JPH0445889B2 - - Google Patents
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- JPH0445889B2 JPH0445889B2 JP56049884A JP4988481A JPH0445889B2 JP H0445889 B2 JPH0445889 B2 JP H0445889B2 JP 56049884 A JP56049884 A JP 56049884A JP 4988481 A JP4988481 A JP 4988481A JP H0445889 B2 JPH0445889 B2 JP H0445889B2
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は斜方蒸着による強磁性金属薄膜を磁気
記録媒体として備えてなる磁気記録媒体の製造方
法に関するもので、特に走行特性、耐候性、耐久
性にすぐれた磁気記録媒体の製造方法に関する。 従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体
上にｒ−Fe2O3、Coをドープしたｒ−Fe2O3、
Fe2O4、CoをドープしたFe3O4、ｒ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、CrO2等の磁性粉末
あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材料を塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジ
エン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂
等の有機バインダー中に分散せしめたものを塗布
し乾燥させる塗布型のものが広く使用されてきて
いる。近年高密度記録への要求の高まりと共に真
空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング
等のベーパーデポジシヨン法あるいは電気メツ
キ、無電解メツキ等のメツキ法により形成される
強磁性金属薄膜を磁気性記録層とする、バインダ
ーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体が注目を浴びており実用化への努力が種々
行なわれている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁
性金属より飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材
料として使用しているため、高密度記録に必要な
薄形化が信号出力の低下をもたらすため限界にき
ており、かつその製造工程も複雑で、溶剤回収あ
るいは公害防止のための大きな附帯設備を要する
という欠点を有している。非バインダー型の磁気
記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有
する強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を
含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、
高密度記録化のために超薄形にできるという利点
を有し、しかもその製造工程は簡単である。 高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件
の一つとして、高抗磁力化、薄形化が理論的にも
実験的にも提唱されており、塗布型の磁気記録媒
体よりも一桁小さい薄型化が容易で、飽和磁束密
度も大きい非バインダー型磁気記録媒体への期待
は大きい。 特に真空蒸着による方法はメツキの場合のよう
な排液処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析
出速度も大きくできるため非常にメリツトが大き
い。真空蒸着によつて磁気記録媒体に望ましい抗
磁力および角型性を有する磁性膜を製造する方法
としては、米国特許3342632号、同3342633号等に
述べられている斜め蒸着法が知られている。この
方法によると、基体に対して入射する上気流の入
射角が大きいほど高抗磁力の媒体が得られる。し
かしながら入射角が大きいと蒸着効率が低下する
という現象があり生産上問題である。 さらに強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体に
かかわる大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する
強度、走行安定性がある。磁気記録媒体は磁気記
号の記録、再生及び消去の過程において磁気ヘツ
ドと高速相対運動のもとにおかれるが、その際走
行がスムーズにしかも安定に行なわれねばならぬ
し、同時にヘツドとの接触による摩耗もしくは破
