JPH07330680A - ポリ(アルキレンオキシ)基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 - Google Patents

ポリ(アルキレンオキシ)基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料

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JPH07330680A
JPH07330680A JP12874194A JP12874194A JPH07330680A JP H07330680 A JPH07330680 A JP H07330680A JP 12874194 A JP12874194 A JP 12874194A JP 12874194 A JP12874194 A JP 12874194A JP H07330680 A JPH07330680 A JP H07330680A
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JP12874194A
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Tadahide Hoshino
匡秀 星野
Mitsuru Sugiyama
充 杉山
Akira Kawamata
章 川俣
Hiroko Jokura
博子 城倉
Genji Imokawa
玄爾 芋川
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 、R2 はアルキル基を;A1 、A2 はアル
キレン基を;n、mは0〜10の数を;pは0〜3の数
を示す〕で表わされる化合物及びその製造法並びにこれ
を含有する紫外線吸収剤及び化粧料。 【効果】 優れた紫外線吸収作用を有し、光に安定であ
り油溶性でかつ水溶性基剤との親和性にも優れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた紫外線吸収作用
と良好な光安定性を有し、かつ親水性にも優れるため化
粧料原料として有用な新規ベンザルマロネート誘導体並
びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、オゾン層の破壊による紫外線強化
及び皮膚科学の発達により、紫外線の皮膚への影響が危
惧されている。
【0003】紫外線は、皮膚科学的には作用波長によ
り、400〜320nmの長波長紫外線(UV−A)、3
20〜290nmの中波長紫外線(UV−B)及び290
nm以下の短波長紫外線(UV−C)に分けることができ
る。これらのうち、オゾン層において吸収され、地上に
はほとんど到達しないUV−Cを除くUV−A及びUV
−Bは、種々の皮膚障害を引き起こすことが知られてい
る。例えば、UV−Aを浴びると直ちに皮膚が黒化され
(即時黒化作用)、そのエネルギーが真皮にまで到達す
ることにより、血管壁や結合組織中の弾性繊維にも変化
を及ぼす。一方、UV−Bを過度に浴びると紅斑や水泡
が生じ、またメラニン形成が亢進され、色素沈着などの
障害をもたらす。更に、UV−A及びUV−Bともに過
度に浴びると、皮膚の老化が促進され、しみ、しわ、そ
ばかすなどの発生原因になり、長期的には皮膚癌の原因
にもなると考えられている。
【0004】また、紫外線は毛髪に対しても褪色、きめ
の変化、水の吸収の減少、弾力の喪失及びケラチン構造
の変化などのダメージを与えることが知られている。
【0005】このように紫外線がヒトの皮膚・毛髪に及
ぼす影響が明らかになるにともない、これを防ぐために
UV−A及びUV−Bを吸収する化合物(紫外線吸収
剤)の開発が行われるようになってきている。例えば、
UV−Aの吸収剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイ
ルメタンなどの誘導体を含むものが知られており、UV
−Bの吸収剤としては、桂皮酸、ベンゾフェノン、4−
アミノ安息香酸、サリチル酸などの誘導体を含むものが
知られている。
【0006】しかし、これらは、(a)UV−A及びU
V−Bを可能な限り吸収すること、(b)光や熱に対し
て安定であること、(c)皮膚に対する毒性、刺激性、
その他の有害作用がないこと、(d)効果が持続するこ
