JPH07333591A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子およびその製造方法Info
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- JPH07333591A JPH07333591A JP6330325A JP33032594A JPH07333591A JP H07333591 A JPH07333591 A JP H07333591A JP 6330325 A JP6330325 A JP 6330325A JP 33032594 A JP33032594 A JP 33032594A JP H07333591 A JPH07333591 A JP H07333591A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】画像の識別・視認精度が向上され、均一な色相
ないしコントラストが維持されている表示品質の高い液
晶表示素子およびその製造方法を提供する。 【構成】前面板上にパータン形成された電極間に、該パ
ターン電極と略同一の高さに平滑化膜が形成されること
によって、平坦化された前記電極及び前記平滑化膜上に
配向膜が平坦に形成されている液晶表示素子及びその製
造方法。
ないしコントラストが維持されている表示品質の高い液
晶表示素子およびその製造方法を提供する。 【構成】前面板上にパータン形成された電極間に、該パ
ターン電極と略同一の高さに平滑化膜が形成されること
によって、平坦化された前記電極及び前記平滑化膜上に
配向膜が平坦に形成されている液晶表示素子及びその製
造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、配向膜の平滑化のため
の平滑化膜を設けた液晶表示素子及びその製造方法に関
する。
の平滑化膜を設けた液晶表示素子及びその製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】現代は画像情報時代と言われ、情報伝達
媒体である画像表示装置に大きな関心が寄せられてい
る。このため、従来の陰極線管を利用した表示装置に代
わり、各種平板形表示装置が開発され急速に普及し始め
ている。
媒体である画像表示装置に大きな関心が寄せられてい
る。このため、従来の陰極線管を利用した表示装置に代
わり、各種平板形表示装置が開発され急速に普及し始め
ている。
【０００３】その中でも、特に薄形、軽量、低電圧駆動
及び、低消費電力などの特徴を有する液晶表示装置の技
術進展及び生産は顕著であり、ラップトップ型、ノート
型及びポケットコンピュ−タ−の画像表示装置以外に
も、カラーテレビ、さらには車両積載用テレビの画像表
示装置として使用され、液晶表示装置の用途は拡大する
一方である。
及び、低消費電力などの特徴を有する液晶表示装置の技
術進展及び生産は顕著であり、ラップトップ型、ノート
型及びポケットコンピュ−タ−の画像表示装置以外に
も、カラーテレビ、さらには車両積載用テレビの画像表
示装置として使用され、液晶表示装置の用途は拡大する
一方である。
【０００４】このような液晶表示素子は、光学異方性を
持つ物質が電界上に置かれる時、光を配向（偏光）させ
る性質を利用して画像表示をさせるものであり、従来の
液晶表示素子の構造は図１に示すとおりである。
持つ物質が電界上に置かれる時、光を配向（偏光）させ
る性質を利用して画像表示をさせるものであり、従来の
液晶表示素子の構造は図１に示すとおりである。
【０００５】図１を参照して、従来の液晶表示素子は次
のような構造をとっていた。即ち、互いに平行に置かれ
た前面板１ａと背面板１ｂは、それらの縁部に塗布され
たシ−リング材５により接合されて閉鎖空間を形成し、
この閉鎖空間に液晶が封入されている。この前面板１ａ
の内面（背面板１ｂに対抗する面）上に、画像表示の態
様に応じた所定のパターン状に透明電極２ａが複数形成
され、これら透明電極上に、順に絶縁膜３ａ及び配向膜
４ａが形成されている。一方、背面板１ｂ上にも、順に
透明電極２ｂ、絶縁膜３ｂ、及び配向膜４ｂが形成され
ている。これらの配向膜４ａ、４ｂは液晶の分子を所定
の方向に配向させる。さらに、前面板１ａと背面板１ｂ
との間の液晶が封入されている閉鎖空間には、前面板１
ａと背面板１ｂの間を所定距離に維持するためにスペー
サ６が設置されている。
のような構造をとっていた。即ち、互いに平行に置かれ
た前面板１ａと背面板１ｂは、それらの縁部に塗布され
たシ−リング材５により接合されて閉鎖空間を形成し、
この閉鎖空間に液晶が封入されている。この前面板１ａ
の内面（背面板１ｂに対抗する面）上に、画像表示の態
様に応じた所定のパターン状に透明電極２ａが複数形成
され、これら透明電極上に、順に絶縁膜３ａ及び配向膜
４ａが形成されている。一方、背面板１ｂ上にも、順に
透明電極２ｂ、絶縁膜３ｂ、及び配向膜４ｂが形成され
ている。これらの配向膜４ａ、４ｂは液晶の分子を所定
の方向に配向させる。さらに、前面板１ａと背面板１ｂ
との間の液晶が封入されている閉鎖空間には、前面板１
ａと背面板１ｂの間を所定距離に維持するためにスペー
サ６が設置されている。
【０００６】透明電極２ａ、２ｂの上部に積層される配
向膜４ａ、４ｂは、傾斜蒸着、スピンコーティング、ス
パッタリング又はオフセットプリント方式により形成さ
れる。積層された配向は所定の温度に熱処理された後、
液晶分子を所定の方向に配向させるように相互対向され
る其々の配向膜表面を所定の角度にラビング（ｒｕｂｂ
ｉｎｇ）される。
向膜４ａ、４ｂは、傾斜蒸着、スピンコーティング、ス
パッタリング又はオフセットプリント方式により形成さ
