JPH07330647A - ビスフェノール化合物の製造方法 - Google Patents
ビスフェノール化合物の製造方法Info
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- JPH07330647A JPH07330647A JP6125386A JP12538694A JPH07330647A JP H07330647 A JPH07330647 A JP H07330647A JP 6125386 A JP6125386 A JP 6125386A JP 12538694 A JP12538694 A JP 12538694A JP H07330647 A JPH07330647 A JP H07330647A
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- Japan
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- hydrogen atom
- represent
- carbon atoms
- bisphenol compound
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】
【化１】
（Ｒ1〜Ｒ4は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基、
かつＲ1〜Ｒ4の内３ケ以上は同時には水素原子ではな
い。Ａｒはベンゼン核を表わす。）で表わされるフェノ
ール類２モルに対して、０．８〜３．０モルの下記 【化２】 （Ｒ5、Ｒ6は水素原子または炭素数１〜６の炭化水素基
を表わす。）又は 【化３】 （Ｒ7〜Ｒ10は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ11は
水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、Ａｒは
ベンゼン核を示す。）で表わされる縮合剤を用い、酸性
触媒の存在下、生成する水又はアルコールを系外に除き
つつビスフェノール化合物の結晶を析出させる、ビスフ
ェノール化合物の製造方法。 【効果】 過剰量のフェノール類を用いることなく、ビ
スフェノール化合物を得るので、反応器効率が高く、又
反応後に過剰のフェノール類の除去を必要としない。
かつＲ1〜Ｒ4の内３ケ以上は同時には水素原子ではな
い。Ａｒはベンゼン核を表わす。）で表わされるフェノ
ール類２モルに対して、０．８〜３．０モルの下記 【化２】 （Ｒ5、Ｒ6は水素原子または炭素数１〜６の炭化水素基
を表わす。）又は 【化３】 （Ｒ7〜Ｒ10は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ11は
水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、Ａｒは
ベンゼン核を示す。）で表わされる縮合剤を用い、酸性
触媒の存在下、生成する水又はアルコールを系外に除き
つつビスフェノール化合物の結晶を析出させる、ビスフ
ェノール化合物の製造方法。 【効果】 過剰量のフェノール類を用いることなく、ビ
スフェノール化合物を得るので、反応器効率が高く、又
反応後に過剰のフェノール類の除去を必要としない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工業的に有用なビスフ
ェノール化合物の製造方法に関するものである。
ェノール化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ビスフェノール−Ｆ、ビスフェノール−
Ａ等のビスフェノール化合物は、エポキシ樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、等に工業的に広く使用されてきてい
る。これらのビスフェノール化合物は、フェノール類と
アルデヒド、ケトン等の縮合剤とを反応させることによ
り製造されるが、一般的にフェノールの多核体が副生し
やすく、ビスフェノール体の選択率を高くすることが困
難である。これらの問題を克服するため、工業的には、
縮合剤に対して、大過剰のフェノール類を反応させてい
る。
Ａ等のビスフェノール化合物は、エポキシ樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、等に工業的に広く使用されてきてい
る。これらのビスフェノール化合物は、フェノール類と
アルデヒド、ケトン等の縮合剤とを反応させることによ
り製造されるが、一般的にフェノールの多核体が副生し
やすく、ビスフェノール体の選択率を高くすることが困
難である。これらの問題を克服するため、工業的には、
縮合剤に対して、大過剰のフェノール類を反応させてい