と、(e)化粧品基剤との相溶性に優れていることなど
の皮膚及び毛髪を保護する紫外線吸収剤として要求され
る各性質をすべて満足するものはない。従来の紫外線吸
収剤はこれらの性質の中でも特に光(紫外線)に対する
安定性が不十分であり、紫外線による分解や反応が起こ
ることが知られている〔例えば、Int.J.Cosm
etic Science,10,53(1988)参
照〕。このような紫外線吸収剤の分解は、効果の持続の
低下を招くのみならず、分解物自体又は分解物と配合物
との反応による生成物が皮膚に与える影響も無視できな
い〔フレグランス ジャーナル,84,32(198
7)〕。
【0007】一方、紫外線防御の重要性が明らかになる
につれ、日常のスキンケアでも十分に紫外線防御をする
ことが望まれ、化粧水等の水系化粧品にも紫外線吸収剤
を多量に配合することが必要となった。また、高い紫外
線防御効果を得るために化粧品処方系全体に多量の紫外
線吸収剤を配合することが望まれ、油相だけではなく水
相にも紫外線吸収剤を配合することが必要になった。
【0008】しかしながら、従来の紫外線吸収剤のほと
んどは油溶性で親水性に乏しく、水溶性基剤への混合が
困難であるため処方が制限され、水系化粧品に多量に配
合することは困難であった。
【0009】水溶性の紫外線吸収剤の報告は若干存在す
るがいまだ満足できるものはない。例えば、水溶性の紫
外線吸収剤としては、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−
5−スルフォキソニウムベンゾフェノンナトリウム塩が
知られているが、これは紫外線吸収効果があまり高くな
いうえに、塩であるために処方系のpHに影響を及ぼすと
いう欠点があった。また、特開昭59−130209号
公報にはアミン基を有する桂皮酸誘導体が特開昭63−
270647号公報、ドイツ特許957162号公報及
びフランス特許2504530号公報には第四級アンモ
ニウム塩を有する桂皮酸誘導体が、特開昭62−120
312号公報及び特開平1−13017号公報にヒドロ
キシ桂皮酸及びその塩が、特開平4−270298号公
報及び特開平4−305592号公報に糖を有する桂皮
酸誘導体が、更に特開昭50−140642号公報に第
四級アンモニウム塩を有する4−アミノ安息香酸誘導体
が、特開昭58−109454号公報にポリグリセリル
基を有する4−アミノ安息香酸誘導体が提案されている
が、桂皮酸誘導体及び4−アミノ安息香酸誘導体には光
安定性が悪いという重大な問題がある〔例えば、Pho
tochem.Photobiol.,36,395
(1982),Int.J.CosmeticScie
nce,10,53(1988)、フレグランス ジャ
ーナル,84,32(1987)参照〕。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、油溶性及び親水性であり、かつ紫外線吸収剤として
要求される諸性質を満足する紫外線吸収物質を見出すこ
とにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み本発明
者らは鋭意研究を行った結果、下記一般式(1)で表わ
されるベンザルマロネート誘導体が油溶性及び水溶性で
あり、かつ紫外線吸収剤として優れた諸性質を有するこ
とを見出し、本発明を完成した。
【0012】すなわち本発明は、次の一般式(1)
【0013】
【化4】
【0014】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
いてもよいアルキル基を示し、A1 及びA2 は同一又は
異なっていてもよいアルキレン基を示し、pは0〜3の
数を示し、m及びnは0〜10の数を示すが、mとnの
双方が0となることはない〕で表わされるベンザルマロ
ネート誘導体、及びその製造法並びにこれを含有する紫
外線吸収剤及び化粧料を提供するものである。
【0015】本発明のベンザルマロネート誘導体は、前
記式(1)で表わされるものであるが、式中A1 又はA
2 で示されるアルキレン基としては直鎖のものでも分岐
鎖のものでも用いることができるが、親水性という特徴
を生かすためには、その炭素数は1〜5のもの、特に1
〜3のものが好ましい。またm又はnが2以上のとき、
その2以上のA1 は異なるものの組み合せでもよく、ま
たA2 も異なるものの組み合せでもよい。A1 及びA2
のアルキレン基の具体例としては、次式