れる。積層された配向は所定の温度に熱処理された後、
液晶分子を所定の方向に配向させるように相互対向され
る其々の配向膜表面を所定の角度にラビング（ｒｕｂｂ
ｉｎｇ）される。
【０００７】
【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１
に示すような従来の液晶表示素子及びその製造方法にお
いては、以下のような問題点を有していた。
に示すような従来の液晶表示素子及びその製造方法にお
いては、以下のような問題点を有していた。
【０００８】図２は、前面板１ａ側に積層された配向膜
の段差を示す第１図の部分拡大図である。
の段差を示す第１図の部分拡大図である。
【０００９】図２を参照して、前面板１ａ側では、透明
電極がパターン状（電極部と無電極部）に形成されてい
るので、透明電極間に段差が存在する。即ち、電極パタ
−ンがある部分と電極パタ−ンが無い部分に端差（段
差）が存在するので、電極パターン（透明電極１ａ）上
に積層される絶縁膜、配向膜等を全体として平滑に形成
することが困難であり、配向膜等は凹部を有していた。
電極がパターン状（電極部と無電極部）に形成されてい
るので、透明電極間に段差が存在する。即ち、電極パタ
−ンがある部分と電極パタ−ンが無い部分に端差（段
差）が存在するので、電極パターン（透明電極１ａ）上
に積層される絶縁膜、配向膜等を全体として平滑に形成
することが困難であり、配向膜等は凹部を有していた。
【００１０】液晶表示素子中に封入された液晶の配列状
態（方向）は、配向膜４ａ、４ｂの状態によって左右さ
れるので、配向膜４ａに凹部が存在すると、凹部及び凹
部周辺の液晶の配列は、他の平滑に形成された配向膜上
の液晶の配列方向とは異なる方向に向き、表示のバラツ
キ、表示品質の劣化を招来してしまう。
態（方向）は、配向膜４ａ、４ｂの状態によって左右さ
れるので、配向膜４ａに凹部が存在すると、凹部及び凹
部周辺の液晶の配列は、他の平滑に形成された配向膜上
の液晶の配列方向とは異なる方向に向き、表示のバラツ
キ、表示品質の劣化を招来してしまう。
【００１１】このようなパターン電極間の端差によって
生じる問題は、特に、画像表示装置の表示品質の高品位
化要求の趨勢に伴い、深刻な問題となってきている。そ
の理由は、一つの液晶表示素子が大面積化および精密に
なることに伴い、画素の数が増大し高密度化されること
によって、電極パターンは微細になり、即ち端差の数が
増大するためである。１枚の液晶表示素子中で表示品質
のバラツキを生じないためには、配向膜は益々厳格な平
坦化を要求される。
生じる問題は、特に、画像表示装置の表示品質の高品位
化要求の趨勢に伴い、深刻な問題となってきている。そ
の理由は、一つの液晶表示素子が大面積化および精密に
なることに伴い、画素の数が増大し高密度化されること
によって、電極パターンは微細になり、即ち端差の数が
増大するためである。１枚の液晶表示素子中で表示品質
のバラツキを生じないためには、配向膜は益々厳格な平
坦化を要求される。
【００１２】従って、本発明は前記問題点を解決し、画
像の識別・視認精度が向上され、均一な色相ないしコン
トラストが維持されている表示品質の高い液晶表示素子
およびその製造方法を提供することを目的とする。
像の識別・視認精度が向上され、均一な色相ないしコン
トラストが維持されている表示品質の高い液晶表示素子
およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】特に、コントラスト及び輝度のバラツキの
非常に少ない液晶表示素子及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
非常に少ない液晶表示素子及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【００１４】特に、液晶表示素子内の全面に亘って配向
膜を平滑化した液晶表示素子及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
膜を平滑化した液晶表示素子及びその製造方法を提供す
ることを目的とする。
【００１５】前記問題点を解決するために、本発明の液
晶表示素子は、前面板上にパータン形成された電極上
に、少なくとも配向膜が積層され、該前面板および背面
板の間に液晶が封入されている液晶表示素子であって、
パターン形成された電極間に、該電極と略同一の高さに
平滑化膜が形成され、前記電極及び前記平滑化膜上に前
記配向膜が形成されている。
晶表示素子は、前面板上にパータン形成された電極上
に、少なくとも配向膜が積層され、該前面板および背面
板の間に液晶が封入されている液晶表示素子であって、
パターン形成された電極間に、該電極と略同一の高さに
平滑化膜が形成され、前記電極及び前記平滑化膜上に前
記配向膜が形成されている。
【００１６】前記問題点を解決するために、本発明の液
晶表示素子の製造方法は、前面板および背面板の内面に
パタ−ン形成された電極、及び少なくとも配向膜を順次
に積層形成する液晶表示素子の製造方法であって、前記
電極間に、平滑化膜を該電極高さと略同一高さに形成す
る平滑化膜形成工程と、前記電極及び前記平滑化膜上に
配向膜を形成する配向膜形成工程とを含む。
晶表示素子の製造方法は、前面板および背面板の内面に
パタ−ン形成された電極、及び少なくとも配向膜を順次
に積層形成する液晶表示素子の製造方法であって、前記
電極間に、平滑化膜を該電極高さと略同一高さに形成す
る平滑化膜形成工程と、前記電極及び前記平滑化膜上に
配向膜を形成する配向膜形成工程とを含む。
【００１７】なお、上記製造方法において、一例とし
て、パターン形成された電極の形成は通常のフォトエッ
