JPH062707B2 - 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法 - Google Patents
光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法Info
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- JPH062707B2 JPH062707B2 JP59245883A JP24588384A JPH062707B2 JP H062707 B2 JPH062707 B2 JP H062707B2 JP 59245883 A JP59245883 A JP 59245883A JP 24588384 A JP24588384 A JP 24588384A JP H062707 B2 JPH062707 B2 JP H062707B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテ
ノン類の製法に関する。更に詳細には本発明は3,4−エ
ポキシシクロペンタノンを光学活性1,1′−ビ−２−ナ
フトールの錯体と接触させることによりエポキシ体を異
性化せしめ、４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと
し、しかも同時に４位の不斉炭素にＲまたはＳ配位の光
学活性が誘起された化合物の親規な製法であり、得られ
た光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンは次
いで必要に応じ水酸基を保護して光学活性な４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテノン類を製造する方法に関す
る。
ノン類の製法に関する。更に詳細には本発明は3,4−エ
ポキシシクロペンタノンを光学活性1,1′−ビ−２−ナ
フトールの錯体と接触させることによりエポキシ体を異
性化せしめ、４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと
し、しかも同時に４位の不斉炭素にＲまたはＳ配位の光
学活性が誘起された化合物の親規な製法であり、得られ
た光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンは次
いで必要に応じ水酸基を保護して光学活性な４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテノン類を製造する方法に関す
る。
かかる製造法によれば、種々の薬理作用を有するブロス
タグランジンあるいは制ガン作用を有するメイタンシン
等の医薬品の種々の製造中間体となる光学活性な４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンチノン類を高収率で効率よく
得ることができ、更にかかる製造法は立体化学上極めて
意義ある製造法である。
タグランジンあるいは制ガン作用を有するメイタンシン
等の医薬品の種々の製造中間体となる光学活性な４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンチノン類を高収率で効率よく
得ることができ、更にかかる製造法は立体化学上極めて
意義ある製造法である。
〈従来技術〉 従来、(R)−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン，
(S)−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン等の光学
活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製造
法としては、例えば次のような製造法が知られている。
(S)−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン等の光学
活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製造
法としては、例えば次のような製造法が知られている。
すなわち、 (1) シクロペンタジエンから得られるジアセトキシシ
クロペント−１−エンを酵素により加水分解して、３
(R)−アセトキシ−５(R)−ヒドロキシシクロペント−１
−エンを得、次いでこれを二酸化マンガンで酸化して、
４(R)−アセトキシシクロペント−２−エン−１−オン
を製造する方法（テトラヘドロン，３２，１７１３−１
７１８（１９７７），テトラヘドロン，３２，１８９３
（１９７７）参照）、 (2) 出発化合物としてＤ又はＬ−酒石酸を用い、これ
を４工程の操作によりＤ又はＬ−1,4−ジヨード−2,3−
イソブロピリデンジオキシブタンとし、これとリチオ化
合物とを反応させて次いで加水分解し、(R)又は(S)−４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを製造する方法
（テトラヘドロン・レターズ，１０，７５９〜７６２
（１９７６）参照）、 (3) 出発物質として、微生物の代謝産物であるテライ
ンという化合物より、５工程を経て４(R)−アセトキシ
−２−シクロペンテノンを製造する方法（テトヘドロン
レターズ，（２９），2553〜2556（1978）参照）、 (4) 2,4,6−トリクロロフエノールを、塩素で反応せし
めて、3,5,5−トリクロロ−1,4−ジヒドロキシシクロペ
ント−２−エン−１−カルボン酸を得、これをブルシン
にて光学分割し、次いで４工程の操作を経て、(R)−４
−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロペント−２−エノ
ンを製造する方法（テトラヘドロンレターズ，１５３９
〜４２（１９７９）（１７）参照）、 (5) １−シクロペンテン−3.5−ジオンをキラルなビナ
フトール化合物とアルコールと水素化リチウムアルミニ
ウムとから得られる化合物で不斉還元して(R)または(S)
の４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを得、この水
酸基を必要に応じて保護して製造する方法（野依ら,特
開昭56-123932；Pure Appl chem，５３（１９８１）参
照）、 (6) d/−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと光
学分割剤を結合させ、生成物を２つのジアステレオマー
として分離した後分割剤を反応で脱保護して光学活性体
を得、この水酸基を必要に応じて保護して製造する方法
（羽里ら，特開昭57-159777および野依ら，Tetrahedron
Litt，２３，４０５７（１９８２）参照）、 (7) d/−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンをオ
ルト−フタル酸のハーフエステル体とし、これを光学活
性アミンとの塩として、再結晶により一方の異性体を分
離し、脱保護して光学活性体を得、水酸基を必要に応じ
