JPH07330693A - アミノ基、又は第四級アンモニウム基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 - Google Patents

アミノ基、又は第四級アンモニウム基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料

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JPH07330693A
JPH07330693A JP12874594A JP12874594A JPH07330693A JP H07330693 A JPH07330693 A JP H07330693A JP 12874594 A JP12874594 A JP 12874594A JP 12874594 A JP12874594 A JP 12874594A JP H07330693 A JPH07330693 A JP H07330693A
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same
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general formula
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JP12874594A
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English (en)
Inventor
Tadahide Hoshino
匡秀 星野
Mitsuru Sugiyama
充 杉山
Akira Kawamata
章 川俣
Hiroko Jokura
博子 城倉
Genji Imokawa
玄爾 芋川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は炭化水素基を、R3 はアルキル
基を、Aはアルキレン基を、Yは第三級アミノ基又は第
四級アンモニウム基を示し、nは0〜2の数を示す〕で
表わされる化合物、その製造法、並びにこれを含有する
紫外線吸収剤及び化粧料。 【効果】 優れた紫外線吸収作用、光安定性及び水溶性
に優れるため化粧料等に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた紫外線吸収作用
と良好な光安定性を有し、かつ親水性にも優れるため化
粧料原料として有用な新規ベンザルマロネート誘導体及
びその製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び
化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、オゾン層の破壊による紫外線強化
及び皮膚科学の発達により、紫外線の皮膚への影響が危
惧されている。
【0003】紫外線は、皮膚科学的には作用波長によ
り、400〜320nmの長波長紫外線(UV−A)、3
20〜290nmの中波長紫外線(UV−B)及び290
nm以下の短波長紫外線(UV−C)に分けることができ
る。これらのうち、オゾン層において吸収され、地上に
はほとんど到達しないUV−Cを除くUV−A及びUV
−Bは、種々の皮膚障害を引き起こすことが知られてい
る。例えば、UV−Aを浴びると直ちに皮膚が黒化され
(即時黒化作用)、そのエネルギーが真皮にまで到達す
ることにより、血管壁や結合組織中の弾性繊維にも変化
を及ぼす。一方、UV−Bを過度に浴びると紅斑や水疱
が生じ、またメラニン形成が亢進され、色素沈着などの
障害をもたらす。更に、UV−A及びUV−Bともに過
度に浴びると、皮膚の老化が促進され、しみ、しわ、そ
ばかすなどの発生原因になり、長期的には皮膚癌の原因
ともなると考えられている。
【0004】また、紫外線は毛髪に対しても褪色、きめ
の変化、水の吸収の減少、弾力の喪失及びケラチン構造
の変化などのダメージを与えることが知られている。
【0005】このように紫外線がヒトの皮膚・毛髪に及
ぼす影響が明らかになるにともない、これを防ぐために
UV−A及びUV−Bを吸収する化合物(紫外線吸収
剤)の開発が行われるようになってきている。例えば、
UV−Aの吸収剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイ
ルメタンなどの誘導体を含むものが知られており、UV
−Bの吸収剤としては、桂皮酸、ベンゾフェノン、4−
アミノ安息香酸、サリチル酸などの誘導体を含むものが
知られている。
【0006】しかし、これらは、(a)UV−A及びU
V−Bを可能な限り吸収すること、(b)光や熱に対し
て安定であること、(c)皮膚に対する毒性、刺激性、
その他の有害作用がないこと、(d)効果が持続するこ
と、(e)化粧品基剤との相溶性に優れていることなど
の皮膚及び毛髪を保護する紫外線吸収剤として要求され
る各性質をすべて満足するものはない。従来の紫外線吸
収剤はこれらの性質の中でも特に光(紫外線)に対する
安定性が不十分であり、紫外線による分解や反応が起こ
ることが知られている〔例えば、Int.J.Cosm
etic Science,10,53(1988)参
照〕。このような紫外線吸収剤の分解は、効果の持続の
低下を招くのみならず、分解物自体又は分解物と配合物
との反応による生成物が皮膚に与える影響も無視できな
い〔フレグランス ジャーナル,84,32(198
7)〕。
【0007】一方、紫外線防御の重要性が明らかになる
につれ、日常のスキンケアでも十分に紫外線防御をする
ことが望まれ、化粧水等の水系化粧品にも紫外線吸収剤
を多量に配合することが必要となった。また、高い紫外
線防御効果を得るために化粧品処方系全体に多量の紫外
線吸収剤を配合することが望まれ、油相だけではなく水
相にも紫外線吸収剤を配合することが必要になった。
【0008】しかしながら、従来の紫外線吸収剤のほと
んどは油溶性で親水性に乏しく、水溶性基剤への混合が
困難であるため処方が制限され、水系化粧品に多量に配
合することは困難であった。
