JPH0733390B2 - 光学活性４−置換−２−シクロペンテノン類の単離方法 - Google Patents
光学活性４−置換−２−シクロペンテノン類の単離方法Info
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- JPH0733390B2 JPH0733390B2 JP63007043A JP704388A JPH0733390B2 JP H0733390 B2 JPH0733390 B2 JP H0733390B2 JP 63007043 A JP63007043 A JP 63007043A JP 704388 A JP704388 A JP 704388A JP H0733390 B2 JPH0733390 B2 JP H0733390B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、光学活性４−置換−２−シクロペンテノン類
の製造法に関する。更に詳細には本発明は光学活性４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと３−ヒドロキシシ
クロペンタノンの混合物の各々の水酸基をシリル基で保
護し、それを塩基性化合物で処理することにより光学活
性４−置換−２−シクロペンテノン類を単離する方法に
関する。
の製造法に関する。更に詳細には本発明は光学活性４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと３−ヒドロキシシ
クロペンタノンの混合物の各々の水酸基をシリル基で保
護し、それを塩基性化合物で処理することにより光学活
性４−置換−２−シクロペンテノン類を単離する方法に
関する。
かかる製造法によれば種々の薬理作用を有するプロスタ
グランジンあるいは制癌作用を有するメイタンシン等の
種々の医薬品の製造中間体として重要な光学活性な４−
置換−２−シクロペンテノン類を光学純度を減少させる
ことなく高収率で得ることができる。
グランジンあるいは制癌作用を有するメイタンシン等の
種々の医薬品の製造中間体として重要な光学活性な４−
置換−２−シクロペンテノン類を光学純度を減少させる
ことなく高収率で得ることができる。
＜発明の目的＞ この発明の目的は光学活性４−置換−２−シクロペンテ
ノン類の製造にある。光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンの製造法としては、先に野依らが発表
（日本化学会第55回秋季年会,4WO3,1987;触媒的不斉水
素化反応に基づくアリルアルコール類の速度論的光学分
割及び第52回有機合成シンポジウム１−4;BINAP遷移金
属錯体触媒によるアリルアルコール類の速度論的光学分
割,1987参照）した光学活性2,2′−ビス（ジフェニルフ
ォスフィノ）−1,1′−ビナフチル（（BINAP）遷移金属
錯体触媒による不斉水素化反応に基づく４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンの速度論的光学分割による優れ
た製造法が知られている。この方法によれば水素化反応
で副生する３−ヒドロキシシクロペンタノンを分離する
必要があるが、光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノンの光学純度を維持しながらこれを単離すること
は大変困難であった。
ノン類の製造にある。光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンの製造法としては、先に野依らが発表
（日本化学会第55回秋季年会,4WO3,1987;触媒的不斉水
素化反応に基づくアリルアルコール類の速度論的光学分
割及び第52回有機合成シンポジウム１−4;BINAP遷移金
