JPH04162017A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明（よ　液晶表示装置に用いられる液晶素子の製造
方法に関するものである。

従来の技術 液晶表示装置で番ヨ　　表示コントラストを高めるため
に　その液晶素子に用いられる基板の透明電極パターン
の間隙部にブラックストライプが設けられる。

以下図面を参照しながら従来の液晶素子の製造方法の一
例について説明する。

第３図は　従来の液晶素子の透明電極及びブラックスト
ライプの形成方法を示す工程説明図である。

第３図（Ａ）に示すように　透明基体２１上に透明導電
膜２２を設けも　次に導電膜２２上にフォトレジストを
塗布したの板　透明電極用フォトマスク２４を用いてフ
ォトレジスト２３を露光現像して、第３図（Ｂ）に示す
ように所定のパターンのレジスト２３を形成する。

次に第３図（Ｃ）に示すように　レジスト２３の間隙部
の透明導電膜を塩酸などによりエツチングしたの敷　第
３図（Ｄ）に示すようにレジスト２３を除去することに
より、所定のパターンの透明電極２５を形成する。

次に第３図（Ｅ）に示すように染色性感光性樹脂２６を
透明基体２１上に塗布する。

次に第３図（Ｆ）に示すように　ブラックストライプ用
フォトマスク２７を用いて前記染色性感光性樹脂２６を
露光し　現像することによって所定のストライプパター
ンの染色性感光性樹脂２６を形成すも 次に第３図（Ｇ）に示すように　所定のストライブパタ
ーンの前記染色性感光性樹脂２６を染料分散液等で染色
することによりブラックストライプ２８を形成してい連 また印刷などの手段によって直接、透明基体上に形成す
る手段も用いられてい九 発明が解決しようとする課題 しかしながら染色法で（よ　ブラックストライプの寸法
精度は出せる力（工程が煩雑となり、コストも高くな４ 一方印刷法は低コストである力丈　寸法精度が低いとい
う課題があっｔ島 本発明は上記課題に鑑へ　少ない工程数で寸法精度の高
いブラックストライプを形成できる液晶素子の製造方法
を提供するものであム 課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の液晶素子の製造方法
で（よ　透明基体上に有機物層を設け、前記有機物層上
に透明導電層を設け、前記透明導電層上に所定のパター
ンのレジストを形成し　プラズマ処理により前記レジス
トの間隙部の透明導電層と有機物層を除去することによ
り、透明電極パターンの形成と前記透明電極パターン間
隙部の有機物層における凹部の形成とを行い、　次に黒
色塗料を塗布し前記レジストを除去することにより、前
記凹部にブラックストライプを形成する。

作用 透明基体上に有機物層を設け、前記有機物層上に透明導
電層を設ζす、前記透明導電層上に所定のパターンのレ
ジストを形成し　プラズマ処理により前記レジストの間
隙部の透明導電層と有機物層を除去することにより、透
明電極パターンの形成と前記透明電極パターン間隙部の
有機物層における凹部の形成とを行い、　次に黒色塗料
を塗布し前記レジストを除去することにより、前記凹部
にブラックストライプを形成するた敢　ブラックストラ
イプ形成のためのフォトリソ工程を必要とせず、透明導
電層と有機物層を連続して除去することとレジスト上に
黒色塗料を塗布し　レジスト除去と同時に不要部の黒色
塗料を除去することにより、工程数が少なくなり、また
透明電極との位置合わせが不要で寸法精度の高いブラッ
クストライプが形成されも 実施例 以下本発明の一実施例の液晶素子の製造方法について、
図面を参照しながら説明する。

第１図は本発明の液晶素子の製造方法の第１の実施例を
示す工程説明図である。

まず第１図（Ａ）に示すように　透明基体１に有機物層
２を形成する。本実施例で１表　有機物層２として、昇
華性紫外線硬化樹脂をスピンコードなどの方法で全面に
塗布した 次に第１図（Ｂ）に示すように透明導電膜３を層２上に
成膜すム　透明導電膜３として（よ　ＩＴｏ（インジウ
ム・錫酸化物）をスパッタ法で成膜し九 次にフォトレジストを導電！！３上に塗布したのぢ　そ
の露光　現像を行い、　第１図（Ｃ）に示すように所定
のパターンのレジスト４を形成する。