る。
【０００３】例えば、特公昭４８−３８６９４号公報に
示すビスフェノール−Ｆの選択的製造方法において、ホ
ルムアルデヒド１モルに対して６モルのフェノールを用
いている。さらに、ビスフェノール−Ｆの選択率を向上
させるための方法として、特開平１−２２６８４２号公
報には、ホルムアルデヒド１モルに対して２０モルのフ
ェノールを用い反応させた後、特定の有機溶剤でさらに
処理を行なう方法が開示されている。しかし、過剰量の
フェノール類を用いることは、反応器効率低下、および
反応後に過剰のフェノール類の除去を必要とし工業的に
好ましくない。
示すビスフェノール−Ｆの選択的製造方法において、ホ
ルムアルデヒド１モルに対して６モルのフェノールを用
いている。さらに、ビスフェノール−Ｆの選択率を向上
させるための方法として、特開平１−２２６８４２号公
報には、ホルムアルデヒド１モルに対して２０モルのフ
ェノールを用い反応させた後、特定の有機溶剤でさらに
処理を行なう方法が開示されている。しかし、過剰量の
フェノール類を用いることは、反応器効率低下、および
反応後に過剰のフェノール類の除去を必要とし工業的に
好ましくない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、工業的に有利なビスフェノール化合物の製造方法を
提供することにある。
は、工業的に有利なビスフェノール化合物の製造方法を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記一般式
記一般式
【化７】 （但し、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子または、炭素数１〜８の炭
化水素基を示し、かつＲ1〜Ｒ4のうち３個以上は同時に
水素原子ではない。また、Ａｒはベンゼン核を表わ
す。）で表わされるフェノール類２モルに対して、０．
８〜３．０モルの下記一般式、
化水素基を示し、かつＲ1〜Ｒ4のうち３個以上は同時に
水素原子ではない。また、Ａｒはベンゼン核を表わ
す。）で表わされるフェノール類２モルに対して、０．
８〜３．０モルの下記一般式、
【化８】 （但し、Ｒ5、Ｒ6は、水素原子または、炭素数１〜６の
炭化水素基を表わす。）または、下記一般式、
炭化水素基を表わす。）または、下記一般式、
【化９】 （但し、Ｒ7〜Ｒ10は、水素原子または、メチル基を示
し、Ｒ11は、水素原子または、炭素数１〜４の炭化水素
基を示し、Ａｒはベンゼン核を示す。）で表わされる縮
合剤を用い、酸性触媒の存在下、生成する水、またはア
ルコールを反応系外に除きながら、かつ反応系内に目的
とするビスフェノール化合物の結晶を析出させつつ反応
させることを特徴とする下記一般式、
し、Ｒ11は、水素原子または、炭素数１〜４の炭化水素
基を示し、Ａｒはベンゼン核を示す。）で表わされる縮
合剤を用い、酸性触媒の存在下、生成する水、またはア
ルコールを反応系外に除きながら、かつ反応系内に目的
とするビスフェノール化合物の結晶を析出させつつ反応
させることを特徴とする下記一般式、
【化１０】 ｛但し、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子または、炭素数１〜８の炭
化水素基を示し、かつＲ1〜Ｒ4のうち３個以上は同時に
水素原子ではない。また、Ａｒはベンゼン核を表わす。
さらに、Ｘは下記一般式、
化水素基を示し、かつＲ1〜Ｒ4のうち３個以上は同時に
水素原子ではない。また、Ａｒはベンゼン核を表わす。
さらに、Ｘは下記一般式、
【化１１】 （但し、Ｒ5、Ｒ6は、水素原子または、炭素数１〜６の
炭化水素基を表わす。）または、下記一般式、
炭化水素基を表わす。）または、下記一般式、
【化１２】 （但し、Ｒ7〜Ｒ10は水素原子またはメチル基を示し、
Ａｒはベンゼン核を表わす。）を表わす。｝で表わされ
るビスフェノール化合物の製造方法に関するものであ
る。
Ａｒはベンゼン核を表わす。）を表わす。｝で表わされ
るビスフェノール化合物の製造方法に関するものであ
る。
【０００６】上記一般式化１で表わされるフェノール類
とは、Ｒ1〜Ｒ4が水素原子または、炭素数１〜８までの
炭化水素基であり、Ｒ1〜Ｒ4のうち３個以上が同時に水
素原子ではないフェノール類であり、ジ、トリ、または
テトラアルキルフェノール類を示している。たとえば、
２，４−キシレノール、２，６−キシレノール、２，４
−ジエチルフェノール、２，６−ジエチルフェノール、
２−ターシャリーブチル−５−メチルフェノール、２，
３，６−トリメチルフェノール、２，３，５，６−テト
ラメチルフェノール等が挙げられる。
とは、Ｒ1〜Ｒ4が水素原子または、炭素数１〜８までの
炭化水素基であり、Ｒ1〜Ｒ4のうち３個以上が同時に水
素原子ではないフェノール類であり、ジ、トリ、または