【0009】水溶性の紫外線吸収剤の報告は若干存在す
るが、未だ満足できるものはない。例えば、水溶性の紫
外線吸収剤としては、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−
5−スルフォキソニウムベンゾフェノンナトリウム塩が
知られているが、これは紫外線吸収効果があまり高くな
いうえに、塩であるために処方系のpHに影響を及ぼすと
いう欠点があった。また、特開昭59−130209号
公報にはアミノ基を有する桂皮酸誘導体が、特開昭63
−270647号公報、ドイツ特許957162号公報
及びフランス特許2504530号公報には第四級アン
モニウム塩を有する桂皮酸誘導体が、特開昭62−12
0312号公報及び特開平1−13017号公報にヒド
ロキシ桂皮酸及びその塩が、特開平4−270298号
公報及び特開平4−305592号公報に糖を有する桂
皮酸誘導体が、更に特開昭50−140642号公報に
第四級アンモニウム塩を有する4−アミノ安息香酸誘導
体が、特開昭58−109454号公報にポリグリセリ
ル基を有する4−アミノ安息香酸誘導体が提案されてい
るが、桂皮酸誘導体及び4−アミノ安息香酸誘導体には
光安定性が悪いという重大な問題がある〔例えば、Ph
otochem.Photobiol.,36,395
(1982)、Int.J.Cosmetic Sci
ence,10,53(1988)、フレグランス ジ
ャーナル,84,32(1987)参照〕。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、油溶性及び水溶性であり、かつ紫外線吸収剤として
要求される諸性質を満足する紫外線吸収物質を見出すこ
とにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み本発明
者らは鋭意研究を行った結果、下記一般式(1)で表わ
されるベンザルマロネート誘導体が油溶性及び水溶性で
あり、かつ紫外線吸収剤として優れた諸性質を有するこ
とを見出し本発明を完成した。
【0012】すなわち本発明は、次の一般式(1)
【0013】
【化9】
【0014】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
いてもよい炭化水素基を示し、R3 は同一又は異なって
いてもよいアルキル基を示し、nは0〜2の数を示し、
Aはアルキレン基を示し、Yは次の一般式(2)、
(3)又は(4)
【化10】 (式中、R4 、R5 、R6 は同一又は異なっていてもよ
いアルキル基を示し、R 7 は基-(CH2)pSO3 -又は基-(C
H2)pCO2 -(ここで、pは1〜4の数を示す)を示し、X
はハロゲン原子、アルキルスルフェート、アルキルスル
ホネート又はアリールスルホネートを示す)で示される
基を示す〕で表わされるベンザルマロネート誘導体及び
その製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化
粧料を提供するものである。
【0015】本発明のベンザルマロネート誘導体は、一
般式(1)で表わされるものであるが、式中R1 及びR
2 で示される炭化水素基としては、炭素数1〜20のも
のが好ましく、この例としては、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−
ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−デ
シル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘ
キサデシル基、n−オクタデシル基などの直鎖アルキル
基;イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、
2,2−ジメチルプロピル基、2−メチルブチル基、2
−メチルペンチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロ
ヘキシルエチル基、2−エチルヘキシル基、3,5,5
−トリメチルヘキシル基、2−プロピルヘプチル基、
3,7−ジメチルオクチル基、2−ヘキシルウンデシル
基、5,7,7−トリメチル−2−(1,3,3−トリ
メチルブチル)ヘキシル基などの分岐鎖アルキル基;シ
クロヘキシル基などの環状アルキル基;アリル基、3−
ブテニル基、10−ウンデセニル基などの直鎖アルケニ
ル基、1−メチル−2−プロペニル、3−メチル−3−
ブテニル基などの分岐鎖アルケニル基;ベンジル基など
のアルアルキル基などを挙げることができる。これらの
なかでも、直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ましく、親
水性の面から特に炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖のア
ルキル基が好ましい。なお、R1 とR2 は同一でも異な
っていてもよいが、入手の容易さから同一である場合が
好ましい。
【0016】一般式(1)中のR3 で示されるアルキル
基は、直鎖のものでも分岐鎖のものでも用いることがで
きるが、親水性の面から炭素数1〜5のものが好まし
く、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n
−ブチル基、n−ペンチル基などの直鎖アルキル基;イ
ソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、2,2−
ジメチルプロピル基、2−メチルブチル基、2−メチル
ペンチル基などの分岐鎖アルキル基などを挙げることが
できるが、入手の容易さから特にメチル基が好ましい。
【0017】一般式(1)中、Aで示されるアルキレン
基としては直鎖のものでも分岐鎖のものでも用いること
ができるが、親水性という特徴を生かすためには炭素数
が1〜6のものが好ましく、例えば次式
【0018】
【化11】
【0019】で表わされる基を挙げることができるが、
特に入手の容易さから-CH2CH2-基又は-CH2CH2CH2-基が
好ましい。
