JPH07296320A

JPH07296320A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH07296320A
Application number: JP9033694A
Authority: JP
Inventors: Kaoru Aoki; 薫青木
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-04-27
Filing date: 1994-04-27
Publication date: 1995-11-10

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、高精度なトラック幅を有し、トラ
ックずれによるサイドイレーズを引き起こす余地がない
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。【構成】基板２２の少なくとも一方の面にトラック幅
Ｔｗよりも厚く磁性金属膜２３を成膜しておき、一対の
磁気コアブロック２５，２６同士を突き合わせ接合した
後に、厚く成膜された磁性金属膜２３の膜厚Ｌがトラッ
ク幅Ｔｗの寸法として露出するように、上記磁気コアブ
ロック２９の媒体摺動面２０側を少なくともデプス零と
なる位置ｄまで研磨して磁性金属膜２３のみを残存させ
る。そして、上記研磨により除去した非磁性部１０に非
磁性材料２１を充填することによって、磁気ヘッドを製
造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
ー（以下、「ＶＴＲ」という。）等に搭載されて好適な
磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に
おいては、記録信号の高密度化や高周波数化が進められ
ており、この高密度記録化に対応して磁気記録媒体とし
て磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属の粉末を用
いた、いわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸着
によりベースフィルム上に被着した、いわゆる蒸着テー
プ等が使用されるようになっている。これに伴って、磁
気ヘッドのヘッド材料には、高い飽和磁束密度を有する
とともに高い透磁率を有することが要求されている。

【０００３】一方、上述の高密度記録化に伴って、磁気
記録媒体に記録される記録トラック幅の狭小化も進めら
れており、これに対応して磁気ヘッドのトラック幅も極
めて狭いものが要求されている。

【０００４】そこで従来、セラミックス等の非磁性基板
上に磁気コアとなる磁性金属膜を被着形成し、これをト
ラック部分としたいわゆるラミネートタイプの磁気ヘッ
ドが提案されている。当該磁気ヘッドにおいては、磁性
金属膜の膜厚がすなわち記録再生ギャップのトラック幅
となるものであるから、当該磁性金属膜の膜厚のみを制
御することで簡単に狭トラック化が図れること、及び磁
性金属膜と補助コアとの界面が記録再生ギャップと非平
行であるため当該界面が疑似ギャップとして動作するこ
とがないこと、さらに製造工程が簡単であること等、種
々の利点を有する。

【０００５】ところで、上述のラミネートタイプの磁気
ヘッドは、以下の製造工程順に従って、製造される。

【０００６】まず、図１３に示すように、短冊状をなす
非磁性基板１０１の片面に磁気コアとなる磁性金属膜１
０２と接合膜１０３をスパッタ等の真空薄膜形成法によ
り形成する。接合膜１０３は、後述の工程で上記磁性金
属膜１０２が形成された非磁性基板１０１同士を接合一
体化させるためのもので、例えば融着用ガラス膜、或は
低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が用いられる。

【０００７】次に、図１４に示すように、上記磁性金属
膜１０２と接合膜１０３の形成された非磁性基板１０１
を積み重ね、最後に非磁性基板１０１を重ねて加圧加熱
処理を行ない平面略長方形状をなす磁気コア基板１０４
を作製する。なお、図１４では、接合膜１０３は図示を
省略する。

【０００８】次いで、上記磁気コア基板１０４をＡ−
Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の線に沿って切り出す。する
と、図１５に示すように、互いに略対称な一対の磁気コ
ア半体ブロック１０５、１０６が形成される。

【０００９】そして、図１６に示すように、一方の磁気
コア半体ブロック１０５に、その長手方向に沿って伸び
る巻線溝１０７を形成する。次に、巻線溝１０７の形成
されていない磁気コア半体ブロック１０６の片面と、巻
線溝１０７が形成された磁気コア半体ブロック１０５の
溝形成面を平滑研磨する。