チング工程を用いることができる。また、平滑化膜及び
配向膜の形成は、直接塗布形成及びスプレー法、スピン
コーティング、スパッタリング、傾斜蒸着、また化学析
着法等を使用することもできる。さらに、絶縁膜をパタ
ーン電極又は平滑化膜上に上記例示した方法等により積
層することがある。
て、パターン形成された電極の形成は通常のフォトエッ
チング工程を用いることができる。また、平滑化膜及び
配向膜の形成は、直接塗布形成及びスプレー法、スピン
コーティング、スパッタリング、傾斜蒸着、また化学析
着法等を使用することもできる。さらに、絶縁膜をパタ
ーン電極又は平滑化膜上に上記例示した方法等により積
層することがある。
【００１８】本発明の液晶表示素子において、好ましく
は、パターン形成された電極間の前面板に溝が形成さ
れ、前記溝及び前記パターン電極間に前記平滑化膜が形
成されている。
は、パターン形成された電極間の前面板に溝が形成さ
れ、前記溝及び前記パターン電極間に前記平滑化膜が形
成されている。
【００１９】本発明の液晶表示素子において、一般に、
前面板上に形成されたパターン形成された電極の隙間に
露出する前面板に掘られた溝の深さは0.6〜１μｍ（600
0〜10000オングストローム）である。
前面板上に形成されたパターン形成された電極の隙間に
露出する前面板に掘られた溝の深さは0.6〜１μｍ（600
0〜10000オングストローム）である。
【００２０】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、好ましくは、パターン状に電極を形成した後、該形
成されたパターン状の電極をマスクとして、該電極間に
露出している前面板をエッチングして溝を形成する溝形
成工程を含み、平滑化膜形成工程は、前記溝及び前記パ
ターン電極間に、該電極高さと略同一の高さとなるよう
に平滑化膜を形成する工程を含む工程である。
て、好ましくは、パターン状に電極を形成した後、該形
成されたパターン状の電極をマスクとして、該電極間に
露出している前面板をエッチングして溝を形成する溝形
成工程を含み、平滑化膜形成工程は、前記溝及び前記パ
ターン電極間に、該電極高さと略同一の高さとなるよう
に平滑化膜を形成する工程を含む工程である。
【００２１】本発明の液晶表示素子の製造方法におい
て、好ましくは、平滑化膜は、カ−ボンブラック含有絶
縁材料からなる。このカーボンブラック含有絶縁材料
（液）においては、少量の炭素粒子が樹脂中に分散して
おり、好ましくは、カーボン含有量３〜10wt％である。
て、好ましくは、平滑化膜は、カ−ボンブラック含有絶
縁材料からなる。このカーボンブラック含有絶縁材料
（液）においては、少量の炭素粒子が樹脂中に分散して
おり、好ましくは、カーボン含有量３〜10wt％である。
【００２２】
【作用】上記構成のもと、本発明の液晶表示素子によれ
ば、前面板上のパータン電極上に、少なくとも配向膜が
積層され、該前面板および背面板の間に液晶が封入され
ている液晶表示素子であって、パターン電極間に、該パ
ターン電極と略同一の高さに平滑化膜が形成され、前記
電極及び前記平滑化膜上に配向膜が形成されていること
によって、これら平滑化膜及びパターン電極上に積層さ
れ、液晶の配向を決定する配向膜の平滑度を高くでき
る。そのため、液晶の複屈折性の原理を利用しており、
液晶の配向及び配向膜間の間隔により表示色相や輝度が
変わる液晶表示素子において、配向膜の平坦度が高く、
配向膜間の間隔の均一度が高いことで、画像識別性・視
認精度が向上され、かつ均一な色相ないしコントラスト
を維持できる。
ば、前面板上のパータン電極上に、少なくとも配向膜が
積層され、該前面板および背面板の間に液晶が封入され
ている液晶表示素子であって、パターン電極間に、該パ
ターン電極と略同一の高さに平滑化膜が形成され、前記
電極及び前記平滑化膜上に配向膜が形成されていること
によって、これら平滑化膜及びパターン電極上に積層さ
れ、液晶の配向を決定する配向膜の平滑度を高くでき
る。そのため、液晶の複屈折性の原理を利用しており、
液晶の配向及び配向膜間の間隔により表示色相や輝度が
変わる液晶表示素子において、配向膜の平坦度が高く、
配向膜間の間隔の均一度が高いことで、画像識別性・視
認精度が向上され、かつ均一な色相ないしコントラスト
を維持できる。
【００２３】好ましくは、パターン電極間に露出してい
る前面板に、エッチング等の方法により、溝（トレン
チ）が形成され、パターン電極間の隙間及びこの溝中に
も平滑化膜を形成されていることによって、平滑化膜の
安定度が増大し、平滑化膜の平坦度が上がり、平滑化膜
上の配向膜をより平坦に形成することができる。
る前面板に、エッチング等の方法により、溝（トレン
チ）が形成され、パターン電極間の隙間及びこの溝中に
も平滑化膜を形成されていることによって、平滑化膜の
安定度が増大し、平滑化膜の平坦度が上がり、平滑化膜
上の配向膜をより平坦に形成することができる。
【００２４】好ましくは、パターン形成された電極の間
の前面板に形成される溝の深さは0.6〜１μｍ（6000〜1
0000オングストローム）であることで、平滑化膜となる
原料が十分浸透付着し、平滑化膜は構造的に安定する。
特に、安価で取扱い性が良いカ−ボンブラック含有液を
使用する場合は、その粒子が比較的大きく浸透性が比較
的劣るために、上記溝深さが望ましい。
の前面板に形成される溝の深さは0.6〜１μｍ（6000〜1
0000オングストローム）であることで、平滑化膜となる
原料が十分浸透付着し、平滑化膜は構造的に安定する。
特に、安価で取扱い性が良いカ−ボンブラック含有液を
使用する場合は、その粒子が比較的大きく浸透性が比較
的劣るために、上記溝深さが望ましい。