【0020】一般式(1)中のR4 及びR5 で示される
アルキル基は、直鎖のものでも分岐鎖のものでも用いる
ことができるが、親水性の面から炭素数1〜6のものが
好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基な
どの直鎖アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、
t−ブチル基、2,2−ジメチルプロピル基、2−メチ
ルブチル基、2−メチルペンチル基などの分岐鎖アルキ
ル基などを挙げることができるが、入手の容易さから特
にメチル基、エチル基、n−プロピル基が好ましい。な
お、R4 とR5は同一でも異なってもよいが、入手の容
易さから同一である場合が好ましい。
【0021】一般式(1)中のR6 で示されるアルキル
基は、直鎖のものでも分岐鎖のものでも用いることがで
きるが、親水性の面から炭素数1〜20のものが好まし
く、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n
−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘ
プチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシ
ル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基、n−
オクタデシル基などの直鎖アルキル基;イソプロピル
基、イソブチル基、t−ブチル基、2,2−ジメチルプ
ロピル基、2−メチルブチル基、2−メチルペンチル
基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル
基、2−エチルヘキシル基、3,5,5−トリメチルヘ
キシル基、2−プロピルヘプチル基、3,7−ジメチル
オクチル基、2−ヘキシルウンデシル基、5,7,7−
トリメチル−2−(1,3,3−トリメチルブチル)ヘ
キシル基などの分岐鎖アルキル基などを挙げることがで
きるが、特に炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキ
ル基が好ましい。
【0022】一般式(1)中のXは、ヨウ素、臭素、塩
素などのハロゲン;メチルスルフェート(CH3SO4)、エ
チルスルフェート(C2H5SO4)などのアルキルスルフェー
ト;メタンスルホネート(CH3SO3)などのアルキルスル
ホネート;トルエンスルホネート(CH3C6H4SO3)などの
アリールスルホネートを示す。
【0023】一般式(1)中のR7 は、-(CH2)pSO3 -
は-(CH2)pCO2 -を示し、pは1〜4の数を示すが、入手
の容易さから-(CH2)pSO3 -の場合はpが3又は4、-(C
H2)pCO2 -の場合はpが1〜4が好ましい。
【0024】nは0〜2の数を示し、芳香族環への置換
位置については制限はないが、n=0の化合物が305
〜320nmに極大吸収(λmax)を示して極めて強い紫
外線吸収作用を示すことから特に好ましく、またn=1
で-CH=C(CO2R1)(CO2R2) 基に対してメタ位、即ち3位に
置換した化合物は320〜335nmに極大吸収を示して
強い紫外線吸収作用を有し、n=2で-CH=C(CO2R1)(CO2
R2) 基に対して3位と5位に置換した化合物は305〜
320nmに極大吸収を示して強い紫外線吸収作用を有
し、これらの化合物も好ましい例として挙げることがで
きる。
【0025】本発明のベンザルマロネート誘導体(1)
は、例えば次の式に従って製造することができる。
【0026】
【化12】
【0027】〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5
A及びnは前記と同じものを示し、Y′は前記一般式
(3)又は(4)で表わされる基を示し、Zはハロゲン
原子を示す〕
【0028】すなわち、第三級アミノ基を有するハロゲ
ン化物(8)と4−ヒドロキシベンズアルデヒド誘導体
(7)とを反応させ、ベンズアルデヒド誘導体(5)と
し、これにマロネート誘導体(6)を反応せしめれば、
本発明のベンザルマロネート誘導体(1′)が得られ、
更にこれに第三級アミンの種々の四級化剤を反応せしめ
れば、本発明のベンザルマロネート誘導体(1″)が得
られる。
【0029】ハロゲン化物(8)と4−ヒドロキシベン
ズアルデヒド誘導体(7)との反応は、アルカリ金属水
素化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩
などの塩基の存在下で行えばよい。
【0030】このようにして得られた化合物(5)はマ
ロネート誘導体(6)と反応させる。ここで用いるマロ
ネート誘導体は、マロン酸とアルコールを酸触媒を用い
た通常のエステル化の条件で反応させることにより得る
ことができ、アルコールの種類を変えることにより種々
のマロネート誘導体(6)を製造することができる。
【0031】化合物(5)とマロネート誘導体(6)
は、無溶媒又は溶媒中、触媒の存在下でKnoeven
agel縮合させ、本発明のベンザルマロネート誘導体
(1′)とすることができる。ここで用いる溶媒として
は、反応を阻害しないものであれば特に限定されず、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、アルコール類などを挙げるこ
とができる。触媒としては、ピペリジン、ピリジンなど
のアミン類、酢酸、安息香酸、塩化亜鉛、四塩化チタン
などの酸、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウムなどのカ
ルボン酸塩、無水酢酸などの酸無水物などを挙げること
ができ、これらは適宜組み合わせて用いることができ
る。この反応は加熱し、かつ反応により生じた水を反応
系外に除去しながら行うことが好ましい。
【0032】更に、上記のようにして製造した一般式
(1′)の化合物の第三級アミノ基を第三級アミンの種
々の四級化剤で処理することにより、次の一般式
(1″)で表わされる本発明の第四級アンモニウム基を
