JPH0737498B2 - 光学用成形材料 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、芳香族ポリカーボネートを幹成分とし、芳香
族ポリカーボネート構成単位とポリスチレン系化合物構
成単位とが相互に特定の分子量比と重量比を有する特定
のグラフトポリカーボネートを主成分とする樹脂組成物
からなり、ミクロ相分散が0.5μｍ以下である新規な光
学用成形材料であり、特に、低減された光学歪み及び優
れたミクロ相分散を有するので、光ディスク、光学用レ
ンズ等に好適に使用可能なものである。

〔従来の方法およびその問題点〕

従来、光学用透明成形品の材料としては、アクリル樹脂
が透明性、流動性が良く複屈折が小さい等の特徴から光
学用透明成形品の材料として知られている（特開昭56−
131654号他）。しかし、アクリル樹脂は耐熱性が約70℃
と低く、耐衝撃性も低く、水分により反りを生じ易いと
いう欠点がある。また、上記の欠点をなくす為、粘度平
均分子量が15,000〜18,000のポリカーボネート樹脂をデ
ィスクやレンズ等の成形材料として用いること（特開昭
58−180553号）が検討されているが、重要視されている
複屈折が大きい等の欠点を有し、その使用には限界があ
る。

光学材料、主として光ディスク材料の実用化における重
要な課題の一つに基板自体のノイズレベルの低減化の課
題があり、このノイズレベルは、斜め入射光を含む複屈
折に依存することが明らかとなってきている（例えば、
光学,vol 15,No.5（1986年10月）P441〜421、光メモリ
ーシンポジウム'86論文集P33〜38）。

すなわち、垂直入射光の複屈折の低減下は必ずしも斜め
入射の複屈折の変化と相関せず、特にポリカーボネート
樹脂の場合、この相違が顕著であり、光の広角域におけ
る複屈折の低減下が重要である。

複屈折の低減下の試みとして、芳香族ポリカーボネート
の変形或いは芳香族ポリカーボネートと他の樹脂との組
成物とする方法が種々提案されている（例えば特開昭61
−19630号、特開昭61−19656号、特開昭62−18466号、
特開昭62−20524号、特開昭61−108617号及び機能材料1
987年３月P21〜29）。しかし、これらの提案はいずれも
垂直入射光の複屈折の低減下を対象とし、前記した斜め
入射光の複屈折については何ら言及しておらず、光の広
角域におけるノイズレベルの提言化という実用上の観点
からは必ずしも満足すべきものではない。又、さらに重
要なことは単純混合による組成物或いは共重合体であっ
てもホモポリマーを必然的に多量に含有する共重合体組
成物系では、組織中の成分の相分散が粗い傾向にあり、
その結果、例えばミクロ分散相が0.5μｍより大きい３
μｍに増大した場合、測定上の複屈折が低減化し０とな
った系でも、ミクロンサイズの領域、即ち、個々の光線
路に屈折率差が生じること、分散粒子界面が屈折率差に
より散乱源となるなど光学的には不均一となり、ノイズ
発生の原因となる。また、変性ポリカーボネートとスチ
レンを用いてグラフトポリカーボネートを製造する方法
（特公昭46−14912号、特公昭61−33849号）が提案され
ているが、これは特に光学用途を目的とするものでな
く、これらの方法で得られたグラフトポリカーボネート
は、いずれも機械的に脆く、射出成形により良好な成形
品を製造することが極めて困難であったり、複屈折の成
形温度依存性が大きくなり、大きな複屈折しか得られな
い等、光学材料としては不十分である。