【００２５】好ましくは、平滑化膜を絶縁膜と共用する
ことができる。これによって工程及び原料の削減ができ
る。
ことができる。これによって工程及び原料の削減ができ
る。
【００２６】また、上記構成のもと、本発明の液晶表示
素子の製造方法によれば、前面板および背面板の内面に
パタ−ン形成された電極、及び少なくとも配向膜を順次
に積層形成する液晶表示素子の製造方法であって、前記
電極間に、平滑化膜を該電極高さと略同一高さに形成す
る平滑化膜形成工程と、前記電極及び前記平滑化膜上に
配向膜を形成する配向膜形成工程とを含むことで、上記
のような作用を発揮する液晶表示素子を、安価かつ管理
容易な工程で製造することができる。
素子の製造方法によれば、前面板および背面板の内面に
パタ−ン形成された電極、及び少なくとも配向膜を順次
に積層形成する液晶表示素子の製造方法であって、前記
電極間に、平滑化膜を該電極高さと略同一高さに形成す
る平滑化膜形成工程と、前記電極及び前記平滑化膜上に
配向膜を形成する配向膜形成工程とを含むことで、上記
のような作用を発揮する液晶表示素子を、安価かつ管理
容易な工程で製造することができる。
【００２７】好ましくは、上記製造工程においてパター
ン形成されたパターン電極をマスクとして兼用し、パタ
ーン電極間に露出している前面板に、エッチング等の方
法により、溝（トレンチ）を形成し、パターン電極間の
隙間及びこの溝中にも平滑化膜を形成することによっ
て、平滑化膜の安定度が増大し、パターン電極間の隙間
への平滑化膜原料の浸透性も向上し、よって平滑化膜の
平坦度が上がり、平滑化膜上の配向膜をより平坦に形成
することができる。
ン形成されたパターン電極をマスクとして兼用し、パタ
ーン電極間に露出している前面板に、エッチング等の方
法により、溝（トレンチ）を形成し、パターン電極間の
隙間及びこの溝中にも平滑化膜を形成することによっ
て、平滑化膜の安定度が増大し、パターン電極間の隙間
への平滑化膜原料の浸透性も向上し、よって平滑化膜の
平坦度が上がり、平滑化膜上の配向膜をより平坦に形成
することができる。
【００２８】好ましくは、平滑化膜の材料として、カ−
ボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃｋ）含有絶縁材
料を用いることによって、原料費を切下げ、かつ工程の
単純化を実現できる。１例としてカーボンブラック含有
液においては、少量の炭素粒子が樹脂中に分散してお
り、好ましくは、カーボン含有量３〜10wt％である。
ボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃｋ）含有絶縁材
料を用いることによって、原料費を切下げ、かつ工程の
単純化を実現できる。１例としてカーボンブラック含有
液においては、少量の炭素粒子が樹脂中に分散してお
り、好ましくは、カーボン含有量３〜10wt％である。
【００２９】
【実施例】以下、本発明の望ましい実施例を図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００３０】図３は、本発明の実施例に係る液晶表示素
子の断面図である。
子の断面図である。
【００３１】図３を参照して、本実施例の液晶表示素子
は、次のような構造からなる。即ち、互いに平行に置か
れた前面板１ａと背面板１ｂは、それらの縁部に塗布さ
れたシ−リング材５により接合されて閉鎖空間を形成
し、この閉鎖空間に液晶が封入されている。この前面板
１ａの内面（背面板１ｂに対抗する面）上に、画像表示
の態様に応じた所定のパターン状に透明電極２ａ（パタ
ーン電極）が複数形成され、これら透明電極上に、順に
絶縁膜３ａ及び配向膜４ａが形成されている。一方、背
面板１ｂ上にも、順に透明電極２ｂ、絶縁膜３ｂ、及び
配向膜４ｂが形成されている。これらの配向膜４ａ、４
ｂは液晶の分子を所定の方向に配向させる。さらに、前
面板１ａと背面板１ｂとの間の液晶が封入されている閉
鎖空間には、前面板１ａと背面板１ｂの間を所定距離に
維持するためにスペーサ６が設置されている。
は、次のような構造からなる。即ち、互いに平行に置か
れた前面板１ａと背面板１ｂは、それらの縁部に塗布さ
れたシ−リング材５により接合されて閉鎖空間を形成
し、この閉鎖空間に液晶が封入されている。この前面板
１ａの内面（背面板１ｂに対抗する面）上に、画像表示
の態様に応じた所定のパターン状に透明電極２ａ（パタ
ーン電極）が複数形成され、これら透明電極上に、順に
絶縁膜３ａ及び配向膜４ａが形成されている。一方、背
面板１ｂ上にも、順に透明電極２ｂ、絶縁膜３ｂ、及び
配向膜４ｂが形成されている。これらの配向膜４ａ、４
ｂは液晶の分子を所定の方向に配向させる。さらに、前
面板１ａと背面板１ｂとの間の液晶が封入されている閉
鎖空間には、前面板１ａと背面板１ｂの間を所定距離に
維持するためにスペーサ６が設置されている。
【００３２】透明電極２ａ、２ｂの上部に積層される配
向膜４ａ、４ｂは、傾斜蒸着、スピンコーティング、ス
パッタリング又はオフセットプリント方式により形成さ
れる。積層された配向膜は所定の温度に熱処理された
後、液晶分子を所定の方向に配向させるように相互対向
される其々の配向膜表面は所定の角度にラビング（ｒｕ
ｂｂｉｎｇ）されている。
向膜４ａ、４ｂは、傾斜蒸着、スピンコーティング、ス
パッタリング又はオフセットプリント方式により形成さ
れる。積層された配向膜は所定の温度に熱処理された
後、液晶分子を所定の方向に配向させるように相互対向
される其々の配向膜表面は所定の角度にラビング（ｒｕ
ｂｂｉｎｇ）されている。
【００３３】ここで、前面板１ａ側では、透明電極２ａ
のパタ−ンの間、及びこのパターン間に露出している前
面板１ａに形成された溝（トレンチ）の間に、平滑化膜