属錯体触媒によるアリルアルコール類の速度論的光学分
割,1987参照）した光学活性2,2′−ビス（ジフェニルフ
ォスフィノ）−1,1′−ビナフチル（（BINAP）遷移金属
錯体触媒による不斉水素化反応に基づく４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンの速度論的光学分割による優れ
た製造法が知られている。この方法によれば水素化反応
で副生する３−ヒドロキシシクロペンタノンを分離する
必要があるが、光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノンの光学純度を維持しながらこれを単離すること
は大変困難であった。
そこで本発明者らは不斉水素化反応で得た光学活性４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの光学純度を減少さ
せることなく、且つ高収率で光学活性４−置換−２−シ
クロペンテノン類を単離する方法を鋭意研究したとこ
ろ、上記不斉水素化反応で得られた光学活性４−置換−
２−シクロペンテノンと３−置換−シクロペンタノンの
混合物をシリルエーテル誘導体に導き、その混合物を塩
基性化合物で処理することにより光学純度を維持し、且
つ高収率で光学活性な４−置換−２−シクロペンテノン
を単離する方法を見出し、本発明に到達したものであ
る。
ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの光学純度を減少さ
せることなく、且つ高収率で光学活性４−置換−２−シ
クロペンテノン類を単離する方法を鋭意研究したとこ
ろ、上記不斉水素化反応で得られた光学活性４−置換−
２−シクロペンテノンと３−置換−シクロペンタノンの
混合物をシリルエーテル誘導体に導き、その混合物を塩
基性化合物で処理することにより光学純度を維持し、且
つ高収率で光学活性な４−置換−２−シクロペンテノン
を単離する方法を見出し、本発明に到達したものであ
る。
＜発明の構成＞ すなわち、本発明は下記式［III］ で表わされる光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノンと下記式［IV］ で表わされる３−ヒドロキシシクロペンタノンの混合物
の各々の水酸基をシリル基で保護し、下記式［Ｉ］ で表わされる光学活性な４−置換−２−シクロペンテノ
ンと下記式［II］ ［式中、R1,R2,R3は上記定義に同じ。］ で表わされる３−置換シクロペンタノンの混合物に誘導
し、この混合物を得たのち塩基性化合物で処理すること
により上記式［Ｉ］で表わされる光学活性４−置換−２
−シクロペンテノン類を単離製造する方法である。この
反応では次の反応式 に示す通り、式［Ｉ］と［II］の混合物が塩基性化合物
と接することにより、式［II］で表わされる３−置換シ
クロペンタノンのみが選択的に脱シロキシ反応を起し式
［Ｖ］で表わされる２−シクロペンテノンを与える。式
［Ｖ］で表わされる２−シクロペンテノンは低沸点化合
物であり溶媒濃縮時に容易に留去することができる。こ
の反応の際、式［Ｉ］で表わされる４−置換−２−シク
ロペンテノンの不斉炭素上の異性化反応はおこらないの
で、目的物である式［Ｉ］で表わされる４−置換−２−
シクロペンテノンのみを定量的かつ光学純度を維持した
ままで製造することができる。
ンテノンと下記式［IV］ で表わされる３−ヒドロキシシクロペンタノンの混合物
の各々の水酸基をシリル基で保護し、下記式［Ｉ］ で表わされる光学活性な４−置換−２−シクロペンテノ
ンと下記式［II］ ［式中、R1,R2,R3は上記定義に同じ。］ で表わされる３−置換シクロペンタノンの混合物に誘導
し、この混合物を得たのち塩基性化合物で処理すること
により上記式［Ｉ］で表わされる光学活性４−置換−２
−シクロペンテノン類を単離製造する方法である。この