【0016】
【化5】
【0017】で表わされる基等を挙げることができる。
【0018】一般式(1)中のR1 及びR2 で示される
アルキル基は、直鎖のものでも分岐鎖のものでも用いる
ことができるが、親水性の面から炭素数1〜10のもの
が好ましく、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、
n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デシル基などの
直鎖アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、t−
ブチル基、2,2−ジメチルプロピル基、2−メチルブ
チル基、2−メチルペンチル基、シクロヘキシルメチル
基、シクロヘキシルエチル基、2−エチルヘキシル基、
3,5,5−トリメチルヘキシル基などの分岐鎖のアル
キル基などを挙げることができるが、特に炭素数1〜4
のものが好ましい。
【0019】一般式(1)中のm及びnは0〜10の数
を示し、これらは同時に0をとることはないが、入手の
容易さから、0〜6が好ましく、特に好ましくは0〜4
である。またpは0〜3の数を示すが1が好ましい。(R
1(OA1)nO)p基の芳香族環への置換位置については制限は
ないが、特にp=1で、パラ位すなわち4位に置換した
化合物が305〜320nmに極大吸収(λmax)を示し
て極めて強い紫外線吸収作用を有することが好ましい。
更に、p=2で、3位と4位に置換した化合物は320
〜335nmに極大吸収を示して強い紫外線吸収作用を有
し、p=3で、3位、4位と5位に置換した化合物は、
305〜320nmに極大吸収を示して強い紫外線吸収作
用を有し、これらの化合物も好ましい例として挙げるこ
とができる。
【0020】本発明のベンザルマロネート誘導体は例え
ば次の式に従って製造することができる。
【0021】
【化6】
【0022】〔式中、R1 、R2 、A1 、A2 、m、n
及びpは前記と同じものを示し、Xはハロゲン原子を示
す〕 すなわち、ヒドロキシベンズアルデヒド(4)とハロゲ
ン化合物(5)を反応させ、ベンズアルデヒド誘導体
(2)を製造し、一方、マロン酸とアルコール(6)を
エステル化しマロネート誘導体(3)とし、得られたベ
ンズアルデヒド誘導体(2)とマロネート誘導体(3)
を反応せしめることにより本発明のベンザルマロネート
誘導体(1)を得ることができる。詳細には次の如くし
て製造することができる。
【0023】まず、ヒドロキシベンズアルデヒド(4)
とハロゲン化合物(5)を、塩基の存在下又は無存在下
で、反応させることによりベンズアルデヒド誘導体
(2)を得る。上記塩基としては、反応に悪影響を及ぼ
さないものであれば特に限定されないが、例えばアルカ
リ金属、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水素化物、
アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩、
アミン、第四級アンモニウム塩などが挙げられる。ま
た、上記反応は、必要に応じて溶媒を使用するが、反応
を阻害しないものであれば特に限定されず、例えばN,
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン
等が好適に用いられる。
【0024】一方、一般式(3)で表わされるマロネー
ト誘導体は、例えば上記式に示す如きマロン酸のアルコ
ール(6)によるエステル化により、製造することがで
きる。この反応は、無溶媒で行ってもよいが、必要に応
じて溶媒を用いることができ、係る溶媒としては反応を
阻害しないものであれば特に限定されず、例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、ヘキサンなど通常用いられ
る溶媒を挙げることができる。この反応は、酸触媒を用
いることが好ましく、係る酸触媒としては通常のエステ
ル化に用いられるもの、例えば硫酸、塩酸等の鉱酸、パ
ラトルエンスルホン酸等の有機酸、あるいは三フッ化ホ
ウ素等のLewis酸などを挙げることができる。ま
た、この反応は、加熱し、かつ反応により生じた水を反
応系外に除去しながら行うことが好ましい。
【0025】本発明のベンザルマロネート誘導体(1)
