま
た，透明電極パターン２はガラス基板の端部まで直線的
に配置されているが，図５（ａ）の７に示すように，等
間隔に一定の凹部を設けるようにした。この凹部７の間
隔は，本発明の多色液晶表示装置に使われるＴＦＴ−Ｌ
ＣＤの画素間隔と一致させ，その凹部７がＴＦＴ基板側
の各ＴＦＴ素子の有する面積と比べて同等以上にしてい
る。
極パターンを示す。透明電極パターン２は，Ｒｅｄ，Ｇ
ｒｅｅｎ，Ｂｌｕｅの３色のカラーフィルターが順次形
成できるように，２本置きに端の長さを変えてある。ま
た，透明電極パターン２はガラス基板の端部まで直線的
に配置されているが，図５（ａ）の７に示すように，等
間隔に一定の凹部を設けるようにした。この凹部７の間
隔は，本発明の多色液晶表示装置に使われるＴＦＴ−Ｌ
ＣＤの画素間隔と一致させ，その凹部７がＴＦＴ基板側
の各ＴＦＴ素子の有する面積と比べて同等以上にしてい
る。
【００２４】次に，透明電極パターン２にＲｅｄ，Ｇｒ
ｅｅｎ，Ｂｌｕｅの３色の電着カラーフィルターを設け
る。図５の（Ｂ）は，透明電極パターン２上に電着カラ
ーフィルター３Ｒが設けられた場合の断面模式図であ
る。電着カラーフィルターの膜厚は３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと
も１．５ミクロンとした。
ｅｅｎ，Ｂｌｕｅの３色の電着カラーフィルターを設け
る。図５の（Ｂ）は，透明電極パターン２上に電着カラ
ーフィルター３Ｒが設けられた場合の断面模式図であ
る。電着カラーフィルターの膜厚は３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと
も１．５ミクロンとした。
【００２５】図５の（Ｃ）は，電着カラーフィルター３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂを設けたガラス基板上全面に，スパッタ
リング法による透明電極４を設けたものである。この透
明電極４は，シート抵抗５０Ω／ロ，膜厚１０００オン
グストロームである。次いで，この電着カラーフィルタ
ー３Ｒ，３Ｇ，３Ｂおよび透明電極４の一部をＹＡＧレ
ーザ（ＨＯＹＡ製ＬＲ−２３０）により除去した。レー
ザにより除去される部分は，前述した図５（Ａ）の透明
電極パターン２の等間隔に配置された凹部の部分であ
る。ＹＡＧレーザの出力調整により除去される深さはコ
ントロール可能である。本発明の場合に，透明電極４と
電着カラーフィルター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは少なくとも除
去されなければならない。さらに，電着カラーフィルタ
ー形成用の透明電極パターン２も除去されることが好ま
しい。これは，透明電極パターン２が残留すると次の工
程で形成される遮光膜５の遮光性を低下させることにな
るからである。ＹＡＧレーザにより除去される電着カラ
ーフィルターおよび透明電極は，レーザエネルギーによ
り瞬時に気化状態になり周囲に飛散するので，レーザビ
ームが照射される近傍に吸引装置を設置して気化状物質
がガラス基板表面を汚染しないようにした。前述した透
明電極パターン２の凹部７の形状によって，レーザによ
る除去量を減少させることができる。このときガラス基
板１の表面は全くダメージを受けていなかった。
Ｒ，３Ｇ，３Ｂを設けたガラス基板上全面に，スパッタ
リング法による透明電極４を設けたものである。この透
明電極４は，シート抵抗５０Ω／ロ，膜厚１０００オン
グストロームである。次いで，この電着カラーフィルタ
ー３Ｒ，３Ｇ，３Ｂおよび透明電極４の一部をＹＡＧレ
ーザ（ＨＯＹＡ製ＬＲ−２３０）により除去した。レー
ザにより除去される部分は，前述した図５（Ａ）の透明
電極パターン２の等間隔に配置された凹部の部分であ
る。ＹＡＧレーザの出力調整により除去される深さはコ
ントロール可能である。本発明の場合に，透明電極４と
電着カラーフィルター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは少なくとも除
去されなければならない。さらに，電着カラーフィルタ
ー形成用の透明電極パターン２も除去されることが好ま
しい。これは，透明電極パターン２が残留すると次の工
程で形成される遮光膜５の遮光性を低下させることにな
るからである。ＹＡＧレーザにより除去される電着カラ
ーフィルターおよび透明電極は，レーザエネルギーによ
り瞬時に気化状態になり周囲に飛散するので，レーザビ
ームが照射される近傍に吸引装置を設置して気化状物質
がガラス基板表面を汚染しないようにした。前述した透
明電極パターン２の凹部７の形状によって，レーザによ
る除去量を減少させることができる。このときガラス基
板１の表面は全くダメージを受けていなかった。
【００２６】次に，レーザ処理を行った電着カラーフィ
ルター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂおよび透明電極４の表面に黒色
レジストをスクリーン印刷により塗布した。この黒色レ
ジストは，感光性樹脂中にカーボンを含む黒色顔料を分
散させたものである。感光性樹脂は，電着カラーフィル
ター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの分光特性を考慮し，ガラス基板
１の裏面から紫外線照射（背面露光）により感光するネ
ガレジストを選択すればよい。東京応化製ＯＦＰＲ８０
０，日本火薬製感光レジスト，フジハント製等が使え
る。３６５ナノメートルの紫外線に対してガラス基板は