【００１０】次いで、図１７に示すように、これら磁気
コア半体ブロック１０５、１０６の突き合わせ面にギャ
ップスペーサー１０８をスパッタ等の真空薄膜形成法に
より形成した後、各磁気コア半体ブロック１０５、１０
６に各々形成された磁性金属膜１０２同士の位置合わせ
を行い、磁性金属膜１０２同士を相対向するように突き
合わせて加圧加熱を行ない磁気コアブロック１０９を作
製する。

【００１１】その後、媒体摺動面となる面を所定のギャ
ップ深さまでラップ処理して、図７中円弧状の実線で示
す媒体摺動面１２０を形成し、磁気記録媒体との当たり
を確保する。そして最後に、この磁気コアブロック１０
９をＤ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の線に沿って磁性金属膜１０２
と平行にチップ切断することで、上述したラミネートタ
イプの磁気ヘッドが完成する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従来の磁気ヘッドの製
造方法においては、上述のように一対の磁気コア半体ブ
ロック１０５，１０６に各々形成された磁性金属膜１０
２同士を寸法誤差なく一致させてうに突き合わること
が、狭トラック化による高密度記録を可能ならしめる上
で強く要請されている。

【００１３】しかしながら、従来の磁気ヘッドの製造方
法においては、上述した磁性金属膜１０２の成膜時にお
いて生じる膜厚のばらつきや、トラック位置合わせの際
に生じるトラックのずれ（図１７中、Ｍ２で示す）等に
よって、トラック幅Ｔｗの寸法を規制することが容易で
はなかった。

【００１４】したがって、上記突き合わせ接合によって
磁気コアブロック１０９をチップ切断して得られる磁気
ヘッドを用いて、磁気記録媒体に対して記録・再生を行
うと、トラックずれＭ２が生じてしまっているため、こ
のトラックずれＭ２によって一旦記録された部分が再記
録されたる、いわゆるサイドイレーズを引き起こすとい
う大きな問題を有していた。

【００１５】そこで、本発明は、かかる従来の技術的な
課題に鑑みて提案されたものであって、高精度なトラッ
ク幅を有する磁気ヘッド、及び、トラック幅を規制する
ことで信頼性の高い磁気ヘッドを製造する製造方法を提
供することを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、上述の課題を解決し目的を達成するために、磁性金
属膜をその膜厚方向より一対の基板によって挟み込んで
なる磁気コア半体同士が、互いの磁気コア半体の突き合
わせ面に呈する磁性金属膜の端面同士を突き合わせ、そ
の突き合わせ面間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、上記磁気ギャップが呈する媒体摺動面の
うち磁性金属膜を除いた部分が非磁性材料を充填した非
磁性部とされると共に、磁性金属膜は媒体摺動面からデ
プス零位置までがトラック幅とされ、それ以降はトラッ
ク幅よりも厚くされていることを特徴とする。

【００１７】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
は、基板の少なくとも一方の面にトラック幅よりも厚く
磁性金属膜を成膜する工程と、上記磁性金属膜の形成さ
れた複数の基板を、該磁性金属膜の膜厚方向で重なり合
うように積層し接合一体化して磁気コア基板を作製する
工程と、上記磁気コア基板を積層方向と直交する方向に
切断して互いに略対称な一対の磁気コア半体ブロックを
形成する工程と、少なくとも一方の磁気コア半体ブロッ
クの切断面にその長手方向に沿って伸びる巻線溝を形成
する工程と、上記一対の磁気コア半体ブロックの各磁性
金属膜の端面同士を相対向させて、これら一対の磁気コ
ア半体ブロック同士をギャップ接合することにより磁気
コアブロックを作製する工程と、上記厚く成膜された磁
性金属膜の膜厚がトラック幅の寸法として露出するよう
に、上記磁気コアブロックの媒体摺動面側を少なくとも
デプス零となる位置まで研磨して磁性金属膜のみを残存
させる工程と、上記研磨で除去した部分に非磁性材料を
充填する工程と、非磁性材料が充填された磁気コアブロ
ックの媒体摺動面側をラップ処理して、曲率を有する面
を形成する工程と、上記磁気コアブロックを磁性金属膜
に沿ってチップ切断する工程とを備えてなることを特徴
とする。