有するベンザルマロネート誘導体を得ることができる。
ここで用いる四級化剤としては、例えばハロゲン化アル
キル、アルキルスルフェート、アルキルスルホネート、
アリールスルホネート、アルキル置換アリールスルホネ
ート、スルトン、ハロゲン化カルボン酸及びその塩等を
挙げることができる。この反応は、通常の第三級アミン
の四級化に用いる条件、すなわち、無溶媒又は溶媒中、
一般式(1′)の化合物と四級化剤とを約1:1のモル
比で混合し、室温又は高温で反応させることにより行う
ことができる。なお、アニオンX-は、アニオン変換に
より他のアニオンX-に変換することができる。
【0033】本発明の紫外線吸収剤は、上記の如くして
得られたベンザルマロネート誘導体(1)をそのまま用
いたものであってもよいが、これを適当な担体に担持さ
せたものが好ましい。ここで用いる担体は、ベンザルマ
ロネート誘導体(1)に対し不活性なものであれば特に
制限されず、固体、液体、乳状体、ゲル等いずれの形態
のものでもよい。具体的には、水、アルコール、油脂
(炭化水素オイル、フッ素系油剤、脂肪酸エステル、高
級アルコール、シリコーンオイルなど)、澱粉、タルク
などの微粉末、エアゾール噴射剤として使用される低沸
点炭化水素又はハロゲン化炭化水素などを挙げることが
できる。
【0034】また、本発明の紫外線吸収剤には、他の紫
外線吸収剤を配合することもできる。この他の紫外線吸
収剤としては、p−メチルベンジリデン−D,L−ショ
ウノウ又はそのスルホン酸ナトリウム塩、2−フェニル
ベンズイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩、
3,4−ジメチルフェニルグリオキシル酸ナトリウム
塩、4−フェニルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾ
フェノン−2′−カルボン酸イソオクチルエステル、4
−メトキシ桂皮酸エステル、2−フェニル−5−メチル
ベンズオキサゾール、4−ジメチルアミノ安息香酸エス
テル、4−メトキシ−2′−カルボキシジベンゾイルメ
タン、4−メトキシ−4′−t−ブチルジベンゾイルメ
タン、4−イソプロピルジベンゾイルメタン、1−
(3,4−ジメトキシフェニル)−4,4−ジメチル−
1,3−ペンタンジオン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン又はジベンジリデンカンファー類など
を挙げることができる。更に、本発明の紫外線吸収剤に
は、必要に応じて他の成分、例えば防腐剤、香料、着色
料、界面活性剤を配合することができる。
【0035】本発明のベンザルマロネート誘導体(1)
は、皮膚及び毛髪の紫外線防御に用いられるのみなら
ず、プラスチック等の紫外線により影響を受ける物質に
配合する紫外線防御剤として使用することもできる。
【0036】本発明の化粧料は、ベンザルマロネート誘
導体(1)を公知の化粧料基剤、各種配合成分とともに
配合することにより得ることができる。化粧料の剤型は
特に制限されるものではなく、クリーム、化粧水、溶
液、油剤、スプレー、スティック、乳液、ファンデーシ
ョン、軟膏、シャンプー、リンスなどの所望の剤型にす
ることができる。
【0037】公知の化粧料基剤としては、固体状又は液
状パラフィン、クリスタルオイル、セレシン、オゾケラ
イト、モンタンロウなどの炭化水素類;オリーブ、地ロ
ウ、カルナウバロウ、ラノリン、鯨ロウなどの植物もし
くは動物性油脂及びロウ;ステアリン酸、パルミチン
酸、オレイン酸、グリセリンモノステアリン酸エステ
ル、グリセリンジステアリン酸エステル、グリセリンモ
ノオレイン酸エステル、イソプロピルミリスチン酸エス
テル、イソプロピルステアリン酸エステル、ブチルステ
アリン酸エステルなどの脂肪酸及びそれらのエステル
類;メチルポリシロキサン、メチルポリシクロシロキサ
ン、メチルフェニルポリシロキサン、シリコーンポリエ
ーテルコポリマーなどのシリコーン類;パーフルオロポ
リエーテル、フッ素変性シリコーンなどのフッ素系油
剤;エタノール、イソプロピルアルコール、セチルアル
コール、ステアリルアルコール、パルミチルアルコー
ル、ヘキシルドデシルアルコールなどのアルコール類;
グリコール、グリセリン、ソルビトールなどの保湿作用
を有する多価アルコール類などを挙げることができる。
【0038】粉体基剤としては、マイカ、タルク、セリ
サイト、カオリン、ナイロンパウダー、ポリメチルシル
セスキオキサン、硫酸バリウムなどの体質顔料;赤色2
02号、226号、黄色4号、アルミニウムレーキなど
の有機顔料;酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄などの紫外
線散乱剤などを用いることができる。これらのうち酸化
チタン、酸化亜鉛としては、粒子径が100nm以下の微
粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛、特開平1−1759
21号公報の特許請求の範囲の欄に記載の薄片状酸化亜
鉛を用いることができる。また、これらの体質顔料、有
機顔料、紫外線散乱剤は、公知の方法でメチルハイドロ
ジェンポリシロキサンなどのシリコーン、パーフルオロ
アルキルリン酸エステルなどのフッ素化合物、金属石
鹸、N−アシルグルタル酸、シリカ、アルミナ、シリカ
・アルミナなどで表面処理したものを用いることもでき
る。
【0039】更に本発明の化粧料には、上記した公知の
紫外線吸収剤、W/O又はO/W型乳化剤、各種シリコ
ーンオイルを乳化させるためのポリエーテル変性シリコ
ーン、ポリエーテル・アルキル変性シリコーン、グリセ
リルエーテル変性シリコーン、更にメチルセルロース、
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ
アクリル酸、トラガント、寒天、ゼラチンなどの増粘
剤、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、各種薬効成
分、生理的に許容できる着色剤などを配合することもで
きる。
【0040】化粧料中における式(1)で表わされるベ