反応では次の反応式 に示す通り、式［Ｉ］と［II］の混合物が塩基性化合物
と接することにより、式［II］で表わされる３−置換シ
クロペンタノンのみが選択的に脱シロキシ反応を起し式
［Ｖ］で表わされる２−シクロペンテノンを与える。式
［Ｖ］で表わされる２−シクロペンテノンは低沸点化合
物であり溶媒濃縮時に容易に留去することができる。こ
の反応の際、式［Ｉ］で表わされる４−置換−２−シク
ロペンテノンの不斉炭素上の異性化反応はおこらないの
で、目的物である式［Ｉ］で表わされる４−置換−２−
シクロペンテノンのみを定量的かつ光学純度を維持した
ままで製造することができる。
本発明において用いられる式［Ｉ］の光学活性４−置換
−２−シクロペンテノンおよび式［II］の３−置換−シ
クロペンタノンにおいて、−SiR1R2R3は水酸基の保護基
であり−SiR1R2R3としては、例えばトリメチルシリル，
トリエチルシリル，トリイソプロピルシリル，イソプロ
ピルジメチルシリル，ジイソプロピルメチルシリル,t−
ブチルジメチルシリル，メチルジｔ−ブチルシリル,t−
ブチルジフェニルシリル，トリフェニルシリル，トリ−
ｐ−キシリルシリル，シフェニルビニルシリル，ジメチ
ルフェニルシリル，ジエチルフェニルシリル，メチルフ
ェニルビニリシリル，ベンジルジメチルシリル，ジベン
ジルメチルシリル，トリベンジルシリル等が挙げられ
る。
−２−シクロペンテノンおよび式［II］の３−置換−シ
クロペンタノンにおいて、−SiR1R2R3は水酸基の保護基
であり−SiR1R2R3としては、例えばトリメチルシリル，
トリエチルシリル，トリイソプロピルシリル，イソプロ
ピルジメチルシリル，ジイソプロピルメチルシリル,t−
ブチルジメチルシリル，メチルジｔ−ブチルシリル,t−
ブチルジフェニルシリル，トリフェニルシリル，トリ−
ｐ−キシリルシリル，シフェニルビニルシリル，ジメチ
ルフェニルシリル，ジエチルフェニルシリル，メチルフ
ェニルビニリシリル，ベンジルジメチルシリル，ジベン
ジルメチルシリル，トリベンジルシリル等が挙げられ
る。
これらの保護基のなかでも、トリメチルシリル，トリエ
チルシリル,t−ブチルジメチルシリル，ジメチルフェニ
ルシリル，ジフェニルメチルシリル,t−ブチルジフェニ
ルが好ましく、なかでもｔ−ブチルジメチルシリル，ト
リメチルシリル，ジメチルフェニルシリルが特に好まし
い。
チルシリル,t−ブチルジメチルシリル，ジメチルフェニ
ルシリル，ジフェニルメチルシリル,t−ブチルジフェニ
ルが好ましく、なかでもｔ−ブチルジメチルシリル，ト
リメチルシリル，ジメチルフェニルシリルが特に好まし
い。
式［III］で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−
シクロペンテノン及び式［IV］で表わされる３−ヒドロ
キシシクロペンタノンの混合組成物は前記のBINAP遷移
金属錯体触媒による不斉水素化反応によりラセミ体また
はＲ体,S体の任意の割合の混合比の４−ヒドロキシ−２
−シクロペンテノンから容易に得られる。この混合組成
物をシリル化反応に付して、式［Ｉ］で表わされる光学
活性４−置換−２−シクロペンテノン及び式［II］で表
わされる３−置換シクロペンタノンを製造する具体的手
段，方法は何ら限定されるものではなく、公知のいかな
る手段，方法を採用してもよい。例えば式［III］で表
わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノ
ンと式［IV］で表わされる３−ヒドロキシシクロペンタ
ノンの混合物をジクロロメタンに溶解しトリエチルアミ
ン及び４−ジメチルアミノピリジン存在下にｔ−ブチル
ジメチルシリルクロライドを反応せしめた後、通常の洗
浄，後処理をすることにより式［Ｉ］で表わされる４−
置換−２−シクロペンタノンと式［II］でらわされる３
