JPH0730078B2 - 6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体 - Google Patents
6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は新規なカルバペナム誘導体に関し、詳細には6
−アミノ置換−1−メチルカルバペナム化合物の重要な
中間体である6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム
誘導体に関する。
−アミノ置換−1−メチルカルバペナム化合物の重要な
中間体である6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム
誘導体に関する。
[従来の技術と問題点] 従来より、種々の抗菌活性を目的として次式(A): で示されるカルバ−2−ペネム−3−カルボン酸を基本
骨格とするカルバペネム系抗生物質は多数提案されてい
る。
骨格とするカルバペネム系抗生物質は多数提案されてい
る。
例えば初期のカルバペネム系抗生物質は、ストレプトミ
セス・カトレヤ(Streptomyces cattleya)の発酵より
得られる次式(B): で示されるチエナマイシンのような天然由来のカルバペ
ネム化合物である。このチエナマイシンは広範囲にわた
るグラム陽性菌、グラム陰性菌に対し、優れた抗菌スペ
クトラムを有し、有用性の高い化合物としてその開発が
期待されたものの、化学的安定性が悪く、実用化される
までには至っていない。
セス・カトレヤ(Streptomyces cattleya)の発酵より
得られる次式(B): で示されるチエナマイシンのような天然由来のカルバペ
ネム化合物である。このチエナマイシンは広範囲にわた
るグラム陽性菌、グラム陰性菌に対し、優れた抗菌スペ
クトラムを有し、有用性の高い化合物としてその開発が
期待されたものの、化学的安定性が悪く、実用化される
までには至っていない。
そのため多くの研究者は、上記式で示されるチエナマイ
シンの抗菌活性を保有し且つその化学的安定性が確保さ
れたカルバペネム化合物を開発するために努力し、その
結果、チエナマイシンの2位側鎖のアミノ基をホルムイ
ミドイル化した次式(C): で示されるイミペネム(imipenem;INN)が実用的抗菌剤
として登場するに至った。
シンの抗菌活性を保有し且つその化学的安定性が確保さ
れたカルバペネム化合物を開発するために努力し、その
結果、チエナマイシンの2位側鎖のアミノ基をホルムイ
ミドイル化した次式(C): で示されるイミペネム(imipenem;INN)が実用的抗菌剤
として登場するに至った。
しかし、上記式(C)で示されるイミペネムは、チエナ
マイシンより優えた抗菌活性を示し、化学的安定性はあ
る程度確保されているものの、生体内において賢デヒド
ロペプチターゼ(DHP)により分解不活性化が短時間の
うちに生じてしまうという欠点を有している。そのため
イミペネムは単独で投与がすることができず、DHP阻害
剤と併用し、その分解不活性化を抑制してやらなければ
ならない。したがって、この化合物の実際的製剤はDHP
阻害剤の一種であるシラスタチン(cilastatin;INN)を
併用したイミペネム/シラスタチンの配合処方となって
いる。
マイシンより優えた抗菌活性を示し、化学的安定性はあ
る程度確保されているものの、生体内において賢デヒド
ロペプチターゼ(DHP)により分解不活性化が短時間の
うちに生じてしまうという欠点を有している。そのため
イミペネムは単独で投与がすることができず、DHP阻害
剤と併用し、その分解不活性化を抑制してやらなければ
ならない。したがって、この化合物の実際的製剤はDHP
阻害剤の一種であるシラスタチン(cilastatin;INN)を
併用したイミペネム/シラスタチンの配合処方となって
いる。
しかしながら臨床的に使用される実用的な抗菌剤として
は、抗菌剤本来の抗菌活性がそのまま発揮されるのが好
ましく、また併用するDHP阻害剤が生体内の他の組織に
おいて好ましからざる副作用を発揮するおそれがあるこ
とも考えられるので、配合処方は極力回避した方がよい
ことはいうまでもない。そのため抗菌活性と同時にDHP
に対する耐性をも保有するカルバペネム化合物の開発が
強く要望されている。
は、抗菌剤本来の抗菌活性がそのまま発揮されるのが好
ましく、また併用するDHP阻害剤が生体内の他の組織に
おいて好ましからざる副作用を発揮するおそれがあるこ
とも考えられるので、配合処方は極力回避した方がよい
ことはいうまでもない。そのため抗菌活性と同時にDHP
に対する耐性をも保有するカルバペネム化合物の開発が
強く要望されている。
最近に至り上述の目的を達成しうるものとして、カルバ
ペネム骨格の1位にメチル基を導入した1−メチルカル
バペネム化合物が種々提案されており、これら化合物は
抗菌活性が優れているとともに、DHPによる分解不活性
化に対する抵抗性が著しく改善され、有用性が高いもの
であると報告されている。
ペネム骨格の1位にメチル基を導入した1−メチルカル
バペネム化合物が種々提案されており、これら化合物は
抗菌活性が優れているとともに、DHPによる分解不活性
化に対する抵抗性が著しく改善され、有用性が高いもの
であると報告されている。
上述のカルバペネム化合物は、いずれも前記式[A]で