以上、従来法による変性ポリカーボネートは光学用成形
材料、特に光ディスクの基板として使用するには基本的
な欠陥を有したものであった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは、特に光の広角域における光学歪が小さ
く、かつミクロ相分散が微細である透明な光学用成形材
料について鋭意検討した。その結果グラフトポリカーボ
ネートとして芳香族ポリカーボネート構成単位とポリス
チレン系重合体構成単位との分子量比及び重量構成比と
を特定の範囲としてなるミクロ相分散が0.5μｍ以下で
ある光学用成形材料を見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、ポリスチレン換算重量平均分子量
が25,000〜80,000である芳香族ポリカーボネートを幹ポ
リマーとするスチレン系化合物とのグラフト共重合体で
あって、 ．各々の部分分子量の比率が、 0.2≦PCMw/PSMw≦４ ……（１） （式中のPCMwは芳香族ポリカーボネート構成単位のポリ
スチレン換算重量平均分子量を示し、PSMwはスチレン系
化合物ポリマー構成単位の重量平均分子量を示す）。

．各々の構成単位の比率が、 30/70≦PC/PS≦90/10 ……（２） （式中のPCは芳香族ポリカーボネート構成単位の重量を
示し、PSはスチレン系化合物ポリマー構成単位の重量を
示す）。

であるグラフトポリカーボネートを主成分とする樹脂組
成物よりなる、ミクロ相分散が0.5μｍ以下である透明
な光学用成形材料であり、好ましい実施態様において
は、該芳香族ポリカーボネートが、2,2−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパンよりなる構成単位であるこ
と、該スチレン系化合物が、スチレンである、更に光線
の垂直入射と斜め入射角±30゜における複屈折の差の絶
対値が厚み1.2mmで50nm以下であることを特徴とする光
学用成形材料である。

本発明の光学用成形材料の幹ポリマーとする芳香族ポリ
カーボネート構成単位は、ポリスチレン換算重量平均分
子量（＝PCMw、後記注１に記載するポリスチレンを基準
にしたGPC法による測定値である。）として25,000〜80,
000の範囲（後記注２に記載した方法に基づくポリカー
ボネート樹脂の粘度平均分子量としては12,000〜30,000
に相当する。）、好ましくは35,000〜70,000の範囲から
選択され、更にPCMwとスチレン系ポリマーグラフト部分
の重量平均分子量（＝PSMw）との比率が、上記式
（１）、好ましくは、 0.3≦PCMw/PSMw≦３ ……（１）′ 及び、芳香族ポリカーボネート構成単位の重量（＝PC）
のスチレン系ポリマー構成単位の重量（＝PS）との比率
が、上記式（２）、好ましくは、 30/70≦PC/PS≦80/20 ……（２）′ の範囲からそれぞれ選択されるものである。

本発明は芳香族ポリカーボネート構成単位のポリスチレ
ン換算重量平均分子量、式（１）〔（１）′〕及び式
（２）〔（２）′〕が全体として満足された場合に良好
な光学用成形材料とされるものであり、相互に依存する
ものである。これらを好適な組み合わせとした場合に
は、複屈折を垂直入射及び斜め入射（後記注３参照）共
に±10nm以下の範囲とし、且つ、射出成形条件、例えば
射出成形樹脂温度を280〜340℃に変化させた場合にも複
屈折の絶対値が30nm以下の範囲しか変化しない材料とす
ることも可能なものである。したがって、個々の規定の
単独での意味は、あくまで副次的なものであるがそれら
を説明すれば、芳香族ポリカーボネート構成単位のポリ
スチレン換算重量平均分子量（＝PCMw）が、25,000未満
では、成形材料としての機械的物性などが劣り、80,000
を超えると成形加工性等の点で問題が生じる。式（１）
〔（１）′〕は主に、複屈折の絶対値に相関するもので
あり、この範囲外では、複屈折の成形温度依存性などが
大きくなり好ましくない。又、式（２）〔（２）′〕
は、主に光の広角域における光学歪に相関するものであ
り、この範囲外では、垂直入射と斜め入射±30゜に於け
る複屈折との差を小さくすることが出来ない。