は、上記のベンズアルデヒド誘導体(2)とマロネート
誘導体(3)を反応させることにより得られる。本反応
は無溶媒又は溶媒中、触媒の存在下で縮合(Knoev
enagel縮合)させればよい。この反応で用いる溶
媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定さ
れず、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサン、アルコール類などを挙げる
ことができる。触媒としては、ピペリジン、ピリジンな
どのアミン、酢酸、安息香酸、塩化亜鉛、四塩化チタン
などの酸、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウムなどのカ
ルボン酸塩、無水酢酸などの酸無水物などを挙げること
ができ、これらは適宜組み合せて用いることができる。
この反応は加熱し、かつ反応により生じた水を反応系外
に除去しながら行うことが好ましい。
【0026】本発明の紫外線吸収剤は、上記の如くして
得られたベンザルマロネート誘導体(1)をそのまま用
いたものであってもよいが、これを適当な担体に担持さ
せたものが好ましい。ここで用いる担体は、ベンザルマ
ロネート誘導体(1)に対し不活性なものであれば特に
制限されず、固体、液体、乳状体、ゲル等いずれの形態
のものでもよい。具体的には、水、アルコール、油脂
(炭化水素オイル、フッ素系油剤、脂肪酸エステル、高
級アルコール、シリコーンオイルなど)、澱粉、タルク
などの微粉末、エアゾール噴射剤として使用される低沸
点炭化水素又はハロゲン化炭化水素などを挙げることが
できる。
【0027】また、本発明の紫外線吸収剤には、他の紫
外線吸収剤を配合することもできる。この他の紫外線吸
収剤としては、p−メチルベンジリデン−D,L−ショ
ウノウ又はそのスルホン酸ナトリウム塩、2−フェニル
ベンズイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩、
3,4−ジメチルフェニルグリオキシル酸ナトリウム
塩、4−フェニルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾ
フェノン−2′−カルボン酸イソオクチルエステル、4
−メトキシ桂皮酸エステル、2−フェニル−5−メチル
ベンズオキサゾール、4−ジメチルアミノ安息香酸エス
テル、4−メトキシ−2′−カルボキシジベンゾイルメ
タン、4−メトキシ−4′−t−ブチルジベンゾイルメ
タン、4−イソプロピルジベンゾイルメタン、1−
(3,4−ジメトキシフェニル)−4,4−ジメチル−
1,3−ペンタンジオン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン又はジベンジリデンカンファー類など
を挙げることができる。更に、本発明の紫外線吸収剤に
は、必要に応じて他の成分、例えば、防腐剤、香料、着
色料、界面活性剤を配合することができる。
【0028】本発明のベンザルマロネート誘導体(1)
は、皮膚及び毛髪の紫外線防御に用いられるのみなら
ず、プラスチック等の紫外線により影響を受ける物質に
配合する紫外線防御剤として使用することもできる。
【0029】本発明の化粧料は、ベンザルマロネート誘
導体(1)を公知の化粧料基剤、各種配合成分とともに
配合することにより得ることができる。化粧料の剤型は
特に制限されるものではなく、クリーム、化粧水、溶
液、油剤、スプレー、スティック、乳液、ファンデーシ
ョン、軟膏、シャンプー、リンスなどの所望の剤型にす
ることができる。
【0030】公知の化粧料基剤としては、固体状又は液
状パラフィン、クリスタルオイル、セレシン、オゾケラ
イト、モンタンロウなどの炭化水素類;オリーブ、地ロ
ウ、カルナウバロウ、ラノリン、鯨ロウなどの植物もし
くは動物性油脂及びロウ;ステアリン酸、パルミチン
酸、オレイン酸、グリセリンモノステアリン酸エステ
ル、グリセリンジステアリン酸エステル、グリセリンモ
ノオレイン酸エステル、イソプロピルミリスチン酸エス
テル、イソプロピルステアリン酸エステル、ブチルステ
アリン酸エステルなどの脂肪酸及びそれらのエステル
類;メチルポリシロキサン、メチルポリシクロシロキサ
ン、メチルフェニルポリシロキサン、シリコーンポリエ
ーテルコポリマーなどのシリコーン類;パーフルオロポ
リエーテル、フッ素変性シリコーンなどのフッ素系油
