JPH0738044A - 半導体装置用リードフレーム - Google Patents

半導体装置用リードフレーム

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JPH0738044A
JPH0738044A JP5176603A JP17660393A JPH0738044A JP H0738044 A JPH0738044 A JP H0738044A JP 5176603 A JP5176603 A JP 5176603A JP 17660393 A JP17660393 A JP 17660393A JP H0738044 A JPH0738044 A JP H0738044A
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本 洋 杉
Takashi Suzumura
村 隆 志 鈴
Hideyuki Koyama
山 秀 幸 小
Toshio Kawamura
村 敏 雄 川
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Abstract

(57)【要約】 【目的】絶縁材の流れを防止し、絶縁材の塗布範囲を正
確に決定することができ、絶縁材を十分に厚くすること
のできる半導体装置用リードフレームを提供する。 【構成】半導体素子の電極とインナーリードの先端とが
ワイヤボンディングされており、ボンディングワイヤと
の接触防止が必要なボンディングワイヤ側のインナーリ
ードの表面に絶縁材を設けた半導体装置用リードフレー
ムであって、前記ボンディングワイヤ側のインナーリー
ドに流れを防止するための絶縁材の流れ防止用溝設け
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置用リードフ
レームに関し、特に、インナーリード表面の一部に絶縁
材が塗布されリードフレームに関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体装置に使用されるリード
フレームは、インナーリードの前方にタブと呼ばれる部
分を有し、そのタブに半導体素子を載置して固定するよ
うに形成されている。タブとインナーリードとの間には
若干の隙間が形成されており、半導体素子の電極とイン
ナーリードとの結線は、その隙間を跨いでボンディング
ワイヤにより行われている。最近、半導体集積回路の大
容量化に伴って半導体素子の寸法が大きくなり、前記隙
間を形成する余裕がなくなると共に、樹脂封入に必要な
長さをインナーリードの部分に確保することが困難にな
ってきている。
【0003】このような問題を解決するために、タブを
省略し、インナーリードに絶縁フィルムを介して直接半
導体素子を固定する提案がなされている。ところで、上
記のような半導体装置用リードフレームは、装置構成の
必要上、バスバー(電源接続用の母線部分)をインナー
リードの前方(半導体チップ側)に配設する必要があ
る。このようなリ−ドフレームを使用した半導体装置に
おいては、インナーリードと半導体素子の電極とを接続
するボンディングワイヤが、バスバーに接触し、短絡す
ることが考えられる。この短絡を防止するために電源ス
テ−ジに絶縁材を配置させている。この絶縁材として
は、絶縁性の高い接着剤が多く用いられ、この接着剤を
塗布する方法としては、溶媒を混入してワニス状として
絶縁の必要なバスバー上に塗布する方法が採られてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなリードフ
レームにおいては、絶縁材がワニス状で塗布されるた
め、絶縁の必要のない部分に絶縁材が流れるという問題
があった。このことを防止するために塗布するワニス状
絶縁材を比較的少量にすることで対応しようとすると、
絶縁が必要な部分に絶縁材を均一に塗布するのが困難
で、塗布形状が非常に不安定となり、絶縁材を、絶縁材
するのに十分な厚さとすることができないという問題が
あった。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みなれたものであ
り、その目的は、絶縁材の流れを防止し、絶縁材の塗布
範囲を正確に決定することができ、絶縁材を十分に厚く
することのできる半導体装置用リードフレームを提供す
ることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体装置用リードフレームは、ボン
ディングワイヤとの接触防止が必要なボンディングワイ
ヤ側のインナーリードの表面に絶縁材を設けた半導体装
置用リードフレームであって、前記ボンディングワイヤ
側のインナーリードに絶縁材の流れを防止するための流
れ防止用溝を設けたことを特徴としている。
【0007】ここで、前記流れ防止用溝が、前記ボンデ
ィングワイヤ側のインナーリードのワイヤボンディング
部の一端または両端に設けられるのが好ましい。
【0008】