示されるカルバ‐2-ペネム‐3-カルボン酸の6位にヒド
ロキシエチル基が導入された化合物であり、基本的には
天然由来のカルバペネム系抗生物質の系列に属するもの
である。
示されるカルバ‐2-ペネム‐3-カルボン酸の6位にヒド
ロキシエチル基が導入された化合物であり、基本的には
天然由来のカルバペネム系抗生物質の系列に属するもの
である。
本発明者らは、これら天然由来系列の6-(ヒドロキシエ
チル)‐カルバペネム化合物とは全く観点の異なる概念
のもとに新規なカルバペネム化合物の検索を検討し、そ
の結果カルバペネム骨格の6位置換基の導入を図った。
チル)‐カルバペネム化合物とは全く観点の異なる概念
のもとに新規なカルバペネム化合物の検索を検討し、そ
の結果カルバペネム骨格の6位置換基の導入を図った。
ところでこの6−アミノ置換カルバペネム化合物として
は、例えばメルク社より次式; で示される化合物が提案されている(米国特許第421745
3号)。しかしながらこの化合物にあってはその1位に
なんら置換基が導入されていないものであり、特にDHP
に対する抵抗性が増強されるとすると1−メチル基の導
入はいまだ未検討の分野である。
は、例えばメルク社より次式; で示される化合物が提案されている(米国特許第421745
3号)。しかしながらこの化合物にあってはその1位に
なんら置換基が導入されていないものであり、特にDHP
に対する抵抗性が増強されるとすると1−メチル基の導
入はいまだ未検討の分野である。
そこで本発明者らは、カルバペネム骨格の6位のヒドロ
キシエチル基に代えアミノ置換基を導入するとともに1
位にβ−配置のメチル基を導入した化合物の製造を検討
し、その結果本発明の提供する化合物が上記の目的化合
物の製造の重要な中間体となり得ることを新規に見出
し、本発明を完成した。
キシエチル基に代えアミノ置換基を導入するとともに1
位にβ−配置のメチル基を導入した化合物の製造を検討
し、その結果本発明の提供する化合物が上記の目的化合
物の製造の重要な中間体となり得ることを新規に見出
し、本発明を完成した。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明は次式: RaおよびRbはそれぞれ有機置換残基を示す、で示される
1β−メチル−6−アミノ置換−2−置換チオ−カルバ
ペネム−3−カルボン酸の製造の重要な中間体を提供す
るものであり、具体的には本発明は次式I: 式中、R1はアミノ基の保護基を表わし、R2は水素原子ま
たはカルボキシ保護基を表わす、で示される6−アミノ
置換−1−メチルカルバペナム誘導体に関する。
1β−メチル−6−アミノ置換−2−置換チオ−カルバ
ペネム−3−カルボン酸の製造の重要な中間体を提供す
るものであり、具体的には本発明は次式I: 式中、R1はアミノ基の保護基を表わし、R2は水素原子ま
たはカルボキシ保護基を表わす、で示される6−アミノ
置換−1−メチルカルバペナム誘導体に関する。
[作用] 本発明で提供する前記式Iで示されるカルバペナム誘導
体は、基本的には以下に示す反応式により製造すること
ができる。
体は、基本的には以下に示す反応式により製造すること
ができる。
式中、R1およびR2は前記定義のとおりであり、R3および
R4は同一または異なり水素原子または低級アルキル基を
表わし、Lは低級アルカノイルオキシ基、低級アルキル
スルホニル基またはアリールスルホニル基を表わす。
R4は同一または異なり水素原子または低級アルキル基を
表わし、Lは低級アルカノイルオキシ基、低級アルキル
スルホニル基またはアリールスルホニル基を表わす。
すなわち、式IIで示されるアゼチジノン化合物を式III
で示されるチアゾリジンチオン化合物をスズ(II)トル
フレートの存在下反応させ、式IVで示される化合物とな
し、次いでこの式IVで示される化合物にMg(OOCCH2COO
R2)2を作用させ式Vで示される化合物とする。その後、
式Vで示される化合物に塩基の存在下アジド化合物を作
用させ、ジアゾ化合物VIとしたのち、金属触媒の存在下
環化反応を行ない、所望によりR2のカルボキシ保護基を
除去することにより、本発明の式Iで示される6−アミ
ノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体へ導くことがで
きる。
で示されるチアゾリジンチオン化合物をスズ(II)トル
フレートの存在下反応させ、式IVで示される化合物とな
し、次いでこの式IVで示される化合物にMg(OOCCH2COO
R2)2を作用させ式Vで示される化合物とする。その後、
式Vで示される化合物に塩基の存在下アジド化合物を作
用させ、ジアゾ化合物VIとしたのち、金属触媒の存在下
環化反応を行ない、所望によりR2のカルボキシ保護基を
除去することにより、本発明の式Iで示される6−アミ
ノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体へ導くことがで
きる。
なお、本明細書において、R1で示されるアミノ基の保護
基としては、ペプチド化学等でアミノ基の保護基として
通常用いられるものが包含され、例えばフタロイル基、
ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、フエノキシアセチル基等が挙げられれる。
基としては、ペプチド化学等でアミノ基の保護基として