９が形成されている。この平滑化膜９は、透明電極２ａ
の高さと同高さに形成されている。従って、透明電極２
ａ及び平滑化膜９上に積層される絶縁膜及び配向膜は、
液晶表示素子の全面に亘って平坦に形成されている。即
ち、透明電極間のギャップ（端差）部分でも配向膜は平
坦で変形が生じていない。
のパタ−ンの間、及びこのパターン間に露出している前
面板１ａに形成された溝（トレンチ）の間に、平滑化膜
９が形成されている。この平滑化膜９は、透明電極２ａ
の高さと同高さに形成されている。従って、透明電極２
ａ及び平滑化膜９上に積層される絶縁膜及び配向膜は、
液晶表示素子の全面に亘って平坦に形成されている。即
ち、透明電極間のギャップ（端差）部分でも配向膜は平
坦で変形が生じていない。
【００３４】なお、本実施例においては、前面板に溝が
形成され、この溝の部分にも平滑化膜が形成されている
が、透明電極２ａ間のみに平滑化膜を設けることも可能
である。また、絶縁膜３ａを平滑化膜として兼用するこ
とも可能である。また、組成としては、ＳｉＯ2絶縁膜
等の無機絶縁膜を用いることが可能である。
形成され、この溝の部分にも平滑化膜が形成されている
が、透明電極２ａ間のみに平滑化膜を設けることも可能
である。また、絶縁膜３ａを平滑化膜として兼用するこ
とも可能である。また、組成としては、ＳｉＯ2絶縁膜
等の無機絶縁膜を用いることが可能である。
【００３５】次に、図３、及び第４図（Ａ）〜（Ｄ）を
参照してこのような構成を有する液晶表示素子、特に平
滑化膜の形成方法を説明する。
参照してこのような構成を有する液晶表示素子、特に平
滑化膜の形成方法を説明する。
【００３６】第１工程において、透明ガラス製の前面板
１ａ上に所定パタ−ンの透明電極２ａを形成する。即
ち、前面板１ａ上にＩＴＯ膜をスパッタリングなどの蒸
着方法を利用して凡そ0.2μｍ（2000オングストロー
ム）程度の幅に蒸着し、次にフォトエッチングによりパ
ターニングして、ＩＴＯからなる透明電極２ａパターン
を形成する（図４（Ａ））。
１ａ上に所定パタ−ンの透明電極２ａを形成する。即
ち、前面板１ａ上にＩＴＯ膜をスパッタリングなどの蒸
着方法を利用して凡そ0.2μｍ（2000オングストロー
ム）程度の幅に蒸着し、次にフォトエッチングによりパ
ターニングして、ＩＴＯからなる透明電極２ａパターン
を形成する（図４（Ａ））。
【００３７】第２工程は、透明電極パタ−ン（２ａ）を
マスクとして利用して、透明電極２ａパターン間に露出
している部分の前面板（１ａ）をエッチングして所定深
さの溝（トレンチ）を形成する工程である（図４
（Ｂ））。前面板（１ａ）のエッチング深さは略0.6〜
１μｍ（6000〜10000オングストローム）程度が望まし
い。その理由次の第３工程において後述する。なお、こ
れらの溝は、予め化学的なエッチング又は機械的な研削
により、予めガラス製の前面板１ａ中に形成しておくこ
とも可能である。
マスクとして利用して、透明電極２ａパターン間に露出
している部分の前面板（１ａ）をエッチングして所定深
さの溝（トレンチ）を形成する工程である（図４
（Ｂ））。前面板（１ａ）のエッチング深さは略0.6〜
１μｍ（6000〜10000オングストローム）程度が望まし
い。その理由次の第３工程において後述する。なお、こ
れらの溝は、予め化学的なエッチング又は機械的な研削
により、予めガラス製の前面板１ａ中に形成しておくこ
とも可能である。
【００３８】第３工程は、前記工程を通じて形成される
溝に平滑化膜９を前記電極パタ−ン２ａと大略同等な高
さに形成する工程である（図４（Ｃ））。平滑化膜の原
料としてはカ−ボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃ
ｋ）含有液を用いることができる。他の平滑化膜原料と
しては、ガラス、透明電極、絶縁膜、又は配向膜と相性
の良い安価なものが好ましい。平滑化膜は、配向膜を塗
布形成する際に使用されるスピナ（ｓｐｉｎｎｅｒ）を
利用して0.8〜1.2μｍ略（8000〜12000オングストロー
ム）程度の厚さでコ−ティングして平滑化膜９を形成す
る。平滑化膜は、スピンコーティング、スパッタリング
や他の化学的析着法によって形成してもよい。
溝に平滑化膜９を前記電極パタ−ン２ａと大略同等な高
さに形成する工程である（図４（Ｃ））。平滑化膜の原
料としてはカ−ボンブラック（ｃａｒｂｏｎ ｂｌａｃ
ｋ）含有液を用いることができる。他の平滑化膜原料と
しては、ガラス、透明電極、絶縁膜、又は配向膜と相性
の良い安価なものが好ましい。平滑化膜は、配向膜を塗
布形成する際に使用されるスピナ（ｓｐｉｎｎｅｒ）を
利用して0.8〜1.2μｍ略（8000〜12000オングストロー
ム）程度の厚さでコ−ティングして平滑化膜９を形成す
る。平滑化膜は、スピンコーティング、スパッタリング
や他の化学的析着法によって形成してもよい。
【００３９】上記カ−ボンブラック含有液は、分散粒子
が大きいため、狭小な隙間に対する薄膜形成において制
約を有する反面、経済性と取扱い性に優れた材料として
使用される。このカーボンブラック含有液においては、
少量の炭素が樹脂中に分散しており絶縁性である。好ま
しくは、カーボン含有量３〜10wt％である。このような
樹脂として、エチレングリコール−モノエチル−エーテ
ル−アセテート樹脂が用いられる。
が大きいため、狭小な隙間に対する薄膜形成において制
約を有する反面、経済性と取扱い性に優れた材料として
使用される。このカーボンブラック含有液においては、
少量の炭素が樹脂中に分散しており絶縁性である。好ま
しくは、カーボン含有量３〜10wt％である。このような
樹脂として、エチレングリコール−モノエチル−エーテ