−置換シクロペンタノンの混合物が得られる。
シクロペンテノン及び式［IV］で表わされる３−ヒドロ
キシシクロペンタノンの混合組成物は前記のBINAP遷移
金属錯体触媒による不斉水素化反応によりラセミ体また
はＲ体,S体の任意の割合の混合比の４−ヒドロキシ−２
−シクロペンテノンから容易に得られる。この混合組成
物をシリル化反応に付して、式［Ｉ］で表わされる光学
活性４−置換−２−シクロペンテノン及び式［II］で表
わされる３−置換シクロペンタノンを製造する具体的手
段，方法は何ら限定されるものではなく、公知のいかな
る手段，方法を採用してもよい。例えば式［III］で表
わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノ
ンと式［IV］で表わされる３−ヒドロキシシクロペンタ
ノンの混合物をジクロロメタンに溶解しトリエチルアミ
ン及び４−ジメチルアミノピリジン存在下にｔ−ブチル
ジメチルシリルクロライドを反応せしめた後、通常の洗
浄，後処理をすることにより式［Ｉ］で表わされる４−
置換−２−シクロペンタノンと式［II］でらわされる３
−置換シクロペンタノンの混合物が得られる。
得られた式［Ｉ］と式［II］の混合物から式［Ｉ］を単
離する方法はこれらの混合物を溶媒に溶解した後塩基性
化合物と反応せしめると、下記の反応式に示す通り 式［II］のみが選択的に脱シロキシ反応を起し式［Ｖ］
で表わされるシクロペンテノンが生成する。反応液を通
常の方法で水，飽和硫酸水素カリウム，飽和炭酸水素ナ
トリウム，飽和食塩水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮すると溶媒と共に式［Ｖ］で表わ
されるシクロペンテノンが完全に留去され、目的とする
式［Ｉ］で表わされる４−置換−２−シクロペンテノン
が定量的かつ光学純度を維持したままで容易に単離され
る。
離する方法はこれらの混合物を溶媒に溶解した後塩基性
化合物と反応せしめると、下記の反応式に示す通り 式［II］のみが選択的に脱シロキシ反応を起し式［Ｖ］
で表わされるシクロペンテノンが生成する。反応液を通
常の方法で水，飽和硫酸水素カリウム，飽和炭酸水素ナ
トリウム，飽和食塩水等で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮すると溶媒と共に式［Ｖ］で表わ
されるシクロペンテノンが完全に留去され、目的とする
式［Ｉ］で表わされる４−置換−２−シクロペンテノン
が定量的かつ光学純度を維持したままで容易に単離され
る。
本発明の反応に用いられる塩基性化合物としては、トリ
エチルアミン，ピリジン,4−ジメチルアミノピリジン,
1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］ノナ−５−エン,1,8−ジ
アザビシクロ［5.4.0］ウンデカ−７−エン及びそれら
の混合物が用いられる。
エチルアミン，ピリジン,4−ジメチルアミノピリジン,
1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］ノナ−５−エン,1,8−ジ
アザビシクロ［5.4.0］ウンデカ−７−エン及びそれら
の混合物が用いられる。
これらの塩基性化合物のなかでも、1,5−ジアザビシク
ロ［4.3.0］ノナ−５−エン,1,8−ジアザビシクロ［5.
4.0］ウンデカ−７−エンが好ましい。塩基性化合物の
量は４−置換−２−シクロペンテノンの３−置換シクロ
ペンタノンの混合物に対して0.01倍〜10倍モル程度、好
ましくは0.1倍〜１倍モル用いられる。また塩基性化合
物が溶媒も兼ねる場合には100倍モル程度用いてもさし
つかえない。またシリル化反応にひきつづき前記の塩基
性化合物を添加し、脱シロキシ反応を行ってもさしつか
えない。
ロ［4.3.0］ノナ−５−エン,1,8−ジアザビシクロ［5.