て保護して製造する方法（渡辺ら，特開昭57-14560参
照）。
クロペント−１−エンを酵素により加水分解して、３
(R)−アセトキシ−５(R)−ヒドロキシシクロペント−１
−エンを得、次いでこれを二酸化マンガンで酸化して、
４(R)−アセトキシシクロペント−２−エン−１−オン
を製造する方法（テトラヘドロン，３２，１７１３−１
７１８（１９７７），テトラヘドロン，３２，１８９３
（１９７７）参照）、 (2) 出発化合物としてＤ又はＬ−酒石酸を用い、これ
を４工程の操作によりＤ又はＬ−1,4−ジヨード−2,3−
イソブロピリデンジオキシブタンとし、これとリチオ化
合物とを反応させて次いで加水分解し、(R)又は(S)−４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを製造する方法
（テトラヘドロン・レターズ，１０，７５９〜７６２
（１９７６）参照）、 (3) 出発物質として、微生物の代謝産物であるテライ
ンという化合物より、５工程を経て４(R)−アセトキシ
−２−シクロペンテノンを製造する方法（テトヘドロン
レターズ，（２９），2553〜2556（1978）参照）、 (4) 2,4,6−トリクロロフエノールを、塩素で反応せし
めて、3,5,5−トリクロロ−1,4−ジヒドロキシシクロペ
ント−２−エン−１−カルボン酸を得、これをブルシン
にて光学分割し、次いで４工程の操作を経て、(R)−４
−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロペント−２−エノ
ンを製造する方法（テトラヘドロンレターズ，１５３９
〜４２（１９７９）（１７）参照）、 (5) １−シクロペンテン−3.5−ジオンをキラルなビナ
フトール化合物とアルコールと水素化リチウムアルミニ
ウムとから得られる化合物で不斉還元して(R)または(S)
の４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを得、この水
酸基を必要に応じて保護して製造する方法（野依ら,特
開昭56-123932；Pure Appl chem，５３（１９８１）参
照）、 (6) d/−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと光
学分割剤を結合させ、生成物を２つのジアステレオマー
として分離した後分割剤を反応で脱保護して光学活性体
を得、この水酸基を必要に応じて保護して製造する方法
（羽里ら，特開昭57-159777および野依ら，Tetrahedron
Litt，２３，４０５７（１９８２）参照）、 (7) d/−４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンをオ
ルト−フタル酸のハーフエステル体とし、これを光学活
性アミンとの塩として、再結晶により一方の異性体を分
離し、脱保護して光学活性体を得、水酸基を必要に応じ
て保護して製造する方法（渡辺ら，特開昭57-14560参
照）。
これらの方法においては、(1)，(2)の方法は得られる４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の光学収率が充
分に満足し得るものではなく、またそのトータル収率も
低いものであり、(3)，(4)の方法にあつては光学収率は
高いが、(3)の方法によれば入手が困難なテラインとい
う化合物を出発物質として用いており、また(4)の方法
にあつては、製造工程において光学分割を行うものであ
り、また(3)，(4)のいずれの方法のトータル収率も充分
に満足し得るものではない。(5)の方法は原料である１
−シクロペンテン−3.5−ジオンが出発原料として高価
で入手が比較的困難であるものを用いるという難点があ
る。さらに(6)，(7)の光学分割による方法では一方の光
学活性体として利用出来るものは理論的にも高々５０％
であり、トータル収率も充分ではない。
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の光学収率が充
分に満足し得るものではなく、またそのトータル収率も
低いものであり、(3)，(4)の方法にあつては光学収率は
高いが、(3)の方法によれば入手が困難なテラインとい
う化合物を出発物質として用いており、また(4)の方法
にあつては、製造工程において光学分割を行うものであ
り、また(3)，(4)のいずれの方法のトータル収率も充分
に満足し得るものではない。(5)の方法は原料である１
−シクロペンテン−3.5−ジオンが出発原料として高価
で入手が比較的困難であるものを用いるという難点があ
る。さらに(6)，(7)の光学分割による方法では一方の光
学活性体として利用出来るものは理論的にも高々５０％
であり、トータル収率も充分ではない。
〈発明の目的〉 このように従来の、光学活性な４−ヒドロキシ−２−シ
クロペンテノン類の製造法は、必ずしも工業的に優れた
ものとは言えないものである。
クロペンテノン類の製造法は、必ずしも工業的に優れた
ものとは言えないものである。
そこで本発明者らは、容易に入手し得る化合物を用い
て、光学収率が高く、またトータル収率も高い、工業的
に有利な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製
造法を見出すべく鋭意研究した。従来から知られている
3,4−エポキシシクロペンタノンが活性アルミナの作用
によりdl−４−ヒドロキシ−２−シクロペテノンに異性
化するという知見（野依ら，Ｊ．Amer.Chm.Soc，１０
１，1623(1979)；特開昭54-154735参照）に着目し、3,4
−エポキシシクロペンタノンを原料に、不斉修飾したア
ルミニウム錯体や他の金属錯体と接触させることによ
り、光学収率が高く、工業的に有利に光学活性な４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンテノン類が得られることを見
出し本発明に到達したものである。
て、光学収率が高く、またトータル収率も高い、工業的
に有利な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製
造法を見出すべく鋭意研究した。従来から知られている
3,4−エポキシシクロペンタノンが活性アルミナの作用
によりdl−４−ヒドロキシ−２−シクロペテノンに異性
化するという知見（野依ら，Ｊ．Amer.Chm.Soc，１０
１，1623(1979)；特開昭54-154735参照）に着目し、3,4
−エポキシシクロペンタノンを原料に、不斉修飾したア
ルミニウム錯体や他の金属錯体と接触させることによ
り、光学収率が高く、工業的に有利に光学活性な４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンテノン類が得られることを見
出し本発明に到達したものである。
〈発明の構成及び作用効果〉 すなわち本発明は下記式〔Ｉ〕 で表わされる3,4−エポキシシクロペンタノンを光学活
性1,1′−ビ−２−ナフトールの錯体と接触させ、次い
で必要に応じ水酸基を保護することを特徴とする下記