ル−アセテート樹脂が用いられる。
【００４０】前面板に形成される溝の深さは、平滑化膜
となる原料が十分浸透付着するためには、略0.6〜１μ
ｍ（6000〜10000オングストローム）程度が好ましい。
特に、カ−ボンブラック含有液が有する上記制限を克服
するために、上記溝深さが望ましい。
となる原料が十分浸透付着するためには、略0.6〜１μ
ｍ（6000〜10000オングストローム）程度が好ましい。
特に、カ−ボンブラック含有液が有する上記制限を克服
するために、上記溝深さが望ましい。
【００４１】第４工程は、前記工程を通じて同一高さに
形成された透明電極２ａパターンとと平滑化膜９の上に
絶縁膜（３ａ）と配向膜（４ａ）を塗布して積層する工
程である（図４（Ｄ））。
形成された透明電極２ａパターンとと平滑化膜９の上に
絶縁膜（３ａ）と配向膜（４ａ）を塗布して積層する工
程である（図４（Ｄ））。
【００４２】上述したような方法で前面板１ａの溝及び
透明電極２ａ間の隙間に平滑化膜９を形成して組立られ
る液晶表紙素子は図３に示されるように、配向膜が平坦
かつ両配向膜４ａ、４ｂ間の距離が液晶表示素子の全面
に亘って等間隔であるので、液晶の配向が均一になり表
示特性を向上させることができる。なぜなら、液晶表示
素子は複屈折性の原理を利用しており、配向膜間の間隔
により表示色相が変わる。本発明は配向膜の平坦度が高
く、配向膜間の間隔の均一度が高いことで、画像の識別
・視認精度が向上し、均一な色相ないしコントラストが
維持できる。
透明電極２ａ間の隙間に平滑化膜９を形成して組立られ
る液晶表紙素子は図３に示されるように、配向膜が平坦
かつ両配向膜４ａ、４ｂ間の距離が液晶表示素子の全面
に亘って等間隔であるので、液晶の配向が均一になり表
示特性を向上させることができる。なぜなら、液晶表示
素子は複屈折性の原理を利用しており、配向膜間の間隔
により表示色相が変わる。本発明は配向膜の平坦度が高
く、配向膜間の間隔の均一度が高いことで、画像の識別
・視認精度が向上し、均一な色相ないしコントラストが
維持できる。
【００４３】以上本発明を実施例に即して説明したが、
本発明は上記態様にのみ限定されるものではなく、本発
明の原理に準する各種態様を含むものである。
本発明は上記態様にのみ限定されるものではなく、本発
明の原理に準する各種態様を含むものである。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によると、本
発明の液晶表示素子は、前面板上にパターン形成された
電極上に、少なくとも配向膜が積層され、該前面板およ
び背面板の間に液晶が封入されている液晶表示素子であ
って、パターン形成された電極間に、該パターン電極と
略同一の高さに平滑化膜が形成され、前記電極及び前記
平滑化膜上に配向膜が形成されていることで（請求項
１）、これら平滑化膜及びパターン形成された電極上に
積層され、液晶の配向を決定する配向膜の平滑度を高く
できる。そのため、液晶の複屈折性の原理を利用してお
り、液晶の配向及び配向膜間の間隔により表示色相や輝
度が変わる液晶表示素子において、配向膜の平坦度が高
く、配向膜間の間隔の均一度が高いことで、画像の是認
性が向上され、かつ均一な色相ないしコントラストを維
持できる、という効果を奏する。そして、前面板の内面
に形成される電極間の端差に起因する配向膜の断差及び
配向膜間の距離の変化の解消により、液晶表示素子の解
像度を向上でき、画像表示の高品位化に対する消費者の
要求を満足させるとこができる。
発明の液晶表示素子は、前面板上にパターン形成された
電極上に、少なくとも配向膜が積層され、該前面板およ
び背面板の間に液晶が封入されている液晶表示素子であ
って、パターン形成された電極間に、該パターン電極と
略同一の高さに平滑化膜が形成され、前記電極及び前記
平滑化膜上に配向膜が形成されていることで（請求項
１）、これら平滑化膜及びパターン形成された電極上に
積層され、液晶の配向を決定する配向膜の平滑度を高く
できる。そのため、液晶の複屈折性の原理を利用してお
り、液晶の配向及び配向膜間の間隔により表示色相や輝
度が変わる液晶表示素子において、配向膜の平坦度が高
く、配向膜間の間隔の均一度が高いことで、画像の是認
性が向上され、かつ均一な色相ないしコントラストを維
持できる、という効果を奏する。そして、前面板の内面
に形成される電極間の端差に起因する配向膜の断差及び
配向膜間の距離の変化の解消により、液晶表示素子の解
像度を向上でき、画像表示の高品位化に対する消費者の
要求を満足させるとこができる。
【００４５】好ましくは、パターン形成された電極間に
露出している前面板に、エッチング等の方法により、溝
（トレンチ）が形成され、パターン電極間の隙間及びこ
の溝中にも平滑化膜を形成されていることで（請求項
２）、平滑化膜の安定度が増大し、平滑化膜を含めた全
体の平坦度が上がり、電極及び平滑化膜上の配向膜をよ
り平坦に形成することができる、という効果を奏する。
露出している前面板に、エッチング等の方法により、溝
（トレンチ）が形成され、パターン電極間の隙間及びこ
の溝中にも平滑化膜を形成されていることで（請求項
２）、平滑化膜の安定度が増大し、平滑化膜を含めた全
体の平坦度が上がり、電極及び平滑化膜上の配向膜をよ
り平坦に形成することができる、という効果を奏する。
【００４６】好ましくは、パターン形成された電極の間
の前面板に形成される溝の深さは0.6〜１μｍ（6000〜1
0000オングストローム）であることで（請求項３）、平
滑化膜となる原料が十分浸透付着し、平滑化膜は構造的
に安定する、という効果を奏する。さらに、前記平滑化
膜は、カ−ボンブラック含有絶縁材料からなることによ
り（請求項６）、原料費を切下げ、かつ工程の単純化を