また、本発明の成形材料中のグラフトポリカーボネート
体の量は、その主要部である。本発明においては、グラ
フトポリカーボネート中の少量構成成分がPCの場合とPS
の場合とがあり、少量構成成分と同種のホモポリマーを
配合した場合には、島と成っている少量成分の分散粒子
径が増大する傾向が大きくなり、逆に主要構成成分の場
合はこの傾向が小さいものである。従って、主要部の量
は一律には規定されないが、通常、30重量％以上、好ま
しくは、50重量％以上であり、特に、80重量％以上が好
適である。上記の好適な範囲は塩化メチレン溶液とした
場合に相分離しないことで明瞭に把握出来るコトから容
易に理解される。グラフトポリカーボネート体の量が30
重量％未満では、ミクロン相分散が粗くなり、0.5μｍ
を超え、結果としてノイズレベルの増大をもたらすので
好ましくない。

次に、本発明の光学用成形材料の製造法について説明す
る。

本発明の透明な光学用成形材料に用いるグラフトポリカ
ーボネート樹脂組成物は、芳香族ポリカーボネートを幹
ポリマーとしてなるスチレン系化合物とのグラフト共重
合体を主成分とする。その合成法は種々あるが、代表的
な方法は、平均一分子当たり少なくとも一つの不飽和二
重結合に代表されるグラフト重合開始点を末端に有する
芳香族ポリカーボネートとスチレン系モノマーとを共重
合させる方法（特公昭48−25076号、特公昭61−33849号
及び特願昭62−28194号等）である。

平均一分子当たり少なくとも一つの不飽和二重結合に代
表されるグラフト重合開始点を末端に有する芳香族ポリ
カーボネートの製法は、分子量調節剤若しくは末端停止
剤として、例えば不飽和二重結合を有する一官能性化合
物を、又はこれと従来の末端停止剤とを併用して用いる
他の従来の芳香族ポリカーボネート樹脂と同様の製法、
界面重合法、ピリジン法、クロロホーメート法等の溶液
法で製造されるものである。

本発明の芳香族ポリカーボネート構成単位の製造に使用
する二価フェノール系化合物として好ましいものは、具
体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケト
ン、1,1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、2,2
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、2,2−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、1,1−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、2,2−ビス
（４−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル）プロパ
ン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニ
ル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロ
モフェニル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ−
３−クロロフェニル）プロパン、2,2−ビス（４−ヒド
ロキシ−3,5−ジメチルフェニル）プロパン、1,1−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタンが例示
され、特に2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パンが好適に使用される。

又、不飽和末端基を導入するための不飽和二重結合を有
する一官能性化合物としては、アクリル酸、メタクリル
酸、ソルビン酸、アクリル酸クロライド、メタクリル酸
クロライド、ソルビン酸クロライド、アリルアルコール
クロロホルメート、イソプロペニルフェノールクロロホ
ルメート及びヒドキコシスチレンクロロホルメートなど
のカルボン酸、酸クロライド及びクロロホルメート；イ
ソプロペニルフェノール、ヒドロキシスチレン、ヒドロ
キシフェニルマレイミド、ヒドロキシ安息香酸アリルエ
ステル及び安息香酸メチルアリルエステルなどの不飽和
基を有するフェノール類等が挙げらる。これらの化合物
の他に、第三級炭素或いはメルカプト基を有する化合物
があり、Ｐ−イソプロピルフェノール、ｍ−イソプロピ
ルフェノール、チオグリコール酸クロライド、Ｐ−メル
カプトフェノール、ｍ−メルカプトフェノール等が例示
される。これら化合物は従来の末端停止剤と併用しても
よいものであり、上記した二価フェノール系化合物１モ
ルに対して、１〜25モル％、好ましくは1.5〜10モル％
の範囲で使用され、特に、メタクリル酸クロライド、イ
ソプロペニルフェノール、ヒドロキシスチレンが好まし
いものとして挙げられる。

本発明のスチレン系モノマーとは、具体的にはスチレ
ン、Ｏ−メチルスチレン、Ｐ−メチルスチレン、α−メ
チルスチレン、Ｏ−ブチルスチレン、Ｐ−ブチルスチレ
ン、クロロスチレン、ブロモスチレン、2,4−ジメチル
スチレンなどが挙げられ、特にスチレンが好ましい。