テトラアルキルフェノール類を示している。たとえば、
２，４−キシレノール、２，６−キシレノール、２，４
−ジエチルフェノール、２，６−ジエチルフェノール、
２−ターシャリーブチル−５−メチルフェノール、２，
３，６−トリメチルフェノール、２，３，５，６−テト
ラメチルフェノール等が挙げられる。
【０００７】上記一般式化２で表わされる縮合剤におい
て、Ｒ5，Ｒ6は水素原子または炭素数１〜６のアルキル
基を表わし、例えば、ホルマリン、パラホルムアルデヒ
ド、トリオキサン等のホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類、またはアセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン類が挙げられる。
て、Ｒ5，Ｒ6は水素原子または炭素数１〜６のアルキル
基を表わし、例えば、ホルマリン、パラホルムアルデヒ
ド、トリオキサン等のホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類、またはアセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン類が挙げられる。
【０００８】また、上記一般式化３で表わされる縮合剤
においてＲ7〜Ｒ10は、水素原子またはメチル基を示
し、例えば、ｐ−キシリレングリコール、ｍ−キシリレ
ングリコール、ｐ−キシリレングリコールジメチルエー
テル、ｐ−キシリレングリコールジエチルエーテル、
１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベ
ンゼン等が挙げられる。
においてＲ7〜Ｒ10は、水素原子またはメチル基を示
し、例えば、ｐ−キシリレングリコール、ｍ−キシリレ
ングリコール、ｐ−キシリレングリコールジメチルエー
テル、ｐ−キシリレングリコールジエチルエーテル、
１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベ
ンゼン等が挙げられる。
【０００９】本発明における縮合剤の使用量はフェノー
ル類２モルに対して、０．８〜３．０モルの範囲であ
る。縮合剤の理論量は１．０モルであるが、縮合剤の使
用量を理論量以上とすることにより反応後の系内の残存
フェノール類の低減が可能であり、実用上、残存フェノ
ール類の影響を無視できる程度まで低減させることがで
きる。縮合剤の使用量がフェノール類２モルに対して
０．８より少ないと未反応フェノール類の量が多くな
り、釜効率を低下させるだけでなく、未反応フェノール
類の除去が困難になるとともに、生成したビスフェノー
ル化合物が過剰のフェノール類に溶解するため本発明の
特徴であるビスフェノール化合物の結晶を析出させなが
ら反応を行なうことが困難になる。結果として、溶解し
たビスフェノール化合物がさらに反応に関与することと
なり、ビスフェノール化合物の選択率が低下する。逆に
縮合剤の使用量が多くなると、過剰の縮合剤の除去が困
難になる。縮合剤のさらに好ましい使用量は、フェノー
ル類２モルに対して、０．９〜２．５モルの範囲であ
る。
ル類２モルに対して、０．８〜３．０モルの範囲であ
る。縮合剤の理論量は１．０モルであるが、縮合剤の使
用量を理論量以上とすることにより反応後の系内の残存
フェノール類の低減が可能であり、実用上、残存フェノ
ール類の影響を無視できる程度まで低減させることがで
きる。縮合剤の使用量がフェノール類２モルに対して
０．８より少ないと未反応フェノール類の量が多くな
り、釜効率を低下させるだけでなく、未反応フェノール
類の除去が困難になるとともに、生成したビスフェノー
ル化合物が過剰のフェノール類に溶解するため本発明の
特徴であるビスフェノール化合物の結晶を析出させなが
ら反応を行なうことが困難になる。結果として、溶解し
たビスフェノール化合物がさらに反応に関与することと
なり、ビスフェノール化合物の選択率が低下する。逆に
縮合剤の使用量が多くなると、過剰の縮合剤の除去が困
難になる。縮合剤のさらに好ましい使用量は、フェノー
ル類２モルに対して、０．９〜２．５モルの範囲であ
る。
【００１０】さらに、本発明は反応の過程で生成する
水、またはアルコールを系外に除きながら、かつ生成す
るビスフェノール化合物の結晶を析出させつつ反応を行
なう。生成したビスフェノール化合物を結晶として析出
させることにより、生成したビスフェノール化合物がさ
らに反応に関与することを抑えることが可能であり、結
果として多核フェノール化合物の生成を抑えることがで
き、目的とするビスフェノール化合物生成の選択率を大
幅に向上させることができる。
水、またはアルコールを系外に除きながら、かつ生成す
るビスフェノール化合物の結晶を析出させつつ反応を行
なう。生成したビスフェノール化合物を結晶として析出
させることにより、生成したビスフェノール化合物がさ