実現できる。このように、安価で取扱い性が良いカ−ボ
ンブラック含有絶縁材料を使用する場合は、その粒子が
比較的大きく浸透性が比較的劣るために、パターン形成
された電極の間の前面板に形成される溝の深さは0.6〜
１μｍ（6000〜10000オングストローム）であることが
望ましい。
の前面板に形成される溝の深さは0.6〜１μｍ（6000〜1
0000オングストローム）であることで（請求項３）、平
滑化膜となる原料が十分浸透付着し、平滑化膜は構造的
に安定する、という効果を奏する。さらに、前記平滑化
膜は、カ−ボンブラック含有絶縁材料からなることによ
り（請求項６）、原料費を切下げ、かつ工程の単純化を
実現できる。このように、安価で取扱い性が良いカ−ボ
ンブラック含有絶縁材料を使用する場合は、その粒子が
比較的大きく浸透性が比較的劣るために、パターン形成
された電極の間の前面板に形成される溝の深さは0.6〜
１μｍ（6000〜10000オングストローム）であることが
望ましい。
【００４７】本発明の液晶表示素子の製造方法によると
（請求項４）、上記のような効果を奏する液晶表示素子
を、安価かつ管理容易な工程で製造することができる、
という効果を奏する。
（請求項４）、上記のような効果を奏する液晶表示素子
を、安価かつ管理容易な工程で製造することができる、
という効果を奏する。
【００４８】好ましくは、上記製造工程において、パタ
ーン電極間に露出している前面板に、溝（トレンチ）を
形成し、パターン電極間の隙間及びこの溝中にも平滑化
膜を形成することで（請求項５）、平滑化膜の安定度が
増大し、パターン電極間の隙間への平滑化膜原料の浸透
性も向上し、よって平滑化膜の平坦度が上がり、平滑化
膜上の配向膜をより平坦に形成することができる、とい
う効果を奏する。
ーン電極間に露出している前面板に、溝（トレンチ）を
形成し、パターン電極間の隙間及びこの溝中にも平滑化
膜を形成することで（請求項５）、平滑化膜の安定度が
増大し、パターン電極間の隙間への平滑化膜原料の浸透
性も向上し、よって平滑化膜の平坦度が上がり、平滑化
膜上の配向膜をより平坦に形成することができる、とい
う効果を奏する。
【図１】従来の液晶表示素子を図示する断面図。
【図２】図１の前面板を部分的に拡大図示する一断面
図。
図。
【図３】本発明の一実施例による平滑化膜を具備する液
晶表示素子を図示する断面図。
晶表示素子を図示する断面図。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は本発明の一実施例による液晶
表示素子の平滑化膜形成方法を工程順に図示する断面図
である。
表示素子の平滑化膜形成方法を工程順に図示する断面図
である。
１ａ 前面板 １ｂ 背面板 ２ａ、２ｂ 透明電極（パターン電極） ３ａ、３ｂ 絶縁膜 ４ａ、４ｂ 配向膜 ５ シ−リング材 ６ スペ−サ ９ 平滑化膜
Claims (6)
- 【請求項１】前面板上にパータン形成された電極上に、
少なくとも配向膜が積層され、該前面板および背面板の
間に液晶が封入されている液晶表示素子であって、 前記パターン形成された電極間に、該電極と略同一の高
さに平滑化膜が形成され、前記電極及び前記平滑化膜上
に前記配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表
示素子。 - 【請求項２】前記パターン形成された電極間に露出して
いる前面板に溝が形成され、 前記溝及び前記電極間に前記平滑化膜が形成されてい
る、ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。 - 【請求項３】前記溝の深さは0.6〜１μｍであることを
特徴とする請求項１又は２記載の液晶表示素子。 - 【請求項４】前面板および背面板の内面上にパタ−ン形
成された電極、及び少なくとも配向膜を順次に積層形成
する液晶表示素子の製造方法であって、 前記電極間に、平滑化膜を該電極高さと略同一高さに形
成する平滑化膜形成工程と、 前記電極及び前記平滑化膜上に配向膜を形成する配向膜
形成工程と、を含むことを特徴とする液晶表示素子の製
造方法。 - 【請求項５】前記パターン形成された電極を形成した
後、該電極をマスクとして、該電極間に露出している前
面板をエッチングして溝を形成する溝形成工程を含み、 前記平滑化膜形成工程は、前記溝及び前記電極間に、該
電極高さと略同一の高さとなるように平滑化膜を形成す
る工程を含むこと、 を特徴とする請求項４記載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項６】前記平滑化膜は、カ−ボンブラック含有絶
縁材料からなることを特徴とする請求項４又は５記載の
液晶表示素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940012352A KR100294196B1 (ko) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 평활막을구비한액정표시소자및그형성방법 |
| KR1994-12352 | 1994-06-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07333591A true JPH07333591A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=19384490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6330325A Pending JPH07333591A (ja) | 1994-06-02 | 1994-12-07 | 液晶表示素子およびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5499125A (ja) |