ンザルマロネート誘導体の含有割合は化粧料の種類に応
じて適宜決定することができるが、一般には0.1〜2
0重量%が好ましく、0.5〜10重量%が特に好まし
い。
【0041】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらにより制限されるものではな
い。
【0042】実施例1 下記に示す方法により、次式
【0043】
【化13】
【0044】で表わされる化合物(1a)を製造した。
まず、500ml2口フラスコに4−(2−ジメチルアミ
ノエトキシ)−ベンズアルデヒド4.48g(23.2
mmol)を入れ、これをベンゼン150mlに溶解させた。
次に、ジメチル マロネート3.37g(25.5mmo
l)、ピペリジン0.20g(2.32mmol)及び酢酸
0.083g(1.39mmol)を加え、ディーン スタ
ーク(Dean Stark)により生成する水を共沸
脱水しながら攪拌下で1日加熱還流した。冷却後、反応
混合物を減圧濃縮して淡黄色油状物を得た。この油状物
を、クロロホルム+メタノール(50:1)を展開溶媒
として用いてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、目的化合物(1a)7.09g(収率99
%)を得た。
【0045】融点:50.5℃ IR(νKBr,cm-1):2980、2875、1730、1
625、1600、1515、1470、1445、1
265、1220、1200、1165、1070、1
025、940、830、580
【0046】1H-NMR(CD3OD,δppm):2.34(6H,
s),2.78(2H,t,J=5.4Hz),3.8
1(3H,s),3.84(3H,s),4.15(2
H,t,J=5.4Hz),7.00(2H,d,J=
8.9Hz),7.42(2H,d,J=8.9H
z),7.69(1H,s)
【0047】実施例2 下記に示す方法により、次式
【0048】
【化14】
【0049】で表わされる化合物(1b)を製造した。
製造方法は、4−(2−ジメチルアミノエトキシ)−ベ
ンズアルデヒド4.00g(20.7mmol)、ジ(2−
エチルヘキシル)マロネート6.80g(20.7mmo
l)、ピペリジン0.18g(2.07mmol)、酢酸
0.074g(1.24mmol)及びベンゼン100mlを
用いたほかは、実施例1と同様にした。このようにし
て、目的化合物(1b)10.40g(収率100%)
を無色透明油状物として得た。
【0050】IR(νneat,cm-1):2965、2872、
1730、1605、1575、1510、1465、
1430、1380、1305、1260、1205、
1175、1125、1060、1030、965、9
10、830
【0051】1H-NMR(CDCl3,δppm):0.75−1.5
0(12H,m),1.10−1.50(16H,
m),1.50−1.70(2H,m),2.33(6
H,s),2.73(2H,t,J=5.7Hz),
4.08(2H,t,J=5.7Hz),4.10−
4.25(4H,m),6.90(2H,d,J=8.
8Hz),7.40(2H,d,J=8.8Hz),
7.65(1H,s)
【0052】実施例3 下記に示す方法により、次式
【0053】
【化15】
【0054】で表わされる化合物(1c)を製造した。
まず、50ml2口フラスコにヨウ化メチル462.7mg
(3.26mmol)を入れ、テトラヒドロフラン10mlに
溶解させた。次に、実施例1で製造した化合物(1a)
500.0mg(1.63mmol)のテトラヒドロフラン1
0ml溶液を窒素雰囲気下、室温で10分間かけて滴下し
て加え、更に室温で3時間攪拌した。この間に、白色結
晶が析出し、白濁溶液となった。反応混合物を減圧濃縮
して、目的化合物(1c)732.0mg(収率100
%)を白色結晶として得た。
【0055】融点:143.0℃ IR(νKBr,cm-1):3455、3005、2955、1
730、1605、1520、1480、1440、1
380、1305、1260、1225、1180、1
065、980、830
【0056】1H-NMR(CDCl3,δppm):3.57(9H,
s),3.84(3H,s),3.87(3H,s),
4.20−4.35(2H,m),4.45−4.60
(2H,m),6.97(2H,d,J=8.8H
z),7.41(2H,d,J=8.8Hz)
【0057】実施例4 下記に示す方法により、次式
【0058】
【化16】
【0059】で表わされる化合物(1d)を製造した。
製造方法は、実施例2で製造した化合物(1b)50
0.0mg(0.993mmol)、ヨウ化メチル282.5
mg(1.99mmol)及びテトラヒドロフラン12mlを用
いたほかは、実施例3と同様にした。このようにして、
目的化合物(1d)640.8mg(収率100%)を白
色シロップとして得た。
【0060】IR(νKBr,cm-1):3455、3010、
2965、2935、1725、1605、1515、
1470、1400、1260、1205、1180、
1065、960、875
【0061】1H-NMR(CDCl3,δppm):0.75−1.0
5(12H,m),1.10−1.50(16H,
m),1.50−1.75(2H,m),3.59(9
H,s),4.05−4.25(4H,m),4.25
−4.50(2H,m),4.50−4.65(2H,
m),6.94(2H,d,J=8.8Hz),7.4
4(2H,d,J=8.8Hz),7.64(1H,
s)
【0062】実施例5 下記に示す方法により、次式
【0063】
【化17】
【0064】で表わされる化合物(1e)を製造した。
まず、100ml2口フラスコに実施例1で製造した化合
物(1a)400.0mg(1.30mmol)を入れ、イソ
プロパノール25mlに溶解させた。次に、1−ブロモオ
クタン251.3mg(1.30mmol)を加え、窒素雰囲
気下で4日間加熱還流した。冷却後、反応混合物を減圧
濃縮して淡黄色シロップを得た。このシロップをクロロ
ホルロ+メタノール(10:1)を展開溶媒として用い
てシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
目的化合物(1e)344.0mg(収率53%)を無色
透明シロップとして得た。
【0065】IR(νneat,cm-1):3420、2930、
2860、1730、1630、1605、1515、
1470、1440、1320、1305、1260、
1225、1180、1070、975、830
【0066】1H-NMR(CDCl3,δppm):0.88(3H,
br t,J=6.5Hz),1.05−1.55(1
0H,m),1.70−2.00(2H,br m),
3.50(6H,s),3.50−3.70(2H,
m),3.84(3H,s),3.87(3H,s),
4.20−4.40(2H,m),4.45−4.65
(2H,m),6.94(2H,d,J=8.8H
z),7.41(2H,d,J=8.8Hz),7.7
0(1H,s)
【0067】実施例6 下記に示す方法により、次式
【0068】
【化18】
【0069】で表わされる化合物(1f)を製造した。
製造方法は、実施例2で製造した化合物(1b)60
0.0mg(1.19mmol)、1−ブロモヘキサン19
6.6mg(1.19mmol)及びイソプロパノール25ml
を用いたほかは、実施例5と同様にした。このようにし
て、目的化合物(1f)526.0mg(収率66%)を
無色透明油状物として得た。
【0070】IR(νneat,cm-1):3420、2930、
2865、1725、1630、1515、1465、
1430、1395、1385、1320、1250、
1210、1180、1065、950、830
【0071】1H-NMR(CDCl3,δppm):0.75−1.0
5(15H,m),1.05−1.55(22H,
m),1.55−1.90(4H,m),3.51(6
H,s),3.55−3.85(2H,m),4.10
−4.25(4H,m),4.25−4.40(2H,
m),4.45−4.65(2H,m),6.91(2
H,d,J=8.8Hz),7.43(2H,d,J=
8.8Hz),7.64(1H,s)
【0072】実施例7 下記に示す方法により、次式
【0073】
【化19】
【0074】で表わされる化合物(1g)を製造した。
まず、50ml2口フラスコに実施例1で製造した化合物
(1a)400.0mg(1.30mmol)を入れ、酢酸エ
チル20mlに溶解させた。次に、ジメチルスルフェート
164.2mg(1.30mmol)を加え、窒素雰囲気下で
3時間加熱還流した。この間に、白色結晶が析出し、白
濁溶液となった。冷却後、反応混合物を濾過し、白色結
晶を得た。この結晶をトルエン+メタノールを用いて再
結晶し、目的化合物(1g)466.8mg(収率83
%)を白色結晶として得た。
【0075】融点:133.5℃ IR(νKBr,cm-1):3455、3040、2955、1
730、1630、1605、1515、1465、1
380、1305、1260、1220、1175、1
060、1010、835、750
【0076】1H-NMR(CD3OD,δppm):3.27(9H,
s),3.81(3H,s),3.84(3H,s),
3.80−3.95(2H,m),4.45−4.65
(2H,m),7.07(2H,d,J=8.8H
z),7.46(2H,d,J=8.8Hz),7.7
1(1H,s)
【0077】実施例8 下記に示す方法により、次式
【0078】
【化20】
【0079】で表わされる化合物(1h)を製造した。
製造方法は、実施例2で製造した化合物(1b)50
0.0mg(0.993mmol)、ジメチルスルフェート1
25.2mg(0.993mmol)及び酢酸エチル15mlを
用いたほかは実施例7と同様にした。このようにして、
目的化合物(1h)562.9mg(収率90%)を白色
シロップとして得た。
【0080】IR(νneat,cm-1):3460、2965、
2932、1725、1610、1515、1470、
1255、1210、1180、1055、835
【0081】1H-NMR(CDCl3,δppm):0.75−1.1
0(12H,m),1.10−1.50(16H,
m),1.50−1.75(2H,m),3.34(9
H,s),3.85−4.15(2H,m),4.05
−4.30(4H,m),4.35−4.65(2H,
m),6.94(2H,d,J=8.7Hz),7.4
0(2H,d,J=8.7Hz),7.62(1H,
s)
【0082】実施例9 下記に示す方法により、次式
【0083】
【化21】
【0084】で表わされる化合物(1i)を製造した。
まず、50ml2口フラスコに実施例1で製造した化合物
(1a)300.0mg(0.976mmol)を入れ、トル
エン15mlに溶解させた。次に、プロパンスルトン11
9.2mg(0.976mmol)を加え、窒素雰囲気下で7
日間加熱還流した。この間に、白色結晶が析出し、白濁
溶液となった。冷却後、反応混合物を濾過し、白色結晶
を得た。この結晶をn−ヘキサン+メタノールを用いて
再結晶し、目的化合物(1i)341.3mg(収率81
%)を白色結晶として得た。
【0085】融点:226.0℃ IR(νKBr,cm-1):3050、2960、1730、1
605、1515、1440、1265、1220、1
180、1070、1040、940、840
【0086】1H-NMR(CD3OD,δppm):2.20−2.4
0(2H,m),2.88(2H,t,J=6.9H
z),3.23(6H,s),3.55−3.75(2
H,m),3.75−3.95(2H,m),3.81
(3H,s),3.83(3H,s),4.45−4.
65(2H,br m),7.09(2H,d,J=
8.8Hz),7.46(2H,d,J=8.8H
z),7.70(1H,s)
【0087】実施例10 下記に示す方法により、次式
【0088】
【化22】
【0089】で表わされる化合物(1j)を製造した。
製造方法は、実施例2で製造した化合物(1b)60
0.0mg(1.19mmol)、プロパンスルトン145.