［II］ （式中、＊印は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表
わし、Ｒは水素原子又は保護基を表わす。） で表わされる光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノン類の製造法である。
性1,1′−ビ−２−ナフトールの錯体と接触させ、次い
で必要に応じ水酸基を保護することを特徴とする下記
［II］ （式中、＊印は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表
わし、Ｒは水素原子又は保護基を表わす。） で表わされる光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテノン類の製造法である。
本発明の製造法では、出発原料として、前記式〔I〕で
表わされる3,4−エポシシクロペンタノンを用いる。か
かる化合物はシクロペンタジエンより、従来知られた方
法により容易に得ることができる（野依ら，特開昭54−
１５４７３４，野依らTetrahedron Lett，２２，４４１
３（１９８１）参照）。
表わされる3,4−エポシシクロペンタノンを用いる。か
かる化合物はシクロペンタジエンより、従来知られた方
法により容易に得ることができる（野依ら，特開昭54−
１５４７３４，野依らTetrahedron Lett，２２，４４１
３（１９８１）参照）。
かかる3,4−エポキシシクロペンタノンを光学活性な1,
1′−ビ−２−ナフトールの錯体で処理することによつ
て、光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテルが
得られる。ここで用いられる光学活性な1,1′−ビ−２
−ナフトールは、Bull.Soc.Chim.Fr.４３，１３８８
（１９２８）に記載された方法により、得られる(±)−
ビナフチルリン酸をシンコニンで光学分割し、これを水
素化アルミニウムリチウムで処理することによつて(S)
−(-)−1,1′−ビ−２−ナフトールあるいは(R)−(+)−
1,1′−ビ−２−ナフトールとして得ることができる。
本発明で用いられるこのものの錯体は以下のようにして
作成される。
1′−ビ−２−ナフトールの錯体で処理することによつ
て、光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテルが
得られる。ここで用いられる光学活性な1,1′−ビ−２
−ナフトールは、Bull.Soc.Chim.Fr.４３，１３８８
（１９２８）に記載された方法により、得られる(±)−
ビナフチルリン酸をシンコニンで光学分割し、これを水
素化アルミニウムリチウムで処理することによつて(S)
−(-)−1,1′−ビ−２−ナフトールあるいは(R)−(+)−
1,1′−ビ−２−ナフトールとして得ることができる。
本発明で用いられるこのものの錯体は以下のようにして
作成される。
すなわち下記式〔III〕 ▲Ｒ1 3▼Ａｌ ……(III) （Ｒ1は炭素数１〜４のアルキル基を表わす） で表わされる配位子であるトリアルキルアルミニウムと
アルコール類，フェノール類またはスルホン酸類の補助
配位子と光学活性1,1′−ビ−２−ナフトールとの組み
合せによつて調整するか、または下記式〔IV〕 Ｒ2−Metal−Ｒ3 ……（IV） （Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ｒ3はＲ2
に同じか、またはハロゲン原子を表わし、Metalはマグ
ネシウム原子または亜鉛原子を表わす。） で表わされる配位子である有機金属化合物と光学活性1,
1′−ビ−２−ナフトールとの組み合せによつて調製さ
れる。
アルコール類，フェノール類またはスルホン酸類の補助
配位子と光学活性1,1′−ビ−２−ナフトールとの組み
合せによつて調整するか、または下記式〔IV〕 Ｒ2−Metal−Ｒ3 ……（IV） （Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ｒ3はＲ2
に同じか、またはハロゲン原子を表わし、Metalはマグ
ネシウム原子または亜鉛原子を表わす。） で表わされる配位子である有機金属化合物と光学活性1,
1′−ビ−２−ナフトールとの組み合せによつて調製さ
れる。
上記式〔III〕においてＲ1は炭素数１〜４のアルキル基
であり、例えばメチル，エチル，プロピル，ｎ−ブチ
ル，ｉＳｏ−ブチル基があり、特にメチル基が好まし
い。
であり、例えばメチル，エチル，プロピル，ｎ−ブチ
ル，ｉＳｏ−ブチル基があり、特にメチル基が好まし
い。
単座補助配位子として用いられるアルミニウム原子に親
和力の強い酸素原子を有するアルコール類，フエノール
類，またはスルホン酸類が用いられる。アルコール類と
しては炭素数１〜１０の低級アルコール類例えばメタノ
ール，エタノール，イソプロパノール，ｎ−デシルアル
コール等があり、特にメタノールが好ましい。フエノー
ル類としては炭素数１〜１０のアルキル置換フエノール
類，例えば2,6−ジ−ブチル−４−メチルフエノール，
2,6−ジ−イソプロピルフエノール等があり、また他の
置換フエノール類，例えば４−メトキシフエノール，０
−クロロフエノール，２−ニトロフエノール，４−ニト
ロフエノール，2,4−ジニトロフエノール，2,6−ジニト
ロフエノール，2,6−ジ−ｔ−エチル−４−ニトロフエ
ノール等があり、特に４−ニトロフエノールが光学収率
の点で好ましく用いられる。スルホン酸類としては４−
メチルベンゼンスルホン酸，2,4,6−トリメチルベンゼ
ンスルホン酸等がある。
和力の強い酸素原子を有するアルコール類，フエノール
類，またはスルホン酸類が用いられる。アルコール類と
しては炭素数１〜１０の低級アルコール類例えばメタノ
ール，エタノール，イソプロパノール，ｎ−デシルアル
コール等があり、特にメタノールが好ましい。フエノー
ル類としては炭素数１〜１０のアルキル置換フエノール
類，例えば2,6−ジ−ブチル−４−メチルフエノール，
2,6−ジ−イソプロピルフエノール等があり、また他の
置換フエノール類，例えば４−メトキシフエノール，０
−クロロフエノール，２−ニトロフエノール，４−ニト
ロフエノール，2,4−ジニトロフエノール，2,6−ジニト
ロフエノール，2,6−ジ−ｔ−エチル−４−ニトロフエ
ノール等があり、特に４−ニトロフエノールが光学収率
の点で好ましく用いられる。スルホン酸類としては４−
メチルベンゼンスルホン酸，2,4,6−トリメチルベンゼ
ンスルホン酸等がある。
上記式(IV)においてＲ2は炭素数１〜４のアルキル基で
あり例えばメチル，エチル，プロピル，ｎ−ブチル，ｉ
Ｓｏ−ブチル基があり、特にメチル，エチル基が好まし
い。Ｒ3はＲ2に同じか、またはハロゲン原子を表わし、
ハロゲン原子では臭素原子が好ましく用いられる。
あり例えばメチル，エチル，プロピル，ｎ−ブチル，ｉ
Ｓｏ−ブチル基があり、特にメチル，エチル基が好まし
い。Ｒ3はＲ2に同じか、またはハロゲン原子を表わし、
ハロゲン原子では臭素原子が好ましく用いられる。
錯体の調製は配位子上記式〔III〕の溶液に単座配位子
（Ｒ4Ｈと表記）、ついで光学活性1,1′−ビ−２−ナフ
トール（＊BN(OH)2と表記）の液体を加え、窒素，アル