| JP (1) | JPH07333591A (ja) |
| KR (1) | KR100294196B1 (ja) |
| DE (1) | DE4443935C2 (ja) |
| GB (1) | GB2289972B (ja) |
| TW (1) | TW271473B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006119402A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法及び製造装置、電気光学装置並びに電子機器 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09127495A (ja) * | 1995-11-06 | 1997-05-16 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| KR970062775A (ko) * | 1996-02-03 | 1997-09-12 | 구자홍 | 액정표시소자의 블랙매트릭스 및 그 제조방법 |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS62247330A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
| JPS6333126B2 (ja) * | 1979-01-30 | 1988-07-04 | Asahi Glass Co Ltd | |
| JPH04162017A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶素子の製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL188550C (nl) * | 1981-07-02 | 1992-07-16 | Suwa Seikosha Kk | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidersubstraat. |
| US4718751A (en) * | 1984-11-16 | 1988-01-12 | Seiko Epson Corporation | Optical panel and method of fabrication |
| JPH02141517A (ja) * | 1988-11-22 | 1990-05-30 | Kawasaki Steel Corp | 混銑車の自動秤量方法 |
| JPH05303096A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Toshiba Corp | 液晶表示器の製造方法 |
| JP2771392B2 (ja) * | 1992-06-26 | 1998-07-02 | シャープ株式会社 | 反射型液晶表示装置 |
| JP2860226B2 (ja) * | 1993-06-07 | 1999-02-24 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
-
1994
- 1994-06-02 KR KR1019940012352A patent/KR100294196B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-15 GB GB9422958A patent/GB2289972B/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-15 US US08/339,549 patent/US5499125A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-17 TW TW083110689A patent/TW271473B/zh active
- 1994-12-07 JP JP6330325A patent/JPH07333591A/ja active Pending
- 1994-12-09 DE DE4443935A patent/DE4443935C2/de not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6333126B2 (ja) * | 1979-01-30 | 1988-07-04 | Asahi Glass Co Ltd | |
| JPS62247330A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2289972A (en) | 1995-12-06 |
| GB9422958D0 (en) | 1995-01-04 |
| DE4443935A1 (de) | 1995-12-07 |
| DE4443935C2 (de) | 1998-02-12 |
| GB2289972B (en) | 1998-08-12 |
| KR960001829A (ko) | 1996-01-25 |
| US5499125A (en) | 1996-03-12 |
| KR100294196B1 (ko) | 2002-10-18 |
| TW271473B (ja) | 1996-03-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19971104 |