らに反応に関与することを抑えることが可能であり、結
果として多核フェノール化合物の生成を抑えることがで
き、目的とするビスフェノール化合物生成の選択率を大
幅に向上させることができる。
【００１１】本発明に用いる酸性触媒としては、一般に
知られる有機、無機系化合物の中から適宜選択され使用
される。例えば、シュウ酸、メタンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、又
は、塩酸、硫酸、りん酸、等の鉱酸、さらには活性白
土、ゼオライト、イオン交換樹脂等の固体酸等が挙げら
れる。装置の腐食、作業性の面からは有機酸を使用する
ことが好ましく、特に好ましくはシュウ酸が用いられ
る。その使用量は、通常、フェノール類に対して、０．
２〜５．０重量％の範囲である。
知られる有機、無機系化合物の中から適宜選択され使用
される。例えば、シュウ酸、メタンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、又
は、塩酸、硫酸、りん酸、等の鉱酸、さらには活性白
土、ゼオライト、イオン交換樹脂等の固体酸等が挙げら
れる。装置の腐食、作業性の面からは有機酸を使用する
ことが好ましく、特に好ましくはシュウ酸が用いられ
る。その使用量は、通常、フェノール類に対して、０．
２〜５．０重量％の範囲である。
【００１２】反応は、通常、５０〜２００℃の範囲で行
なわれる。また、反応は無溶媒で行なうのが好ましい
が、場合により適量の溶媒を用いることができる。用い
る溶媒としては、水または、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
エチルセロソルブ等のアルコール類、ヘキサン、ヘプタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、クロロエタ
ン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化溶
媒、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、等が例示され、その使用量は用いるフェノール類に
対して通常、５〜１００％の範囲である。用いた溶媒は
ビスフェノール化合物の結晶を析出させた後、系外を除
いてもよいし、反応を行ないビスフェノール化合物の結
晶を析出させながら系外に除いてもよい。
なわれる。また、反応は無溶媒で行なうのが好ましい
が、場合により適量の溶媒を用いることができる。用い
る溶媒としては、水または、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
エチルセロソルブ等のアルコール類、ヘキサン、ヘプタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、クロロエタ
ン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化溶
媒、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、等が例示され、その使用量は用いるフェノール類に
対して通常、５〜１００％の範囲である。用いた溶媒は
ビスフェノール化合物の結晶を析出させた後、系外を除
いてもよいし、反応を行ないビスフェノール化合物の結
晶を析出させながら系外に除いてもよい。
【００１３】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに具体的に説
明する。 （実施例１）３００mlフラスコに２，６−キシレノール
１２２ｇ（１．０モル）、９２％パラホルムアルデヒ
ド １７．１ｇ（０．５２５モル）およびシュウ酸
１．８３ｇを仕込み、撹拌しながら１２０℃に昇温し反
応させた。約３０分後、系内に結晶の析出が認められ
た。その間、生成する水は系外に除いた。さらに、縮合
水を系外に除きつつ、１３０℃まで昇温し２時間反応を
継続した。反応器内の生成物を液体クラマトグラフィー
で分析したところ、この時点で系内の未反応２，６−キ
シレノールは、０．９％となっていた。その後、減圧し
（３０mmHg）、さらに１５０℃まで昇温し１時間反応を
行なった後、淡黄色粉末状の３，３′，５，５′−テト
ラメチル−４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン
１２４．５ｇ（収率、９７．３ｇ）を得た。液体クラマ
トグラフィーで分析したところ、３，３′，５，５′−
テトラメチル−４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタ
ンの純度は９９．１％であり、未反応２，６−キシレノ
ールは、０．１％以下であった。
明する。 （実施例１）３００mlフラスコに２，６−キシレノール