一定の透過率を有しており，電着カラーフィルター３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂはほとんど吸収するので，電着カラーフ
ィルター間隙部に黒色ネガレジストが光硬化して遮光膜
６として形成される。この遮光膜６の膜厚は電着カラー
フィルターと同じ１．５ミクロンにした。この際，図５
（Ｄ）で示したようにカラーフィルター間隙部だけでな
く，その周囲にも遮光膜を形成することが一般的であ
る。
ルター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂおよび透明電極４の表面に黒色
レジストをスクリーン印刷により塗布した。この黒色レ
ジストは，感光性樹脂中にカーボンを含む黒色顔料を分
散させたものである。感光性樹脂は，電着カラーフィル
ター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの分光特性を考慮し，ガラス基板
１の裏面から紫外線照射（背面露光）により感光するネ
ガレジストを選択すればよい。東京応化製ＯＦＰＲ８０
０，日本火薬製感光レジスト，フジハント製等が使え
る。３６５ナノメートルの紫外線に対してガラス基板は
一定の透過率を有しており，電着カラーフィルター３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂはほとんど吸収するので，電着カラーフ
ィルター間隙部に黒色ネガレジストが光硬化して遮光膜
６として形成される。この遮光膜６の膜厚は電着カラー
フィルターと同じ１．５ミクロンにした。この際，図５
（Ｄ）で示したようにカラーフィルター間隙部だけでな
く，その周囲にも遮光膜を形成することが一般的であ
る。
【００２７】また，遮光膜は光リークによるＴＦＴの特
性劣化が生じないように，黒色顔料の調整によりオプテ
ィカルデンシティー（ＯＤ値）が２．５以上になるよう
にした。以上説明してきた製造方法によって本発明に使
われる格子状遮光膜を有する電着カラーフィルターが製
作された。
性劣化が生じないように，黒色顔料の調整によりオプテ
ィカルデンシティー（ＯＤ値）が２．５以上になるよう
にした。以上説明してきた製造方法によって本発明に使
われる格子状遮光膜を有する電着カラーフィルターが製
作された。
【００２８】このようにして製作された電着カラーフィ
ルターを一方の基板とし，ＴＦＴ基板対向基板として図
２−１と同様の本発明の多色液晶表示装置を製作したと
ころ，ＴＦＴの光リークによる特性劣化が全く起きなか
った。 （実施例２）図６は，本発明の多色液晶表示装置に使わ
れるカラーフィルターの製造方法の一実施例を示す製造
工程のフォローチャートである。
ルターを一方の基板とし，ＴＦＴ基板対向基板として図
２−１と同様の本発明の多色液晶表示装置を製作したと
ころ，ＴＦＴの光リークによる特性劣化が全く起きなか
った。 （実施例２）図６は，本発明の多色液晶表示装置に使わ
れるカラーフィルターの製造方法の一実施例を示す製造
工程のフォローチャートである。
【００２９】図６の１は，ＩＴＯ透明電極付きガラス基
板を実施例１で用いたＹＡＧレーザにより，電着カラー
フィルター形成用の透明電極パターン２を形成した。こ
の透明電極２は，真空蒸着法によりシート抵抗２０Ω／
ロ，膜厚１５００オングストローム仕様のものを用い
た。この透明電極２のパターニングは，図１と同様のス
トライプ形状にしたが，形状は電着カラーフィルターが
形成可能であれば任意でよい。
板を実施例１で用いたＹＡＧレーザにより，電着カラー
フィルター形成用の透明電極パターン２を形成した。こ
の透明電極２は，真空蒸着法によりシート抵抗２０Ω／
ロ，膜厚１５００オングストローム仕様のものを用い
た。この透明電極２のパターニングは，図１と同様のス
トライプ形状にしたが，形状は電着カラーフィルターが
形成可能であれば任意でよい。
【００３０】次に，前記透明電極パターン２に実施例１
と同様に電着カラーフィルター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを形成
した。カラーフィルターの膜厚は３色とも１．２ミクロ
ンとした。この後，キセノンレーザ（ＦＬＯＲＯＤ Ｌ
ＦＡ）により実施例１と同様に，電着カラーフィルター
と透明電極パターン２の一部を除去した。
と同様に電着カラーフィルター３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを形成
した。カラーフィルターの膜厚は３色とも１．２ミクロ
ンとした。この後，キセノンレーザ（ＦＬＯＲＯＤ Ｌ
ＦＡ）により実施例１と同様に，電着カラーフィルター
と透明電極パターン２の一部を除去した。
【００３１】次いで，電着カラーフィルター基板表面上
に黒色レジストを塗布し，実施例１と同様に遮光膜１．
２ミクロンの膜厚に形成した。この遮光膜６が形成され
た電着カラーフィルター表面に，シート抵抗５０Ω／ロ
の透明電極を設けることで，電着カラーフィルター基板
が完成した。
に黒色レジストを塗布し，実施例１と同様に遮光膜１．
２ミクロンの膜厚に形成した。この遮光膜６が形成され
た電着カラーフィルター表面に，シート抵抗５０Ω／ロ
の透明電極を設けることで，電着カラーフィルター基板
が完成した。
【００３２】このカラーフィルター基板とＴＦＴ基板を
用いて，実施例１と同様に本発明の多色液晶表示装置を
製作したところ，光リークによるＴＦＴ素子の特性劣化
は全く生じなかった。なお、本実施例で示した電着カラ
ーフィルター基板は，表面に設けられた透明電極を所望
のパターン形状にパターニングすることにより単純マト
リックスタイプの多色液晶表示装置にも使用することが
可能である。
用いて，実施例１と同様に本発明の多色液晶表示装置を