5mg(1.19mmol)及びトルエン18mlを用いたほか
は、実施例9と同様にした。このようにして、目的化合
物(1j)462.0mg(収率62%)を白色結晶とし
て得た。
【0090】融点:155.0℃ IR(νKBr,cm-1):3465、2965、2935、1
725、1605、1515、1465、1260、1
205、1180、1040、950
【0091】1H-NMR(CD3Cl,δppm):0.75−1.1
0(12H,m),1.10−1.50(16H,
m),1.50−1.80(2H,m),2.15−
2.60(2H,m),2.70−3.00(2H,
m),3.05−3.45(2H,m),3.27(6
H,s),3.65−4.05(4H,m),4.05
−4.30(4H,m),4.35−4.60(2H,
m),6.95(2H,d,J=8.8Hz),7.4
0(2H,d,J=8.8Hz),7.61(1H,
s)
【0092】試験例1 実施例1〜10で得られた本発明化合物(1a)〜(1
j)からなる紫外線吸収剤と、現在汎用されている紫外
線吸収剤である2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノン(比較例1)及び4−メトキシ桂皮酸2−エチル
ヘキシル(比較例2)を用い、下記の方法により紫外線
吸収効果(吸光度)を測定した。結果を表1に示す。
【0093】(測定方法)各紫外線吸収剤をエタノール
(99.5%試薬特級)に溶解して、2.5×10-5mo
l/l濃度の溶液を調製し、これを石英セル(1×1c
m)に入れたのち、自記分光光度計(日立社製U−34
10型)により吸光度を測定した。
【0094】
【表1】
【0095】表1から明らかなとおり、本発明の化合物
からなる紫外線吸収剤は、比較例1及び2と比べても同
等又はそれ以上の吸収効果を示した。
【0096】試験例2 実施例1、3、5、9及び10で得られた本発明化合物
(1a)、(1c)、(1e)、(1i)及び(1j)
と、4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル(比較例
2)及び同じく現在汎用されている紫外線吸収剤である
4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル(比較
例3)を用い、下記の方法により光に対する安定性を測
定した。結果を表2に示す。
【0097】(測定方法)各紫外線吸収剤をエタノール
(99.5%試薬特級)に溶解して、1.0×10-4mo
l/l濃度の溶液を調製し、これを石英セル(1×1c
m)に入れたのち、自記分光光度計(日立社製U−34
10型)により吸光度を測定した。次に、この石英セル
に入れた各溶液に、キセノン耐光試験機(Heraeu
s社製;SUNTEST CPS型)を用いて2時間又
は6時間、夏期の太陽光に近似した波長及び強度の光を
照射後、再び前記と同様にして吸光度を測定した。これ
らの吸光度の値から、紫外線吸収効果の残存率を求め、
光安定性を評価した。なお、残存率は、光照射後のλ
maxにおける吸光度の値を光照射前のλmaxにおける吸光
度の値で除したものの百分率である。
【0098】
【表2】
【0099】表2から明らかなとおり、本発明の紫外線
吸収剤は比較例の紫外線吸収剤に比べて、2時間又は6
時間の光照射後においても高い紫外線吸収効果を維持し
ており、また時間の経過による吸収効果の低下も非常に
小さかった。
【0100】試験例3 実施例1〜10で得られた本発明化合物(1a)〜(1
j)の紫外線吸収剤と4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘ
キシル(比較例2)及びポリマー用紫外線吸収剤として
用いられているジメチル 4−メトキシベンザルマロネ
ート(比較例4)の水溶性基剤への溶解性を評価した。
【0101】(評価方法)各紫外線吸収剤を、エタノー
ル−水(体積比1:1)混合溶液に6重量%添加した時
の溶解性を観察した。結果を表3に示す。
【0102】
【表3】
【0103】表3から明らかなとおり、本発明化合物は
比較例の紫外線吸収剤に比べて、水溶性基剤に対する溶
解性に優れるものが多かった。
【0104】実施例11 常法により、下記組成の化粧水を製造した。
【0105】
【表4】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 2.0 ポリオキシエチレン(23)ラウリルエーテル 4.0 エタノール 10.0 グリセリン 3.0 ジプロピレングリコール 7.0 乳酸 0.05 乳酸ナトリウム 0.12 メチルパラベン 0.1 香料 適量 色素 微量水 残量 計 100.0
【0106】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成で化粧水を製造した。
【0107】実施例12 常法により、下記組成のパウダーファンデーションを製
造した。
【0108】
【表5】 (組成) (配合割合;重量%) マイカ 残量 タルク 20 酸化チタン 10 ベンガラ 1 黄酸化鉄 2 黒酸化鉄 1 流動パラフィン 10 ミツロウ 2 防腐剤 適量 本発明化合物(1a) 5香料 適量 計 100.0
【0109】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でパウダーファンデーションを製造した。
【0110】実施例13 常法により、下記組成のクリーム状ファンデーションを
製造した。
【0111】
【表6】 (組成) (配合割合;重量%) ステアリン酸 5 親油型モノステアリン酸グリセリン 3 セトステアリルアルコール 1 モノラウリン酸プロピレングリコール 3 スクワラン 7 オリーブ油 8 精製水 残量 防腐剤 適量 トリエタノールアミン 1.2 ソルビット 3 酸化チタン 10 タルク 5 着色顔料 適量 本発明化合物(1a) 7香料 適量 計 100.0
【0112】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でクリーム状ファンデーションを製造し
た。
【0113】実施例14 常法により、下記組成の油性ファンデーションを製造し
た。
【0114】
【表7】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 5 タルク 残量 カオリン 12 酸化チタン 13 ベンガラ 1.5 黄酸化鉄 20 黒酸化鉄 0.5 流動パラフィン 15 パルミチン酸イソプロピル 10 ラノリンアルコール 3 ミクロクリスタリンワックス 7 オゾケライト 8 防腐剤 適量香料 適量 計 100.0
【0115】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成で油性ファンデーションを製造した。
【0116】実施例15 常法により、下記組成のO/W型クリームを製造した。
【0117】
【表8】 (組成) (配合割合;重量%) ミツロウ 6 セチルアルコール 5 水添ラノリン 7 スクワラン 33 脂肪酸グリセリン 3.5 新油型モノステアリン酸グリセリン 2 ポリオキシエチレン(EO20)ソルビタン モノラウリン酸エステル 2 本発明化合物(1a) 6 香料 微量 防腐剤 適量 酸化防止剤 適量精製水 残量 計 100.0
