JPH0740359B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0740359B2 JPH0740359B2 JP26699986A JP26699986A JPH0740359B2 JP H0740359 B2 JPH0740359 B2 JP H0740359B2 JP 26699986 A JP26699986 A JP 26699986A JP 26699986 A JP26699986 A JP 26699986A JP H0740359 B2 JPH0740359 B2 JP H0740359B2
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術 高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気記録層と
する磁気記録媒体は、磁気記録層を電子ビーム蒸着法，
スパッタリング法等で形成したのち、トップコート層を
溶液塗布法，真空蒸着法等で配したものを所定の寸法に
加工して得られる〔例えば電子通信学会磁気記録研究会
試料,MR81−２（1981），特開昭57−189331号，特開昭5
7−150136号，特開昭57−179948号，特開昭61−126627
号，特開昭61−11930号，特開昭61−151835号，特開昭6
1−151837号等の公報参照〕。
する磁気記録媒体は、磁気記録層を電子ビーム蒸着法，
スパッタリング法等で形成したのち、トップコート層を
溶液塗布法，真空蒸着法等で配したものを所定の寸法に
加工して得られる〔例えば電子通信学会磁気記録研究会
試料,MR81−２（1981），特開昭57−189331号，特開昭5
7−150136号，特開昭57−179948号，特開昭61−126627
号，特開昭61−11930号，特開昭61−151835号，特開昭6
1−151837号等の公報参照〕。
トップコート層の重要性の認識は最近になり特に高ま
り、材料について多くの提案がなされている。
り、材料について多くの提案がなされている。
特に耐久性の向上目的として、ダイアモンド状炭素膜，
プラズマ重合膜，SiO2スパッタ膜，MoS2スパッタ膜と潤
滑剤の積層型が注目されている。
プラズマ重合膜，SiO2スパッタ膜，MoS2スパッタ膜と潤
滑剤の積層型が注目されている。
潤滑剤のコーティングは、有機蒸着法よりも量産性にす
ぐれる湿式の溶液塗布法で行われることが多く、この方
法では、潤滑剤と溶剤の組み合わせ、乾燥条件により最
適化をはかっている。
ぐれる湿式の溶液塗布法で行われることが多く、この方
法では、潤滑剤と溶剤の組み合わせ、乾燥条件により最
適化をはかっている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記した構成では、高温，多湿な環境下で
くり返し用いると、潤滑剤が減少して十分な潤滑作用が
なくなるために、雑音が増大したり、スチル特性が低下
するといった問題や、くり返し使用後高温，多湿で長時
間保存するとドロップアウトが増大する問題があり改善
が望まれていた。本発明は上記した事情に鑑み、なされ
たもので、耐久性，耐候性の改良された磁気記録媒体を
得るのに適した製造方法を提供するものである。
くり返し用いると、潤滑剤が減少して十分な潤滑作用が
なくなるために、雑音が増大したり、スチル特性が低下
するといった問題や、くり返し使用後高温，多湿で長時
間保存するとドロップアウトが増大する問題があり改善
が望まれていた。本発明は上記した事情に鑑み、なされ
たもので、耐久性，耐候性の改良された磁気記録媒体を
得るのに適した製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記した問題点をするため、本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、高分子フィルム上に配した強磁性金属薄膜上
に溶液塗布法にて潤滑剤を配した後、オゾン処理するも
のである。
造方法は、高分子フィルム上に配した強磁性金属薄膜上
に溶液塗布法にて潤滑剤を配した後、オゾン処理するも
のである。
作用 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、潤滑剤と強磁性金属薄膜の反応が進行し、強固に付
着するのと、オゾンの酸化作用で強磁性金属薄膜で酸化
の程度が弱い部分を補強するので、耐候性も改善されそ
の作用は潤滑剤の反応付着を伴うものと考えられるので
改善度合も大きいのである。
り、潤滑剤と強磁性金属薄膜の反応が進行し、強固に付