通常用いられるものが包含され、例えばフタロイル基、
ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、フエノキシアセチル基等が挙げられれる。
R2で示される「カルボキシル保護基」としては、例えば
エステル残基を例示することができ、かかるエステル残
基としてはメチル、エチル、n−プロピル、n−ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル残基;ベンジル、
p−ニトロベンジル、o−ニトロベンジル、p−メトキ
シベンジル等のアラアルキルエステル残基;アセトシキ
メチル、プロピオニルオキシメチル、n−,iso−,ブチ
リルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低級脂
肪族アシルオキシメチル残基等が挙げられる。
エステル残基を例示することができ、かかるエステル残
基としてはメチル、エチル、n−プロピル、n−ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル残基;ベンジル、
p−ニトロベンジル、o−ニトロベンジル、p−メトキ
シベンジル等のアラアルキルエステル残基;アセトシキ
メチル、プロピオニルオキシメチル、n−,iso−,ブチ
リルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低級脂
肪族アシルオキシメチル残基等が挙げられる。
更にR3およびR4で示される「低級アルキル基」は直鎖状
または分岐鎖状のいずれであってもよく、好ましくは1
〜6個の炭素原子を有することができ、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル。sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル、イソペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル基等が
包含される。
または分岐鎖状のいずれであってもよく、好ましくは1
〜6個の炭素原子を有することができ、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル。sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル、イソペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル基等が
包含される。
また、Lで示される「低級アルカノイルオキシ基」は低
級アルキル部分が前記の意味を有する であり、例えば、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ基等が空けられ、「アリールスルホニル
基」はアリール部分が前記の意味を有するアリール−SO
2−基であり、例えばベンゼンスルホニル、トリルスル
ホニル、ナフチルスルホニル基等が包含され、「低級ア
ルキルスルホニル基」は低級アルキル部分が前記の意味
を有する低級アルキル‐SO2−基であり、具体的にはメ
タンスルホニル、エタンスルホニル、プロパンスルホニ
ル基等が例示される。
級アルキル部分が前記の意味を有する であり、例えば、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ基等が空けられ、「アリールスルホニル
基」はアリール部分が前記の意味を有するアリール−SO
2−基であり、例えばベンゼンスルホニル、トリルスル
ホニル、ナフチルスルホニル基等が包含され、「低級ア
ルキルスルホニル基」は低級アルキル部分が前記の意味
を有する低級アルキル‐SO2−基であり、具体的にはメ
タンスルホニル、エタンスルホニル、プロパンスルホニ
ル基等が例示される。
以下に本発明の式Iで示される6−アミノ−1−メチル
カルバペナム誘導体の製造を更に詳細に説明する。
カルバペナム誘導体の製造を更に詳細に説明する。
先ず第1の工程は、式IIIのN−プロピオニル−1,3−チ
アゾリジン−2−チオン誘導体を、塩基の存在下にスズ
(II)トリフレートと反応させてエノレートを生成さ
せ、次いでこれに式IIの化合物を反応させえ、式IVのア
ゼチジン−2−オン誘導体を製造することからなる。
アゾリジン−2−チオン誘導体を、塩基の存在下にスズ
(II)トリフレートと反応させてエノレートを生成さ
せ、次いでこれに式IIの化合物を反応させえ、式IVのア
ゼチジン−2−オン誘導体を製造することからなる。
上記の式IIIのN−プロピオニル−1,3−チアゾリジン−
2−チオン誘導体のスズ(II)トリフレートによるエノ
ール化反応は、通常反応に不活性な溶媒中、例えば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;
トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素類;
ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類など、特にテトラヒドロフラン中で好適に実施するこ
とができる。
2−チオン誘導体のスズ(II)トリフレートによるエノ
ール化反応は、通常反応に不活性な溶媒中、例えば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;
トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素類;
ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類など、特にテトラヒドロフラン中で好適に実施するこ
とができる。
反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約−100℃ないしほぼ室温程度、好ましくは約−78℃
〜約0℃の比較的低温が使用される。
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約−100℃ないしほぼ室温程度、好ましくは約−78℃
〜約0℃の比較的低温が使用される。
式IIIの化合物に対するスズ(II)トリフレートの使用
量は臨界的なものではないが、通常、式IIIの化合物1
モルに対するスズ(II)トリフレートは約1〜約2モ
ル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用することがで
きる。
量は臨界的なものではないが、通常、式IIIの化合物1
モルに対するスズ(II)トリフレートは約1〜約2モ
ル、好ましくは1〜1.5モルの割合で使用することがで
きる。
上記エノール化反応の塩基の条件下に実施され、使用し
うる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、N−メチルモルホリン、N−エチルピペリジ
ン、ピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、中でもN
−エチルピペリジンが有利に用いられる。これらの塩基
は一般に式IIIの化合物1モル当り約1.0〜約3当量、好
ましくは1.0〜2.0当量の割合で使用することができる。
うる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、N−メチルモルホリン、N−エチルピペリジ
ン、ピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、中でもN
−エチルピペリジンが有利に用いられる。これらの塩基
は一般に式IIIの化合物1モル当り約1.0〜約3当量、好
ましくは1.0〜2.0当量の割合で使用することができる。
上記エノール化反応は一般に約5分〜約4時間で終わら
せることができ、これによってエノレートが得られる。
せることができ、これによってエノレートが得られる。
このエノール化反応に引続いてそのまま、生成するエノ
レートに前記式IIの化合物を反応せしめることができ
る。
レートに前記式IIの化合物を反応せしめることができ
る。
前記エノレートと式IIの化合物との間のアルキル化反応
は一般に、約−100℃ないしほぼ室温、好ましくは約−7
8℃〜約10℃の温度において実施することができる。そ
の際の式IIIの化合物の使用量は臨界的ではなく適宜変
更することができるが、通常、前記エノール化反応に用
いた式IIIの化合物1モル当り約0.5〜約5モル、好まし
くは0.5〜2モルの割合で用いるのが適当である。
は一般に、約−100℃ないしほぼ室温、好ましくは約−7
8℃〜約10℃の温度において実施することができる。そ
の際の式IIIの化合物の使用量は臨界的ではなく適宜変
更することができるが、通常、前記エノール化反応に用
いた式IIIの化合物1モル当り約0.5〜約5モル、好まし
くは0.5〜2モルの割合で用いるのが適当である。
かかる条件下に反応は一般に約5分〜約5時間、より一
般には5分〜約2時間程度で終了させることができる。
般には5分〜約2時間程度で終了させることができる。
前述のエノール化反応及び上記アルキル化反応は、必須
ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素ガス、アルゴ
ンガス雰囲気下に実施するのが望ましい。
ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素ガス、アルゴ
ンガス雰囲気下に実施するのが望ましい。
最後に反応生成物は水で処理される。例えば、反応終了
アゼチジノン、pH7分の燐酸緩衝液を加え撹拌し、不溶
物を別したのち、式(VII)の化合物を常法により、
例えば抽出、再結晶、クロマトグラフイー等により分離
精製することができる。
アゼチジノン、pH7分の燐酸緩衝液を加え撹拌し、不溶
物を別したのち、式(VII)の化合物を常法により、
例えば抽出、再結晶、クロマトグラフイー等により分離
精製することができる。
次いで前記の工程で製造される式IVで示されるアゼチジ
ン−2−オン誘導体を、イミダゾライドとして後式(R2O
OCCH2CO2)2Mgで表わされるマグネシウムマロネート化合
物と反応さえ、式Vで表わされる化合物を得る。
ン−2−オン誘導体を、イミダゾライドとして後式(R2O
OCCH2CO2)2Mgで表わされるマグネシウムマロネート化合
物と反応さえ、式Vで表わされる化合物を得る。
反応は好ましくは不活性有機溶媒中で行なわれ、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にテトラヒドロフランが好適に使用
される。