【００１８】また、上記非磁性材料は、耐摩耗性の高い
材料であることが好ましく、特に、セラミックスである
ことが好ましい。

【００１９】また、上記磁性金属膜は、磁気ヘッドの高
周波帯域での渦電流損失を回避するために、膜厚の薄い
磁性金属薄膜を電気的絶縁膜を介して何層にも積層した
積層膜であることが好ましい。

【００２０】さらに、上記電気的絶縁膜は、ＳｉＯ₂又
はＡｌ₂Ｏ₃であることが好ましい。

【００２１】

【作用】本発明に係る磁気ヘッドは、磁気ギャップが呈
する媒体摺動面のうち磁性金属膜を除いた部分が非磁性
材料を充填した非磁性部とされると共に、磁性金属膜は
媒体摺動面からデプス零位置までがトラック幅とされ、
それ以降はトラック幅よりも厚くされているものである
から、磁気コアの磁路断面積がより広く確保されるた
め、出力が向上することとなる。

【００２２】また、上記研磨で除去した部分に非磁性材
料が充填されるため、磁気記録媒体に対する耐摩耗性に
優れる。

【００２３】一方、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
においては、基板の少なくとも一方の面にトラック幅よ
りも厚く磁性金属膜を成膜する。したがって、一対の磁
気コアブロックをギャップ接合する際に、各磁性金属膜
の端面同士に接合のずれによるトラックずれが生じてい
ても、かかるずれを吸収し得ることとなる。

【００２４】また、上記厚く成膜された磁性金属膜の膜
厚がトラック幅の寸法として露出するように、上記磁気
コアブロックの媒体摺動面側を少なくともデプス零とな
る位置まで研磨して磁性金属膜のみを残存させる。した
がって、トラックずれが生じていても、かかる工程によ
って、トラック幅が規制される。よって、サイドイレー
ズを引き起こす余地がない。

【００２５】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。

【００２６】まず、本発明に係る磁気ヘッドの一実施例
の構成について説明する。第１の実施例

【００２７】本実施例の磁気ヘッドは、図１に示すよう
に、磁性金属膜３をその膜厚方向より一対の非磁性基板
１１，１２によって挟み込んでなる磁気コア半体１と、
同様に磁性金属膜４をその膜厚方向より一対の非磁性基
板１３，１４によって挟み込んでなる磁気コア半体２
が、上記磁性金属膜３，４を突き合わせるようにして接
合一体化されている。

【００２８】そして、上記磁性金属膜３，４の突き合わ
せ面間には、磁気ギャップＧ１が形成され、上記磁性金
属膜３，４により閉磁路が構成されている。このような
構成の磁気ヘッドは、ラミネートタイプと称されてお
り、上記非磁性基板１１，１２及び１３，１４が用いら
れていることから、磁気ギャップＧ１のトラック幅Ｔｗ
は、上記金属磁性膜３，４の膜厚によって決定される。

【００２９】上記磁性金属膜３，４は、各種強磁性材料
の他に、例えば高飽和磁束密度を有し、かつ軟磁気特性
に優れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強磁性
材料としては従来より公知のものがいずれも使用でき、
結晶質であるか、非晶質であるかを問わない。

【００３０】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ
系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合金、Ｆｅ
−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系
合金等が挙げられる。さらには、耐蝕性や耐摩耗性等の
一層の向上を図るためにＣｏ、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｍ
ｏ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，
Ｂ，Ｉｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ，Ｐｄ、
Ｎ、Ｃ、Ｏ等の少なくとも一種を添加したものであって
もよい。