なお、本発明においては、上記のスチレン系モノマーに
その他のビニル系モノマー、例えばメチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ｎ−
ヘキシルアクリレート、ブチルアクリレート及びシクロ
ヘキシルメタクリレートなどのアクリレート類；グリシ
ジルメタクリレート、アクリル酸、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、Ｎ−メトキシメタクリルアミド、アク
リロニトリル、メタクリロニトリル、無水マレイン酸、
マレイミドなどを一部併用することも出来る。

前記のスチレン系モノマーをグラフト重合し、その分子
量を調節する手段として反応温度或いは後記する重合開
始剤量で制御する手段の他に有機イオウ化合物を分子量
調節剤として用いることができる。好ましい有機イオウ
化合物としては、炭素数１〜30の脂肪族又は芳香族化合
物であり、具体的にはｎ−ブチルメルカプタン、イソブ
チルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ド
デシルメルカプタン、sec−ブチルメルカプタン、sec−
ドデシルメルカプタン、tert−ブチルメルカプタンなど
の第一、二、三級のメルカプタン；フェニルメルカプタ
ン、チオクレゾール、４−tert−ブチルチオクレゾール
などの芳香族メルカプタン；チオグリコール酸とそのエ
ステル；エチレンチオグリコール等の如き炭素数３〜18
のメルカプタンを挙げることができ、これら化合物の中
でｎ−ブチルメルカプタン、tert−ブチルメルカプタン
及びｎ−オクチルメルカプタンが最も好ましく、その使
用量は、用いる末端不飽和基を有する芳香族ポリカーボ
ネート樹脂とスチレン系モノマーとの合計量の５重量％
以下、好ましくは0.0004〜１重量％の範囲であり、５重
量％を超えて使用した場合、重合度が低くなり、機械的
物性などが低下するので好ましくない。

スチレン系モノマーを芳香族ポリカーボネートへグラフ
ト重合する手段としては熱重合による方法の他に、重合
開始剤を使用することができ、このような重合開始剤と
しては、例えばジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジノ
リルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、ジ−tert−ブチルパーフタレート、ラウロイルパー
オキサイド、オキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシ
ラウレート、ジ−tert−アミルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイ
ド、ベンゾイルパーオキサイドなどの有機過酸化物;2,2
−アゾビスイソブチロニトリル、1,1−アゾビスシクロ
ヘキサンカルボニトリル、２−シアノ−２−プロピルア
ゾホルムアミドなどのアゾ化合物を挙げることができ、
使用量は、一般的には１重量％以下の範囲である。

本発明のグラフトポリカーボネートは、上記に説明した
平均一分子当たり少なくとも一つの不飽和二重結合に代
表されるグラフト開始点を末端に有する芳香族ポリカー
ボネートの存在下、必要に応じてこれと有機イオウ系重
合調節剤及び／又は重合し開始剤を併用して用いる他
は、従来のポリスチレン樹脂と同様の製法−塊状重合、
溶液重合、懸濁重合及び乳化重合などの重合法で製造す
るものである。

〔実施例〕

以下、実施例等によって具体的に説明する。

なお、本発明におけるスチレン換算重量平均分子量、粘
度平均分子量、複屈折及びミクロ相分散は、下記方法に
より求めたものである。

注1:スチレン換算重量平均分子量． G.P.C.により、ポリスチレン標準サンプルを使用して得
た重量平均分子量である。

また、グラフトポリカーボネート組成物中のポリスチレ
ン構成単位の重量平均分子量は、グラフトポリカーボネ
ート中のポリカーボネート構成部分をアミンにより分解
し残留するポリスチレンを測定する方法によった。

注2:粘度平均分子量． 粘度平均分子量は、下記の方法により求めた。

（１）、溶液粘度の測定 試料溶液：濃度0.5g/dlの塩化メチレン溶液． 粘度計：塩化メチレンのみのフロータイム72.36秒の毛
細管式改良ウベローデ型粘度計． 測定温度:20℃±0.01℃ この測定により、試料溶液のフロータイムを測定し、η
re_Lを求める。