ゴン等の不活性ガス雰囲気下に撹拌することにより行な
う（Ａ法）と 〈Ａ法〉 上記式〔III〕の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−ナフト
ールの溶液、ついで単座配位子を加えて行なう（Ｂ法）
のいづれの方法でも作成される。
（Ｒ4Ｈと表記）、ついで光学活性1,1′−ビ−２−ナフ
トール（＊BN(OH)2と表記）の液体を加え、窒素，アル
ゴン等の不活性ガス雰囲気下に撹拌することにより行な
う（Ａ法）と 〈Ａ法〉 上記式〔III〕の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−ナフト
ールの溶液、ついで単座配位子を加えて行なう（Ｂ法）
のいづれの方法でも作成される。
〈Ｂ法〉 また単座配位子を用いない錯体の調製方法もある。すな
わち上記式(IV)の配位子を用いることによつて達成され
る。方法としては(i)ジアルキルマグネシウム、または
ジアルキル亜鉛(IV)の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−
ナフトールを加える方法，(ii)光学活性1,1′−ビ−２
−ナフトールの１つの水酸基を例えばｎ−ブチルリチウ
ム，ｎ−プロピルリチウム，ｎ−メチルリチウム等でリ
チオ化した後、これに 上記式〔III〕の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−ナフト
ールの溶液、ついで単座配位子を加えて行なう（Ｂ法）
のいづれの方法でも作成される。
わち上記式(IV)の配位子を用いることによつて達成され
る。方法としては(i)ジアルキルマグネシウム、または
ジアルキル亜鉛(IV)の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−
ナフトールを加える方法，(ii)光学活性1,1′−ビ−２
−ナフトールの１つの水酸基を例えばｎ−ブチルリチウ
ム，ｎ−プロピルリチウム，ｎ−メチルリチウム等でリ
チオ化した後、これに 上記式〔III〕の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−ナフト
ールの溶液、ついで単座配位子を加えて行なう（Ｂ法）
のいづれの方法でも作成される。
〈Ｂ法〉 また単座配位子を用いない錯体の調製方法もある。すな
わち上記式(IV)の配位子を用いることによつて達成され
る。方法としては(i)ジアルキルマグネシウム、または
ジアルキル亜鉛(IV)の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−
ナフトールを加える方法，(ii)光学活性1,1′−ビ−２
−ナフトールの１つの水酸基を例えばｎ−ブチルリチウ
ム，ｎ−プロピルリチウム，ｎ−メチルリチウム等でリ
チオ化した後、これに配伝子であるアルキル−金属−ハ
ロゲン(IV)を加える方法のいづれかによつて達成され
る。
わち上記式(IV)の配位子を用いることによつて達成され
る。方法としては(i)ジアルキルマグネシウム、または
ジアルキル亜鉛(IV)の溶液に光学活性1,1′−ビ−２−
ナフトールを加える方法，(ii)光学活性1,1′−ビ−２
−ナフトールの１つの水酸基を例えばｎ−ブチルリチウ
ム，ｎ−プロピルリチウム，ｎ−メチルリチウム等でリ
チオ化した後、これに配伝子であるアルキル−金属−ハ
ロゲン(IV)を加える方法のいづれかによつて達成され
る。
錯体の調製及び反応には不活性媒体が用いられる。例え
ばハロゲン化炭化水素類，例えばジクロロメタン，クロ
ロフオルム，ジクロロエタン，ジブロモメタン等、また
は芳香族炭化水素類，例えばベンゼン，トルエン，キシ
レン等，またはエーテル類，例えばジエチルエーテル，
テトラヒドロフラン，ジオキサン等，ニトニル類，例え
ばアセトニトリル，プロピオニトリル等が用いられ、中
でもハロゲン化炭化水素類が好ましく用いられ、特にジ
クロロメタン，クロロフオルムが好ましく用いられる。
用いられる溶媒の量は反応をスムーズに進行させるに十
分な量があればよく、錯体１モルに体して１００mlから
１０，好ましくは０．５〜２の範囲が用いられ
る。用いられる媒体の種類，量は反応生成物の光学純度
に大きな影響を与えるので適切な組み合せと選択をすれ
ば良い。
ばハロゲン化炭化水素類，例えばジクロロメタン，クロ
ロフオルム，ジクロロエタン，ジブロモメタン等、また
は芳香族炭化水素類，例えばベンゼン，トルエン，キシ
レン等，またはエーテル類，例えばジエチルエーテル，
テトラヒドロフラン，ジオキサン等，ニトニル類，例え
ばアセトニトリル，プロピオニトリル等が用いられ、中
でもハロゲン化炭化水素類が好ましく用いられ、特にジ
クロロメタン，クロロフオルムが好ましく用いられる。
用いられる溶媒の量は反応をスムーズに進行させるに十
分な量があればよく、錯体１モルに体して１００mlから
１０，好ましくは０．５〜２の範囲が用いられ
る。用いられる媒体の種類，量は反応生成物の光学純度
に大きな影響を与えるので適切な組み合せと選択をすれ
ば良い。
配位子の当量関係については上記式〔III〕のトリアル
キルアルミニウムに対して光学活性1,1′−ビ−２−ナ
フトールを0.1〜5.0当量好ましくは0.5〜3.0当量、特に
好ましくは1.5〜１９当量を用いるのが良い。また上記
式〔IV〕のアルキル有機金属化合物に対しては光学活性
1,1′−ビ−２−ナフトールを0.2〜0.5当量好ましくは
0.8〜1.5当量を用いる。また単座配位子に対しては光学
活性1,1′−ビ−２−ナフトールを0.1〜3.0当量好まし
くは0.8〜1.5当量を用いる。
キルアルミニウムに対して光学活性1,1′−ビ−２−ナ
フトールを0.1〜5.0当量好ましくは0.5〜3.0当量、特に
好ましくは1.5〜１９当量を用いるのが良い。また上記
式〔IV〕のアルキル有機金属化合物に対しては光学活性
1,1′−ビ−２−ナフトールを0.2〜0.5当量好ましくは
0.8〜1.5当量を用いる。また単座配位子に対しては光学
活性1,1′−ビ−２−ナフトールを0.1〜3.0当量好まし
くは0.8〜1.5当量を用いる。
かくして上述した方法により錯体は調製さされるから調
製後のエージング時間については0.5〜１００時間好ま
しくは１時間〜７５時間が良い。また用いられる錯体の
量は原料に対して１〜５０モル％，好ましくは５〜２０
モル％が用いられる。
製後のエージング時間については0.5〜１００時間好ま
しくは１時間〜７５時間が良い。また用いられる錯体の
量は原料に対して１〜５０モル％，好ましくは５〜２０
モル％が用いられる。
かくして錯体と原料は錯体を調製した時と同じ媒体を用
いて光学活性を誘起しながら異性化反応に付される。反
応は通常は０℃〜７０℃，好ましくは１０〜４０℃で進
行する。反応の進行は薄層クロマトグラフイー等の手段
により追跡出来る。反応時間は目的に応じて設定され
る。すなわち反応の初期と後期で立体化学が逆転する場
合もある。
いて光学活性を誘起しながら異性化反応に付される。反
応は通常は０℃〜７０℃，好ましくは１０〜４０℃で進
行する。反応の進行は薄層クロマトグラフイー等の手段