【００３１】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるア
モルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上
の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素からなる合
金、またはこれらを主成分としてＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタルーメタロイド系アモルフ
ァス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土
類元素等を主成分とするメタルーメタル系アモルファス
合金）等が挙げられる。

【００３２】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、膜厚制御性に優れるスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、クラスタ・イオンビーム
法等に代表される真空薄膜形成技術が採用される。

【００３３】一方、上記非磁性基板１１、１２及び１
３、１４は、一般的には非磁性フェライト、酸化ジルコ
ニウム系セラミック、ホトセラム等の結晶化ガラス、非
磁性酸化鉄系セラミック、チタン酸系セラミック等、或
いは、これらを接合した接合材が用いられる。ただし、
磁気記録媒体に対する耐摩耗性があるものならば特に材
料を限定するものではない。かかる非磁性基板１１，１
２及び１３，１４は、上記磁性金属膜３，４と同一形状
とされ、該磁性金属膜３，４をその厚み方向より挟み込
むようになっている。

【００３４】そして特に、本実施例の上記非磁性金属膜
３，４と上記非磁性基板１１，１２及び１３，１４は、
媒体摺動面２０から磁気ギャップＧ１のデプス（深さ）
Ｄが零となる位置ｄまでと、デプス零位置ｄ以降とは、
各々の構成に相違が施されている。

【００３５】まず、上記非磁性基板１１，１２及び１
３，１４に挟み込まれる磁性金属膜３，４の厚みは、媒
体摺動面２０からデプス（深さ）零となる位置ｄまでは
トラック幅Ｔｗとされているが、デプス零となる位置ｄ
以降はトラック幅Ｔｗよりも厚くされている（図中、Ｌ
で示す。）。本実施例においては、媒体摺動面２０から
デプス零となる位置ｄまでの幅、即ちトラック幅Ｔｗ
と、デプス零となる位置ｄ以降の磁性金属膜３，４の厚
みＬとの比率（媒体摺動面からデプス零位置までの厚み
／デプス零位置以降の厚み）は、約１／１．５に設定さ
れている。

【００３６】また、上記磁性金属膜３，４同士の突き合
わせは、上記媒体摺動面２０からデプス零位置ｄまで
は、後述する製造工程による加工研磨によって、わずか
な寸法誤差によるトラックのずれが全く生じていないも
のである。したがって、磁性金属膜３，４は、その突き
合わせ面に正確に相対向して突き合わせられ、フロント
ギャップＧ１の精度が高く出せるようになされている。

【００３７】他方、上記非磁性基板１１、１２及び１
３、１４の媒体摺動面２０のうち上記磁性金属膜３，４
を除いた部分１１ａ、１２ａ及び１３ａ、１４ａは、耐
摩耗性の高い非磁性材料２１が充填されており、上記非
磁性基板１１、１２及び１３、１４は、いわば２層の断
層構造となされている。この耐摩耗性の高い非磁性材料
２１としては、ＳｉＣ、ＺｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ、ＴｉＯ₂、ＮｉＯ−ＣａＴｉ
Ｏ₃等を主成分としたものが挙げられる。したがって、
磁気記録媒体との摺接に対しても、その耐磨耗性が有効
に発揮されるようになされている。

【００３８】また、上記磁気ヘッドにおいては、一方の
磁気コア半体２の対向面に、その一端により磁気ギャッ
プＧ１のデプスＤを規制するとともに、図示しないコイ
ルを巻装するための巻線溝７が設けられている。なお、
本発明は、巻線溝７が他方の磁気コア半体１の対向面に
も設けられる、いわゆる両窓タイプのものでも適用でき
ることは言うまでもない。