壊が起つてはならない。又磁気記録媒体の保存中
に錆等による経時変化によつて記録された信号の
減少あるいは消失があつてはならないことも要求
される。耐久性、耐候性を向上させる方法として
保護層を設けることが検討されてはいるが、ヘツ
ドと磁性層間のスペーシング損失のために保護層
の厚みを大きくできないという制約もあるため磁
性膜そのものにも耐久性、耐候性を備えさせるこ
とが必要である。 上記の欠点を改良するために、特開昭52−
153707には非バインダ型磁気記録媒体表面に高分
子材料を塗布することにより被覆する方法が開示
されている。また特開昭53−88704にはHLB値が
５〜30の界面活性剤を湿布により設ける方法が述
べられている。これらの方法は湿式法であるため
溶媒を使用し、公害発生の恐れがあり、また防黴
等のため附帯設備を必要とする。さらに強磁性体
薄膜を蒸着した後真空装置から取り出したり高分
子材料や界面活性剤を塗布するために取り扱う際
に、強磁性体薄膜が空気に触れ、表面が酸化等に
より変質したり、摩擦によりピンホールが増加し
たりして、ドロツプアウトの原因となる等問題が
ある。 上記の問題を解決する方法として特開昭56−
7232に磁気記録媒体の表面に高分子物質を蒸着に
より設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法が記載されている。 また、特公昭61−3008に磁気記録媒体の表面
に、有機物滑剤と高分子物質を同時蒸着法により
蒸着することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法が記載されている。 また、特開昭54−154306に磁気記録媒体の表面
に高級脂肪酸を蒸着することを特徴とする耐摩耗
性磁気記録媒体の製造法が開示されている。 しかしながら、上記の方法では走行および耐摩
耗特性が十分な記録媒体を作成することが困難で
ある。特に、特開昭56−7232では走行性の改善が
十分でなく、特公昭61−3008および特開昭54−
15306では経時安定性の点が十分でない。 本発明は上記の欠点を改善したもので、その目
的は、耐摩耗性及び走行性に勝れた磁気記録媒体
を提供することである。前記目的を達成する為に
本発明は、真空成膜法により金属磁性層上に有機
高分子層を設け、更に該層上に真空成膜法により
高級脂肪酸層を設けたことを特徴としている。 本発明でいう前記真空成膜法とは、真空下で薄
膜を成膜する方法のことであつて、例えば、真空
蒸着法、イオンプレーテイング法、スパツタ法又
はプラズマ重合法等のことである。 以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施
態様について説明する。 第１図において、本発明方法を実施するための
蒸着薄膜製造装置１は、基体送出室兼取巻室２、
グロー処理室３、磁性薄膜蒸着室４、第１及び第
２の保護膜蒸着室５及び５′を夫々僅少の開口域
に制限された基体通過用のスリツト９を介して、
順次連通して成つている。なお、前記各室２〜６
は、夫々独立した排気系７ａ〜７ｅに導管８ａ〜
８ｅを介して連通し、夫々独自の真空度（通常、
10-2〜10-6Torr）が維持可能になつている。 前記送出兼取巻室２内において、回転自在に軸
支された非磁性及び可撓帯状基体Ｗから成るロー
ル１０近傍に配設した引出しローラー１１を駆動
して、前記ロール１０から前記基体Ｗを連続的に
前記グロー処理室３内に繰り出すと、Arガス導
入管１２を通して供給されたArガスが、交流高
電圧（例えば、約1kV程度）を印加された電極１
３によつて、約10-2Torr程度の真空雰囲気下で
グロー放電を生じ、前記基体Ｗの表面をクリーニ
ングし、活性化し、次工程における磁性薄膜蒸着
性の向上が図られる。 前記グロー処理室３を通過した前記基体Ｗは、
前記磁性薄膜蒸着室４内で複数個のガイドローラ
ー１４を介して、回転自在に軸支されたクーリン
グキヤン１５の下方外周面によりその走行方向が
反転された後、第１の保護膜蒸着室５へ送り込ま
れる。 なお、前記磁性薄膜蒸着室４は、可成り高真空
度（例えば、10-5Torr）に保たれた雰囲気下で、
電子銃と電源から成る電子ビーム式加熱手段１６
によりハース１７内の磁性体蒸発源１８（例え
ば、Co材、Ni材、Fe材、等）を加熱、蒸発さ
せ、前記クーリングキヤン１５上の基体９に対し
その蒸気流Ｖを通常、約45°〜90°の入射角をもつ
て蒸着を行い、磁性金属薄膜（第２図のＡ）を形
成するところである。 前記入射角は前記ハース１７とマスク１９の配
置位置によつて適宜設定される。 又、前記第１の保護蒸着室５においては、７×
10-4Torr程度の真空度で高分子材料から成る蒸
発源２０を抵抗加熱手段２１により加熱、蒸発せ
しめて、クーリングキヤン２２の下方外周面に沿
つて移動する前記基体Ｗの表面に、前記高分子材
料２０の蒸気流V′を蒸着し（第３図のＢ）、しか
る後、第２の保護膜蒸着室５′に前記基体Ｗを送
り込む。 前記第２の保護膜蒸着室５′においては、１×