剤;エタノール、イソプロピルアルコール、セチルアル
コール、ステアリルアルコール、パルミチルアルコー
ル、ヘキシルドデシルアルコールなどのアルコール類;
グリコール、グリセリン、ソルビトールなどの保湿作用
を有する多価アルコール類などを挙げることができる。
【0031】粉体基剤としては、マイカ、タルク、セリ
サイト、カオリン、ナイロンパウダー、ポリメチルシル
セスキオキサン、硫酸バリウムなどの体質顔料;赤色2
02号、226号、黄色4号、アルミニウムレーキなど
の有機顔料;酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄などの紫外
線散乱剤などを用いることができる。これらのうち酸化
チタン、酸化亜鉛としては、粒子径が100nm以下の微
粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛、特開平1−1759
21号公報特許請求の範囲の欄に記載の薄片状酸化亜鉛
を用いることができる。また、これらの体質顔料、有機
顔料、紫外線散乱剤は、公知の方法でメチルハイドロジ
ェンポリシロキサンなどのシリコーン、パーフルオロア
ルキルリン酸エステルなどのフッ素化合物、金属石鹸、
N−アシルグルタル酸、シリカ、アルミナ、シリカ・ア
ルミナなどで表面処理したものを用いることもできる。
【0032】更に本発明の化粧料には、上記した公知の
紫外線吸収剤、W/O又はO/W型乳化剤、各種シリコ
ーンオイルを乳化させるためのポリエーテル変性シリコ
ーン、ポリエーテル・アルキル変性シリコーン、グリセ
リルエーテル変性シリコーン、更にメチルセルロース、
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ
アクリル酸、トラガント、寒天、ゼラチンなどの増粘
剤、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、各種薬効成
分、生理的に許容できる着色剤などを配合することもで
きる。
【0033】化粧料中における式(1)で表わされるベ
ンザルマロネート誘導体の含有割合は化粧料の種類に応
じて適宜決定することができるが、一般には0.1〜2
0重量%が好ましく、0.5〜10重量%が特に好まし
い。
【0034】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらにより制限されるものではな
い。
【0035】合成例1 下記に示す方法により、次式;
【0036】
【化7】
【0037】で表わされる化合物(2a)を製造した。
まず、500ml2口フラスコに4−ヒドロキシベンズア
ルデヒド17.10g(140.0mmol)を入れ、これ
を塩化メチレン170mlに溶解させた。次に、ジイソプ
ロピルエチルアミン27.14g(210.0mmol)を
入れ、窒素雰囲気下、氷冷下で、攪拌しながら2−メト
キシエトキシメチルクロライド26.16g(210.
0mmol)を30分間をかけて滴下して加え、3時間室温
にて攪拌した。反応混合物を、減圧下濃縮後、酢酸エチ
ル200mlで希釈し、これを1規定塩酸で2回、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で2回、更に水で2回洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧
下留去して黄色油状物を得た。この油状物を減圧蒸留す
ることにより(沸点120〜126℃/1.9×10 -2
Torr)、目的化合物(2a)25.06g(収率85
%)を淡黄色油状物として得た。
【0038】1H-NMR(CDCl3,δppm):3.38(3H,s), 3.50-
3.65(2H,m), 3.75-3.90(2H,m),5.35(2H,s), 7.16(2H,d,
J=8.7Hz), 7.83(2H,d,J=8.7Hz), 9.90(1H,s)
【0039】合成例2 下記に示す方法により、次式
【0040】
【化8】
【0041】で表わされる化合物(3a)を製造した。
まず、500ml2口フラスコにジエチレン グリコール
モノメチル エーテル(2−(2−メトキシエトキ
シ)エタノール)132.17g(1100mmol)を入
れ、トルエン300mlに溶解させた。次に、マロン酸5
2.03g(500mmol)及び硫酸5.20g(53.