次に平行平板型ドライエツチング装置を用いて、エタノ
ールガスプラズマ処理を行うと、第１図（Ｄ）に示すよ
うにレジスト４でマスクされていない部分の透明導電膜
３と有機物層２とが除去されも 本実施例では　高周波電力２ｋＷ、エタノールガス圧１
０ｍＴｏ　ｒ　ｒで３０分間処理したところ透明導電膜
３と有機物層２は深さ１．５μｍ除去され九　またレジ
スト４（友　はとんど変化しなかった　なおＩＴｏは有
機金属となって除去される。

次に第１図（Ｅ）に示すように黒色塗料５を塗布する。

黒色塗料５としてカーボンブラックを含む黒色インクを
使っ九　黒色塗料５が乾燥後、過酸化水素水中に浸すと
、レジスト４が膨潤し　その上に塗られた黒色塗料と共
に脱落し　第１図（Ｆ）に示すよう（ミ　残った部分で
ブラックストライプ６が形成され通 その後、第１図（Ｆ）の基板を上側基板と下側基板に用
いて、第１図（Ｇ）に示す液晶素子が得られも すなわ板　第１図（Ｆ）の基板上にポリイミド膜を塗布
しラビング処理を行った後、上側基板と下側基板を、そ
のブラックストライプが互いに直交するようく　かつ側
基板を所望の間隙を保ち並置しすム　そして、側基板間
に液晶を注入してえ液晶素子が完成される。

この様にして得られた本実施例の液晶素子の特性（表　
コントラストの高い良好なものであった第２図は本発明
の第２の実施例で得られた液晶素子の構成図である。

上側基板において、印刷法により形成されたカラーフィ
ルタ１０と透明基体１とからなるカラーフィルタ基板上
に有機物層２を形成する以外は第１の実施例と同様にし
て、第２図に示すようなカラーの液晶素子が得られる。

以上のように透明基体上に有機物層を設け、前記有機物
層上に透明導電層を設け、前記透明導電層上に所定のパ
ターンのレジストを形成し　プラズマ処理により前記レ
ジストの間隙部の透明導電層と有機物層を除去すること
により、透明電極パターンの形成と前記透明電極パター
ン間隙部の有機物層における凹部の形成とを行い、　次
に黒色塗料を塗布し前記レジストを除去することにより
、前記凹部にブラックストライプを形成するたム少ない
工程数で寸法精度の高いブラックストライプを形成する
ことができも　またカーボンブラックを使用できるため
遮光性にもすぐれ　基板表面の平坦性も良く、高い表示
特性を有する液晶素子を提供することかできる。

また第２の実施例によれは　カラーの液晶素子を提供す
ることができも　この場合　有機物層２を形成すること
により、カラーフィルタの平坦性を向上させることもで
きも 発明の効果 以上のように本発明（よ　透明基体上に有機物層を設け
、前記有機物層上に透明導電層を設け、前記透明導電層
上に所定のパターンのレジストを形成し　プラズマ処理
により前記レジストの間隙部の透明導電層と有機物層を
除去することにより、透明電極パターンの形成と前記透
明電極パターン間隙部の有機物層における凹部の形成と
を行し＼次に黒色塗料を塗布し前記レジストを除去する
ことにより、前記凹部にブラックストライプを形成する
た八　少ない工程数で寸法精度の高いブラックストライ
プを形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の液晶素子の製造方法の第１の実施例の
工程説明図　第２図は本発明の第２の実施例で得られた
液晶素子の構成図　第３図は従来の液晶素子の製造方法
の工程説明図である。 １・・・透明基＃、、　２・・・有機物層　３・・・透
明導電層４・・・レジスト、　５・・・黒色塗料　６・
・・ブラックストライス 代理人の氏名　弁理士　小鍜治　明　ほか２名ｌ０−−
−　カ　　ラ　　−　　］　　ィ　　ル　タＶ？＋ｒｚ ｂで鯉！家、盛 枠５需凶（Ｈい鹸曹冑 Ｓ　　　ε ≦？

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基体上に有機物層を設け、前記有機物層上に
   透明導電層を設け、前記透明導電層上に所定のパターン
   のレジストを形成し、プラズマ処理により前記レジスト
   の間隙部の透明導電層と有機物層を除去することにより
   、透明電極パターンの形成と前記透明電極パターン間隙
   部の有機物層における凹部の形成とを行い、次に黒色塗
   料を塗布し前記レジストを除去することにより、前記凹
   部にブラックストライプを形成する液晶素子の製造方法
   。