により追跡出来る。反応時間は目的に応じて設定され
る。すなわち反応の初期と後期で立体化学が逆転する場
合もある。
生成物は非常に水に溶けやすいので、リン酸緩衝液（pH
7.4）を加えて有機溶媒で抽出される。水層部は再度減
圧濃縮した後、有機溶媒で抽出して生成物をさらに得
る。抽出溶媒としては酢酸エチルまたメチルイソブチル
ケトンが好ましく用いられる。
7.4）を加えて有機溶媒で抽出される。水層部は再度減
圧濃縮した後、有機溶媒で抽出して生成物をさらに得
る。抽出溶媒としては酢酸エチルまたメチルイソブチル
ケトンが好ましく用いられる。
かくして前記式〔II〕においてＲが水素原子である粗製
の光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンが得
られ、これは通常の蒸留カラムクロマトグラフイー等の
手段によつて精製される。
の光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンが得
られ、これは通常の蒸留カラムクロマトグラフイー等の
手段によつて精製される。
このものは必要に応じて更にその水酸基を保護せしめて
もよい。
もよい。
かかる化合物の水酸基を保護するには、公知の反応を採
用することができる。
用することができる。
すなわち、保護基が例えばアセチル基，プロパノイル
基，クロロアセチル基，ベンゾイル基，ｐ−ブロモベン
ゾイル基，ｐ−ニトロベンゾイル基等のアシル基の場合
には、酸ハロゲン化物もしくは酸無水物とピリジンとを
反応せしめることにより容易に保護基を導入することが
できる。また保護基がトリメチルシリル基，ジメチル−
ｔ−ブチシリル基等のトリアルキルシリル基の場合に
は、トリアルキルシリルハロゲン化物とイミダゾールと
ヘキサメチルホスホリツクトリアミドを反応せしめるこ
とによつて保護基を導入することができる。また保護基
が２−テトラヒドロピラニル基；２−テトラドドロフラ
ニル基，α−エトキシエチル基，α−エトキシ−α−メ
チルエチル基等の場合は対応するビニルエーテル化合物
であをジヒドロピラン，ジヒドロフラン，エチルビニル
エーテル，エチルイソプロペニルエーテルをパラトルエ
ンスルホン酸などの酸性触媒存在下に接触せしめること
により保護基を導入することができる。
基，クロロアセチル基，ベンゾイル基，ｐ−ブロモベン
ゾイル基，ｐ−ニトロベンゾイル基等のアシル基の場合
には、酸ハロゲン化物もしくは酸無水物とピリジンとを
反応せしめることにより容易に保護基を導入することが
できる。また保護基がトリメチルシリル基，ジメチル−
ｔ−ブチシリル基等のトリアルキルシリル基の場合に
は、トリアルキルシリルハロゲン化物とイミダゾールと
ヘキサメチルホスホリツクトリアミドを反応せしめるこ
とによつて保護基を導入することができる。また保護基
が２−テトラヒドロピラニル基；２−テトラドドロフラ
ニル基，α−エトキシエチル基，α−エトキシ−α−メ
チルエチル基等の場合は対応するビニルエーテル化合物
であをジヒドロピラン，ジヒドロフラン，エチルビニル
エーテル，エチルイソプロペニルエーテルをパラトルエ
ンスルホン酸などの酸性触媒存在下に接触せしめること
により保護基を導入することができる。
かくして上記式〔II〕で表わされる光学活性が誘起され
た４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類が製造され
る。
た４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類が製造され
る。
また保護された水酸基を有する生成物はその光学純度を
さらに上げるために再結晶等の手段で処理しても良い。
特にＲがブチルジメチルシリル基の場合は低温で例えば
ペンタン，ヘキサン等の炭化水素類を用いて再結晶さ
れ、光学純度を上げることも出来る。
さらに上げるために再結晶等の手段で処理しても良い。
特にＲがブチルジメチルシリル基の場合は低温で例えば
ペンタン，ヘキサン等の炭化水素類を用いて再結晶さ
れ、光学純度を上げることも出来る。
以上の如くして、種々のプロスタグランジン類の合成中
間体となり得る光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノン類を、容易に入手し得る3,4−エポキシシク
ロペンタノンより高い光学収率で効率よく製造すること
ができる。
間体となり得る光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロ
ペンテノン類を、容易に入手し得る3,4−エポキシシク
ロペンタノンより高い光学収率で効率よく製造すること
ができる。
本発明方法の特長は異性化と同時に比較的高い光学活性
を簡単にしかも温和な条件で誘起出来る点であり、従来
の方法に比べて非常に工程数が短かく、目的の光学活性
体を得ることが出来る、新規で有利な方法と言える。
を簡単にしかも温和な条件で誘起出来る点であり、従来
の方法に比べて非常に工程数が短かく、目的の光学活性
体を得ることが出来る、新規で有利な方法と言える。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１〜４ アルミニウム錯体による反応 方法Ａ 減圧下加熱乾燥したアンプルをアルゴン置換し、乾燥脱
気塩化メチレンを入れ、トリメチルアルミニウムのヘキ
サン溶液（0.95Ｍ、0.10ml、0.095mmol）を加えた。撹
拌しながらｐ−ニトロフエノール（13.3mg、0.096mmo
l）の塩化メチレン溶液を加えた。ついで(s)−ビナフト
ール（27.2mg、0.095mmol）の塩化メチレン溶液を加え
２時間室温（２０−２５℃）にて撹拌した。3,4−エポ
キシシクロペンタノン（95.1mg、0.97mmol）の塩化メチ
レン溶液を加えて反応を行つた。液量は全体で１０−１
２mlとなるようにした。
気塩化メチレンを入れ、トリメチルアルミニウムのヘキ
サン溶液（0.95Ｍ、0.10ml、0.095mmol）を加えた。撹
拌しながらｐ−ニトロフエノール（13.3mg、0.096mmo
l）の塩化メチレン溶液を加えた。ついで(s)−ビナフト
ール（27.2mg、0.095mmol）の塩化メチレン溶液を加え
２時間室温（２０−２５℃）にて撹拌した。3,4−エポ
キシシクロペンタノン（95.1mg、0.97mmol）の塩化メチ
レン溶液を加えて反応を行つた。液量は全体で１０−１
２mlとなるようにした。
方法Ｂ 減圧下加熱乾燥したアンプルをアルゴン置換し、乾燥脱
気塩化メチレンを入れ、トリメチルアルミニウムのヘキ
サン溶液（0.95M、0.10ml0.095mmol)を加えた。撹拌しな
がら(s)−ビナフトール（27.2mg、0.095mmol）の塩化メ
チレン溶液、ついでｐ−ニトロフエノール（13.2mg、0.
095mmol）の塩化メチレン溶液を加え２時間室温（２０
−２５℃）にて撹拌した。
気塩化メチレンを入れ、トリメチルアルミニウムのヘキ
サン溶液（0.95M、0.10ml0.095mmol)を加えた。撹拌しな
がら(s)−ビナフトール（27.2mg、0.095mmol）の塩化メ
チレン溶液、ついでｐ−ニトロフエノール（13.2mg、0.