【００３９】このように、上記構成のラミネートタイプ
の磁気ヘッドは、磁性金属膜３，４同士の寸法誤差のな
い磁気ヘッドであることから、狭トラック化に要請の有
効に対応した高精度なトラック幅Ｔｗを有するものであ
る。また、非磁性基板１１、１２及び１３、１４の媒体
摺動面２０のうち上記磁性金属膜３，４を除いた部分
は、耐摩耗性の高い非磁性材料２１が充填されているも
のであるから、耐摩耗性に優れた特性を発揮するもので
ある。したがって、ＶＴＲ等に搭載されて好適な磁気ヘ
ッドとなる。

【００４０】次に、上述の磁気ヘッドの製造方法につい
て説明する。

【００４１】先ず、図２に示すように、非磁性の短冊基
板２２の主面に、上述したＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ系合金等の金属磁性材料によっ
て、磁性金属膜２３をスパッタリングして形成する。こ
の磁性金属膜２３の成膜に際しては、トラック幅Ｔｗよ
りも厚く形成し、後の研磨加工に備える。本実施例で
は、この磁性金属膜２３の膜厚Ｌは、磁性金属膜２３の
突き合わせにおけるずれを考慮して、所定のトラック幅
Ｔｗよりも約１．５倍厚く形成する。

【００４２】また、上記金属磁性材料をスパッタリング
するに際しては、磁気ヘッドの高周波帯域での渦電流損
失を回避するために、ＳｉＯ₂又はＡｌ₂Ｏ₃と金属磁
性材料を交互にスパッタリングすることが好ましい。つ
まり、絶縁膜を介して膜厚の薄い金属磁性金属膜を何層
にも積層した積層膜構造とする。

【００４３】また、上記磁性金属膜２３の上には、接合
膜を成膜する。この接合膜は、融着用ガラス膜、或い
は、低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が用いられ
る。

【００４４】次に、図３に示すように、磁性金属膜の形
成された複数の短冊基板２２を接合一体化して磁気コア
基板２４を作製する。次いで、この磁気コア基板２４
を、図４に示すように、Ａ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’
の線に沿って切り出し、図５に示される互いに略対称な
一対の磁気コア半体ブロック２５、２６を作製する。

【００４５】そして、図６に示されるように、一方の磁
気コア半体ブロック２６に、その長手方向に沿って伸び
る巻線溝７を形成した後、上記一対の磁気コア半体ブロ
ック２５、２６の突き合わせ面を鏡面研磨する。

【００４６】そして、上記研磨面にギャップ膜となるギ
ャップスペーサー２８をスパッタ等の真空薄膜形成法に
より形成し、これら磁気コア半体ブロック２５、２６同
士を各々の磁性金属膜２３が相対向するようにトラック
位置合わせしながら突き合わ接合一体化させる。この接
合一体化により、磁気コアブロック２９が作製される。
この接合一体化には、図７に示すように巻線溝７にガラ
ス２７を流し込むことにより行われるガラス融着によ
る。その結果、各磁気コア半体ブロック２５、２６にそ
れぞれ形成された磁性金属膜２３の突き合わせ間面に、
記録再生ギャップとして動作する磁気ギャップＧ１が形
成される。

【００４７】このとき、図７に示すように、磁性金属膜
２３の成膜時の膜厚のばらつきや突き合わせ精度等に起
因して、各ブロック２５，２６に形成された磁性金属膜
２３同士の突き合わせ位置にズレ（トラックのずれ）Ｍ
１が生じた場合、次の工程により、上記ずれＭ１を防止
する。

【００４８】すなわち、図９に示すように、上記厚く成
膜された磁性金属膜２３の膜厚Ｌがトラック幅Ｔｗの寸
法として露出するように、磁気コアブロック２９の媒体
摺動面２０側を削り除去する。かかる加工は、砥石によ
る研磨、研削、或いは、レーザー加工等により行われ、
磁気コアブロック２９の媒体摺動面２０側をデプス零と
なる位置ｄまで研磨して磁性金属膜２３のみを残存させ
る。これにより、上記磁気コアブロック２９は、記録媒
体摺動面２０側に多数の研磨された複数の溝が形成され
ることとなる。なお、この研磨によって除去された表面
（研磨された溝の底面）２０ａは、図９に示されている
ような一定の曲率をもった面として加工してもよく、ま
た、平坦な面に加工してもよい。