１２２ｇ（１．０モル）、９２％パラホルムアルデヒ
ド １７．１ｇ（０．５２５モル）およびシュウ酸
１．８３ｇを仕込み、撹拌しながら１２０℃に昇温し反
応させた。約３０分後、系内に結晶の析出が認められ
た。その間、生成する水は系外に除いた。さらに、縮合
水を系外に除きつつ、１３０℃まで昇温し２時間反応を
継続した。反応器内の生成物を液体クラマトグラフィー
で分析したところ、この時点で系内の未反応２，６−キ
シレノールは、０．９％となっていた。その後、減圧し
（３０mmHg）、さらに１５０℃まで昇温し１時間反応を
行なった後、淡黄色粉末状の３，３′，５，５′−テト
ラメチル−４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン
１２４．５ｇ（収率、９７．３ｇ）を得た。液体クラマ
トグラフィーで分析したところ、３，３′，５，５′−
テトラメチル−４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタ
ンの純度は９９．１％であり、未反応２，６−キシレノ
ールは、０．１％以下であった。
【００１４】（実施例２）３００mlフラスコに２，６−
キシレノール １２２ｇ（１．０モル）、９２％パラホ
ルムアルデヒド ３５．９ｇ（１．１モル）およびシュ
ウ酸 ２．４４ｇを仕込み、撹拌しながら１１５℃に昇
温し反応させた。１０分後、系内に結晶の析出が認めら
れた。その間、生成する水は系外に除いた。さらに、縮
合水を系外に除きつつ、１時間反応を継続した。反応器
内の生成物を液体クラマトグラフィーで分析したとこ
ろ、この時点で系内の未反応２，６−キシレノールは、
０．１％以下であった。その後、減圧し（３０mmHg）、
さらに１５０℃まで昇温し１時間反応を行なった後、淡
黄色粉末状の３，３′，５，５′−テトラメチル−４，
４′−ジヒドロキシジフェニルメタン １２３．０ｇ
（収率、９６．１ｇ）を得た。液体クラマトグラフィー
で分析したところ、３，３′，５，５′−テトラメチル
−４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタンの純度は９
８．６％であり、未反応２，６−キシレノールは、０．
１％以下であった。
キシレノール １２２ｇ（１．０モル）、９２％パラホ
ルムアルデヒド ３５．９ｇ（１．１モル）およびシュ
ウ酸 ２．４４ｇを仕込み、撹拌しながら１１５℃に昇
温し反応させた。１０分後、系内に結晶の析出が認めら
れた。その間、生成する水は系外に除いた。さらに、縮
合水を系外に除きつつ、１時間反応を継続した。反応器
内の生成物を液体クラマトグラフィーで分析したとこ
ろ、この時点で系内の未反応２，６−キシレノールは、
０．１％以下であった。その後、減圧し（３０mmHg）、
さらに１５０℃まで昇温し１時間反応を行なった後、淡
黄色粉末状の３，３′，５，５′−テトラメチル−４，
４′−ジヒドロキシジフェニルメタン １２３．０ｇ
（収率、９６．１ｇ）を得た。液体クラマトグラフィー
で分析したところ、３，３′，５，５′−テトラメチル
−４，４′−ジヒドロキシジフェニルメタンの純度は９
８．６％であり、未反応２，６−キシレノールは、０．
１％以下であった。
【００１５】（実施例３）３００mlフラスコに２，６−
キシレノール １２２ｇ（１．０モル）、９２％パラホ
ルムアルデヒド １５．５ｇ（０．４７５モル）および
シュウ酸 １．８３ｇを仕込み、撹拌しながら１２０℃
に昇温し反応させた。約３０分後、系内に結晶の析出が
認められた。その間、生成する水は系外に除いた。さら
に、縮合水を系外に除きつつ、１３０℃まで昇温し２時
間反応を継続した。反応器内の生成物を液体クラマトグ
ラフィーで分析したところ、この時点で系内の未反応
２，６−キシレノールは、３．６％であった。その後、
減圧下（３０mmHg）、１５０℃まで昇温し縮合水および
未反応２，６−キシレノールを留去後、淡黄色粉末状の
３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−ジヒド
ロキシジフェニルメタン１１９．３ｇ（収率、９３．２
ｇ）を得た。液体クラマトグラフィーで分析したとこ
ろ、３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−ジ
ヒドロキシジフェニルメタンの純度は９８．７％であ
り、未反応２，６−キシレノールは、０．１％以下であ
った。
キシレノール １２２ｇ（１．０モル）、９２％パラホ
ルムアルデヒド １５．５ｇ（０．４７５モル）および
シュウ酸 １．８３ｇを仕込み、撹拌しながら１２０℃
に昇温し反応させた。約３０分後、系内に結晶の析出が
認められた。その間、生成する水は系外に除いた。さら
に、縮合水を系外に除きつつ、１３０℃まで昇温し２時