4.0］ウンデカ−７−エンが好ましい。塩基性化合物の
量は４−置換−２−シクロペンテノンの３−置換シクロ
ペンタノンの混合物に対して0.01倍〜10倍モル程度、好
ましくは0.1倍〜１倍モル用いられる。また塩基性化合
物が溶媒も兼ねる場合には100倍モル程度用いてもさし
つかえない。またシリル化反応にひきつづき前記の塩基
性化合物を添加し、脱シロキシ反応を行ってもさしつか
えない。
溶媒としては四塩化炭素，クロロホルム，塩化メチレン
などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル，エトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン，トルエン，キ
シレン，ヘキサン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれら
の混合物が好ましく用いられるが、このものに限定され
るものではない。塩基性化合物自体を溶媒として用いる
こともできる。
などのハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル，エトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン，トルエン，キ
シレン，ヘキサン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれら
の混合物が好ましく用いられるが、このものに限定され
るものではない。塩基性化合物自体を溶媒として用いる
こともできる。
反応温度は−50℃〜150℃の範囲で行われるが、好まし
くは０℃〜100℃で行われる。反応時間は反応温度と用
いた塩基性化合物により異なるが通常１時間〜４日程度
である。
くは０℃〜100℃で行われる。反応時間は反応温度と用
いた塩基性化合物により異なるが通常１時間〜４日程度
である。
＜発明の作用，効果＞ 本発明の特徴は前述の野依らのBINAP遷移金属錯体触媒
による不斉水素化反応に基づく４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノン速度論的光学分割により製造された式
［III］で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンと式［IV］で表わされる３−シクロペン
タノンの混合物からプロスタグランジン等の有用な化合
物の製造中間体となる高純度，高光学活性な式［III］
で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペン
テノンをその光学純度を維持したままかつ高収率でこれ
を単離する方法にある。本方法において式［III］と式
［IV］の混合物の水酸基を一旦シリル基で保護し式
［Ｉ］と式［II］の混合物を得たのち、塩基性化合物の
存在下に処理することにより式［II］のみを簡単に除去
し式［Ｉ］で表わされる光学活性４−置換−２−シクロ
ペンテノンとして単離するものである。
による不斉水素化反応に基づく４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノン速度論的光学分割により製造された式
［III］で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノンと式［IV］で表わされる３−シクロペン
タノンの混合物からプロスタグランジン等の有用な化合
物の製造中間体となる高純度，高光学活性な式［III］
で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペン
テノンをその光学純度を維持したままかつ高収率でこれ
を単離する方法にある。本方法において式［III］と式
［IV］の混合物の水酸基を一旦シリル基で保護し式
［Ｉ］と式［II］の混合物を得たのち、塩基性化合物の
存在下に処理することにより式［II］のみを簡単に除去
し式［Ｉ］で表わされる光学活性４−置換−２−シクロ
ペンテノンとして単離するものである。
本方法の特徴は式［II］で表わされる３−置換シクロペ
ンタノンが塩基性条件で分解されやすいという性質を巧
みに利用し、かつ光学活性な水酸基をシリル基で保護
し、その光学純度の減少を防止するという２点を同時に
解決しながら、目的物を単離することに成功した点にあ
る。すなわち本単離法は次の点で優れている。光学純
度を維持したまま単離できる。ほとんど定量的に高収
率で単離できる。単離された光学活性４−置換−２−
シクロペンテノンがそのまま種々のプロスタグランジン
類合成の中間体になり得る。
ンタノンが塩基性条件で分解されやすいという性質を巧
みに利用し、かつ光学活性な水酸基をシリル基で保護
し、その光学純度の減少を防止するという２点を同時に
解決しながら、目的物を単離することに成功した点にあ
る。すなわち本単離法は次の点で優れている。光学純
度を維持したまま単離できる。ほとんど定量的に高収
率で単離できる。単離された光学活性４−置換−２−
シクロペンテノンがそのまま種々のプロスタグランジン
類合成の中間体になり得る。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
参考例１ 乾燥した500mlフラスコにN2気流下で触媒［Ru（（Ｓ）