【００４９】本実施例では、磁性金属膜２３の膜厚Ｌ
は、トラック幅Ｔｗよりも予め厚く形成されている。し
たがって、この厚さを利用して、磁性金属膜２３のトラ
ックのずれＭ１をなくように研磨し、微調整を行い最終
的に所定のトラック幅Ｔｗが決定される。

【００５０】次いで、図１０に示すように、上記のよう
に研磨された溝状の複数の非磁性部１０に、ＳｉＣ、Ｚ
ｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ、Ｔｉ
Ｏ₂、ＮｉＯ−ＣａＴｉＯ₃等を主成分とした耐摩耗性の
高い非磁性材料２１を充填する。

【００５１】これら非磁性材料２１の充填方法として
は、スパッタリング等の真空薄膜形成技術や、パウダー
・ビーム・デポディションと呼ばれる微粒子を高速で吹
き付けて堆積させる方法等が用いられる。

【００５２】この後者のパウダー・ビーム・デポディシ
ョンによる場合は、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｌＯ₂、ガラス粉末等
のパウダーを、平均粒径１μｍ以下、パウダースピード
１００ｍ／ｓｅｃ以上、圧力（ノズル、タンク）５ｋｇ
ｆ／ｃｍ²で、５分間噴射することにより、約２０μｍ
の膜厚が得られる。このようにパウダー・ビーム・デポ
ディションによれば、膜厚０．１〜１００μｍ位の膜を
大気中でハイスピードで形成できる等の利点がある。

【００５３】次いで、同図１０に示すように、磁気記録
媒体との当たりを確保するために、非磁性材料２１が充
填された面を所定のギャップ深さまでラップ処理を施し
て、一定の曲率を持った録媒体摺動面２０を形成する。

【００５４】最後に、Ｄ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の線に沿って
磁気コアブロック２９をチップ切断することで図１に示
す磁気ヘッドが完成する。

【００５５】上述したように、本発明は、砥石による加
工やレーザー加工等によって、媒体摺動面となる面を研
磨して、トラック幅Ｔｗのずれを完全に解消させるもの
である。したがって、磁性金属膜２３の膜厚がすなわち
記録再生ギャップのトラック幅Ｔｗとなるいわゆるラミ
ネートタイプの磁気ヘッドにおいて、今日、要請される
狭トラック化に有効に対応した高精度なトラック幅Ｔｗ
を有する磁気ヘッドが製造されることとなる。

【００５６】第２の実施例第１の実施例では、短冊基板２２の材料として非磁性材
料２１を用いて説明したが、第２の実施例は、図１１に
示すように、短冊基板２２の材料として、フェライト等
の磁性材料３１を用いた点に特徴を有する。なお、その
他の構成は、第１の実施例と同様であるので、図中、第
１の実施例と同一の構成は、同一の符号をもって示し、
重複した説明を省略する。

【００５７】したがって、上記第１の実施例の製造方法
で上記磁気ヘッドを製造する場合、このフェライト等の
磁性材料３１の媒体摺動面２０側が研磨されて、上記Ｓ
ｉＣ、ＺｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃等を主成分とした耐摩耗性の
高い非磁性材料２１が充填されることとなる。

【００５８】その結果、フェライト等の磁性材料３１で
形成された基板によって、磁性金属膜３，４を挟み込ん
でなる磁気コア半体３，４をギャップスペーサーを介し
て突き合わせガラス融着して接合一体化した磁気ヘッド
が製造される。このように製造された第２の実施例に係
る磁気ヘッドでは、磁性金属膜３，４を挟み込む基板が
フェライト等の磁性材料３１であるため、磁気コアの磁
路断面積がより広く確保されるため、出力が向上する利
点がある。