着するのと、オゾンの酸化作用で強磁性金属薄膜で酸化
の程度が弱い部分を補強するので、耐候性も改善されそ
の作用は潤滑剤の反応付着を伴うものと考えられるので
改善度合も大きいのである。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳し
くて説明する。図は本発明を実施するのに用いたオゾン
処理装置である。図で１は処理用基板で、高分子フィル
ム上に強磁性金属薄膜を配しその上に容液塗布法で潤滑
剤を配したものである。高分子フィルムとしてはポリエ
チレンテレフタレート，ポリフェニレンサルファイド，
ポリイミド，ポリカーボネート等が適しており、強磁性
金属膜としては、電子ビーム蒸着法，スパッタリング法
等で形成された0.05〜0.2μｍ程度のCo−Cr,Co−Ti,Co
−Mo,Co−O,Co−Ni,Co−Fe,Co−Cr−Nb,Co−Ni−Ｏ等の
高保磁力膜が用いられる。溶液塗布法は、潤滑剤を容剤
に溶かして、それをリバースロールコータ，バーコータ
等で塗布，乾燥させるもので、潤滑剤としては、脂肪
酸，脂肪酸エステル，脂肪酸アミド，弗素化合物，シリ
コーン油，等の単独又は混合剤で、特別制限はない。
くて説明する。図は本発明を実施するのに用いたオゾン
処理装置である。図で１は処理用基板で、高分子フィル
ム上に強磁性金属薄膜を配しその上に容液塗布法で潤滑
剤を配したものである。高分子フィルムとしてはポリエ
チレンテレフタレート，ポリフェニレンサルファイド，
ポリイミド，ポリカーボネート等が適しており、強磁性
金属膜としては、電子ビーム蒸着法，スパッタリング法
等で形成された0.05〜0.2μｍ程度のCo−Cr,Co−Ti,Co
−Mo,Co−O,Co−Ni,Co−Fe,Co−Cr−Nb,Co−Ni−Ｏ等の
高保磁力膜が用いられる。溶液塗布法は、潤滑剤を容剤
に溶かして、それをリバースロールコータ，バーコータ
等で塗布，乾燥させるもので、潤滑剤としては、脂肪
酸，脂肪酸エステル，脂肪酸アミド，弗素化合物，シリ
コーン油，等の単独又は混合剤で、特別制限はない。
２は送り出し軸、３は巻取り軸、４はコーティングヘッ
ドを模式的に示したもので５は乾燥炉で、熱風乾燥方式
が適している。６はオゾン処理槽で７は電子ビーム発生
器である。８は回転ローラで、オゾン発生法は、電子ビ
ームを加速して、チタン箔などから大気中に取出して、
空気中の酸素からオゾンを製造する方法に限らず、気中
放電による等、方法による差はない。
ドを模式的に示したもので５は乾燥炉で、熱風乾燥方式
が適している。６はオゾン処理槽で７は電子ビーム発生
器である。８は回転ローラで、オゾン発生法は、電子ビ
ームを加速して、チタン箔などから大気中に取出して、
空気中の酸素からオゾンを製造する方法に限らず、気中
放電による等、方法による差はない。
但し、電子ビーム照射の効果を加えることも条件によっ
ては出来るのは勿論であるが、オゾンによる作用効果が
大きい。
ては出来るのは勿論であるが、オゾンによる作用効果が
大きい。
更に具体的に実施例について説明する。厚み12μｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に、２×10-4（To
rr）の酸素中で、Co−Ni（Ni,20wt％）を最小入射角36
度で斜め蒸着し、0.15μm,保磁力1000（Oe）のCo−Ni−
Ｏ膜を配し、トルエンに溶かしたステアリン酸を乾燥後
4mg/m2となるように塗布し、オゾン処理したものをテー
プA,オゾン処理なしのものをテープＢとして準備した。
オゾン処理は、厚み15μｍのチタン箔より200KVに加速
した電子ビームを0.04mA/cm2で取り出し、発生させたオ
ゾン雰囲気に50m/minでさらしたものである。オゾン濃
度は6000ppmとした。
リエチレンテレフタレートフィルム上に、２×10-4（To
rr）の酸素中で、Co−Ni（Ni,20wt％）を最小入射角36
度で斜め蒸着し、0.15μm,保磁力1000（Oe）のCo−Ni−
Ｏ膜を配し、トルエンに溶かしたステアリン酸を乾燥後
4mg/m2となるように塗布し、オゾン処理したものをテー
プA,オゾン処理なしのものをテープＢとして準備した。
オゾン処理は、厚み15μｍのチタン箔より200KVに加速
した電子ビームを0.04mA/cm2で取り出し、発生させたオ
ゾン雰囲気に50m/minでさらしたものである。オゾン濃
度は6000ppmとした。
又厚み16μｍのポリエチレンナフタレートフィルム上に
高周波スパッタリング法で、0.16μｍのCo−Cr（Cr20.6
wt％）垂直磁化膜〔垂直保磁力590（Oe）〕を配した上