10-4Torr程度の真空度で高分子、高級脂肪酸、
脂肪酸エステル又はこれらを組み合せた蒸発源２
３を抵抗加熱手段２４により加熱、蒸発せしめ
て、クーリングキヤン２５の下方外周面に沿つて
移動する前記基体Ｗの表面に、前記蒸発源２３の
蒸気流V″を蒸着し（第４図のＣ）、しかる後、前
記送出兼巻取室２に前記基体Ｗを送り込む。再
度、前記送出兼巻取室２に戻された前記基体Ｗ
は、エキスパンダーローラー２６により適正にシ
ワの矯正がなされた後、ロール状２７に巻き取ら
れて一連の薄膜形成工程が完了する。 なお、本発明において、斜め蒸着法により基体
上に形成される金属磁性層に用いられる磁性金属
材料としては、Fe、Co、Ni等の金属、あるいは
Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe
−Rh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Ｙ、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、
Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−
Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−Co−
Cr、Fe−Co−Ni−Cr等の強磁性合金である。特
に好ましいのはCoあるいはCoを75重量％含有す
るような合金である。積層してなる磁性薄膜の総
厚は、磁気記録体として充分な出力を与え得る厚
さおよび高密度記録の充分行える薄さを必要とす
ることから一般には約200Åから20000Å、好まし
くは500Åから10000Åである。各磁性薄膜の厚さ
は等しく設計してもいいし、基体に最も近い磁性
薄膜の±50％の厚さで設けてもいい。 本発明における蒸着法とは、上記米国特許第
3342632号の明細書等に述べられている通常の真
空蒸着の他、電界、磁界あるいは電子ビーム照射
等により蒸気流のイオン化、加速化等を行つて蒸
発分子の平均自由行程の大きい雰囲気にて支持基
体上に薄膜を形成させる方法をも含むものであつ
て、例えば当出願人による特開昭51−149008号明
細書に示されているような電界蒸着法、特公昭43
−11525号、特公昭46−20484号、特公昭47−
26579号、特公昭49−45439号、特開昭49−33890
号、特開昭49−34483号、特開昭49−54235号公報
に示されているようなイオン化蒸着法も本発明に
用いられ、その他スパツター法、プラズマ重合法
も適用できる。 又、本発明の磁気記録媒体の製造方法に用いら
れる基体としてはポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三酢
酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレン
ナフタレートのようなプラスチツクベースが好ま
しい。特に本発明においては表面粗さ（ra）が
0.012μｍ以下であるような上気可撓性プラスチツ
クベースが好ましい。 又、本発明において、金属磁性層上に真空成膜
法により形成される保護膜に用いられる前記高分
子はポリカーボネート、ポリウレタン、ポリビニ
ルブチラールが好ましい。 高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オ
レイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン
酸等である。 脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸メチ
ル、パルミチン酸エチル、ステアリン酸モノグリ
セリド等がある。 前述した保護膜は、第１図に示したような第１
及び第２保護膜蒸着室５及び５′内のクーリング
キヤン２２及び２５のような複数個のクーリング
キヤンを並設して各種素材を順次蒸着する以外
に、前記基体Ｗを同一室内で蛇行しながら蒸気に
さらして蒸着することも可能である。 何れの蒸着方法においても、前記保護膜の全厚
さは20〜500Å、更には20〜300Åの範囲が好まし
い。 本発明によれば、高密度記録に適した磁気記録
媒体を製造することができ磁性体製造、塗布液製
造、塗布といつた複雑な製造工程を必要とせず溶
剤を一切使用しないため溶剤回収、公害対策等の
問題がなく、かつ防黴設備を必要としない。また
強磁性体薄膜を蒸着した蒸着装置中で連続工程で
高分子物質および高級脂肪酸を蒸着することによ
り、真空を破る必要はなく、空気による強磁性体
薄膜の変質や、擦り傷によるピンホールの発生、
磁性体膜の剥離、ゴミその他の異物の付着を防止
することが可能であり、ドロツプアウトを格段に
減少させることができ記録・再生特性を改良する
ことができるため工業的価値は大なるものであ
る。また耐候性、走行性およびスチル耐久特性の