間反応を継続した。反応器内の生成物を液体クラマトグ
ラフィーで分析したところ、この時点で系内の未反応
２，６−キシレノールは、３．６％であった。その後、
減圧下（３０mmHg）、１５０℃まで昇温し縮合水および
未反応２，６−キシレノールを留去後、淡黄色粉末状の
３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−ジヒド
ロキシジフェニルメタン１１９．３ｇ（収率、９３．２
ｇ）を得た。液体クラマトグラフィーで分析したとこ
ろ、３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−ジ
ヒドロキシジフェニルメタンの純度は９８．７％であ
り、未反応２，６−キシレノールは、０．１％以下であ
った。
【００１６】（実施例４）３００mlフラスコに２，６−
キシレノール １２２ｇ（１．０モル）、１，４−ビス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン ９７ｇ
（０．５モル）、トルエン ３０mlおよびｐ−トルエン
スルホン酸 １．８ｇを仕込み、撹拌しながら１２０℃
に昇温し縮合水およびトルエンを系外に除きつつ反応さ
せた。約１時間後、系内に結晶の析出が認められた。そ
の後さらに、縮合水およびトルエンを系外に除きつつ、
１３０℃まで昇温し２時間反応を継続した。反応器内の
生成物を液体クラマトグラフィーで分析したところ、こ
の時点で系内の未反応２，６−キシレノールは、０．１
％以下となっていた。その後、減圧下（３０mmHg）、縮
合水および未反応の２，６−キシレノールを留去後、淡
黄色粉末状の１，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシクミル）ベンゼン ２００ｇ（収率、９９．５
％）を得た。液体クラマトグラフィーで分析したとこ
ろ、１，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
クミル）ベンゼンの純度は９９．０％であり、未反応
２，６−キシレノールは、０．１％以下であった。
キシレノール １２２ｇ（１．０モル）、１，４−ビス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン ９７ｇ
（０．５モル）、トルエン ３０mlおよびｐ−トルエン
スルホン酸 １．８ｇを仕込み、撹拌しながら１２０℃
に昇温し縮合水およびトルエンを系外に除きつつ反応さ
せた。約１時間後、系内に結晶の析出が認められた。そ
の後さらに、縮合水およびトルエンを系外に除きつつ、
１３０℃まで昇温し２時間反応を継続した。反応器内の
生成物を液体クラマトグラフィーで分析したところ、こ
の時点で系内の未反応２，６−キシレノールは、０．１
％以下となっていた。その後、減圧下（３０mmHg）、縮
合水および未反応の２，６−キシレノールを留去後、淡
黄色粉末状の１，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシクミル）ベンゼン ２００ｇ（収率、９９．５
％）を得た。液体クラマトグラフィーで分析したとこ
ろ、１，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
クミル）ベンゼンの純度は９９．０％であり、未反応
２，６−キシレノールは、０．１％以下であった。
【００１７】
【発明の効果】本発明により、エポキシ樹脂、ポリカー
ボネート等の用途に有用なビスフェノール化合物を高純
度で収率よく、工業的有利に製造することができる。
ボネート等の用途に有用なビスフェノール化合物を高純
度で収率よく、工業的有利に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 39/15 9155−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式 【化１】 （但し、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子または、炭素数１〜８の炭
化水素基を示し、かつＲ1〜Ｒ4のうち３個以上は同時に
水素原子ではない。また、Ａｒはベンゼン核を表わ
す。）で表わされるフェノール類２モルに対して、０．
８〜３．０モルの下記一般式、 【化２】 （但し、Ｒ5、Ｒ6は、水素原子または、炭素数１〜６の
炭化水素基を表わす。）または、下記一般式、 【化３】 （但し、Ｒ7〜Ｒ10は、水素原子または、メチル基を示
し、Ｒ11は、水素原子または、炭素数１〜４の炭化水素
基を示し、Ａｒはベンゼン核を示す。）で表わされる縮
合剤を用い、酸性触媒の存在下、生成する水、またはア
ルコールを反応系外に除きながら、かつ反応系内に目的
とするビスフェノール化合物の結晶を析出させつつ反応