（２）、計算 上記で測定したηre_Lから式、より、［η］を算出
し、（Schnellの式）よりMvを求める。

η_SP＝T/T_O−1,ηre_L＝T/T_O … η_SP:比粘度、 T:試料溶液のフロータイム To:溶媒のみのフロータイム η_SP/C＝［η］＋ｋ′［η］²C … ［η］：極限（固有）粘度 C:試料溶液の濃度（g/100ml） ｋ′:Hugginsの定数（ｋ′＝0.45とした） 〔η〕＝KmMv … Km:1.23×10^-4 α:0.83 注3:複屈折．下記の方法によった。

（１）、サンプル、装置等 対象サンプル：厚さ1.2mm、直径130mmの射出成形ディス
ク 測定波長:632.8nm 測定装置：（株）溝尻光学工業所製、自動エリプソメー
ター （２）、垂直入射及び斜め入射複屈折 ．垂直入射複屈折（Re⁰）； サンプル面に対して光の入射角 水平角 Ｈ＝０゜、垂直角 Ｖ＝０゜ の複屈折を表す． 尚、水平角とはディスクの半径方向の角度、垂直角とは
ディスクの半径方向に垂直の角度をそれぞれ意味する。

．斜め入射複屈折（Remax³⁰）； サンプル面に対して光の入射角 水平角 Ｈ＝±30゜、垂直角 Ｖ＝±30゜ の４つの複屈折と垂直入射複屈折（Re⁰）との差の絶対
値の最大値を示す。

注4:ミクロ相分散． 電子顕微鏡により測定した。

参考例１〜４ 水酸化ナトリウム22kgを水265に溶解し、20℃に保ち
ながら、2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン（＝BPA）45.6kg、ハイドロサルファイト50gを溶解し
た。

これにメチレンクロライド150を加えて攪拌しつつホ
スゲンを吹き込み、30分後にｐ−イソプロペニルフェノ
ール1.95kgを含むメチレンクロライド125kgを加え、ホ
スゲンを更に30分間吹き込んだ。

ホスゲン吹き込み終了後、激しく攪拌して反応液を乳化
させ、乳化後、１％トリエチルアミンのメチレンクロラ
イド溶液３を加え約１時間攪拌を続け重合させた。

重合液を、水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中
和した後、数回水洗を繰り返した後、メタノールへ滴下
して共重合体を沈澱させ、濾過し、乾燥して白色粉末を
得た。

この粉末のポリスチレン換算重量平均分子量は32,000で
あり、粘度平均分子量は16,000であった。

同様に、末端停止剤の使用量等を変化させる他は同様に
して、ポリスチレン換算重量平均分子量（粘度平均分子
量）が45,000（20,000）、49,500（22,000）及び54,000
（24,000）の末端不飽和ポリカーボネートを得た。

以下、これらを粘度平均分子量の低いものから順に、PC
1、PC2、PC3、PC4と呼ぶ。

参考例５ 参考例１において、ｐ−イソプロペニルフェノールに代
えて、アクリル酸クロライドを用い、参考例１に準拠し
てポリスチレン換算重量平均分子量（粘度平均分子量）
が49,500（22,000）の末端不飽和ポリカーボネートを得
た（以下、これをPC5と呼ぶ）。

実施例１、２ 参考例１で合成したPC1 2.5kg及びスチレンモノマー
（以下、Stと記す）1kgを重合反応器に入れ、窒素置換
を行った後、攪拌下に120℃まで昇温し、ｎ−ドデシル
メルカプタン（以下、NDSと記す）10.8gを含むスチレン
モノマー270gを添加しつつ、1.5時間反応した。