−（−）−binap）（O2CCH3）２］を1740mgとり、脱水
・脱気したメタノール200ml,酢酸28mgを加え溶解した。
そこに（±）−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン
22.0gを加え、この溶液をN2気流下で１ガラスオート
クレーブに移し、H2に置換してH2圧3kg/cm2G,室温で撹
拌した。
−（−）−binap）（O2CCH3）２］を1740mgとり、脱水
・脱気したメタノール200ml,酢酸28mgを加え溶解した。
そこに（±）−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン
22.0gを加え、この溶液をN2気流下で１ガラスオート
クレーブに移し、H2に置換してH2圧3kg/cm2G,室温で撹
拌した。
反応液をサンプリングして1H NMRで原料の変換率を測定
し、変換率76％で反応を終了させた。反応液を減圧濃縮
して粗成生物として22gの光学活性（Ｒ）−４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテノン,3−ヒドロキシ−シクロペ
ンタノン,1,3−シクロペンタンジオールの混合物を得
た。
し、変換率76％で反応を終了させた。反応液を減圧濃縮
して粗成生物として22gの光学活性（Ｒ）−４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテノン,3−ヒドロキシ−シクロペ
ンタノン,1,3−シクロペンタンジオールの混合物を得
た。
このうち10mgを（＋）−MTPAエステルにしてHPLCによっ
て光学活性（Ｒ）−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンの光学純度を測定したところ99.3％e.e.であった。1 HNMR（CDCl3,ppm）270MHz１ δ2.29（1H,dd,J5,5′＝18.5Hz, J4.5＝2.0Hz,H−５）， 2.65（1H,br S,OH） 2.79（1H,dd,J5,5′＝18.5Hz, J4.5＝6.1Hz,H−５′）， 5.07（Ｈ−1,m,H−４） 6.24（1H,dd,J2,3＝5.6Hz, J2.4＝1.32Hz,H−２） 7.58（1H,dd,J2,3＝5.6Hz, J3.4＝2.3Hz,H−３）２ δ1.8〜2.5（7H,m,−CH2−×3,OH）， 4.64（1H,m,H−３）３ δ1.8〜2.5（8H,m,−CH2−×3,OH×２）， 4.51（2H,m,H−1,H−３）， IR（neat,cm-1）１，２ 3400,2950,1740,1400,1345 次に粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝1:1）で精製して、光学活性（Ｒ）−
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン（24.7％,99.3
％e.e.）と３−ヒドロキシシクロペンタノン（75.3％）
の混合物21.4gを得た。
て光学活性（Ｒ）−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノンの光学純度を測定したところ99.3％e.e.であった。1 HNMR（CDCl3,ppm）270MHz１ δ2.29（1H,dd,J5,5′＝18.5Hz, J4.5＝2.0Hz,H−５）， 2.65（1H,br S,OH） 2.79（1H,dd,J5,5′＝18.5Hz, J4.5＝6.1Hz,H−５′）， 5.07（Ｈ−1,m,H−４） 6.24（1H,dd,J2,3＝5.6Hz, J2.4＝1.32Hz,H−２） 7.58（1H,dd,J2,3＝5.6Hz, J3.4＝2.3Hz,H−３）２ δ1.8〜2.5（7H,m,−CH2−×3,OH）， 4.64（1H,m,H−３）３ δ1.8〜2.5（8H,m,−CH2−×3,OH×２）， 4.51（2H,m,H−1,H−３）， IR（neat,cm-1）１，２ 3400,2950,1740,1400,1345 次に粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝1:1）で精製して、光学活性（Ｒ）−
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン（24.7％,99.3
％e.e.）と３−ヒドロキシシクロペンタノン（75.3％）
の混合物21.4gを得た。
参考例２ 参考例１で得た光学活性（Ｒ）−４−ヒドロキシ−２−
シクロペンテノンと３−ヒドロキシシクロペンタノンの
混合物21.4gをジクロロメタン150mlに溶解しトリエチル
アミン37.0ml,4−ジメチルアミノピリジン7.5gを加え撹
拌した。氷バスで冷却して、ｔ−ブチルジメチルシリル
クロライド40.0gを加えた後、室温で一夜撹拌し、析出
した塩を別除去した後、水100ml加えてｎ−ヘキサン
で２回抽出した。有機層を飽和硫酸水素カリウム水溶
液，飽和炭酸水素ナトリウム水溶液，飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去
して光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ−２−シクロペンテノンと３−ｔ−ブチルジメチル