【作用】本発明の半導体装置用リードフレームによれ
ば、絶縁材の流れを防止するための流れ防止用溝が形成
されているので、インナーリード表面に載せられたワニ
ス状絶縁材は、その表面張力により流れ防止用溝のエッ
ジに沿って、その周部を形成し、所定部以外への流れ出
しがなく、絶縁材の塗布範囲が決定される。
【0009】
【実施例】以下、本発明の半導体装置用リードフレーム
を、添付の図面に示す好適実施例に基づいて詳細に説明
する。
【0010】図1および図2は、それぞれ本発明の半導
体装置用リードフレームの一実施例の模式的部分斜視図
および部分断面図である。
【0011】図1および図2に示すように、半導体装置
用リードフレーム1は、エッチングなどによって形成さ
れたもので、インナーリード2がリードフレーム1の中
央部方向に収束するように伸長しているものである。イ
ンナーリード2には、信号伝達用リード3と電源用リー
ド(接地用リードも含む)4とがある。電源用リード4
は、その先端に、信号用リード3の伸長方向と略直交す
る方向にバスバー5が一体的に形成されている。
【0012】インナーリード3および電源用リード4の
片面には、絶縁フィルム6を介して半導体素子7が取り
付けられている。半導体素子7には、インナーリード2
側に複数の電極8が形成されている。電極8と、インナ
ーリード2のワイヤボンディング部2aとは、それぞれ
ボンディングワイヤ9の端部が固着され接続されてい
る。
【0013】バスバー5のボンディングワイヤ9側の表
面には、ボンディングワイヤ9との電気的接続を防止す
るための絶縁材10が固着されている。絶縁材10とし
ては、絶縁性の高い接着剤が好適に用いられる。この絶
縁材10は、塗布時には溶剤と混合してワニス状として
使用されるものである。このようなワニス状絶縁材(接
着剤)としては、例えば熱可塑性ポリエーテルアミドイ
ミドを溶剤であるNMP(N−メチル−2−ピロリド
ン)で溶かしたもの、絶縁性および接着性を有するポリ
アミドイミド系のもの、およびこれらに添加物として平
均粒径10μmのSi02 を混入したものなどを使用す
ることができる。このように、絶縁材10はワニス状に
してバスバー5上に塗布されるので、ワニスの表面張力
によって流れ防止用溝11のエッジ11aで堰止められ
(図3(a)参照)容易に流れ防止用溝11を越えるこ
とはできない。したがって、バスバー5およびバスバー
5が一体的に形成された電源用リード4のワイヤボンデ
ィング部2aまでワニス状絶縁材10が流れ出すことは
ない。したがって、この絶縁材10の塗布範囲を、流れ
防止用溝11のエッジ11aまでに制限することができ
る。
【0014】流れ防止用溝11は、絶縁材塗布工程にお
いてワニス状接着剤が所定部以外に流れ出すのを防止す
るためのもので、電源用リード4の、絶縁を必要とする
部分とワイヤボンディング部2aとの間に形成れたもの
である。この流れ防止用溝11は、電源用リード4およ
びバスバー5のボンディングワイヤ9側に形成されたも
ので、それぞれのリードの幅方向に全幅に渡って形成さ
れている。この流れ防止用溝11の形状は特に限定され
るものではなく、例えば図3(a)に示すように断面形
状がV字型のものを用いることができる。
【0015】上記のような構成がモールドレジン13に
よって封入され、半導体装置12となるものである。
【0016】上述の半導体装置用リードフレーム1は、
例えばエッチングにより形成することができるが、この
時、前記流れ防止用溝11は、例えばハ−フエッチとし
て形成することができる。
【0017】上記のような半導体装置用リードフレーム
1によれば、流れ防止用溝11が形成されているので、
絶縁材10を形成するためにワニス状接着剤を塗布する
工程において、塗布範囲が防止用溝11のエッジ11a
によって決定され、そのためワイヤボンディング部2a
に流れる心配がなく、塗布工程の迅速化に貢献するこが
できる。また、塗布範囲が、予め流れ防止用溝11によ
って絶縁材を必要とする箇所だけに決定されているた
め、絶縁材10を十分な厚みとすることが容易となり、
リードフレーム1の信頼性の向上を図ることができる。
【0018】なお、上述したように流れ防止用溝として
は、特に制限的ではなく、図3(a)に示す断面形状が
V字型の流れ防止用溝11の他に、図3(b)および
(c)に示すように、断面形状がU字型の流れ防止用溝
14でもよく、また、開口部の幅Wが内部の幅より狭く
なっているオーバーハング状の流れ防止用溝15でもよ
い。ワニス状絶縁材の堰止め効果としては、流れ防止用
溝幅W、あるいはその深さdよりもインナーリード表面
と溝の内壁とのなす角(コーナ角度)θの影響が大きい
ので、コーナ角θが大きい程、その効果は大である。し
たがって、図3(b),(c)に示す流れ防止用溝1
4,15の方が、図3(a)に示す断面形状がV字型の
流れ防止用溝11に比べ、インナーリード表面と溝の内
壁とのなす角度θが大きく、ワニス状絶縁材の流出を防
止する効果が大きい。
【0019】また、上述したリードフレーム1は、電源