095mmol）の塩化メチレン溶液を加え２時間室温（２０
−２５℃）にて撹拌した。
3,4−エポキシシクロペンタノン（95.1mg、0.97mmol）
の塩化メチレン溶液を加え反応を行つた。全体の液量は
１０−１２mとした。
の塩化メチレン溶液を加え反応を行つた。全体の液量は
１０−１２mとした。
異性化反応の後処理、精製法 1. 反応液にpH7.4のリン酸緩衝液と、ヘキサンを加え
て分液ロートに移しよく振る。水層（ヒドロキシシクロ
ペンテノンを含む）を分離した。
て分液ロートに移しよく振る。水層（ヒドロキシシクロ
ペンテノンを含む）を分離した。
有機層は再度リン酸緩衝液を加え抽出を行つた。（この
操作を２回行う）。有機層にはビナフトールおよびフエ
ノール、水層にはエポキシ体およびヒドロキシエノンが
抽出された。
操作を２回行う）。有機層にはビナフトールおよびフエ
ノール、水層にはエポキシ体およびヒドロキシエノンが
抽出された。
水層を真空ポンプを用いて注意深く濃縮し、ほぼ乾固さ
せた。この液に酢酸エチルを加え超音波浴につけて抽出
を行つた。有機層を分離し再度抽出を行つた。有機層を
濃縮し、クーゲルロール蒸留（３mmHg、１０８−１１２
℃）を行い４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを得
た。
せた。この液に酢酸エチルを加え超音波浴につけて抽出
を行つた。有機層を分離し再度抽出を行つた。有機層を
濃縮し、クーゲルロール蒸留（３mmHg、１０８−１１２
℃）を行い４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンを得
た。
2. 反応液に微量のリン酸緩衡液を加え、メチルｉ−ブ
チルケトン（MIBK）を加え分液ロートに移しよく振る。
水層を分離し、メチルイソブチルケトンを加え再度抽出
を行つた。有機層を集めエバポレーター（オイルレス真
空ポンプ付）で濃縮した。濃縮液はマイクロビーズ５Ｄ
（１００−２００メツシユ，富士デビソン社）１０ｇを
用いて、ヘキサン−酢酸エチル（６：１）でカラムクロ
マトグラフイーを行い、ビナフトール，フエノール，エ
ポキシ体，ヒドロキシエノンを分取した。
チルケトン（MIBK）を加え分液ロートに移しよく振る。
水層を分離し、メチルイソブチルケトンを加え再度抽出
を行つた。有機層を集めエバポレーター（オイルレス真
空ポンプ付）で濃縮した。濃縮液はマイクロビーズ５Ｄ
（１００−２００メツシユ，富士デビソン社）１０ｇを
用いて、ヘキサン−酢酸エチル（６：１）でカラムクロ
マトグラフイーを行い、ビナフトール，フエノール，エ
ポキシ体，ヒドロキシエノンを分取した。
3. 反応液に数滴のリン酸緩衝液を加え、超音波浴につ
けた。定性用ろ紙（東洋ろ紙２番）で過した。
けた。定性用ろ紙（東洋ろ紙２番）で過した。
さらに２０mの塩化メチレンを使つて沈殿を洗つた。
液の洗浄液を集めシリポアフイルター（トーヨーメン
ブレムフイルター、0.45μm TYPE RC）で過し、濃縮
マイクロビース５Ｄ（富士デビソン社）１０ｇを用いて
ヘキサン−酢酸エチル（６：１）でカラムクロマトグフ
イーを行つた。
ブレムフイルター、0.45μm TYPE RC）で過し、濃縮
マイクロビース５Ｄ（富士デビソン社）１０ｇを用いて
ヘキサン−酢酸エチル（６：１）でカラムクロマトグフ
イーを行つた。
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンのスペクトルデ
ーター ′HNMR(CDCl3)δ,2.26(1H,dd,J=18,2Hz),2.78(1H,dd,J
＝18,6Hz),3.10(1H br),5.05(1H,m),6.22(1H,dd,J＝6,1
Hz),7.57(1H,dd,J＝6,2Hz). 不斉収率の決定法 ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの光学純度は、
ＭＴＲＡエステル体に導びき′HNMRを測定した求めた。
ーター ′HNMR(CDCl3)δ,2.26(1H,dd,J=18,2Hz),2.78(1H,dd,J
＝18,6Hz),3.10(1H br),5.05(1H,m),6.22(1H,dd,J＝6,1
Hz),7.57(1H,dd,J＝6,2Hz). 不斉収率の決定法 ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの光学純度は、
ＭＴＲＡエステル体に導びき′HNMRを測定した求めた。
ＭＴＰＡエステル化 ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン（10mg、0.1mmo
l）を0.2mlの塩化メチレに溶かし、ピリジン（４Ａ、モ
レキユラーシーブより乾燥）をマイクロシリンジを用い
て２５μ（0.3mmol、3e９）MTPAＣ１（（＋）−ＭＴＰ
Ａより合成）を５０μ（0.2mmol、２ｅ９）加えた。
液はただちに白濁した。このまま一晩撹拌した。
l）を0.2mlの塩化メチレに溶かし、ピリジン（４Ａ、モ
レキユラーシーブより乾燥）をマイクロシリンジを用い
て２５μ（0.3mmol、3e９）MTPAＣ１（（＋）−ＭＴＰ
Ａより合成）を５０μ（0.2mmol、２ｅ９）加えた。
液はただちに白濁した。このまま一晩撹拌した。
エーテルと飽和硫酸銅水溶液を加え抽出した。有機層を
分離し、再度硫酸銅水溶液を加えて抽出した。有機層を
分離し、Na2SO4を加えて乾燥し、過して濃縮した。シ
リカゲル（Merck 7743）５ｇを用いて、ヘキサン−酢酸
エチル（８：１）にてカラムクロマトグラフイーを行
い、′HNMRを測定した。
分離し、再度硫酸銅水溶液を加えて抽出した。有機層を
分離し、Na2SO4を加えて乾燥し、過して濃縮した。シ
リカゲル（Merck 7743）５ｇを用いて、ヘキサン−酢酸
エチル（８：１）にてカラムクロマトグラフイーを行
い、′HNMRを測定した。
MTPAエステル体のスペクトルデーター(s) 体 ′HNMR(CDC3)δ, 2.39(1H,dd,J＝18.7,2.4Hz),2.94(1H,dd,J＝18.7,
6.2Hz),3.01(3H,t,J＝1.3Hz),5.68(1H,m),6.40(1H,dd,J
=5.7Hz),7.45-7.65(6H,m)(R) 体 ′HNMR(CDC3)δ， 2.29(1H,dd,J＝18.7,2.4Hz),2.87(1H,dd,J＝18.7,
6.2Hz),3.01(3H,t,J＝1.3Hz),5.68(1H,m),6.40(1H,dd,J
＝5.7Hz),7.45-7.65(6H,m). 錯体の調製法（Ａ法とＢ法）による効果を検討して表１
の結果を得た。
6.2Hz),3.01(3H,t,J＝1.3Hz),5.68(1H,m),6.40(1H,dd,J
=5.7Hz),7.45-7.65(6H,m)(R) 体 ′HNMR(CDC3)δ， 2.29(1H,dd,J＝18.7,2.4Hz),2.87(1H,dd,J＝18.7,
6.2Hz),3.01(3H,t,J＝1.3Hz),5.68(1H,m),6.40(1H,dd,J
＝5.7Hz),7.45-7.65(6H,m). 錯体の調製法（Ａ法とＢ法）による効果を検討して表１
の結果を得た。
実施例５ スターリングバーを入れたアルゴンを減圧下加熱乾燥
し、アルゴン置換した。これに脱気したクロロホルム
（３ml）を入れ、トリメチルアルミニウムヘキサン溶液
（0.10ml、0.095mmol）をシリンジにて加えた。スター
リングしながらｐ−ニトロフエノール（13.2mg、0.095mm
ol）のクロロホルム溶液（４ml）をアルゴン圧にてステ
ンレスチユーブを用いて加えた。液は直ちに黄色の懸濁
液となつた。次いで(s)−ビナフトール（46.1mg、1.61mm
ol）のクロロホルム溶液（４ml）を同様にして加え室温
にて２時間撹拌した。
し、アルゴン置換した。これに脱気したクロロホルム
（３ml）を入れ、トリメチルアルミニウムヘキサン溶液
（0.10ml、0.095mmol）をシリンジにて加えた。スター