させることを特徴とする下記一般式、 【化４】 ｛但し、Ｒ1〜Ｒ4は水素原子または、炭素数１〜８の炭
化水素基を示し、かつＲ1〜Ｒ4のうち３個以上は同時に
水素原子ではない。また、Ａｒはベンゼン核を表わす。
さらに、Ｘは下記一般式、 【化５】 （但し、Ｒ5、Ｒ6は、水素原子または、炭素数１〜６の
炭化水素基を表わす。）または、下記一般式、 【化６】 （但し、Ｒ7〜Ｒ10は水素原子またはメチル基を示し、
Ａｒはベンゼン核を表わす。）を表わす。｝で表わされ
るビスフェノール化合物の製造方法。 - 【請求項２】 フェノール類として２，６−キシレノー
ル、縮合剤としてホルムアルデヒドを用い、シュウ酸触
媒の存在下、反応させることを特徴とする請求項１に記
載のビスフェノール化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12538694A JP3638631B2 (ja) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | ビスフェノール化合物の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP12538694A JP3638631B2 (ja) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | ビスフェノール化合物の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330647A true JPH07330647A (ja) | 1995-12-19 |
| JP3638631B2 JP3638631B2 (ja) | 2005-04-13 |
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ID=14908858
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12538694A Expired - Fee Related JP3638631B2 (ja) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | ビスフェノール化合物の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3638631B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002187862A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-07-05 | Mitsubishi Chemicals Corp | テトラメチルビスフェノールｆ及びその製造方法ならびにその用途 |
| JP2023121456A (ja) * | 2022-02-21 | 2023-08-31 | 国立大学法人東京農工大学 | ビスフェノール化合物の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS5291848A (en) * | 1976-01-24 | 1977-08-02 | Bayer Ag | Process for preparing 4*44dihydroxyy 3*3**5*5**tetraalkyldiphenylmethane |
| JPS55124730A (en) * | 1979-03-22 | 1980-09-26 | Ube Ind Ltd | Preparation of dihydroxydiphenylmethane |
| JPH037241A (ja) * | 1989-03-22 | 1991-01-14 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 新規なジヒドロキシ化合物及びその製造法 |
| JPH04211257A (ja) * | 1988-07-07 | 1992-08-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポリフェノール化合物 |
| JPH04225012A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | ４核体フェノール類ノボラック及びその製造法 |
-
1994
- 1994-06-07 JP JP12538694A patent/JP3638631B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3638631B2 (ja) | 2005-04-13 |
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