0mmol)を加え、Dean Starkにより生成する
水を共沸脱水しながら、攪拌下で3時間加熱還流した。
冷却後、反応混合物を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で中和、更に塩基性にして分層したのち、水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒及び未
反応のジエチレン グリコール モノメチル エーテル
を減圧下留去して無色透明液体を得た。この液体を減圧
蒸留することにより(沸点150〜157℃/1.0×
10-2Torr)、目的化合物(3a)80.1g(収率5
2%)を無色透明液体として得た。
【0042】1H-NMR(CDCl3,δppm):3.38(6H,s), 3.45
(2H,s), 3.50-3.60(4H,m),3.60-3.67(4H,m), 3.67-3.80
(4H,m), 4.25-4.35(4H,m)
【0043】実施例1 下記に示す方法により、次式
【0044】
【化9】
【0045】で表わされる化合物(1a)を製造した。
まず、500ml2口フラスコに4−メトキシベンズアル
デヒド2.72g(20.0mmol)を入れ、これをベン
ゼン150mlに溶解させた。次に、合成例2で製造した
化合物(3a)6.17g(20.0mmol)、ピペリジ
ン0.20g(2.00mmol)及び酢酸0.069g
(1.20mmol)を加え、Dean Starkにより
生成する水を共沸脱水しながら、攪拌下で20時間加熱
還流した。冷却後、反応混合物を水で3回洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
して淡黄色油状物を得た。この油状物を、ヘキサン+酢
酸エチル(10:1〜2:1)を展開溶媒として用いて
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、目
的化合物(1a)7.07g(収率83%)を無色透明
油状物として得た。
【0046】IR(νneat, cm-1):2890, 1730, 1630,
1605, 1575, 1515, 1455, 1430,1395, 1355, 1310, 126
0, 1200, 1175, 1120, 1065, 1025, 940, 830,760
【0047】1H-NMR(CDCl3,δppm):3.35(3H,s), 3.39
(3H,s), 3.40-3.72(8H,m),3.72-3.83(4H,m), 3.84(3H,
s), 4.35-4.50(4H,m), 6.89(2H,d,J=8.9Hz),7.44(2H,d,
J=8.9Hz), 7.71(1H,s)
【0048】実施例2 下記に示す方法により、次式
【0049】
【化10】
【0050】で表わされる化合物(1b)を製造した。
製造方法は、合成例1で製造した化合物(2a)4.2
0g(20.0mmol)、合成例2で製造した化合物(3
a)6.17g(20.0mmol)、ピペリジン0.20
g(2.00mmol)、酢酸0.069g(1.20mmo
l)及びベンゼン200mlを用いたほかは、実施例1と
同様にした。このようにして、目的化合物(1b)8.
48g(収率85%)を無色透明油状物として得た。
【0051】IR(νneat, cm-1):2890, 1735, 1630,
1610, 1575, 1515, 1455, 1390,1255,980, 835, 760
【0052】1H-NMR(CDCl3,δppm):3.35(3H,s), 3.37
(3H,s), 3.39(3H,s),3.40-3.72(12H,m), 3.72-3.80(4H,
m), 4.30-4.50(4H,m), 5.29(2H,s),7.04(2H,d,J=8.8H
z), 7.43(2H,d,J=8.8Hz), 7.70(1H,s)
【0053】試験例1 実施例1及び2で得られた本発明化合物(1a)及び
(1b)からなる紫外線吸収剤と、現在汎用されている
紫外線吸収剤である2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン(比較例1)及び4−メトキシ桂皮酸2−エ
チルヘキシル(比較例2)を用い、下記の方法により紫
外線吸収効果(吸光度)を測定した。結果を表1に示
す。
【0054】(測定方法)各紫外線吸収剤をエタノール
(99.5%試薬特級)に溶解して、2.5×10-5mo
l/l濃度の溶液を調製し、これを石英セル(1×1c
m)に入れたのち、自記分光光度計(日立社製U−34
10型)により吸光度を測定した。
【0055】
【表1】
【0056】表1から明らかなとおり、本発明の化合物
からなる紫外線吸収剤は、比較例1及び2と比べても同
等又はそれ以上の吸収効果を示した。
【0057】試験例2 実施例1及び2で得られた本発明化合物(1a)及び
(1b)からなる紫外線吸収剤と、4−メトキシ桂皮酸
2−エチルヘキシル(比較例2)及び同じく現在汎用さ
れている紫外線吸収剤である4−ジメチルアミノ安息香
酸2−エチルヘキシル(比較例3)を用い、下記の方法
により光に対する安定性を測定した。結果を表2に示
す。
【0058】(測定方法)各紫外線吸収剤をエタノール
(99.5%試薬特級)に溶解して、1.0×10-4mo
l/l濃度の溶液を調製し、これを石英セル(1×1c
m)に入れたのち、自記分光光度計(日立社製U−34