リングしながらｐ−ニトロフエノール（13.2mg、0.095mm
ol）のクロロホルム溶液（４ml）をアルゴン圧にてステ
ンレスチユーブを用いて加えた。液は直ちに黄色の懸濁
液となつた。次いで(s)−ビナフトール（46.1mg、1.61mm
ol）のクロロホルム溶液（４ml）を同様にして加え室温
にて２時間撹拌した。
この液に3,4−エポキシシクロペンタノン（91.5mg、0.95
mmol）のクロロホルム溶液を加えた。液はほとんど透明
な溶液となる。このまま室温にて５５時間撹拌を続け
た。反応液は黄かつ色の懸濁液となつた。
mmol）のクロロホルム溶液を加えた。液はほとんど透明
な溶液となる。このまま室温にて５５時間撹拌を続け
た。反応液は黄かつ色の懸濁液となつた。
pH7.4のリン酸緩衝液数滴を加え超音波で浸透する。こ
れを定量用ろ紙（トヨーろ紙、5c）を用いて過した。
さらに約２０mlの塩化メチレンを用いて洗い込んだ。
液と洗液を濃縮した。ODS樹脂（富士デヴイソン、マイ
クロビーズ５Ｄ、１００−２００メツシユ）１０ｇを用
いて、ヘキサン−酢酸エチル８：１を展開溶媒としてカ
ラムクロマトグラフイーを行つた。
れを定量用ろ紙（トヨーろ紙、5c）を用いて過した。
さらに約２０mlの塩化メチレンを用いて洗い込んだ。
液と洗液を濃縮した。ODS樹脂（富士デヴイソン、マイ
クロビーズ５Ｄ、１００−２００メツシユ）１０ｇを用
いて、ヘキサン−酢酸エチル８：１を展開溶媒としてカ
ラムクロマトグラフイーを行つた。
エポキシ体（収量２３％）アルコール体（40％）をそれ
ぞれ分取した。アルコール体の一部を(R)−α−メトキ
シ−α−トリフルオロメチル−フエニル酢酸クロライド
（２当量）ピリジン（1.5当量）を用いてエステル化し
た。反応液にエーテルと飽和硫酸銅氷溶液を加え抽出を
行つた。有機層を濃縮し、シリカゲル２ｇを用いてヘキ
サン−酢酸エチル８：１の展開溶媒でカラムクロマトグ
ラフイーを行つた。ＭＴＰＡエステル体を分取し、濃縮
し、′HNMRを測定したところ７０％eeで、(s)一体の４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンが得られたことが
わかつた。
ぞれ分取した。アルコール体の一部を(R)−α−メトキ
シ−α−トリフルオロメチル−フエニル酢酸クロライド
（２当量）ピリジン（1.5当量）を用いてエステル化し
た。反応液にエーテルと飽和硫酸銅氷溶液を加え抽出を
行つた。有機層を濃縮し、シリカゲル２ｇを用いてヘキ
サン−酢酸エチル８：１の展開溶媒でカラムクロマトグ
ラフイーを行つた。ＭＴＰＡエステル体を分取し、濃縮
し、′HNMRを測定したところ７０％eeで、(s)一体の４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンが得られたことが
わかつた。
実施例６〜１１ 光学活性1,1′−ビ−２−ナフトール／トリアルキルア
ルミニウムの比について検討して表２を示す結果を得
た。ここで単座配位子としては４−ニトロフエノールを
用いた。
ルミニウムの比について検討して表２を示す結果を得
た。ここで単座配位子としては４−ニトロフエノールを
用いた。
単座配位子として2,6−ジメチル−４−ニトロフエノー
ル、2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−ニトロフエノールを用
いた結果を表３に示した。
ル、2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−ニトロフエノールを用
いた結果を表３に示した。
実施例１２〜２５ 単座配位子の種類の効果について検討して表４，５，６
に示した。
に示した。
実施例２６〜３３ 単座配位子として2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
エノール，４−ニトロフエノールを用いた場合の媒体の
種類を検討し、それぞれ表７，８に示した結果を得た。
エノール，４−ニトロフエノールを用いた場合の媒体の
種類を検討し、それぞれ表７，８に示した結果を得た。
実施例３４〜３６ 単座配位子として４−ニトロフエノールを用いた時の錯
体に対する媒体の量について検討して表９に示す結果を
得た。
体に対する媒体の量について検討して表９に示す結果を
得た。
実施例３７〜４３ 単座配位子４−ニトロフエノールを用いて実施した錯体
調製のエージング時間１と２と用いられる量について検
討した結果下に示すような表１０，１１の結果を得た。
調製のエージング時間１と２と用いられる量について検
討した結果下に示すような表１０，１１の結果を得た。
実施例４４ マグネシウム錯体を用いた異性化反応 減圧下加熱乾燥した反応管をアルゴン置換し凍結脱気し
た塩化メチレン（４ml）を加えEt2Mg（0.625Ｍ、0.08m
l、0.050mmol）を加え(s)−ビナフトール（14.2mg、0.0
50mmol）の塩化メチレン溶液（４ml）を加えた。3,4−
エポキシシクロペンタノン（48.3mg、0.50mmol）の塩化
メチレン溶液を加え０°にて７２時間撹拌した。
た塩化メチレン（４ml）を加えEt2Mg（0.625Ｍ、0.08m
l、0.050mmol）を加え(s)−ビナフトール（14.2mg、0.0
50mmol）の塩化メチレン溶液（４ml）を加えた。3,4−
エポキシシクロペンタノン（48.3mg、0.50mmol）の塩化
メチレン溶液を加え０°にて７２時間撹拌した。
後処理は実施例１に従つて行い、ヒドロキシエノン（2
4.5mg、0.25mmol）収率５１％を得た。光学純度は３６
ページに記した方法でMTPAエステル化し′HMNRを測定
し、１０％eeと決定した。表１２に結果をまとめた。
4.5mg、0.25mmol）収率５１％を得た。光学純度は３６
ページに記した方法でMTPAエステル化し′HMNRを測定
し、１０％eeと決定した。表１２に結果をまとめた。
実施例４５，４６ 減圧下加熱乾燥したアンプルに乾燥脱気Ｔ．ＨＦ（2ml)
をとり(s)−ビナフトール（15.3mg、0.053mmol）を加え
アルゴン雰囲気下で−７８℃に冷却し、ｎ−Buli（1.6
Ｍ、0.035ml、0.056mmol）を加え室温に昇温した。再度
−７８℃まで冷却し、CH2MgBr（3.36Ｍ、0.015ml、0.05
0mmol）を加え室温にまで昇温した。１ｍｌのＴＨＦに
3,4−エポキシシクロペンタノン（53.0mg、0.054mmol)
をとかして加え、０°で１時間撹拌した。反応の後処
理、精製、光学収率の決定は前ページと同様にして行つ
た。表１２に結果をまとめた。
をとり(s)−ビナフトール（15.3mg、0.053mmol）を加え
アルゴン雰囲気下で−７８℃に冷却し、ｎ−Buli（1.6
Ｍ、0.035ml、0.056mmol）を加え室温に昇温した。再度
−７８℃まで冷却し、CH2MgBr（3.36Ｍ、0.015ml、0.05
0mmol）を加え室温にまで昇温した。１ｍｌのＴＨＦに
3,4−エポキシシクロペンタノン（53.0mg、0.054mmol)
をとかして加え、０°で１時間撹拌した。反応の後処
理、精製、光学収率の決定は前ページと同様にして行つ
た。表１２に結果をまとめた。
実施例４７ Ｂと同様の操作を溶媒をＴＨＦのかわりにベンゼンを用
いて行つた。表１２に結果をまとめた。
いて行つた。表１２に結果をまとめた。
実施例４８，４９ 亜鉛媒体を用いた異性化反応 減圧下加熱乾燥したアンプルをアルゴン置換し、(s)−
ビナフトール（28.0mg、0.098mmol）のトルエン溶液を
加え、ジエチル亜鉛（1.96Ｍ、0.05ml、0.098mmol）を
加え室温にて撹拌した。3,4−エポキシシクロペンタノ
ン（97.5mg、0.99mmol）を加え０°で撹拌した。反応の
後処理は実施例の方法に従つて行つた。表１２に結果を
まとめた。
ビナフトール（28.0mg、0.098mmol）のトルエン溶液を
加え、ジエチル亜鉛（1.96Ｍ、0.05ml、0.098mmol）を