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒;ジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にテトラヒドロフランが好適に使用
される。
反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
約0℃ないしほぼ100℃程度、好ましくは室温附近の比
較的低温が使用される。
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
約0℃ないしほぼ100℃程度、好ましくは室温附近の比
較的低温が使用される。
式Vの化合物に対するマグネシウムマロネート化合物の
使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間程度、
好ましくは20時間程度で完了する。
使用量はほぼ等モル量が使用され、反応は50時間程度、
好ましくは20時間程度で完了する。
なお、使用するマグネシウムマロネート化合物として
は、例えば、パラニトロベンジルマグネシウムマロネー
ト、ベンジルマグネシウムマロネート、メチルマグネシ
ウムマロネート等を挙げることができるが、なかでもパ
ラニトロベンジルマグネシウムマロネートを用いるのが
好ましい。
は、例えば、パラニトロベンジルマグネシウムマロネー
ト、ベンジルマグネシウムマロネート、メチルマグネシ
ウムマロネート等を挙げることができるが、なかでもパ
ラニトロベンジルマグネシウムマロネートを用いるのが
好ましい。
その後、前記の如くして得られた式Vで示される化合物
を、塩基の存在下に前記で例示したと同様の不活性溶剤
有機溶媒中でアジド化合物で処理し、式VIで示されるの
ジアゾ化合物を得る。
を、塩基の存在下に前記で例示したと同様の不活性溶剤
有機溶媒中でアジド化合物で処理し、式VIで示されるの
ジアゾ化合物を得る。
使用されるアジド化合物としては、例えば、p−カルボ
キシベンゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニルア
ジド、メタンスルホニルアジド、ドデシルベンゼンスル
ホニルアジドなどを挙げることができ、また、塩基とし
ては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルアミンな
どの塩基を例示することができる。
キシベンゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニルア
ジド、メタンスルホニルアジド、ドデシルベンゼンスル
ホニルアジドなどを挙げることができ、また、塩基とし
ては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルアミンな
どの塩基を例示することができる。
反応は、好ましくはトリエチルアミンの存在下アセトニ
トリル中で、p−トルエンスルホニルアジドを加え、0
〜100℃、好ましくは室温で1〜50時間処理することに
より行なうことができ、これによって高収率で目的とす
る式VIのジアゾ化合物を得ることができる。
トリル中で、p−トルエンスルホニルアジドを加え、0
〜100℃、好ましくは室温で1〜50時間処理することに
より行なうことができ、これによって高収率で目的とす
る式VIのジアゾ化合物を得ることができる。
次いで、かくしえ得られた式VIで示されるジアゾ化合物
を環化し、本発明の目的化合物である式Iで示される6
−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体へ導くこ
とができる。この場合の環化反応は好適には、例えば式
VIの化合物を、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサン、酢酸エチル、ジクロルメタンなど
のような不活性溶媒中、好ましくはトルエン中で、25〜
110℃の温度において1〜5時間、ビス(アセチルアセ
トナト)Cu(II)、CuSO4、銅粉末、Rh2(OCOCH3)4、ロ
ジウムオクタノエートまたはPb(OCOCH3)4のような金属
カルボキシレート化合物などの金属触媒の存在下で処理
することにより実施される。一方別の方法として、上記
環化工程はまた式VIの化合物を、ベンゼン、ジエチルエ
ーテルなどのような溶媒中で、0〜250℃の温度におい
て0.5〜2時間、パイレックスフィルター(波長は300nm
より大)を通して光を照射することにより実施すること
もできる。
を環化し、本発明の目的化合物である式Iで示される6
−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体へ導くこ
とができる。この場合の環化反応は好適には、例えば式
VIの化合物を、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサン、酢酸エチル、ジクロルメタンなど
のような不活性溶媒中、好ましくはトルエン中で、25〜
110℃の温度において1〜5時間、ビス(アセチルアセ
トナト)Cu(II)、CuSO4、銅粉末、Rh2(OCOCH3)4、ロ
ジウムオクタノエートまたはPb(OCOCH3)4のような金属
カルボキシレート化合物などの金属触媒の存在下で処理
することにより実施される。一方別の方法として、上記