【0118】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成O/W型クリームを製造した。
【0119】実施例16 常法により、下記組成のO/W型クリームを製造した。
【0120】
【表9】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 5 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 2 シリコーン処理酸化チタン 1 親油型モノオレイン酸グリセリン 2 ポリオキシエチレン(EO20)ソルビタンモノ ラウリン酸エステル 1 スクワラン 10 シリコーン処理タルク 5 グリセリン 5 防腐剤 適量 香料 適量 酸化防止剤 適量精製水 残量 計 100.0
【0121】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でO/W型クリームを製造した。
【0122】実施例17 常法により、下記組成のW/O型クリームを製造した。
【0123】
【表10】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 4 シリコーン処理薄片状酸化亜鉛 2 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 4 ジメチルポリシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン) シロキサン共重合体 3 メチルポリシロキサン 10 メチルポリシクロポリシロキサン 10 スクワラン 4 硫酸マグネシウム 0.5 グリセリン 7 香料 微量 防腐剤 適量 酸化防止剤 適量精製水 残量 計 100.0
【0124】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でW/O型クリームを製造した。
【0125】実施例18 常法により、下記組成のO/W型乳液を製造した。
【0126】
【表11】 (組成) (配合割合;重量%) 本発明化合物(1a) 4 シリコーン処理酸化チタン 1 4−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 4 ソルビタンセスキオレイン酸エステル 0.8 ポリオキシエチレン(EO20)オレイルエーテル 1.2 スクワラン 5 ワセリン 2 ミツロウ 0.5 シリコーン処理タルク 5 プロピレングリコール 5 エタノール 5 カルボキシビニルポリマー10%水溶液 20 水酸化カリウム 0.1精製水 残量 計 100.0
【0127】更に、本発明化合物(1a)の代わりに本
発明化合物(1b)〜(1j)をそれぞれ使用する以外
は同様の組成でO/W型クリームを製造した。
【0128】
【発明の効果】本発明のアミノ基又は第四級アンモニウ
ム基を有するベンザルマロネート誘導体(1)は、優れ
た紫外線吸収作用を有しており、光に対しても安定で、
ヒトが日常的に浴びる量の太陽光によってはほとんど分
解しない。このため、分解生成物等による皮膚への影響
もほとんどない。また、毒性、刺激性などの問題もな
い。更に、他の化粧品基剤、特に水溶性基剤との親和性
にも優れている。よって、本発明のアミノ基又は第四級
アンモニウム基を有するベンザルマロネート誘導体を含
有する紫外線吸収剤及び化粧料は、いずれも優れた使用
感及び優れた紫外線防御作用の持続性を発揮することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芋川 玄爾 栃木県宇都宮市氷室町1022−89

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なっていてもよい炭
    化水素基を示し、R3 は同一又は異なっていてもよいア
    ルキル基を示し、nは0〜2の数を示し、Aはアルキレ
    ン基を示し、Yは次の一般式(2)、(3)又は(4) 【化2】 (式中、R4 、R5 、R6 は同一又は異なっていてもよ
    いアルキル基を示し、R 7 は基-(CH2)pSO3 -又は基-(C
    H2)pCO2 -(ここで、pは1〜4の数を示す)を示し、X
    はハロゲン原子、アルキルスルフェート、アルキルスル
    ホネート又はアリールスルホネートを示す)で示される
    基を示す〕で表わされるベンザルマロネート誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式(1)中、nが0である請求項1
    記載のベンザルマロネート誘導体。
  3. 【請求項3】 次の一般式(5) 【化3】 〔式中、R3 、R4 及びR5 は同一又は異なっていても
    よいアルキル基を示し、Aはアルキレン基を示し、nは
    0〜2の数を示す〕で表わされるベンズアルデヒド誘導
    体と次の一般式(6) 【化4】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって炭化水素基を
    示す〕で表わされるマロネート誘導体を反応させること
    を特徴とする次の一般式(1′) 【化5】 〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A及びnは前
    記と同じものを示す〕で表わされるベンザルマロネート
    誘導体の製造法。
  4. 【請求項4】 次の一般式(1′) 【化6】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なっていてもよい炭
    化水素基を示し、R3 、R4 及びR5 は同一又は異なっ
    ていてもよいアルキル基を示し、Aはアルキレン基を示
    し、nは0〜2の数を示す〕で表わされるベンザルマロ
    ネート誘導体に第三級アミノ基の四級化剤を反応させる
    ことを特徴とする次の一般式(1″) 【化7】 〔式中、R1 、R2 、R3 、A及びnは前記と同じもの
    を示し、Y′は次の一般式(3)又は(4) 【化8】 (式中、R4 、R5 、R6 は同一又は異なっていてもよ
    いアルキル基を示し、R 7 は基-(CH2)pSO3 -又は基-(C
    H2)pCO2 -(ここで、pは1〜4の数を示す)を示し、X
    はハロゲン原子、アルキルスルフェート、アルキルスル
    ホネート又はアリールスルホネートを示す)で示される
    基を示す〕で表わされるベンザルマロネート誘導体の製
    造法。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2記載のベンザルマロネー
    ト誘導体を含有する紫外線吸収剤。
  6. 【請求項6】 請求項1又は2記載のベンザルマロネー
    ト誘導体を含有する化粧料。
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