製作したところ，光リークによるＴＦＴ素子の特性劣化
は全く生じなかった。なお、本実施例で示した電着カラ
ーフィルター基板は，表面に設けられた透明電極を所望
のパターン形状にパターニングすることにより単純マト
リックスタイプの多色液晶表示装置にも使用することが
可能である。
【００３３】（実施例３）図７は，本発明の多色液晶表
示装置に用いられるカラーフィルターの他の製造方法の
実施例を示す製造工程のフォローチャートである。本実
施例は，実施例１の製造工程３の透明電極成膜と４のレ
ーザ照射の順番を変えたものであり，透明電極４の存在
下においてもレーザーエネルギー出力の調整により全く
問題なく，実施例１と同様に本発明の求めるカラーフィ
ルターを製造することが可能な方法である。
示装置に用いられるカラーフィルターの他の製造方法の
実施例を示す製造工程のフォローチャートである。本実
施例は，実施例１の製造工程３の透明電極成膜と４のレ
ーザ照射の順番を変えたものであり，透明電極４の存在
下においてもレーザーエネルギー出力の調整により全く
問題なく，実施例１と同様に本発明の求めるカラーフィ
ルターを製造することが可能な方法である。
【００３４】このカラーフィルター基板とＴＦＴ基板を
用いて，実施例１と同様に本発明の多色液晶表示装置を
製作したところ，光リークによるＴＦＴ素子の特性劣化
は全く生じなかった。
用いて，実施例１と同様に本発明の多色液晶表示装置を
製作したところ，光リークによるＴＦＴ素子の特性劣化
は全く生じなかった。
【００３５】
【発明の効果】以上述べてきたように，これまで高分子
電着法によるカラーフィルターでは製作できなかった格
子状遮光膜が，レーザの活用により可能になった。この
電着カラーフィルターを用いることにより，光リークに
よるＴＦＴ素子等のアクティブ素子の特性劣化を全く起
こさない多色液晶表示装置を製造することが可能になっ
た。
電着法によるカラーフィルターでは製作できなかった格
子状遮光膜が，レーザの活用により可能になった。この
電着カラーフィルターを用いることにより，光リークに
よるＴＦＴ素子等のアクティブ素子の特性劣化を全く起
こさない多色液晶表示装置を製造することが可能になっ
た。
【００３６】また，簡易的製造方法であるこの電着カラ
ーフィルターの使用した多色液晶表示装置は，高額な設
備を使い複雑なプロセスを必要とする他の製造方法によ
るカラーフィルターを用いた多色液晶表示装置にくらべ
て低廉価にすることが可能になった。
ーフィルターの使用した多色液晶表示装置は，高額な設
備を使い複雑なプロセスを必要とする他の製造方法によ
るカラーフィルターを用いた多色液晶表示装置にくらべ
て低廉価にすることが可能になった。
【図１】従来の電着カラーフィルターの製造方法を示す
模式図。
模式図。
【図２】従来のおよび本発明のＴＦＴを用いた多色液晶
表示装置の断面模式図とＴＦＴ基板と遮光膜を説明する
平面模式図。
表示装置の断面模式図とＴＦＴ基板と遮光膜を説明する
平面模式図。
【図３】電着カラーフィルターの分光特性の一例。
【図４】本発明に用いるカラーフィルターの製造方法を
示すフローチャート。
示すフローチャート。
【図５】本発明に用いるカラーフィルターの製造方法を
示す模式図。
示す模式図。
【図６】本発明に用いるカラーフィルターの他の製造方
法を示すフローチャート。
法を示すフローチャート。
【図７】本発明に用いるカラーフィルターの他の製造方
法を示すフローチャート。
法を示すフローチャート。
１ ガラス基板 ２ 透明電極パターン ３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ 電着カラーフィルター ４ 透明電極 ５ レーザにより除去された部分 ６ 遮光膜 ７ 透明電極凹部 ８ ＴＦＴ ９ 液晶 １０ 偏向板
Claims (8)
- 【請求項１】 透明電極を有する透明電極基板上にカラ
ーフィルターを形成するカラーフィルターの製造方法に
おいて、少なくとも以下の製造工程を有するカラーフィ
ルターの製造方法。 透明電極をパターニングする工程。 パターニングされた透明電極上にカラーフィルターを
形成する工程。 該カラーフィルター上に透明電極を形成する工程。 該カラーフィルターおよび該透明電極の一部を除去す
る工程。 遮光膜を形成する工程。 - 【請求項２】 上記カラーフィルターの形成が高分子電
着法による請求項１記載のカラーフィルターの製造方
法。 - 【請求項３】 上記カラーフィルター及び透明電極の一
部を除去する工程がレーザーを用いた請求項１記載のカ
ラーフィルターの製造方法。 - 【請求項４】 上記遮光膜の形成方法が背面露光法によ
る請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項５】 カラーフィルターを用いる多色表示装置
において，透明電極を有する透明電極基板上にカラーフ
ィルターを形成するカラーフィルターの製造方法が，少
なくとも以下の製造工程を有することを特徴とする多色
液晶表示装置の製造方法。 透明電極をパターニングする工程。 パターニングされた透明電極上にカラーフィルターを
形成する工程。 該カラーフィルター上に透明電極を形成する工程。 該カラーフィルターおよび該透明電極の一部を除去す
る工程。 遮光膜を形成する工程。 - 【請求項６】 上記カラーフィルターの形成が，高分子
電着法による請求項１記載の多色液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項７】 上記カラーフィルターおよび透明電極の
一部を除去する工程が，レーザーを用いることを特徴と