勝れた記録媒体を製造することが可能である。 以下、実施例により本発明を説明するが本発明
がこれらに限定されるものでないことは言うまで
もない。 実施例 25μ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
基板を蒸発源に対して60°の傾きになるように真
空蒸着装置内に配置した。１×10-5Torrの真空
度で99.99％のコバルト金属を電子ビーム加熱法
によりÅ／secの速度で2000Å蒸着した。続いて
７×10-4Torrの真空度でポリカーボネイトを抵
抗加熱法により５Å／secの速度で80Å蒸着し、
その後ベヘン酸を１×10-4Torrの真空度で抵抗
加熱法により20Å／secの速度で150Å蒸着した。
このようにして作製した記録媒体は、走行性、耐
候性およびスチル耐久特性とも良好なものであつ
た。スチル耐久特性の結果を表−１に示す。スチ
ル耐久特性の測定法はVTR装置においてテープ
走行を止めその時の出力信号が半減するまでの時
間を測定するものである。 表−１には比較の為に、オーバーコート層のな
い場合(a)、ポリカーボネイト層のみの場合(b)を合
せて示した。この結果より明らかなように、本方
法によるオーバーコート層(c)では、他のものと比
較して著しくスチル耐久特性の向上がみられた。 更に比較のために、コバルト金属の蒸着薄膜の
上に、ベヘン酸のみを150Å蒸着した場合(d)、７
×10-4Torrの真空度でポリカーボネート及びベ
ヘン酸を同時蒸着して厚さ230Åの層を設けた場
合(e)についてもスチル耐久性を測定した。その結
果を同じく表−１に示した。 前記のオーバーコート層のない場合(a)及びポリ
カーボネート層のみの場合(b)よりもスチル耐久性
は良好であつたが、本発明によるオーバーコート
層(c)には及ばないことが分かつた。 また、高級脂肪酸層の蒸着はポリカーボネイト
の蒸着後真空を破つて行なつてもよい。
記録媒体として備えてなる磁気記録媒体の製造方
法に関するもので、特に走行特性、耐候性、耐久
性にすぐれた磁気記録媒体の製造方法に関する。 従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体
上にｒ−Fe2O3、Coをドープしたｒ−Fe2O3、
Fe2O4、CoをドープしたFe3O4、ｒ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、CrO2等の磁性粉末
あるいは強磁性合金粉末等の粉末磁性材料を塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジ
エン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂
等の有機バインダー中に分散せしめたものを塗布
し乾燥させる塗布型のものが広く使用されてきて
いる。近年高密度記録への要求の高まりと共に真
空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング
等のベーパーデポジシヨン法あるいは電気メツ
キ、無電解メツキ等のメツキ法により形成される
強磁性金属薄膜を磁気性記録層とする、バインダ
ーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体が注目を浴びており実用化への努力が種々
行なわれている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁
性金属より飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材
料として使用しているため、高密度記録に必要な
薄形化が信号出力の低下をもたらすため限界にき
ており、かつその製造工程も複雑で、溶剤回収あ
るいは公害防止のための大きな附帯設備を要する
という欠点を有している。非バインダー型の磁気
記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有
する強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を
含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、
高密度記録化のために超薄形にできるという利点
を有し、しかもその製造工程は簡単である。 高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件
の一つとして、高抗磁力化、薄形化が理論的にも
実験的にも提唱されており、塗布型の磁気記録媒
体よりも一桁小さい薄型化が容易で、飽和磁束密
度も大きい非バインダー型磁気記録媒体への期待
は大きい。 特に真空蒸着による方法はメツキの場合のよう
な排液処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析
出速度も大きくできるため非常にメリツトが大き
い。真空蒸着によつて磁気記録媒体に望ましい抗