環化工程はまた式VIの化合物を、ベンゼン、ジエチルエ
ーテルなどのような溶媒中で、0〜250℃の温度におい
て0.5〜2時間、パイレックスフィルター(波長は300nm
より大)を通して光を照射することにより実施すること
もできる。
かくして本発明の式Iで示される6−アミノ置換−1−
メチルカルバペナム誘導体を得ることができるが、この
式Iで示される化合物は更にその2位に置換チオ基を導
入することにより優れた抗菌活性が期待される次式; で示されるカルバペネム化合物へ誘導に誘導することが
できる。したがって本発明はこれまでなんら積極的に検
討されていない6−アミノ置換1β−メチルカルバペネ
ム化合物の合成中間体として特に重要な中間化合物を提
供するものである。
メチルカルバペナム誘導体を得ることができるが、この
式Iで示される化合物は更にその2位に置換チオ基を導
入することにより優れた抗菌活性が期待される次式; で示されるカルバペネム化合物へ誘導に誘導することが
できる。したがって本発明はこれまでなんら積極的に検
討されていない6−アミノ置換1β−メチルカルバペネ
ム化合物の合成中間体として特に重要な中間化合物を提
供するものである。
[実施例] 次ぎに本発明を実施例により更に詳細に説明する。な
お、各実施例中に記号は以下の意味を有する。
お、各実施例中に記号は以下の意味を有する。
Ph:フエニル基 Ft:フタルイミドシル基 PNB:パラニトロベンジル基 Ac:アセチル基 Et:エチル基 実施例1: スズトリフレート798mgを無水テトラヒドロフラン2.4ml
に溶解させ、−40〜−50℃に冷却したのち、N-エチルピ
ペリジン250μlおよび化合物(2)369mgの無水テトラ
ヒドロフラン1.2ml溶液を加える。同温度にて4時間撹
拌後、化合物(1)の無水ジクロルメタン2ml溶液を加
え、5℃にて2時間撹拌を行なう。反応終了後、pH7.0
の0.1モルリン酸緩衝液を加え、更に酢酸エチル50mlを
加えたのちセライト過した。液を1N塩酸、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗浄後、Na2S
O4で乾燥する。溶媒を留去し、残留物をシルカゲルカラ
ムクロマト(ジクロルメタン:酢酸エチル=9:1で溶
出)に付し、化合物(3)を融点215〜216℃の黄色プリ
ズム晶として282mg(68%)得た。
に溶解させ、−40〜−50℃に冷却したのち、N-エチルピ
ペリジン250μlおよび化合物(2)369mgの無水テトラ
ヒドロフラン1.2ml溶液を加える。同温度にて4時間撹
拌後、化合物(1)の無水ジクロルメタン2ml溶液を加
え、5℃にて2時間撹拌を行なう。反応終了後、pH7.0
の0.1モルリン酸緩衝液を加え、更に酢酸エチル50mlを
加えたのちセライト過した。液を1N塩酸、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗浄後、Na2S
O4で乾燥する。溶媒を留去し、残留物をシルカゲルカラ
ムクロマト(ジクロルメタン:酢酸エチル=9:1で溶
出)に付し、化合物(3)を融点215〜216℃の黄色プリ
ズム晶として282mg(68%)得た。
IR(CHCl3)cm-1:1780、1765、1700、1680、 NMR(CDCl3)δ:0.96(3H,t)、1.26(3H,d)、1.60〜
2.08(2H,m)、2.94(1H,d)、3.53(1H,dd)、4.30(1
H,dd)、4.84〜5.24(2H,m)、5.32(1H,d),6.82(1H,
brs)、7.60〜7.96(4H,m)、 ▲[α]25 D▼:+274.1°(c=0.34,CHCl3) 元素分析値:C19H19N3O4S2 計算値:C,54.67;H,4.59;N,10.07 実測値:C,54.70;H,4.60;N,10.09 実施例2 スズトリフレート2.54gを無水テトラヒドロフラン8mlに
溶解し、−40〜−50℃に冷却する。この溶液にN-エチル
ピペリジン793μlを加え、続いて化合物(2)1.18gの
無水テトラヒドロフラン溶液5mlを加え、同温にて4時
間撹拌した。次いで化合物(4)892mgの無水テトラヒ
ドロフラン溶液5mlを加え、5℃にて1.5時間撹拌を行な
った。反応終了後、反応液にpH7.0の0.1モルリン酸緩衝
液を加え、酢酸エチル50mlで希釈したセライト過し
た。液を1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食
塩水で順次洗浄し、Na2SO4乾燥する。溶媒を留去し、得
られる残留物をシルカゲルカラムクロマト(ジクロルメ
タン:酢酸エチル=7:3で溶出)に付し、化合物(5)
を融点64〜65℃の黄色プリズム晶として922mg(68%)
得た。
2.08(2H,m)、2.94(1H,d)、3.53(1H,dd)、4.30(1
H,dd)、4.84〜5.24(2H,m)、5.32(1H,d),6.82(1H,
brs)、7.60〜7.96(4H,m)、 ▲[α]25 D▼:+274.1°(c=0.34,CHCl3) 元素分析値:C19H19N3O4S2 計算値:C,54.67;H,4.59;N,10.07 実測値:C,54.70;H,4.60;N,10.09 実施例2 スズトリフレート2.54gを無水テトラヒドロフラン8mlに
溶解し、−40〜−50℃に冷却する。この溶液にN-エチル