オキシシクロペンタノンの混合物を46.3g得た。
シクロペンテノンと３−ヒドロキシシクロペンタノンの
混合物21.4gをジクロロメタン150mlに溶解しトリエチル
アミン37.0ml,4−ジメチルアミノピリジン7.5gを加え撹
拌した。氷バスで冷却して、ｔ−ブチルジメチルシリル
クロライド40.0gを加えた後、室温で一夜撹拌し、析出
した塩を別除去した後、水100ml加えてｎ−ヘキサン
で２回抽出した。有機層を飽和硫酸水素カリウム水溶
液，飽和炭酸水素ナトリウム水溶液，飽和食塩水の順で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去
して光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ−２−シクロペンテノンと３−ｔ−ブチルジメチル
オキシシクロペンタノンの混合物を46.3g得た。
実施例１ 参考例２で得た光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−２−シクロペンテノン（24.7％,99.3
％e.e.）と３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロ
ペンタノン（75.3％）の混合物46.3gをジクロロメタン4
50mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ
−７−エン（DBU）6.6g（43.7mmol）を加えて室温で一
夜撹拌した後、ジクロロメタンを留去し、ｎ−ヘキサン
500mlを加えて、水で洗浄した。次いで飽和硫酸水素カ
リウム水溶液，飽和炭酸水素ナトリウム，飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒及びシクロ
ペンテノンを減圧留去すると粗生成物として15gの光学
活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
−シクロペンテノンを得た。これをカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝19/1）で精製して
目的物の光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２−シクロペンタノン11.5g（化学純度99.2
％byGC）を得た。
ルシリルオキシ−２−シクロペンテノン（24.7％,99.3
％e.e.）と３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロ
ペンタノン（75.3％）の混合物46.3gをジクロロメタン4
50mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ
−７−エン（DBU）6.6g（43.7mmol）を加えて室温で一
夜撹拌した後、ジクロロメタンを留去し、ｎ−ヘキサン
500mlを加えて、水で洗浄した。次いで飽和硫酸水素カ
リウム水溶液，飽和炭酸水素ナトリウム，飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒及びシクロ
ペンテノンを減圧留去すると粗生成物として15gの光学
活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２
−シクロペンテノンを得た。これをカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝19/1）で精製して
目的物の光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２−シクロペンタノン11.5g（化学純度99.2
％byGC）を得た。
このものの一部を光学活性カラムを装着した高速液体ク
ロマトグラフィーにより光学純度を測定すると99.5％e.
e.であった。1 HNMR（CDCl3,90MHz），δ 0.1（s,6,Si（CH3）２）， 0.9（s,9,C（CH3）３）， 2.2（dd,1,J＝3and18Hz,C（５）Ｈ）， 2.7（dd,1,J＝6and18Hz,C（５）Ｈ）， 5.0（m,1,C（４）Ｈ）， 6.2（dd,1,J＝1.5and6Hz,C（２）Ｈ）， 7.5（dd,1,J＝2.5and6Hz,C（３）Ｈ）， 実施例２ 光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−２−シクロペンテノン（24.7％,99.3％e.e.）と３−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノン（7
5.3％）の混合物3.57g（16.8mmol）をジクロロメタン40
mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ−
４−エン511mg（3.4mmol）を加え室温で一夜撹拌した後
実施例１と同様の後処理をして光学活性（Ｒ）−４−ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノン
857mgを得た。
ロマトグラフィーにより光学純度を測定すると99.5％e.