する多色液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項８】 上記遮光膜の形成方法が，背面露光法に
よることを特徴とする請求項１記載の多色液晶表示装置
の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15244094A JPH07294725A (ja) | 1994-03-01 | 1994-07-04 | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 |
| US08/395,442 US5684553A (en) | 1994-03-01 | 1995-02-28 | Method for manufacturing color filter and multiple color liquid crystal display devices |
| KR1019950004291A KR100191472B1 (ko) | 1994-03-01 | 1995-02-28 | 칼라 필터 및 다색액정표시장치의 제조방법 |
| CN95103249A CN1072807C (zh) | 1994-03-01 | 1995-03-01 | 一种滤色片和多色液晶显示装置的制造方法 |
| EP95301313A EP0670509B1 (en) | 1994-03-01 | 1995-03-01 | Method for manufacturing colour filters and multiple colour liquid crystal display devices |
| DE69518028T DE69518028T2 (de) | 1994-03-01 | 1995-03-01 | Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters und mehrfarbige Flüssigkristallgeräte |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-31625 | 1994-03-01 | ||
| JP3162594 | 1994-03-01 | ||
| JP15244094A JPH07294725A (ja) | 1994-03-01 | 1994-07-04 | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07294725A true JPH07294725A (ja) | 1995-11-10 |
Family
ID=26370132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15244094A Pending JPH07294725A (ja) | 1994-03-01 | 1994-07-04 | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5684553A (ja) |
| EP (1) | EP0670509B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07294725A (ja) |
| KR (1) | KR100191472B1 (ja) |
| CN (1) | CN1072807C (ja) |
| DE (1) | DE69518028T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853924A (en) * | 1994-12-26 | 1998-12-29 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing color filters |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0182015B1 (ko) * | 1994-11-28 | 1999-05-01 | 김광호 | 액정 표시장치용 칼라필터의 제조 방법 |
| JPH09152507A (ja) * | 1995-03-29 | 1997-06-10 | Seiko Instr Inc | 多色液晶表示装置の製造方法 |
| US6900855B1 (en) * | 1995-10-12 | 2005-05-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device having resin black matrix over counter substrate |
| KR100466396B1 (ko) * | 1995-12-30 | 2005-04-08 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 발광형액정표시장치 |
| US6208404B1 (en) * | 1996-05-16 | 2001-03-27 | Tryonics Corporation | Black matrix |
| US6208394B1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-03-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | LCD device and method for fabricating the same having color filters and a resinous insulating black matrix on opposite sides of a counter electrode on the same substrate |