ピペリジン793μlを加え、続いて化合物(2)1.18gの
無水テトラヒドロフラン溶液5mlを加え、同温にて4時
間撹拌した。次いで化合物(4)892mgの無水テトラヒ
ドロフラン溶液5mlを加え、5℃にて1.5時間撹拌を行な
った。反応終了後、反応液にpH7.0の0.1モルリン酸緩衝
液を加え、酢酸エチル50mlで希釈したセライト過し
た。液を1N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食
塩水で順次洗浄し、Na2SO4乾燥する。溶媒を留去し、得
られる残留物をシルカゲルカラムクロマト(ジクロルメ
タン:酢酸エチル=7:3で溶出)に付し、化合物(5)
を融点64〜65℃の黄色プリズム晶として922mg(68%)
得た。
IR(CHCl3)cm-1:1750、1650、 NMR(CDCl3)δ:0.93(3H,t)、1.20(3H,d)、1.60〜
2.06(3H,m)、2.90(1H,d)、3.46(1H,dd)、3.98(1
H,dd)、4.42(2H,s)、4.80〜5.20(3H,m),6.74〜7.5
0(5H,m)、7.72(1H,d) ▲[α]25 D▼:+252.4°(c=0.34,CHCl3) 元素分析値:C19H23N3O4S 計算値:C,54.14;H,5.50;N,9.98 実測値:C,54.15;H,5.56;N,9.81 実施例3 実施例2で得た化合物(5)2.10gおよびイミダゾール6
80mgを無水テトラヒドロフラン40mlに溶解し、室温にて
3時間撹拌する。次いで反応液にMg(OOCCH2COOPNB)26.2
5gを加え、55〜60℃にて22時間撹拌した。反応終了後、
反応液を酢酸エチル400mlで希釈し、有機層を1N HCl、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄後、
Na2SO4にて乾燥する。溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルカラムクロマト(ジクロルメタン:酢酸エチル=1:1
で溶出)に付し、化合物(6)を融点137〜140℃の白色
固形物として1.72g(74%)得た。
2.06(3H,m)、2.90(1H,d)、3.46(1H,dd)、3.98(1
H,dd)、4.42(2H,s)、4.80〜5.20(3H,m),6.74〜7.5
0(5H,m)、7.72(1H,d) ▲[α]25 D▼:+252.4°(c=0.34,CHCl3) 元素分析値:C19H23N3O4S 計算値:C,54.14;H,5.50;N,9.98 実測値:C,54.15;H,5.56;N,9.81 実施例3 実施例2で得た化合物(5)2.10gおよびイミダゾール6
80mgを無水テトラヒドロフラン40mlに溶解し、室温にて
3時間撹拌する。次いで反応液にMg(OOCCH2COOPNB)26.2
5gを加え、55〜60℃にて22時間撹拌した。反応終了後、
反応液を酢酸エチル400mlで希釈し、有機層を1N HCl、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄後、
Na2SO4にて乾燥する。溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルカラムクロマト(ジクロルメタン:酢酸エチル=1:1
で溶出)に付し、化合物(6)を融点137〜140℃の白色
固形物として1.72g(74%)得た。
IR(CHCl3)cm-1:1755、1730、1710、1670、 NMR(CDCl3)δ:1.25(3H,d)、3.15(1H,quint)、3.6
6(2H,s)、3.80〜3.96(1H,m)、4.46(2H,s)、4.60
〜4.88(1H,m)、5.24〜(2H,s)、6.23(1H,bs)、7.4
8&8.19(4H,芳香環プロトン) ▲[α]25 D▼:+10.0(c=0.2,CHCl3) 元素分析値:C23H23N3O8 計算値:C,58.83;H,4.94;N,8.95 実測値:C,59.04;H,5.11;N,8.69 実施例4 実施例3で得た化合物(6)1.60gおよびp−トルエン
スルホニルアジド982mgをアセトニトリル40mlに溶解
し、0℃に冷却する。次いでこの溶液にトリエチルアミ
ン474μlを滴下し、同温度にて一時間撹拌する。反応
終了後、反応液を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマト(ジクロルメタン:酢酸エチル=1:1で溶出)に
付し、化合物(7)を融点159〜162℃の淡黄色結晶とし
て1.68g(定量的)得た。
6(2H,s)、3.80〜3.96(1H,m)、4.46(2H,s)、4.60
〜4.88(1H,m)、5.24〜(2H,s)、6.23(1H,bs)、7.4
8&8.19(4H,芳香環プロトン) ▲[α]25 D▼:+10.0(c=0.2,CHCl3) 元素分析値:C23H23N3O8 計算値:C,58.83;H,4.94;N,8.95 実測値:C,59.04;H,5.11;N,8.69 実施例4 実施例3で得た化合物(6)1.60gおよびp−トルエン
スルホニルアジド982mgをアセトニトリル40mlに溶解
し、0℃に冷却する。次いでこの溶液にトリエチルアミ
ン474μlを滴下し、同温度にて一時間撹拌する。反応