e.であった。1 HNMR（CDCl3,90MHz），δ 0.1（s,6,Si（CH3）２）， 0.9（s,9,C（CH3）３）， 2.2（dd,1,J＝3and18Hz,C（５）Ｈ）， 2.7（dd,1,J＝6and18Hz,C（５）Ｈ）， 5.0（m,1,C（４）Ｈ）， 6.2（dd,1,J＝1.5and6Hz,C（２）Ｈ）， 7.5（dd,1,J＝2.5and6Hz,C（３）Ｈ）， 実施例２ 光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−２−シクロペンテノン（24.7％,99.3％e.e.）と３−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノン（7
5.3％）の混合物3.57g（16.8mmol）をジクロロメタン40
mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ−
４−エン511mg（3.4mmol）を加え室温で一夜撹拌した後
実施例１と同様の後処理をして光学活性（Ｒ）−４−ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シクロペンテノン
857mgを得た。
実施例１と同様の方法で光学純度を測定すると99.6％e.
e.であった。
e.であった。
又、1HNMR（CDCl3,ppm）90MHzを測定して実施例１と同
様のスペクトルを得た。
様のスペクトルを得た。
実施例３ 光学活性（Ｒ）−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−２−シクロペンテノン（28％）と３−ｔ−ブチルジメ
チルオキシシクロペンタノン（72％）10mgをジクロロメ
タン1mlに溶解しトリメチルアミン25μ加え48時間室
温で撹拌した後実施例１と同様の後処理をして光学活性
４−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シ
クロペンテノンを得た。1 HNMR（CDCl3,ppm）90MHzを測定して実施例1,2と同様の
スペクトルを得た。
−２−シクロペンテノン（28％）と３−ｔ−ブチルジメ
チルオキシシクロペンタノン（72％）10mgをジクロロメ
タン1mlに溶解しトリメチルアミン25μ加え48時間室
温で撹拌した後実施例１と同様の後処理をして光学活性
４−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２−シ
クロペンテノンを得た。1 HNMR（CDCl3,ppm）90MHzを測定して実施例1,2と同様の
スペクトルを得た。
Claims (4)
- 【請求項１】下記式［Ｉ］ で表わされる光学活性な４−置換−２−シクロペンテノ
ンと下記式［II］ ［式中、R1,R2,R3は上記定義に同じ。］ で表わされる３−置換シクロペンタノンの混合物を、ト
リエチルアミン，ピリジン,4−ジメチルアミノピリジ
ン,1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］ノナ−５−エン,1,8
−ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデカ−７−エン及びそ
れらの混合物から選ばれた塩基性化合物で処理すること
を特徴とする上記［Ｉ］で表わされる光学活性な４−置
換−２−シクロペンテノン類の単離方法。 - 【請求項２】上記混合物が、下記式［III］ ［＊は不斉炭素原子を表わす。］ で表わされる光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノンと下記式［IV］ で表わされる３−ヒドロキシシクロペンタノンの混合物
の各々の水酸基をシリル基（−SiR1R2R3;R1,R2,R3は上
記定義に同じ）で保護することにより得られたものであ
る、請求項第１項記載の光学活性な４−置換−２−シク
ロペンテノン類の単離方法。 - 【請求項３】式［Ｉ］及び［II］における−SiR1R2R3に
おいて、R1,R2及びR3がメチル，エチル,t−ブチル，フ
ェニル基から選ばれるものである請求項第１項又は第２
項記載の光学活性な４−置換−２−シクロペンテノン類
の単離方法。 - 【請求項４】上記式［Ｉ］又は［III］の不斉炭素の立
体配置がＲ配置である請求項第１項〜第３項記載のいず
れかの光学活性な４−置換−２−シクロペンテノン類の
単離方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007043A JPH0733390B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 光学活性４−置換−２−シクロペンテノン類の単離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007043A JPH0733390B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 光学活性４−置換−２−シクロペンテノン類の単離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01186896A JPH01186896A (ja) | 1989-07-26 |
| JPH0733390B2 true JPH0733390B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=11655023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63007043A Expired - Lifetime JPH0733390B2 (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 光学活性４−置換−２−シクロペンテノン類の単離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733390B2 (ja) |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63007043A patent/JPH0733390B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01186896A (ja) | 1989-07-26 |
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|---|---|---|---|
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