用リード4の先端にバスバー5が一体的に形成されたも
のであるが、本発明はこれに限定されるものではなく、
例えば、接地用リードあるいは信号用リードの先端にバ
スバーが一体的に形成されたリードフレームにも適用可
能である。
【0020】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る半導体装置用リードフレームによれば、ワイヤボンデ
ィング側のインナーリードすなわちバスバー上に絶縁材
の流れ防止用溝が形成されているので、絶縁材の塗布範
囲を正確に決定することができ、また、絶縁材を厚くす
る事も可能になる。これにより、半導体装置用リードフ
レームの絶縁材塗布の信頼性および作業性ならびにリ─
ドフレ─ム自体の信頼性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る半導体装置用リードフレームの
一実施例の部分概略斜視図である。
【図2】 本発明に係る半導体装置用リードフレームの
一実施例の部分断面図である。
【図3】 (a),(b)および(c)は、それぞれ本
発明に係る半導体装置用リードフレームの流れ防止用溝
の一実施例の断面図である。
【符号の説明】
1 半導体装置用リードフレーム 2 インナーリード 2a ワイヤボンディング部 3 信号用リード 4 電源用リード 5 バスバー 6 絶縁フィルム 7 半導体素子 8 電極 9 ボンディングワイヤ 10 絶縁材 11,14,15 流れ防止用溝 12 半導体装置 13 モールドレジン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川 村 敏 雄 茨城県日立市助川町3丁目1番1号 日立 電線株式会社電線工場内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体素子の電極とインナーリードの先端
    とがワイヤボンディングされており、ボンディングワイ
    ヤとの接触防止が必要なボンディングワイヤ側のインナ
    ーリードの表面に絶縁材を設けた半導体装置用リードフ
    レームであって、前記ボンディングワイヤ側のインナー
    リードに流れを防止するための絶縁材の流れ防止用溝設
    けたことを特徴とする半導体装置用リードフレーム。
  2. 【請求項2】前記流れ防止用溝が、前記ボンディングワ
    イヤ側のインナーリードのワイヤボンディング部の一端
    または両端に設けられる請求項1に記載の半導体装置用
    リードフレーム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6979887B2 (en) * 2000-07-07 2005-12-27 Infineon Technologies Ag Support matrix with bonding channel for integrated semiconductors, and method for producing it
JP2007330036A (ja) * 2006-06-07 2007-12-20 Seiko Epson Corp 振動体、圧電アクチュエータ、電子機器、および振動体の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04199559A (ja) * 1990-11-28 1992-07-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH0513654A (ja) * 1991-07-05 1993-01-22 Hitachi Cable Ltd 半導体集積回路装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04199559A (ja) * 1990-11-28 1992-07-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH0513654A (ja) * 1991-07-05 1993-01-22 Hitachi Cable Ltd 半導体集積回路装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6979887B2 (en) * 2000-07-07 2005-12-27 Infineon Technologies Ag Support matrix with bonding channel for integrated semiconductors, and method for producing it
JP2007330036A (ja) * 2006-06-07 2007-12-20 Seiko Epson Corp 振動体、圧電アクチュエータ、電子機器、および振動体の製造方法

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