| JP4215905B2 (ja) * | 1999-02-15 | 2009-01-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP3576871B2 (ja) * | 1999-06-04 | 2004-10-13 | 日本電気株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
| US7310124B2 (en) * | 2003-05-09 | 2007-12-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate, method of manufacturing the color filter and display device |
| US20040245225A1 (en) * | 2003-06-04 | 2004-12-09 | Alexander Kastalsky | Making color in two - and three - dimensional images created in glass with laser induced micro-explosions |
| US7294372B2 (en) * | 2003-10-01 | 2007-11-13 | Eastman Kodak Company | Conductive color filters |
| US20070287080A1 (en) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Orbotech Ltd | Enhancement of inkjet-printed elements using photolithographic techniques |
| JP2008026752A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Nec Lcd Technologies Ltd | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の修正方法及びカラー液晶表示装置 |
| JP2010080224A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Sony Corp | 光学部品の製造方法および光学部品、並びに表示装置の製造方法および表示装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4006968A (en) * | 1975-05-02 | 1977-02-08 | Hughes Aircraft Company | Liquid crystal dot color display |
| KR900006938B1 (ko) * | 1984-11-12 | 1990-09-25 | 가부시끼 가이샤 한도다이 에네르기 겐뀨소 | 액정표시판 및 그 제조방법 |
| EP0224040B1 (en) * | 1985-11-26 | 1990-09-26 | Stanley Electric Co., Ltd. | Liquid crystal color display device and its manufacturing process |
| JPH0610702B2 (ja) * | 1987-11-18 | 1994-02-09 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | カラー液晶表示装置およびその製造方法 |
| JP2593670B2 (ja) * | 1987-11-26 | 1997-03-26 | セイコー電子工業株式会社 | カラー表示装置の製造方法 |
| JPH04269713A (ja) * | 1991-02-25 | 1992-09-25 | Seiko Instr Inc | 多色パターンの製造方法 |
| JPH04301604A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toshiba Corp | カラーフィルタおよびその製造方法およびこれを用いた液晶表示装置 |
| JP3350991B2 (ja) * | 1992-03-06 | 2002-11-25 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置用基板、及び電気光学装置 |
| JP2944854B2 (ja) * | 1993-06-29 | 1999-09-06 | シャープ株式会社 | 液晶素子の製造方法 |
| US5340619A (en) * | 1993-10-18 | 1994-08-23 | Brewer Science, Inc. | Method of manufacturing a color filter array |
-
1994
- 1994-07-04 JP JP15244094A patent/JPH07294725A/ja active Pending
-
1995