反応終了後、冷却して生成物をメタノールへ加え沈澱化
し、PC:PS＝70:30のポリマー3.57kgを得た。

このポリマー（以下、G1と記す）中のポリスチレン部分
の重量平均分子量は40,000であった。

同様に分子量調節剤NDSの使用量、反応時間を変化させ
る他は同様にして、PC:PS＝60:40のポリマー（以下、G2
と記す）を得た。G2中のポリスチレン部分の重量平均分
子量（PSMw）は80,000であった。

実施例３、４ 参考例２で合成したPC2 2.5kg及びSt11kgを重合反応器
に入れ、窒素置換を行った後、攪拌下に120℃まで昇温
し、NDS5.4gを含むSt135gを添加しつつ、1.1時間反応し
た。

反応終了後、冷却して生成物をメタノールへ加え沈澱化
し、PC:PS＝75:25のポリマー3.33kgを得た。このポリマ
ー（以下、G3と記す）のPSMwは60,000であった。

同様に分子量調節剤NDSの使用量、反応時間を変化させ
る他は同様にして、PC:PS＝65:35のポリマー（以下、G4
と記す）を得た。G4のPSMwは30,000であった。

実施例５、６ 参考例３で合成したPC3 2.5kg及びSt11kgを重合反応器
に入れ、窒素置換を行った後、攪拌下に120℃まで昇温
し、NDS11.4gを含むSt285gを添加しつつ、2.3時間反応
した。

反応終了後、冷却して生成物をメタノールへ加え沈澱化
し、PC:PS＝60:40のポリマー4.17kgを得た。このポリマ
ー（以下、G5と記す）のPSMwは60,000であった。

同様に分子量調節剤NDSの使用量、反応時間を変化させ
る他は同様にして、PC:PS＝55:45のポリマー（以下、G4
と記す）を得た。G6のPSMwは80,000であった。

実施例７ 参考例３で合成したPC3 2.5kgをStに懸濁しPC3の濃度1
0重量％とした。

この懸濁液を150〜165℃に保たれている静止ミキサーを
具備したパイプリアクターに連続的に、反応液の平均滞
留時間10分間で導入した。

留出反応液をメタノールへ流下し、沈澱化し、PC:PS＝5
0:50のポリマー（以下、G7と記す）を得た。G7のPSMwは
80,000であった。

実施例８ 参考例５で合成したPC5 2.5kg及びSt11kgを重合反応器
に入れ、窒素置換を行った後、攪拌下に120℃まで昇温
し、NDS8.6gを含むSt215gを添加しつつ、2.3時間反応し
た。

反応終了後、冷却して生成物をメタノールへ加え沈澱化
し、PC:PS＝60:40のポリマー4.17kgを得た。このポリマ
ー（以下、G8と記す）のPSMwは80,000であった。

実施例９、10 参考例４で合成したPC4 2.5kg及びSt11kgを重合反応器
に入れ、窒素置換を行った後、攪拌下に120℃まで昇温
し、NDS8.6gを含むSt215gを添加しつつ、2.2時間反応し
た。

反応終了後、冷却して生成物をメタノールへ加え沈澱化
し、PC:PS＝60:40のポリマー4.17kgを得た。このポリマ
ー（以下、G9と記す）のPSMwは80,000であった。

同様に分子量調節剤NDSの使用量、反応時間を変化させ
る他は同様にして、PC:PS＝50:50のポリマー（以下、G1
0と記す）を得た。G10のPSMwは120,000であった。

実施例11 実施例１〜10で得たG1〜G10のグラフトポリカーボネー
ト樹脂組成物を20mmベント付き押出機に供給し、240〜2
60℃のシリンダー温度でそれぞれペレット化した。

このペレットを110℃で５時間以上乾燥した後、シリン
ダー温度290〜340℃、金側温度90℃で射出成形した各試
験片ディスクを作成し、ディスク中心より42mmの同心円
上の任意の点の複屈折、ミクロ相分散を測定した。