10型)により吸光度を測定した。次に、この石英セル
に入れた各溶液に、キセノン耐光試験機(Heraeu
s社製;SUNTEST CPS型)を用いて2時間又
は6時間、夏期の太陽光に近似した波長及び強度の光を
照射後、再び前記と同様にして吸光度を測定した。これ
らの吸光度の値から、紫外線吸収効果の残存率を求め、
光安定性を評価した。なお、残存率は、光照射後のλ
maxにおける吸光度の値を光照射前のλmaxにおける吸光
度の値で除したものの百分率である。
【0059】
【表2】
【0060】表2から明らかなとおり、本発明の紫外線
吸収剤は比較例の紫外線吸収剤に比べて、2時間又は6
時間の光照射後においても高い紫外線吸収効果を維持し
ており、また時間の経過による吸収効果の低下も非常に
小さかった。
【0061】試験例3 実施例1及び2で得られた本発明化合物(1a)及び
(1b)、更に別途製造した本発明化合物(1c)〜
(1f)の紫外線吸収剤と4−メトキシ桂皮酸2−エチ
ルヘキシル(比較例2)及びポリマー用紫外線吸収剤と
して用いられているジメチル 4−メトキシベンザルマ
ロネート(比較例4)の水溶性基剤への溶解性を評価し
た。
【0062】
【化11】
【0063】(評価方法)各紫外線吸収剤を、エタノー
ル−水(体積比1:1)混合溶液に6重量%添加した時
の溶解性を観察した。結果を表3に示す。
【0064】
【表3】
【0065】表3から明らかなとおり、本発明化合物は
比較例の紫外線吸収剤に比べて水溶性基剤に対する溶解
性に優れていた。
【0066】実施例3 常法により、下記組成の化粧水を製造した。
【0067】
【表4】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 2.0 ポリオキシエチレン(23)ラウリルエーテル 4.0 エタノール 10.0 グリセリン 3.0 ジプロピレングリコール 7.0 乳酸 0.05 乳酸ナトリウム 0.12 メチルパラベン 0.1 香料 適量 色素 微量 水 残量 計 100.0
【0068】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成で化粧水を製造した。
【0069】実施例4 常法により、下記組成のパウダーファンデーションを製
造した。
【0070】
【表5】 (組成) (配合割合;重量%) マイカ 残量 タルク 20 酸化チタン 10 ベンガラ 1 黄酸化鉄 2 黒酸化鉄 1 流動パラフィン 10 ミツロウ 2 防腐剤 適量 本発明化合物(1a) 5 香料 適量 計 100.0
【0071】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でパウダーファンデーションを製造した。
【0072】実施例5 常法により、下記組成のクリーム状ファンデーションを
製造した。
【0073】
【表6】 (組成) (配合割合;重量%) ステアリン酸 5 親油型モノステアリン酸グリセリン 3 セトステアリルアルコール 1 モノラウリン酸プロピレングリコール 3 スクワラン 7 オリーブ油 8 精製水 残量 防腐剤 適量 トリエタノールアミン 1.2 ソルビット 3 酸化チタン 10 タルク 5 着色顔料 適量 本発明化合物(1a) 7 香料 適量 計 100.0
【0074】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でクリーム状ファンデーションを製造し
た。
【0075】実施例6 常法により、下記組成の油性ファンデーションを製造し
た。
【0076】
【表7】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 5 タルク 残量 カオリン 12 酸化チタン 13 ベンガラ 1.5 黄酸化鉄 20 黒酸化鉄 0.5 流動パラフィン 15 パルミチン酸イソプロピル 10 ラノリンアルコール 3 ミクロクリスタリンワックス 7 オゾケライト 8 防腐剤 適量 香料 適量 計 100.0
【0077】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成で油性ファンデーションを製造した。
【0078】実施例7 常法により、下記組成のO/W型クリームを製造した。
【0079】
【表8】 (組成) (配合割合;重量%) ミツロウ 6 セチルアルコール 5 水添ラノリン 7 スクワラン 33 脂肪酸グリセリン 3.5 親油型モノステアリン酸グリセリン 2 ポリオキシエチレン(EO 20 )ソルビタンモノ ラウリン酸エステル 2 本発明化合物(1a) 6 香料 微量 防腐剤 適量 酸化防止剤 適量 精製水 残量 計 100.0
【0080】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1d)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でO/W型クリームを製造した。
【0081】実施例8 常法により、下記組成のO/W型クリームを製造した。
【0082】
【表9】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 5 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 2 シリコーン処理酸化チタン 1 親油型モノオレイン酸グリセリン 2 ポリオキシエチレン(EO 20 )ソルビタンモノ ラウリン酸エステル 1 スクワラン 10 シリコーン処理タルク 5 グリセリン 5 防腐剤 適量 香料 適量 酸化防止剤 適量 精製水 残量 計 100.0