- 1995-02-28 KR KR1019950004291A patent/KR100191472B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-28 US US08/395,442 patent/US5684553A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-01 DE DE69518028T patent/DE69518028T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-03-01 EP EP95301313A patent/EP0670509B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-01 CN CN95103249A patent/CN1072807C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853924A (en) * | 1994-12-26 | 1998-12-29 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing color filters |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1116714A (zh) | 1996-02-14 |
| US5684553A (en) | 1997-11-04 |
| CN1072807C (zh) | 2001-10-10 |
| DE69518028D1 (de) | 2000-08-24 |
| EP0670509A1 (en) | 1995-09-06 |
| DE69518028T2 (de) | 2000-12-21 |
| EP0670509B1 (en) | 2000-07-19 |
| KR100191472B1 (ko) | 1999-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100724478B1 (ko) | 액정표시소자 제조방법 | |
| JPH07294725A (ja) | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH09185049A (ja) | Ｌｃｄ装置及びその製造方法 | |
| US7470491B2 (en) | Method of fabricating color filter panel using back exposure and structure of color filter panel | |
| JP2008281919A (ja) | カラーフィルタ形成基板の作製方法およびカラーフィルタ形成基板 | |
| US7102710B2 (en) | Manufacturing method of color filter substrate having panel identification | |
| KR101022552B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| JPH08292313A (ja) | カラーフィルタの製造方法、該方法により得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを具備した液晶表示装置 | |
| JPH0895024A (ja) | カラーフィルター、その製造方法、及び同カラーフィルターを組込んだ液晶表示パネル | |
| JPH0815523A (ja) | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 | |
| JP2001166316A (ja) | カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 | |
| JPH0836173A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH08327996A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH06281926A (ja) | 液晶表示板用カラーフィルタの形成方法 | |
| JPH0439603A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JPH09265086A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルター及びその製造方法 | |
| JPH09189899A (ja) | ブラックマトリクス基板、カラーフィルターおよび液晶パネルならびにそれらの製造方法 | |
| JP2003195273A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP3142900B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| KR20050052690A (ko) | 액정표시장치의 컬러필터 기판 및 그 제조방법 | |
| JPH08327995A (ja) | カラー液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH06148636A (ja) | 液晶表示パネル | |
| JPH08146408A (ja) | 液晶表示素子用カラーフィルタ基板の製造方法 | |
| KR960016636B1 (ko) | 액정 표시 소자용 컬러 필터 제조 방법 | |
| JPH08248409A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルターおよびその製造方法 |