加え室温にて撹拌した。3,4−エポキシシクロペンタノ
ン（97.5mg、0.99mmol）を加え０°で撹拌した。反応の
後処理は実施例の方法に従つて行つた。表１２に結果を
まとめた。
マグネシウム，亜鉛系の配位子を用いた光学活性1,1′
−ビ−２−ナフトール の錯体を用いて実施した。結果を表１２に示す結果を得
た。
−ビ−２−ナフトール の錯体を用いて実施した。結果を表１２に示す結果を得
た。
実施例５０〜５５ 再結晶による精製 ７０％eeに調製したジメチル−ｔ−ブチルシリル基で保
護した。エノン（７７２mg）を４０mlのペンタンに溶か
したアルゴン雰囲気下で−４５℃に冷却した。
護した。エノン（７７２mg）を４０mlのペンタンに溶か
したアルゴン雰囲気下で−４５℃に冷却した。
ジメチル−ｔ−ブチルシリル基で保護した光学活性エノ
ンを接種し、再結晶を行つた。結晶が十分生成した後ス
テンレスチューブを用いてアルゴン圧で母液を除いた。
−４５℃に冷却したペンタン（３ml）で結晶を洗い再度
ステンレスチューブを用いて洗液を除いた。結晶は一昨
真空ポンプで吸引することにより乾燥した。収量は１６
％であつた。これから9.21mgを秤りとり２mlのメタノー
ルに希釈し、旋光度の測定を行つた。▲〔α〕28 D▼＋6
1.9°（c0.4605、メタノール）光学活性シリル保護エノ
ンの旋光度▲〔α〕28 D▼＋67.4°（c0.4、メタノー
ル）から計算して得られた結晶は９２％eeであつた。
（実施例５４）他の条件で検討した結果を表１３にまと
めて示した。
ンを接種し、再結晶を行つた。結晶が十分生成した後ス
テンレスチューブを用いてアルゴン圧で母液を除いた。
−４５℃に冷却したペンタン（３ml）で結晶を洗い再度
ステンレスチューブを用いて洗液を除いた。結晶は一昨
真空ポンプで吸引することにより乾燥した。収量は１６
％であつた。これから9.21mgを秤りとり２mlのメタノー
ルに希釈し、旋光度の測定を行つた。▲〔α〕28 D▼＋6
1.9°（c0.4605、メタノール）光学活性シリル保護エノ
ンの旋光度▲〔α〕28 D▼＋67.4°（c0.4、メタノー
ル）から計算して得られた結晶は９２％eeであつた。
（実施例５４）他の条件で検討した結果を表１３にまと
めて示した。
Claims (8)
- 【請求項１】下記式［Ｉ］ で表わされる3,4−エポキシシクロペンタノンを光学活
性1,1′−ビ−２−ナフトールの錯体と接触させ、次い
で必要に応じ水酸基を保護することを特徴とする下記式
［II］ ［式中、＊印は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表
わし、Ｒは水素原子又は保護基を表わす。］ で表わされる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペン
テノン類の製法。 - 【請求項２】錯体が下記式［III］ ▲Ｒ1 3▼Ａｌ …［III］ ［Ｒ1は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。］ で表わされる配位子であるトリアルキルアルミニウムと
アルコール類、フェノール類またはスルホン酸類の補助
配位子と光学活性1,1′−ビ−２−ナフトールとの組み
合せである特許請求の範囲第１項記載の光学活性４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法。 - 【請求項３】錯体が下記式［IV］ Ｒ2−Metal−Ｒ3 …［IV］ ［Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を表わし、Ｒ3はＲ2
に同じか、またはハロゲン原子を表わし、Metalはマグ
ネシウム原子または亜鉛原子を表わす。］ で表わされる配位子である有機金属化合物と光学活性1,
1′−ビ−２−ナフトールとの組み合せである特許請求
の範囲第１項記載の光学活性４−ヒドロキシ−２−シク
ロペンテノン類の製法。 - 【請求項４】トリアルキルアルミニウムがトリメチルア
ルミニウムである特許請求の範囲第２項記載の光学活性
４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法。 - 【請求項５】補助配位子のフェノール類がニトロフェノ
ール類である特許請求の範囲第２項記載の光学活性４−
ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法。 - 【請求項６】補助配位子のスルホン酸類がベンゼンスル
ホン酸類である特許請求の範囲第２項記載の光学活性４
−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法。 - 【請求項７】式［II］においてＲがｔ−ブチルジメチル
シリル基であり、光学活性が誘起された生成物をさらに
再結晶により光学純度を高める特許請求の範囲第１項記
載の光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類
の製法。 - 【請求項８】式［IV］においてＲ2がメチル基又はエチ
ル基である特許請求の範囲第３項記載の光学活性４−ヒ
ドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245883A JPH062707B2 (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245883A JPH062707B2 (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61126048A JPS61126048A (ja) | 1986-06-13 |
| JPH062707B2 true JPH062707B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=17140220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59245883A Expired - Fee Related JPH062707B2 (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノン類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062707B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63292A (ja) * | 1986-06-18 | 1988-01-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製造法 |
| JPS63293A (ja) * | 1986-06-18 | 1988-01-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製造方法 |
| US4856473A (en) * | 1987-08-25 | 1989-08-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Internal combustion engine with multiple intake valves and EGR arrangement |
| JP2776945B2 (ja) * | 1990-03-01 | 1998-07-16 | 帝人株式会社 | 高光学活性４―ヒドロキシ―２―シクロペンテノン類の製造法 |
-
1984
- 1984-11-22 JP JP59245883A patent/JPH062707B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61126048A (ja) | 1986-06-13 |
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