【００５９】第３の実施例第３の実施例は、短冊基板２２の材料として、フェライ
ト等の磁性材料４１と、非磁性材料４２を用いた複合材
とした点に特徴を有する。この非磁性材料４２は、デプ
ス零となる位置ｄから巻線窓７の傾斜位置にかかる位置
に配されているてなる。

【００６０】したがって、上記第１の実施例の製造方法
でかかる磁気ヘッドを製造する場合、このフェライト等
の磁性材料４１の上の非磁性材料４２の媒体摺動面２０
側が研磨されて、上記ＳｉＣ、ＺｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃等を
主成分とした耐摩耗性の高い非磁性材料２１が充填され
ることとなる。

【００６１】その結果、フェライト等の磁性材料３１と
非磁性材料４２を用いた基板によって、磁性金属膜３，
４を挟み込んでなる磁気コア半体３，４をギャップスペ
ーサーを介して突き合わせガラス融着して接合一体化し
た磁気ヘッドが製造される。このように製造された第３
の実施例に係る磁気ヘッドも、上記第２の実施例に係る
磁気ヘッドと同様、磁気コアの磁路断面積がより広く確
保されるため、出力が向上する利点がある。

【００６２】このように、本発明に係る磁気ヘッド及び
その製造方法は、各種の複合材による組合せが可能であ
る。

【００６３】

【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドは、磁気ギャッ
プが呈する媒体摺動面のうち磁性金属膜を除いた部分が
非磁性材料を充填した非磁性部とされると共に、磁性金
属膜は媒体摺動面からデプス零位置までがトラック幅と
され、それ以降はトラック幅よりも厚くされているもの
である。したがって、磁気コアの磁路断面積がより広く
確保されるため、出力が向上するとともに、上記研磨で
除去した部分に非磁性材料を充填するものであるから、
耐摩耗性に優れる効果を有する。

【００６４】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
においては、基板の一方の面にトラック幅よりも厚く磁
性金属膜を成膜しておき、一対の磁気コア半体ブロック
同士を接合した後に、上記厚く成膜された磁性金属膜の
膜厚がトラック幅の寸法として露出するように、上記磁
気コアブロックの媒体摺動面側を少なくともデプス零と
なる位置まで研磨して磁性金属膜のみを残存させる、上
記研磨で除去した部分に非磁性材料を充填するものであ
るから、トラックのずれの発生は皆無であり、狭トラッ
ク化の要請に有効に対応することができる。

【００６５】したがって、本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法により製造された磁気ヘッドは、トラックのずれ
の発生は皆無であることから、サイドイレーズの問題を
解消できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図である。

【図２】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、短冊基板に磁性金属膜を成膜する工程を示す斜視図
である。

【図３】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、成膜された複数の短冊基板を接合一体化して磁気コ
ア基板を作製する工程を示す斜視図である。

【図４】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、磁気コア基板から磁気コア半体ブロックを切り出す
工程を示す斜視図である。

【図５】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、作製された一対の磁気コア半体ブロックを示す斜視
図である。

【図６】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、一方の磁気コア半体ブロックに巻線溝加工を施した
状態を示す斜視図である。

【図７】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、一対の磁気コア半体ブロックを突き合わせて磁気コ
アブロックを作製した状態を示す斜視図であり、トラッ
クの寸法ずれが生じた状態を示す。

【図８】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、磁気コアブロックの巻線溝にガラスを流し込む工程
を示す斜視図である。

【図９】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すもの
で、磁気コアブロックの媒体摺動部面側を研磨して非磁
性材料を充填するための非磁性部を形成する工程を示す
斜視図である。