測定結果を第１表に示した。

また、第２表に、G6のグラフトポリカーボネート樹脂組
成物の乾燥ペレットを用い、シリンダー温度を第２表に
記載の範囲で変化させた時の複屈折の測定結果を示し
た。

比較例１、２ ポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学（株）製、商品
名；ユーピロンＨ−4000、ポリスチレン換算重量平均分
子量28,000、以下、PCH4と記す）単独（比較例１）並び
にこのPCH4とカルボン酸誘導体を含むポリスチレン樹脂
（アーコ社製、商品名；ダイラーク＃232、重量平均分
子量250,000）を80:20にて配合、乾燥し250℃のシリン
ダー温度でそれぞれペレット化した。

これらについて実施例と同様にした結果も第１表に示し
た。

尚、比較例２のディスクは青白い曇りが認められ、透明
光学用材料としては不適当であることが目視によっても
明白であった。

比較例３ ポリカーボネート樹脂（三菱瓦斯化学（株）製、商品
名；ユーピロンＥ−2000、ポリスチレン換算重量平均分
子量63,000、主分極率差:110×10^-25cm³、以下、PCE2と
記す）とポリスチレン樹脂（三洋化成工業（株）製、商
品名；ハイマーST−95、重量平均分子量10,000主分極率
差：−120×10^-25cm³）＝50:50にて配合、乾燥し250℃
のシリンダー温度でそれぞれペレット化し、PCMw/PSMw
＝6.3の成形用樹脂を得た。

実施例５と同様にした結果を第１表に示した。

この比較例３より、複屈折は樹脂の主分極率差の正と負
の相減作用い必ずしも依存しないことが容易に理解され
るものである。

〔発明の作用および効果〕 本発明のグラフトポリカーボネートを主成分とする光学
用成形材料は、上記の発明の詳細な説明及び実施例、比
較例から明らかな如く、垂直入射と斜め入射との複屈折
差が大幅に低減され、且つその絶対値も±10nm以内に容
易に設定可能であると共に、ミクロ相分散においても極
めて微細な粒子分散である。ゆえに、複屈折に基づくノ
イズレベルの低減のみならず、光学的不均一性に基づく
ノイズの発生も大幅に低減されるものである。

しかも、この複屈折の射出成形温度依存性も大幅に低減
されたものであることから、光ディスク、光学用レンズ
材料等として極めて好適に使用可能であることがわか
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 徹 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社本社研究所内 (72)発明者 増本 光彦 大阪府豊中市神州町２丁目12番地 三菱瓦 斯化学株式会社大阪工場内 審査官 板橋 一隆

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリスチレン換算重量平均分子量が25,000
   〜80,000である芳香族ポリカーボネートを幹ポリマーと
   するスチレン系化合物とのグラフト共重合体であって、 ．各々の部分分子量の比率が、 0.2≦PCMw/PSMw≦４ ……（１） （式中のPCMwは芳香族ポリカーボネート構成単位のポリ
   スチレン換算重量平均分子量を示し、PSMwはスチレン系
   化合物ポリマー構成単位の重量平均分子量を示す）。 ．各々の構成単位の比率が、 30/70≦PC/PS≦90/10 ……（２） （式中のPCは芳香族ポリカーボネート構成単位の重量を
   示し、PSはスチレン系化合物ポリマー構成単位の重量を
   示す）。 であるグラフトポリカーボネートを主成分とする樹脂組
   成物よりなり、ミクロ相分散が0.5μｍ以下である透明
   な光学用成形材料．
2. 【請求項２】該芳香族ポリカーボネートが、2,2−ビス
   （４−ヒドロキシフェニル）プロパンよりなる構成単位
   である特許請求の範囲第１項記載の光学用成形材料．
3. 【請求項３】該スチレン系化合物が、スチレンである特
   許請求の範囲第１又は２項記載の光学用成形材料．
4. 【請求項４】光線の垂直入射と斜め入射角±30゜におけ
   る複屈折の差の絶対値が厚み1.2mmで50nm以下である特
   許請求の範囲第１、２又は３項記載の光学用成形材料．