【0083】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でO/W型クリームを製造した。
【0084】実施例9 常法により、下記組成のW/O型クリームを製造した。
【0085】
【表10】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 4 シリコーン処理薄片状酸化亜鉛 2 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 4 ジメチルポリシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン) シロキサン共重合体 3 メチルポリシロキサン 10 メチルポリシクロポリシロキサン 10 スクワラン 4 硫酸マグネシウム 0.5 グリセリン 7 香料 微量 防腐剤 適量 酸化防止剤 適量 精製水 残量 計 100.0
【0086】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でW/O型クリームを製造した。
【0087】実施例10 常法により、下記組成のO/W型乳液を製造した。
【0088】
【表11】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 4 シリコーン処理酸化チタン 1 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 4 ソルビタンセスキオレイン酸エステル 0.8 ポリオキシエチレン(EO 20 )オレイルエーテル 1.2 スクワラン 5 ワセリン 2 ミツロウ 0.5 シリコーン処理タルク 5 プロピレングリコール 5 エタノール 5 カルボキシビニルポリマー10%水溶液 20 水酸化カリウム 0.1 精製水 残量 計 100.0
【0089】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1f)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でO/W型乳液を製造した。
【0090】
【発明の効果】本発明のポリ(アルキレンオキシ)基を
有するベンザルマロネート誘導体は、優れた紫外線吸収
作用を有しており、光に対しても安定で、ヒトが日常的
に浴びる量の太陽光によってはほとんど分解しない。こ
のため、分解生成物等による皮膚への影響もほとんどな
い。また、毒性、刺激性などの問題もない。更に、他の
化粧品基剤、特に水溶性基剤との親和性にも優れてい
て、安定である。よって本発明のポリ(アルキレンオキ
シ)基を有するベンザルマロネート誘導体を含有する紫
外線吸収剤及び化粧料は、いずれも優れた使用感及び優
れた紫外線防御作用の持続性を発揮することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芋川 玄爾 栃木県宇都宮市氷室町1022−89

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 、R2 は同一又は異なっていてもよいアル
    キル基を示し、A1 及びA2 は同一又は異なっていても
    よいアルキレン基を示し、pは0〜3の数を示し、m及
    びnは0〜10の数を示すが、mとnの双方が0となる
    ことはない〕で表わされるベンザルマロネート誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式(1)中のpが1である請求項1
    記載のベンザルマロネート誘導体。
  3. 【請求項3】 次の一般式(2) 【化2】 〔式中、R1 は同一又は異なっていてもよいアルキル基
    を示し、A1 は同一又は異なっていてもよいアルキレン
    基を示し、nは0〜10の数を示し、pは0〜3の数を
    示す〕で表わされるベンズアルデヒド誘導体と次の一般
    式(3) 【化3】 〔式中、A2 は同一又は異なっていてもよいアルキレン
    基を示し、R2 は同一又は異なっていてもよいアルキル
    基を示し、mは0〜10の数を示す〕で表わされるマロ
    ネート誘導体を反応させることを特徴とする請求項1記
    載のベンザルマロネート誘導体の製造法。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2記載のベンザルマロネー
    ト誘導体を含有する紫外線吸収剤。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2記載のベンザルマロネー
    ト誘導体を含有することを特徴とする化粧料。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002072530A1 (en) * 2001-03-09 2002-09-19 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Permanent surface modifiers
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