磁力および角型性を有する磁性膜を製造する方法
としては、米国特許3342632号、同3342633号等に
述べられている斜め蒸着法が知られている。この
方法によると、基体に対して入射する上気流の入
射角が大きいほど高抗磁力の媒体が得られる。し
かしながら入射角が大きいと蒸着効率が低下する
という現象があり生産上問題である。 さらに強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体に
かかわる大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する
強度、走行安定性がある。磁気記録媒体は磁気記
号の記録、再生及び消去の過程において磁気ヘツ
ドと高速相対運動のもとにおかれるが、その際走
行がスムーズにしかも安定に行なわれねばならぬ
し、同時にヘツドとの接触による摩耗もしくは破
壊が起つてはならない。又磁気記録媒体の保存中
に錆等による経時変化によつて記録された信号の
減少あるいは消失があつてはならないことも要求
される。耐久性、耐候性を向上させる方法として
保護層を設けることが検討されてはいるが、ヘツ
ドと磁性層間のスペーシング損失のために保護層
の厚みを大きくできないという制約もあるため磁
性膜そのものにも耐久性、耐候性を備えさせるこ
とが必要である。 上記の欠点を改良するために、特開昭52−
153707には非バインダ型磁気記録媒体表面に高分
子材料を塗布することにより被覆する方法が開示
されている。また特開昭53−88704にはHLB値が
５〜30の界面活性剤を湿布により設ける方法が述
べられている。これらの方法は湿式法であるため
溶媒を使用し、公害発生の恐れがあり、また防黴
等のため附帯設備を必要とする。さらに強磁性体
薄膜を蒸着した後真空装置から取り出したり高分
子材料や界面活性剤を塗布するために取り扱う際
に、強磁性体薄膜が空気に触れ、表面が酸化等に
より変質したり、摩擦によりピンホールが増加し
たりして、ドロツプアウトの原因となる等問題が
ある。 上記の問題を解決する方法として特開昭56−
7232に磁気記録媒体の表面に高分子物質を蒸着に
より設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法が記載されている。 また、特公昭61−3008に磁気記録媒体の表面
に、有機物滑剤と高分子物質を同時蒸着法により
蒸着することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法が記載されている。 また、特開昭54−154306に磁気記録媒体の表面
に高級脂肪酸を蒸着することを特徴とする耐摩耗
性磁気記録媒体の製造法が開示されている。 しかしながら、上記の方法では走行および耐摩
耗特性が十分な記録媒体を作成することが困難で
ある。特に、特開昭56−7232では走行性の改善が
十分でなく、特公昭61−3008および特開昭54−
15306では経時安定性の点が十分でない。 本発明は上記の欠点を改善したもので、その目
的は、耐摩耗性及び走行性に勝れた磁気記録媒体
を提供することである。前記目的を達成する為に
本発明は、真空成膜法により金属磁性層上に有機
高分子層を設け、更に該層上に真空成膜法により
高級脂肪酸層を設けたことを特徴としている。 本発明でいう前記真空成膜法とは、真空下で薄
膜を成膜する方法のことであつて、例えば、真空
蒸着法、イオンプレーテイング法、スパツタ法又
はプラズマ重合法等のことである。 以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施
態様について説明する。 第１図において、本発明方法を実施するための
蒸着薄膜製造装置１は、基体送出室兼取巻室２、
グロー処理室３、磁性薄膜蒸着室４、第１及び第
２の保護膜蒸着室５及び５′を夫々僅少の開口域
に制限された基体通過用のスリツト９を介して、
順次連通して成つている。なお、前記各室２〜６
は、夫々独立した排気系７ａ〜７ｅに導管８ａ〜
８ｅを介して連通し、夫々独自の真空度（通常、
10-2〜10-6Torr）が維持可能になつている。 前記送出兼取巻室２内において、回転自在に軸
支された非磁性及び可撓帯状基体Ｗから成るロー
ル１０近傍に配設した引出しローラー１１を駆動
して、前記ロール１０から前記基体Ｗを連続的に
前記グロー処理室３内に繰り出すと、Arガス導
入管１２を通して供給されたArガスが、交流高
電圧（例えば、約1kV程度）を印加された電極１
３によつて、約10-2Torr程度の真空雰囲気下で
グロー放電を生じ、前記基体Ｗの表面をクリーニ
ングし、活性化し、次工程における磁性薄膜蒸着
性の向上が図られる。 前記グロー処理室３を通過した前記基体Ｗは、
前記磁性薄膜蒸着室４内で複数個のガイドローラ
ー１４を介して、回転自在に軸支されたクーリン
グキヤン１５の下方外周面によりその走行方向が
反転された後、第１の保護膜蒸着室５へ送り込ま