【図１０】上記磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すも
ので、磁気コアブロックの非磁性部に非磁性材料を充填
して、媒体摺動部面側をラップ処理した状態を示す斜視
図である。

【図１１】本発明に係る第２の実施例を示す斜視図であ
る。

【図１２】本発明に係る第３の実施例を示す斜視図であ
る。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
もので、磁性金属膜を成膜する工程を示す斜視図であ
る。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
もので、磁気コア基板を作製し磁気コア半体ブロックを
切り出す工程を示す斜視図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
もので、作製された磁気コア半体ブロックを示す斜視図
である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
もので、磁気コア半体ブロックに巻線溝加工を施す工程
を示す斜視図である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
もので、一対の磁気コアブロックを突き合わせた状態を
示す斜視図であり、トラックの寸法ずれが生じた状態を
示す。

【符号の説明】

Ｌ厚く成膜された磁性金属膜の幅Ｍ１トラックのずれＴｗトラック幅ｄデプス零となる位置３，４磁性金属膜２３（残存した）磁性金属膜５、６磁気コア半体２５、２６磁気コア半体ブロック１０非磁性部（研磨された溝部）１１，１２，１３，１４非磁性基板２０媒体摺動面２０ａ研磨された溝の底面２１（研磨された溝部に充填された）非磁性材料２９一対の磁気コアブロック

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁性金属膜をその膜厚方向より一対の基
板によって挟み込んでなる磁気コア半体同士が、互いの
磁気コア半体の突き合わせ面に呈する磁性金属膜の端面
同士を突き合わせ、その突き合わせ面間に磁気ギャップ
を形成してなる磁気ヘッドにおいて、上記磁気ギャップが呈する媒体摺動面のうち磁性金属膜
を除いた部分が非磁性材料を充填した非磁性部とされる
と共に、磁性金属膜は媒体摺動面からデプス零位置まで
がトラック幅とされ、それ以降はトラック幅よりも厚く
されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】非磁性材料がセラミックスであることを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】磁性金属膜は、膜厚の薄い磁性金属薄膜
を電気的絶縁膜を介して何層にも積層した積層膜である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項４】電気的絶縁膜は、ＳｉＯ₂又はＡｌ₂Ｏ
₃であることを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】基板の少なくとも一方の面にトラック幅
よりも厚く磁性金属膜を成膜する工程と、上記磁性金属膜の形成された複数の基板を、該磁性金属
膜の膜厚方向で重なり合うように積層し接合一体化して
磁気コア基板を作製する工程と、上記磁気コア基板を積層方向と直交する方向に切断して
互いに略対称な一対の磁気コア半体ブロックを形成する
工程と、少なくとも一方の磁気コア半体ブロックの切断面にその
長手方向に沿って伸びる巻線溝を形成する工程と、上記一対の磁気コア半体ブロックの各磁性金属膜の端面
同士を相対向させて、これら一対の磁気コア半体ブロッ
ク同士をギャップ接合することにより磁気コアブロック
を作製する工程と、上記厚く成膜された磁性金属膜の膜厚がトラック幅の寸
法として露出するように、上記磁気コアブロックの媒体
摺動面側を少なくともデプス零となる位置まで研磨して
磁性金属膜のみを残存させる工程と、上記研磨で除去した部分に非磁性材料を充填する工程
と、非磁性材料が充填された磁気コアブロックの媒体摺動面
側をラップ処理して、曲率を有する面を形成する工程
と、上記磁気コアブロックを磁性金属膜に沿ってチップ切断
する工程とを備えてなる磁気ヘッドの製造方法。
【請求項６】非磁性材料がセラミックスであることを
特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】磁性金属膜は、膜厚の薄い磁性金属薄膜
を電気的絶縁膜を介して何層にも積層した積層膜である
ことを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項８】電気的絶縁膜は、ＳｉＯ₂又はＡｌ₂Ｏ
₃であることを特徴とする請求項７記載の磁気ヘッドの
製造方法。