に、メチルイソブチルケトンに溶かしたリグノセリン酸
メチルを乾燥時6mg/m2となるように塗布乾燥し、オゾン
処理をテープＡと同じ条件で処理したものをテープＣと
し、未処理品をテープＤとした。
高周波スパッタリング法で、0.16μｍのCo−Cr（Cr20.6
wt％）垂直磁化膜〔垂直保磁力590（Oe）〕を配した上
に、メチルイソブチルケトンに溶かしたリグノセリン酸
メチルを乾燥時6mg/m2となるように塗布乾燥し、オゾン
処理をテープＡと同じ条件で処理したものをテープＣと
し、未処理品をテープＤとした。
テープＡ〜Ｄを、市販の８ミリビデオでくり返し記録再
生を行った。45℃87％RHの環境でジッターの増大により
画面に乱れが認められたパス回数は、テープＢが68パ
ス，テープＤが73パスだったのに比して、実施例は、50
0パスくり返しても全く認められなかった。
生を行った。45℃87％RHの環境でジッターの増大により
画面に乱れが認められたパス回数は、テープＢが68パ
ス，テープＤが73パスだったのに比して、実施例は、50
0パスくり返しても全く認められなかった。
又60℃80％RHに４ケ月保存後ドップアウトを測定したと
ころ、初期値で規格化した倍率で表わすと、テープＡは
2.2倍，テープＢは16.9倍，テープＣは1.8倍，テープＤ
は24.5倍であった。
ころ、初期値で規格化した倍率で表わすと、テープＡは
2.2倍，テープＢは16.9倍，テープＣは1.8倍，テープＤ
は24.5倍であった。
又50℃80％RHで50回走行させたテープを、常温，常湿で
C/Nとスチル特性を初期値と比較した。
C/Nとスチル特性を初期値と比較した。
C/Nは輝度信号の信号対雑音比で、ヘッドはメタルイン
ギャップ型である。スチル特性は、再生出力が３（dB）
定価する時間での比較である。
ギャップ型である。スチル特性は、再生出力が３（dB）
定価する時間での比較である。
テープA,B,C,DのC/N変化は、Ｏ（dB），−3.9（dB）,O
（dB），−4.7（dB），スチル特性は、98分,17分,95分,
21分であった。
（dB），−4.7（dB），スチル特性は、98分,17分,95分,
21分であった。
発明の効果 以上のように本発明によれば、高温，多湿での使用，保
存特性の改良された磁気記録媒体を大量に得られるとい
ったすぐれた効果がある。
存特性の改良された磁気記録媒体を大量に得られるとい
ったすぐれた効果がある。
図は本発明の実施例に用いたオゾン処理装置の概略構成
図である。 １……処理基板、４……コーティングヘッド、５……乾
燥炉、６……オゾン処理槽。
図である。 １……処理基板、４……コーティングヘッド、５……乾
燥炉、６……オゾン処理槽。
Claims (1)
- 【請求項１】高分子フィルム上に配した強磁性金属膜上
に溶液塗布法にて潤活剤を配した後、オゾン処理するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26699986A JPH0740359B2 (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26699986A JPH0740359B2 (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63121119A JPS63121119A (ja) | 1988-05-25 |
| JPH0740359B2 true JPH0740359B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=17438653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26699986A Expired - Lifetime JPH0740359B2 (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740359B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002334427A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 |
-
1986
- 1986-11-10 JP JP26699986A patent/JPH0740359B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63121119A (ja) | 1988-05-25 |
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