れる。 なお、前記磁性薄膜蒸着室４は、可成り高真空
度（例えば、10-5Torr）に保たれた雰囲気下で、
電子銃と電源から成る電子ビーム式加熱手段１６
によりハース１７内の磁性体蒸発源１８（例え
ば、Co材、Ni材、Fe材、等）を加熱、蒸発さ
せ、前記クーリングキヤン１５上の基体９に対し
その蒸気流Ｖを通常、約45°〜90°の入射角をもつ
て蒸着を行い、磁性金属薄膜（第２図のＡ）を形
成するところである。 前記入射角は前記ハース１７とマスク１９の配
置位置によつて適宜設定される。 又、前記第１の保護蒸着室５においては、７×
10-4Torr程度の真空度で高分子材料から成る蒸
発源２０を抵抗加熱手段２１により加熱、蒸発せ
しめて、クーリングキヤン２２の下方外周面に沿
つて移動する前記基体Ｗの表面に、前記高分子材
料２０の蒸気流V′を蒸着し（第３図のＢ）、しか
る後、第２の保護膜蒸着室５′に前記基体Ｗを送
り込む。 前記第２の保護膜蒸着室５′においては、１×
10-4Torr程度の真空度で高分子、高級脂肪酸、
脂肪酸エステル又はこれらを組み合せた蒸発源２
３を抵抗加熱手段２４により加熱、蒸発せしめ
て、クーリングキヤン２５の下方外周面に沿つて
移動する前記基体Ｗの表面に、前記蒸発源２３の
蒸気流V″を蒸着し（第４図のＣ）、しかる後、前
記送出兼巻取室２に前記基体Ｗを送り込む。再
度、前記送出兼巻取室２に戻された前記基体Ｗ
は、エキスパンダーローラー２６により適正にシ
ワの矯正がなされた後、ロール状２７に巻き取ら
れて一連の薄膜形成工程が完了する。 なお、本発明において、斜め蒸着法により基体
上に形成される金属磁性層に用いられる磁性金属
材料としては、Fe、Co、Ni等の金属、あるいは
Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe
−Rh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Ｙ、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、
Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−
Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−Co−
Cr、Fe−Co−Ni−Cr等の強磁性合金である。特
に好ましいのはCoあるいはCoを75重量％含有す
るような合金である。積層してなる磁性薄膜の総
厚は、磁気記録体として充分な出力を与え得る厚
さおよび高密度記録の充分行える薄さを必要とす
ることから一般には約200Åから20000Å、好まし
くは500Åから10000Åである。各磁性薄膜の厚さ
は等しく設計してもいいし、基体に最も近い磁性
薄膜の±50％の厚さで設けてもいい。 本発明における蒸着法とは、上記米国特許第
3342632号の明細書等に述べられている通常の真
空蒸着の他、電界、磁界あるいは電子ビーム照射
等により蒸気流のイオン化、加速化等を行つて蒸
発分子の平均自由行程の大きい雰囲気にて支持基
体上に薄膜を形成させる方法をも含むものであつ
て、例えば当出願人による特開昭51−149008号明
細書に示されているような電界蒸着法、特公昭43
−11525号、特公昭46−20484号、特公昭47−
26579号、特公昭49−45439号、特開昭49−33890
号、特開昭49−34483号、特開昭49−54235号公報
に示されているようなイオン化蒸着法も本発明に
用いられ、その他スパツター法、プラズマ重合法
も適用できる。 又、本発明の磁気記録媒体の製造方法に用いら
れる基体としてはポリエチレンテレフタレート、
ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三酢
酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレン
ナフタレートのようなプラスチツクベースが好ま
しい。特に本発明においては表面粗さ（ra）が
0.012μｍ以下であるような上気可撓性プラスチツ
クベースが好ましい。 又、本発明において、金属磁性層上に真空成膜
法により形成される保護膜に用いられる前記高分
子はポリカーボネート、ポリウレタン、ポリビニ
ルブチラールが好ましい。 高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オ
レイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン
酸等である。 脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸メチ
ル、パルミチン酸エチル、ステアリン酸モノグリ
セリド等がある。 前述した保護膜は、第１図に示したような第１
及び第２保護膜蒸着室５及び５′内のクーリング
キヤン２２及び２５のような複数個のクーリング
キヤンを並設して各種素材を順次蒸着する以外
に、前記基体Ｗを同一室内で蛇行しながら蒸気に
さらして蒸着することも可能である。 何れの蒸着方法においても、前記保護膜の全厚
さは20〜500Å、更には20〜300Åの範囲が好まし
い。 本発明によれば、高密度記録に適した磁気記録
媒体を製造することができ磁性体製造、塗布液製
造、塗布といつた複雑な製造工程を必要とせず溶
剤を一切使用しないため溶剤回収、公害対策等の
問題がなく、かつ防黴設備を必要としない。また
強磁性体薄膜を蒸着した蒸着装置中で連続工程で
高分子物質および高級脂肪酸を蒸着することによ
り、真空を破る必要はなく、空気による強磁性体
薄膜の変質や、擦り傷によるピンホールの発生、
磁性体膜の剥離、ゴミその他の異物の付着を防止
することが可能であり、ドロツプアウトを格段に
減少させることができ記録・再生特性を改良する
ことができるため工業的価値は大なるものであ
る。また耐候性、走行性およびスチル耐久特性の
勝れた記録媒体を製造することが可能である。 以下、実施例により本発明を説明するが本発明
がこれらに限定されるものでないことは言うまで
もない。 実施例 25μ厚のポリエチレンテレフタレートフイルム
基板を蒸発源に対して60°の傾きになるように真
空蒸着装置内に配置した。１×10-5Torrの真空
度で99.99％のコバルト金属を電子ビーム加熱法
によりÅ／secの速度で2000Å蒸着した。続いて
７×10-4Torrの真空度でポリカーボネイトを抵
抗加熱法により５Å／secの速度で80Å蒸着し、
その後ベヘン酸を１×10-4Torrの真空度で抵抗
加熱法により20Å／secの速度で150Å蒸着した。
このようにして作製した記録媒体は、走行性、耐
候性およびスチル耐久特性とも良好なものであつ
た。スチル耐久特性の結果を表−１に示す。スチ
ル耐久特性の測定法はVTR装置においてテープ
走行を止めその時の出力信号が半減するまでの時
間を測定するものである。 表−１には比較の為に、オーバーコート層のな
い場合(a)、ポリカーボネイト層のみの場合(b)を合
せて示した。この結果より明らかなように、本方
法によるオーバーコート層(c)では、他のものと比
較して著しくスチル耐久特性の向上がみられた。 更に比較のために、コバルト金属の蒸着薄膜の
上に、ベヘン酸のみを150Å蒸着した場合(d)、７
×10-4Torrの真空度でポリカーボネート及びベ
ヘン酸を同時蒸着して厚さ230Åの層を設けた場
合(e)についてもスチル耐久性を測定した。その結
果を同じく表−１に示した。 前記のオーバーコート層のない場合(a)及びポリ
カーボネート層のみの場合(b)よりもスチル耐久性
は良好であつたが、本発明によるオーバーコート
層(c)には及ばないことが分かつた。 また、高級脂肪酸層の蒸着はポリカーボネイト
の蒸着後真空を破つて行なつてもよい。
【表】
第１図は本発明に用いる蒸着薄膜製造装置の要
部を切断して示した側面図、第２図〜第４図は本
発明による磁気記録媒体の断面略図である。 ２は基体送出兼取巻室、３はグロー処理室、４
は磁性薄膜蒸着室、５及び６は第１及び第２保護
膜蒸着室、Ｗは基体である。
部を切断して示した側面図、第２図〜第４図は本
発明による磁気記録媒体の断面略図である。 ２は基体送出兼取巻室、３はグロー処理室、４
は磁性薄膜蒸着室、５及び６は第１及び第２保護
膜蒸着室、Ｗは基体である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体上に斜め蒸着法により形成された金属磁
性層上に真空成膜法により有機高分子層を成膜
し、次いで該有機高分子層上に真空成膜法により
高級脂肪酸あるいは高級脂肪酸のエステル層を成
膜する磁気記録媒体の製造方法。 ２ 前記真空成膜法は、イオンプレーテイング
法、スパツタ法又はプラズマ重合法である特許請
求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。 ３ 前記有機高分子が少なくとも一部にビスフエ
ノールＡを含んだ炭酸エステル結合を有する有機
物、あるいはスチレン基、あるいはウレタン結合
を有する有機物、あるいはポリビニルブチラール
を有する有機物、もしくはこれらの組み合わせを
含むものである特許請求の範囲第１項記載の磁気
記録媒体の製造方法。 ４ 前記高級脂肪酸あるいは高級脂肪酸のエステ
ル層が、ミリスチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、パルミチン酸もしくはこれらの
組み合わせ、又はこれらの脂肪酸エステルを含む
特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56049884A JPS57164432A (en) | 1981-04-02 | 1981-04-02 | Magnetic recording medium |
| DE3212202A DE3212202C2 (de) | 1981-04-02 | 1982-04-01 | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
| US06/563,014 US4521482A (en) | 1981-04-02 | 1983-12-19 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56049884A JPS57164432A (en) | 1981-04-02 | 1981-04-02 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57164432A JPS57164432A (en) | 1982-10-09 |
| JPH0445889B2 true JPH0445889B2 (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=12843458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56049884A Granted JPS57164432A (en) | 1981-04-02 | 1981-04-02 | Magnetic recording medium |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPS57164432A (ja) |
| DE (1) | DE3212202C2 (ja) |
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| US4714631A (en) * | 1985-08-28 | 1987-12-22 | W. H. Brady Co. | Rapidly removable undercoating for vacuum deposition of patterned layers onto substrates |
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| US20240384176A1 (en) * | 2022-08-18 | 2024-11-21 | Confair Carbon Capture Technologies, Llc | Methods for Recovery of Vanadium and Coke Carbon Capture and Sequestration |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4171388A (en) * | 1971-09-02 | 1979-10-16 | Corning Glass Works | Magnetic recording and storage device having high abrasion resistance and method |
| JPS5320204B2 (ja) * | 1974-05-20 | 1978-06-26 | ||
| GB1599161A (en) * | 1976-07-15 | 1981-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Magnetic recording medium and method of making the same |
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| DE3114248C2 (de) * | 1980-04-10 | 1984-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Magnetischer Aufzeichnungsträger mit einer Schutzschicht |
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-
1981
- 1981-04-02 JP JP56049884A patent/JPS57164432A/ja active Granted
-
1982
- 1982-04-01 DE DE3212202A patent/DE3212202C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-12-19 US US06/563,014 patent/US4521482A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57164432A (en) | 1982-10-09 |
| US4521482A (en) | 1985-06-04 |
| DE3212202C2 (de) | 1995-11-30 |
| DE3212202A1 (de) | 1982-10-28 |
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