終了後、反応液を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマト(ジクロルメタン:酢酸エチル=1:1で溶出)に
付し、化合物(7)を融点159〜162℃の淡黄色結晶とし
て1.68g(定量的)得た。
IR(CHCl3)cm-1:2150、1760、1710、1685、1640、 NMR(CDCl3)δ:1.22(3H,d)、3.78〜4.14(2H,m)、
4.46(2H,s)、4.85(1H,dd)、5.35(2H,s)、6.31(1
H,bs)、6.82〜7.42(5H,m)、7.53&8.23(4H,芳香環
プロトン) ▲[α]25 D▼:+3.0℃(c=0.2,CHCl3) 元素分析値:C23H21N5O8 計算値:C,55.74;H,4.27;N,14.14 実測値:C,55.45;H,4.39;N,13.87 実施例5 実施例4で得た化合物(7)49.5mgを無水クロロホルム
1mlの溶解させ、70℃の油浴中で加温する。次いでこの
溶液にPh2(OAc)40.4mgの無水クロロホルム懸濁液を加
え、同温にて1時間撹拌する。反応終了後、反応液を濃
縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマト(ジクロルメ
タン:酢酸エチル=2:1で溶出)に付し、化合物(8)
を融点66〜68℃の固形物として4.5mg(89%)得た。
4.46(2H,s)、4.85(1H,dd)、5.35(2H,s)、6.31(1
H,bs)、6.82〜7.42(5H,m)、7.53&8.23(4H,芳香環
プロトン) ▲[α]25 D▼:+3.0℃(c=0.2,CHCl3) 元素分析値:C23H21N5O8 計算値:C,55.74;H,4.27;N,14.14 実測値:C,55.45;H,4.39;N,13.87 実施例5 実施例4で得た化合物(7)49.5mgを無水クロロホルム
1mlの溶解させ、70℃の油浴中で加温する。次いでこの
溶液にPh2(OAc)40.4mgの無水クロロホルム懸濁液を加
え、同温にて1時間撹拌する。反応終了後、反応液を濃
縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマト(ジクロルメ
タン:酢酸エチル=2:1で溶出)に付し、化合物(8)
を融点66〜68℃の固形物として4.5mg(89%)得た。
IR(CHCl3)cm-1:1760、1740、1715、1675、 NMR(CDCl3)δ:1.36(3H,d)、2.83(1H,quint)、4.2
2(1H,dd)、4.52(2H,s)、4.77(1H,s)、5.12〜5.42
(3H,m)、6.85〜7.7(5H、m)、7.49&8.18(4H,芳香
族プロトン) ▲[α]25 D▼:+128.3℃(c=1.46,CHCl3) Mass:m/e 466(M+−1) High Mass:C23H20N3O8 計算値:466.1201 実測値:466.1225
2(1H,dd)、4.52(2H,s)、4.77(1H,s)、5.12〜5.42
(3H,m)、6.85〜7.7(5H、m)、7.49&8.18(4H,芳香
族プロトン) ▲[α]25 D▼:+128.3℃(c=1.46,CHCl3) Mass:m/e 466(M+−1) High Mass:C23H20N3O8 計算値:466.1201 実測値:466.1225
Claims (1)
- 【請求項1】次式I: 式中、R1はアミノ基の保護基を表わし、R2は水素原子ま
たはカルボキシ保護基を表わす、で示される6-アミノ置
換−1−メチルカルバペナム誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62145336A JPH0730078B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62145336A JPH0730078B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63310890A JPS63310890A (ja) | 1988-12-19 |
| JPH0730078B2 true JPH0730078B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=15382815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62145336A Expired - Fee Related JPH0730078B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 6−アミノ置換−1−メチルカルバペナム誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0730078B2 (ja) |
-
1987
- 1987-06-12 JP JP62145336A patent/JPH0730078B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63310890A (ja) | 1988-12-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |