JPH0742292B2 - セフアロスポリン誘導体 - Google Patents

セフアロスポリン誘導体

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JPH0742292B2
JPH0742292B2 JP61308138A JP30813886A JPH0742292B2 JP H0742292 B2 JPH0742292 B2 JP H0742292B2 JP 61308138 A JP61308138 A JP 61308138A JP 30813886 A JP30813886 A JP 30813886A JP H0742292 B2 JPH0742292 B2 JP H0742292B2
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amino
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善正 町田
卓 神谷
茂人 根木
俊彦 内藤
雄毅 小松
誠一郎 野本
功 杉山
博 山内
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は抗菌剤として有用な新規なセファロスポリン誘
導体に関するものである。
従来,特開昭58-174387号公報,特開昭58-198490号公
報,特開昭59-130295号公報,特開昭59-219292号公報,
特開昭60-97983号公報,特開昭60-197693号公報等にお
いて,本発明化合物と同様な4級アンモニオ基を有する
セファロスポリン誘導体が知られている。しかし,グラ
ム陽性菌およびグラム陰性菌(特に緑膿菌)のいずれに
も有効な化合物という点においては,十分満足される化
合物が得られているとはいえない。
本発明者等は,本発明化合物が,グラム陽性菌,グラム
陰性菌(緑膿菌)の両者に対し優れた抗菌活性を有する
ことを見い出し,本発明を完成したものである。
したがって本発明の目的は,抗菌剤として有用な新規化
合物およびその製造方法を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明は一般式: 〔式中,R1は低級アルキル基を示し,Aは次の基: (R2およびR3は同一または異なる低級アルキル基,R4
カルバモイル基,カルボキシル基,低級アルキル置換ア
ミノ基,メルカプト基,低級アルカノイル基および水酸
基から選ばれる基で置換された低級アルキル基を示
す); あるいは カルボキシル基,カルバモイル基および低級アルキルジ
チオ基から選ばれる基で置換されていてもよい次の基: (R5は低級アルキル基を示す); あるいは次の基: (R5は前記の定義に同じ,R6はヒドロキシ低級アルキル
基またはカルボキシル基を示す)〕で表わされるセファ
ロスポリン誘導体またはその非毒性塩である。
上記一般式(I)におけるR1の低級アルキル基として
は,メチル,エチル,n−プロピル,i−プロピル,n−ブチ
ル,sec−ブチル,t−ブチルなどのC1〜C4の基があげられ
る。
また,一般式(I)のAの定義中の低級アルキル基およ
び低級アルキル置換アミノ基,ハイドロキシ低級アルキ
ル基,低級アルキルジチオ基における低級アルキル基の
例としては,上記のR1における低級アルキル基の例と同
様なものがあげられる。
R2,R3およびR4の低級アルカノイル基の例としては,ア
セチル,プロパノイルなどがあげられる。
Aで示されるより具体的な基としては,例えば次の基が
あげられる。
一般式(I)の化合物の非毒性塩としては,医薬上許容
される塩類,例えばナトリウム塩,カリウム塩などのア
ルカリ金属塩;カルシウム塩,マグネシウム塩などのア
ルカリ土類金属塩;塩酸塩,臭化水素酸塩,沃化水素酸
塩,硫酸塩,炭酸塩,重炭酸塩などの無機酸塩;酢酸
塩,マレイン酸塩,乳酸塩,酒石酸塩などの有機カルボ
ン酸塩;メタンスルホン酸塩,ベンゼンスルホン酸塩,
トルエンスルホン酸塩などの有機スルホン酸塩;アルギ
ニン塩,リジン塩,セリン塩,アスパラギン酸塩,グル
タミン酸塩などのアミノ酸塩;トリメチルアミン塩,ト
リエチルアミン塩,ピリジン塩,プロカイン塩,ピコリ
ン塩,ジシクロヘキシルアミン塩,N,N′−ジベンジルエ
チレンジアミン塩,N−メチルグルカミン塩,ジエタノー
ルアミン塩,トリエタノールアミン塩,トリス(ヒドロ
キシメチルアミノ)メタン塩,フェネチルベンジルアミ
ン塩などのアミン塩などがあげられる。
一般式(I)の本発明化合物の次の部分の立体配位に関
し, シン異性体(Z)とアンチ異性体(E)が存在する。本
発明には両異性体とも含まれるが,抗菌力の点からはシ
ン異性体が望ましい。
本発明化合物は次に示す方法により製造することができ
る。
一般式: 〔式中,R1は低級アルキル基,Xはハロゲン原子を示す〕
で表わされる化合物,そのアミノ基およびまたはカルボ
キシル基が保護基で保護された化合物,またはそれらの
化合物の塩に一般式: A′ (III) 〔A′は次の一般式 (R2およびR3は同一または異なる低級アルキル基,R4
カルバモイル基,カルボキシル基,低級アルキル置換ア
ミノ基,メルカプト基,低級アルカノイル基および水酸
基から選ばれる基で置換された低級アルキル基を示
す); あるいは カルボキシル基,カルバモイル基および低級アルキルジ
チオ基から選ばれる基で置換されていてもよい次の式: (R5は低級アルキル基を示す); あるいは次の式: (R5は前記の定義に同じ,R6はヒドロキシ低級アルキル
基またはカルボキシル基を示す)〕で表わされる化合物
またはその塩を反応させ,必要により保護基を脱離し
て,前記一般式(I)の化合物またはその非毒性塩を得
ることができる。
上記一般式(II)のXのハロゲン原子としては,沃素原
子,臭素原子,塩素原子があげられる。また,A′は前記
一般式(I)のAに対応する3級アミンである。
上記反応は反応温度−10℃〜60℃,好ましくは0℃〜40
℃で行なうことができる。また,反応溶媒としては,無
水の有機溶媒が望ましい。この使用することができる有
機溶媒としては,アセトニトリル,プロピオニトリル等
の低級アルキルニトリル;クロルメタン,ジクロルメタ
ン,クロロホルムなどのハロゲン化低級アルキル;テト
ラヒドロフラン,ジオキサン,エチルエーテル等のエー
テル;N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド;酢酸エ
チル等のエステル;アセトンなどのケトン;ベンゼン等
の炭化水素あるいはこれらの混合溶媒があげられる。
保護基の脱離は,使用した保護基の種類に応じ,加水分
解,還元など常法により行なうことができる。
一般式(II)および(III)の化合物の塩,一般式(I
I)の化合物のアミノ基およびカルボキシル基における
保護基としては,上記反応を妨げないものであれば,通
常用いられているものを使用することができる。
例えば,アミノ基の保護基としてはホルミル基,アセチ
ル基,クロルアセチル基,ジクロルアセチル基,t−ブト
キシカルボニル基,ベンジルオキシカルボニル基,トリ
チル基,p−メトキシベンジル基,ジフェニルメチル基な
ど;カルボキシ基の保護基としては,p−メトキシベンジ
ル基,p−ニトロベンジル基,t−ブチル基,メチル基,2,
2,2−トリクロロエチル基,ジフェニルメチル基,ピバ
ロイルオキシメチル基などがあげられる。また,ビス
(トリメチルシリル)アセトアミド,N−メチル−N−
(トリメチルシリル)アセトアミド,N−メチル−N−ト
リメチルシリル−トリフルオロアセトアミドなどのシリ
ル化剤を使用すれば,アミノ基およびカルボキシ基を同
時に保護できるので便利である。
一般式(II)および(III)の化合物の塩としては,例
えばナトリウム塩,カリウム塩等のアルカリ金属塩カル
シウム塩,マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩;ア
ンモニウム塩;塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,炭酸
塩,沃化水素酸塩,重炭酸塩等の無機酸塩;酢酸塩,ト
リフルオロ酢酸塩,マレイン酸塩,乳酸塩,酒石酸塩等
の有機カルボン酸塩;メタンスルホン酸塩,ベンゼンス
ルホン酸塩,トルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸
塩;トリメチルアミン塩,トリエチルアミン塩,ピリジ
ン塩,プロカイン塩,ピコリン塩,ジシクロヘキシルア
ミン塩,N,N′−ジベンジルエチレンジアミン塩,N−メチ
ルグルカミン塩,ジエタノールアミン塩,トリエタノー
ルアミン塩,トリス(ヒドロキシメチルアミノ)メタン
塩,フェネチルベンジルアミン塩等のアミン塩;アルギ
ニン塩,アスパラギン酸塩,リジン塩,グルタミン酸
塩,セリン塩等のアミノ酸塩などの塩の中より適宜選択
することができる。
次に実験例および実施例を示し,本発明をさらに詳しく
説明する。
実験例1(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸100gをジ
メチルホルムアミド1に溶解し,氷冷下,p−メトキシ
ベンジル 7β−アミノ−3−クロロメチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート p−トルエンスルホン酸
塩121.7g,トリエチルアミン22.77gおよびN−エチル−
N′−3−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸
塩139.6gを加え,同温度で8時間撹拌した。反応液に酢
酸エチル4lを加えた後,水,飽和食塩水,飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液,飽和食塩水,1N塩酸,飽和食塩水で
順次洗浄した。これに無水硫酸マグネシウムを加えて乾
燥後,溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出;クロロホルム)で精製し,目
的物115gを得た。
実験例2(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−ヨードメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例1の化合物60gをメチルエチルケトン1.2lに溶解
し,これにヨウ化ナトリウム56.5gを加えて室温にて1
時間撹拌した。溶媒を留去し,残渣を酢酸エチルに溶解
後,水,飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液,飽和食塩水で
順次洗浄した後,無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し
た。これを減圧濃縮し,n−ヘキサンを加えて,生じた沈
澱を取し,目的物61.0gを得た。
実験例3(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−トリフェニル
ホスホニオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト ヨウ化物 実験例2の化合物9.54gをベンゼン190mlに溶解し,トリ
フェニルホスフィン5.64gを加えて室温で1時間撹拌し
た。この反応液にn−ヘキサン100mlを滴下し,生じた
沈澱を取した。これをベンゼン−n−ヘキサン(1:
1)混液およびn−ヘキサンで洗浄して目的物11.30gを
得た。
実験例4(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアヂアゾール−3−イル)−(Z)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(Z)−3
−クロロ−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−
4−カルボキシレート 実験例3の化合物30.0gをクロロホルム250mlと酢酸エチ
ル300mlの混液に溶解し,氷冷下,1N水酸化ナトリウム水
溶液78.3mlを加えて撹拌した。有機層を分取し,これを
飽和食塩水で洗浄後,無水硫酸マグネシウムを加えて乾
燥した。この有機層に,氷冷下,クロロアセトアルデヒ
ド6.15gのクロロホルム10ml溶液を加え,室温下で1時
間撹拌した。反応液を濃縮し,酢酸エチル300mlを加え
て生ずる沈澱を去した。液を濃縮して粗生成物29.3
gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出;クロロホルム)にて精製して目的物7.73gを得
た。
実験例5(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−3
−ヨード−1−プロペン−1−イル)−3−セフェム−
4−カルボキシレート 実験例4の化合物7.97gをアセトン167mlに溶解し,これ
にヨウ化ナトリウム4.37gを加えて室温で1時間撹拌し
た。溶媒を留去し,残渣を酢酸エチル150mlに溶解し,
飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄
し,無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。これを減
圧濃縮し,残渣にn−ヘキサン,石油エーテルを加えて
固化し,取して目的物8.42gを得た。
実験例6(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−エトキシイミノアセトアミド〕−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例1と同様にして,2−(5−トリチルアミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−2−エトキ
シイミノ酢酸21.5gとp−メトキシベンジル 7β−ア
ミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸 p−トルエンスルホン酸塩19.8gを反応させて目的
物13.4gを得た。
実験例7(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−エトキシイミノアセトアミド〕−3−(3−クロロ
−1−プロペン−1−イル)−3−セフェム−4−カル
ボキシレート 実験例6の化合物13g,ヨウ化ナトリウム3g,トリフェニ
ルホスフィン8.5gをアセトン80mlに懸濁,撹拌した。2
時間後にイソプロピルエーテル300mlを加え生じた沈澱1
8.8gを取した。これをクロロホルム100mlに懸濁し,1N
水酸化ナトリウム水溶液46mlを加えた。有機層をとり,
これに無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。次いで
クロロアセトアルデヒド3.6gを加え,1時間撹拌した。反
応液を減圧濃縮し,残渣に酢酸エチル300mlを加え,生
じた沈澱を去した。液を濃縮し,これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製して目的物3.46gを
得た。
実験例8(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−エトキシイミノアセトアミド〕−3−(3−ヨード
−1−プロペン−1−イル)−3−セフェム−4−カル
ボキシレート 実験例5と同様にして,実験例7の化合物1.7gとヨウ化
ナトリウム600mgを反応させて目的物1.1gを得た。
実施例1 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(カルバモイルメチルジメチ
ルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物600mgをエチルエーテル60mlに懸濁し,
N,N−ジメチルグリシンアミド87.3mgを加えて室温で10
分間撹拌した。この溶液に酢酸エチル43mlを30分間かけ
て滴下した。次いで12時間撹拌した後,エチルエーテル
20mlを加え,生じた沈澱を取した。これをテトラヒド
ロフラン1mlに溶解し,酢酸エチル10mlを加えて生じた
沈澱を取して黄色粉末279mgを得た。
これを,トリフルオロ酢酸3.32mlとアニソール1.75mlの
混液に加え,氷冷下で3時間撹拌した。反応液をエチル
エーテル50mlとイソプロピルエーテル50mlの混液中に加
え,生じた沈澱を取してエチルエーテルで洗浄した。
この沈澱を水1.8ml中に加え,酢酸ナトリウムにて溶液
のpHを6.0に調整した。不溶物を去し,液を逆相シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して目的
物51mgを得た。
実施例2 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−3−ピロリニ
オ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート 実験例5の化合物500mgをエチルエーテル50mlに懸濁し,
N−メチル−3−ピロリン59.2mgの酢酸エチル5ml溶液を
加えて,室温で1時間撹拌した。この溶液に酢酸エチル
32mlを3時間30分かけて滴下し,4時間後にエチルエーテ
ル20mlを加え,13時間撹拌を続けた。生じた沈澱を取
し,テトラヒドロフラン0.88mlに溶解した。これに酢酸
エチル9mlを加えて生じた沈澱を取して,黄色粉末283
mgを得た。
この黄色粉末をトリフルオロ酢酸3.3mlとアニソール1.8
mlの混液を加え,氷冷下,3時間撹拌した。反応液をエチ
ルエーテル50mlとイソプロピルエーテル50mlの混液中に
加え,生じた沈澱を取した。これに水1.8mlを加え,
酢酸ナトリウムで溶液のpHを6.8に調整後,不溶物を
去した。液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出;5.5%メタノール水,6.5%メタノール水)にて
精製して目的物47mgを得た。
実施例3 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−((2S)−2−ハイドロキシ
メチル−1−メチルピロリジニオ)−1−プロペン−1
−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物900mgをエチルエーテル90mlに懸濁し,
N−メチル−L−プロリノール147.6mgの酢酸エチル9ml
溶液を室温下で加え,10分後に酢酸エチル57.6mlを2時
間かけて滴下した。この溶液を1時間撹拌後,N−メチル
−L−プロリノール73.8mgのエチルエーテル3ml溶液を
加え,さらに14時間撹拌した。エチルエーテル10mlを加
え生じた沈澱を取した。これをテトラヒドロフラン1.
3mlに溶解し,酢酸エチル13mlを加えて生じた沈澱を
取し,黄色粉末546mgを得た。
この黄色粉末をトリフルオロ酢酸3.9mlとアニソール3.3
mlの混液に加え,氷冷下,2時間撹拌した。反応液をエチ
ルエーテル90mlとイソプロピルエーテル90mlの混液中に
加え,生じた沈澱を取した。この沈澱に水1.8mlを加
え,酢酸ナトリウムにて溶液のpHを5.7に調整後,不溶
物を去した。液を逆相シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出;5.5%メタノール水,6.5%メタノール
水,7.5%メタノール水)にて精製し,目的物19mgを得
た。
実施例4 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(4−カルバモイルキヌクリ
ジニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−
4−カルボキシレート 実験例5の化合物500mlをエチルエーテル50mlに懸濁し,
4−カルバモイルキヌクリジン110mgを加えて室温で1時
間30分撹拌した。酢酸エチル50mlを2時間かけて滴下
し,さらに22時間撹拌後,生じた沈澱を取した。これ
をテトラヒドロフラン0.9mlに溶解し,酢酸エチル9mlを
加え,生じた沈澱を取して黄色粉末318mgを得た。
この黄色粉末をトリフルオロ酢酸2.3mlとアニソール2.8
mlの混液に加え,室温で2時間30分撹拌した。反応液を
エチルエーテル100ml中に加え,生じた沈澱を取し
た。これを水1.8mlに懸濁し,炭酸水素ナトリウムで溶
液のpHを5.3に調整後,不溶物を去した。液を逆相
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出;5%メタノ
ール水)にて精製して目的物50mgを得た。
実施例5 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−1−ピペラジ
ニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4
−カルボキシレート トリフルオロ酢酸塩 実験例5の化合物984mgをエチルエーテル98mlに懸濁し,
1−メチルピペラジン115μlを加えて室温で1時間撹拌
した。ついで酢酸エチル49mlを2時間かけて滴下し,20
時間撹拌後,生じた沈澱を取した。これをテトラヒド
ロフラン1.6mlに溶解し,酢酸エチル16mlを加えて再沈
澱させる操作を2回繰返し,黄色粉末411mgを得た。
この黄色粉末をトリフルオロ酢酸2.9mlとアニソール2.5
mlの混液に加え,室温で30分間撹拌した。反応液をエチ
ルエーテル50mlとイソプロピルエーテル50mlの混液に加
え,生じた沈澱を取した。この沈澱に水3mlを加え,
不溶物を去した。液を逆相シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出;5.5%メタノール水,7.5%メタノー
ル水)にて精製し,目的物19mgを得た。
実施例1〜5と同様にして次の実施例6〜18の化合物を
合成した。
実施例6 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシアセトアミド〕−3
−〔(E)−3−(4−カルボキシキヌクリジニオ)−
1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボ
キシレート 実験例5の化合物800mgと4−カルボキシキヌクリジン1
76.8mgを反応させ,保護基を脱離して目的物15mgを得
た。
実施例7 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミド
−3−〔(E)−3−〔(2S)−2−カルボキシ−1−
メチルピロリジニオ〕−1−プロペン−1−イル〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物800mgとN−メチル−L−プロリン317
mgを反応させ,保護基を脱離して目的物として2種の異
性体(ピロリジン環の窒素原子に結合しているメチル基
の立体配位に関する)を得た。
異性体A 12mg 異性体B 20mg 実施例8 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(カルボキシメチルジメチル
アンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物800mgとN,N−ジメチルグリシン117.5m
gを反応させ,保護基を脱離して目的物12mgを得た。
実施例9 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(3−カルボキシピリジニ
オ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート 実験例5の化合物1.0gとニコチン酸405mgを反応させ,
保護基を脱離して目的物35mgを得た。
実施例10 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(1,5−テトラメチレン−2
−ピラゾリオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物600mgと1,5−テトラメチレンピラゾー
ル0.6mlを反応させ,保護基を脱離して目的物11mgを得
た。
実施例11 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(カルバモイルメチルジエチ
ルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物500mgとN,N−ジエチルグリシンアミド
93mgを反応させ,保護基を脱離して目的物6mgを得た。
実施例12 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(2−ジメチルアミノエチル
ジメチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物800mgと1,2−ビス(ジメチルアミノ)
エタン172μlを反応させ,保護基を脱離して目的物14m
gを得た。
実施例13 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(2−メルカプトエチルジメ
チルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物500mgと2−ジメチルアミノエタンチ
オール200mgを反応させ,保護基を脱離して目的物2.5mg
を得た。
実施例14 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(1−モルホリノ[4,3−
b]ピラゾリオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物1.0gとモルホリノ[4,3−b]ピラゾ
ール408mgを反応させ,保護基を脱離して目的物11mgを
得た。
実施例15 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−エトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(カルバモイルメチルジメチ
ルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 実験例8の化合物1.0gとN,N−ジメチルグリシンアミド2
30mgを反応させ,保護基を脱離して目的物90mgを得た。
実施例16 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−〔4−(メチルジチオ)キヌ
クリジニオ〕−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物500mgと4−(メチルジチオ)キヌク
リジン350mgを反応させ,保護基を脱離して目的物28mg
を得た。
実施例17 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(2−オキソプロピルジメチ
ルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物500mgとN,N−ジメチルアミノアセトン
100mgを反応させ,保護基を脱離して目的物36mgを得
た。
実施例18 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−〔N,N−ジメチル−N−(2
−カルバモイルエチル)アンモニオ〕−1−プロペン−
1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例5の化合物500mgと3−ジメチルアミノプロピオ
ンアミド127mgを反応させ,保護基を脱離して目的物12m
gを得た。
実施例19 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−3−(2−ハイドロキシエチルジ
メチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート (化合物A) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(Z)−3−(2−ハイドロキシエチルジ
メチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート (化合物B) 実験例4の化合物500mg,ヨウ化ナトリウム142mgおよび
2−ブタノン10mlを室温で1時間撹拌した。溶媒を留去
し,残渣を酢酸エチルに溶解し,10%チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液および飽和食塩水で洗浄後,無水硫酸マグネシ
ウムを加えて乾燥した。溶媒を留去し,残渣を酢酸エチ
ル30mlとエチルエーテル10mlの混液に溶解した。これに
N,N−ジメチルアミノエタノール112mgを加え,室温で1
時間30分撹拌した。エチルエーテル20mlを加え,生じた
沈澱を取した。これをイソプロピルエーテルで洗浄
し,黄色粉末370mgを得た。
この黄色粉末を,氷冷下,アニソール0.8mlとトリフル
オロ酢酸8mlの混液に加え,同温度で1時間撹拌した。
反応液にイソプロピルエーテル20mlを加え,生じた沈澱
を取した。これに30%メタノール水を加え,不溶物を
去した。酢酸ナトリウムで液のpHを5に調整した。
溶媒を留去し,残渣を逆相シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出;5%メタノール水)で精製して,目的と
する化合物A25mgおよび化合物B17mgを得た。
実施例20 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(Z)−3−(カルバモイルメチルジメチ
ルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物1.031gを酢酸エチル20mlおよびクロロ
ホルム6mlの混液に溶解し,この溶液に10%炭酸カリウ
ム水溶液20mlを加えて振とうした。有機層を分取し,無
水炭酸カリウムを加えて乾燥した後,酢酸エチル6mlで
洗浄した。クロルアセトアルデヒド85mlの酢酸エチル0.
25ml溶液を氷冷下に加え,4時間撹拌した。ついで,N,N−
ジメチルグリシンアミド137mgおよびヨウ化ナトリウム5
0mgのアセトン1ml溶液を加え,室温にて一夜撹拌した。
析出物を取し,乾燥した。これをアニソール1.4mlに
溶解し,氷冷下,トリフルオロ酢酸1.9mlを加えて1時
間撹拌した。反応液にイソプロピルエーテル−エチルエ
ーテル(1:1)混液100mlを加え,生じた沈澱を取し
た。この沈澱をエチルエーテルで洗浄後,乾燥して20mg
の固体を得た。これを水1.5ml−飽和酢酸ナトリウム水
溶液1.0mlの混液に溶解し,不溶物を去した。液を
逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出;水−
6%メタノール水のグラジエント)にて精製し,目的物
5mgを得た。
〔発明の効果〕
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山内 博 茨城県新治郡桜村下広岡500−105 審査官 池田 正人

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式: 〔式中,R1は低級アルキル基を示し,Aは次の基: (R2およびR3は同一または異なる低級アルキル基,R4
    カルバモイル基,カルボキシル基,低級アルキル置換ア
    ミノ基,メルカプト基,低級アルカノイル基および水酸
    基から選ばれる基で置換された低級アルキル基を示
    す); あるいは カルボキシル基,カルバモイル基および低級アルキルジ
    チオ基から選ばれる基で置換されていてもよい次の基: (R5は低級アルキル基を示す); あるいは次の基: (R5は前記の定義に同じ,R6はヒドロキシ低級アルキル
    基またはカルボキシル基を示す)〕で表わされるセファ
    ロスポリン誘導体またはその非毒性塩。
  2. 【請求項2】一般式(I)におけるAが次に示される
    基: である化合物またはその非毒性塩である特許請求の範囲
    第1項記載の化合物。
  3. 【請求項3】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チア
    ジアゾール−3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
    アセトアミド〕−3−〔(E)−3−(カルバモイルメ
    チルジメチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕
    −3−セフェム−4−カルボキシレートまたはその非毒
    性塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  4. 【請求項4】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チア
    ジアゾール−3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
    アセトアミド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−1
    −ピペラジニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−セ
    フェム−4−カルボキシレートまたはその非毒性塩であ
    る特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  5. 【請求項5】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チア
    ジアゾール−3−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
    アセトアミド〕−3−〔(E)−3−(2−ハイドロキ
    シエチルジメチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イ
    ル〕−3−セフェム−4−カルボキシレートまたはその
    非毒性塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  6. 【請求項6】一般式: 〔式中,R1は低級アルキル基,Xはハロゲン原子を示す〕
    で表わされる化合物,そのアミノ基およびまたはカルボ
    キシル基が保護基で保護された化合物,またはそれらの
    化合物の塩に一般式: A′ (III) 〔A′は次の式: (R2およびR3は同一または異なる低級アルキル基,R4
    カルバモイル基,カルボキシル基,低級アルキル置換ア
    ミノ基,メルカプト基,低級アルカノイル基および水酸
    基から選ばれる基で置換された低級アルキル基を示
    す); あるいは カルボキシル基,カルバモイル基および低級アルキルジ
    チオ基から選ばれる基で置換されていてもよい次の式: (R5は低級アルキル基を示す); あるいは次の式 (R5は前記の定義に同じ,R6ヒドロキシ低級アルキル基
    またはカルボキシル基を示す)〕で表わされる化合物ま
    たはその塩を反応させ,必要により保護基を脱離するこ
    とを特徴とする一般式: 〔式中,R1は前記の通り,AはA′に対応する4級アンモ
    ニオ基を示す〕で表わされる化合物またはその非毒性塩
    の製造方法。
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