JPH0742308B2 - グルタチオン モノアルキルエステル硫酸塩およびその製造法 - Google Patents
グルタチオン モノアルキルエステル硫酸塩およびその製造法Info
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- JPH0742308B2 JPH0742308B2 JP61129468A JP12946886A JPH0742308B2 JP H0742308 B2 JPH0742308 B2 JP H0742308B2 JP 61129468 A JP61129468 A JP 61129468A JP 12946886 A JP12946886 A JP 12946886A JP H0742308 B2 JPH0742308 B2 JP H0742308B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H21/00—Compounds containing two or more mononucleotide units having separate phosphate or polyphosphate groups linked by saccharide radicals of nucleoside groups, e.g. nucleic acids
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07K—PEPTIDES
- C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
- C07K5/02—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link
- C07K5/0215—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link containing natural amino acids, forming a peptide bond via their side chain functional group, e.g. epsilon-Lys, gamma-Glu
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Description
【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は,γ−L−グルタミル−L−システイニルグリ
シン(グルタチオン)のグリシンカルボキシ基に関する
新規なモノアルキルエステル(以下,グルタチオンモノ
エステルと略記する。)硫酸塩およびその製造法に関す
る。
シン(グルタチオン)のグリシンカルボキシ基に関する
新規なモノアルキルエステル(以下,グルタチオンモノ
エステルと略記する。)硫酸塩およびその製造法に関す
る。
(先行技術および問題点) グルタチオンモノエステルは,グルタチオン自体とは異
なって,動物実験において多くのタイプの細胞へ高濃度
で移行し,加水分解を受けてグルタチオンに復帰するグ
ルタチオンの誘導体として報告されている〔プロシーデ
ィングス オブ ナショナル アカデミー オブ サイ
エンシズ オブ アメリカ 第80巻,5258頁,1983年(Pr
oc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.,vol.80,5258(1983))〕。
従ってグルタチオンモノエステルは,生体内において解
毒作用,放射線防禦作用等のグルタチオンに認められて
いる薬理作用を効果的に発現するグルタチオンの易吸収
性活性体として有用である。
なって,動物実験において多くのタイプの細胞へ高濃度
で移行し,加水分解を受けてグルタチオンに復帰するグ
ルタチオンの誘導体として報告されている〔プロシーデ
ィングス オブ ナショナル アカデミー オブ サイ
エンシズ オブ アメリカ 第80巻,5258頁,1983年(Pr
oc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.,vol.80,5258(1983))〕。
従ってグルタチオンモノエステルは,生体内において解
毒作用,放射線防禦作用等のグルタチオンに認められて
いる薬理作用を効果的に発現するグルタチオンの易吸収
性活性体として有用である。
グルタチオンの一般的なエステル化過程で生ずるグルタ
チオンモノエステルの酸付加塩に関しては,その塩酸塩
についてのみ上記文献に記載されている。しかし,同文
献には,グルタチオンモノエステル塩酸塩の製造法につ
いては,直接的な記載はなく,単にベルクマン アンド
ツェルバス;ツァィトシュリフト フュア フィジオ
ロジッシェ ヘミー 221巻,51〜54頁,1933年(Bergman
n M.& Zervas L.;Z.physiol.Chem.,Vol.221,51〜54(1
933))にしたがって得た旨記載しているにすぎない。B
ergmann M.& Zervas L.等の製造法は,グルタミン酸を
エタノール/塩酸でエステル化して,グルタミン酸のγ
−エチルエステルを製造する方法であるから,上記Pro
c.Natl.Acad.Sci.U.S.A.の報告者等は,グルタチオンモ
ノエステル塩酸塩を製造するに際し,グルタチオンを原
料とし,これをエタノール(またはメタノール)/塩酸
で直接モノエステル化して製造したものと推測される。
チオンモノエステルの酸付加塩に関しては,その塩酸塩
についてのみ上記文献に記載されている。しかし,同文
献には,グルタチオンモノエステル塩酸塩の製造法につ
いては,直接的な記載はなく,単にベルクマン アンド
ツェルバス;ツァィトシュリフト フュア フィジオ
ロジッシェ ヘミー 221巻,51〜54頁,1933年(Bergman
n M.& Zervas L.;Z.physiol.Chem.,Vol.221,51〜54(1
933))にしたがって得た旨記載しているにすぎない。B
ergmann M.& Zervas L.等の製造法は,グルタミン酸を
エタノール/塩酸でエステル化して,グルタミン酸のγ
−エチルエステルを製造する方法であるから,上記Pro
c.Natl.Acad.Sci.U.S.A.の報告者等は,グルタチオンモ
ノエステル塩酸塩を製造するに際し,グルタチオンを原
料とし,これをエタノール(またはメタノール)/塩酸
で直接モノエステル化して製造したものと推測される。
しかし,グルタチオンモノエステル塩酸塩は結晶形で単
離されず,そのためグルタチオンジエステルが夾雑する
難点がある。グルタチオンジエステルは,モノエステル
と異なり毒性が強い化合物であるから,その除去を完全
に行わなければならない。
離されず,そのためグルタチオンジエステルが夾雑する
難点がある。グルタチオンジエステルは,モノエステル
と異なり毒性が強い化合物であるから,その除去を完全
に行わなければならない。
本発明のグルタチオンモノエステル硫酸塩は文献未収載
の新規な化合物であり,この化合物は良結晶性のため精
製が極めて容易となり,従って本発明の製造法に依れば
ジエステルを夾雑しない純粋なグルタチオンモノエステ
ルを提供できる。
の新規な化合物であり,この化合物は良結晶性のため精
製が極めて容易となり,従って本発明の製造法に依れば
ジエステルを夾雑しない純粋なグルタチオンモノエステ
ルを提供できる。
(問題点を解決するための手段) 本発明のグルタチオンモノエステル硫酸塩のアルキル基
は炭素数1〜10の直鎖または分岐を有する飽和または不
飽和アルキル基であり,好ましくはメチル,エチル,ブ
チル,ペンチル,ヘキシル,ヘプチル,オクチル,ノニ
ル,デシル等の飽和直鎖アルキル基,イソプロピル,イ
ソブチル,sec−ブチル,tert−ブチル,イソペンチル等
の飽和分岐アルキル基である。これ等の中で特に好まし
いものは,エチル,イソプロピル,イソブチル,n−ヘキ
シル等である。
は炭素数1〜10の直鎖または分岐を有する飽和または不
飽和アルキル基であり,好ましくはメチル,エチル,ブ
チル,ペンチル,ヘキシル,ヘプチル,オクチル,ノニ
ル,デシル等の飽和直鎖アルキル基,イソプロピル,イ
ソブチル,sec−ブチル,tert−ブチル,イソペンチル等
の飽和分岐アルキル基である。これ等の中で特に好まし
いものは,エチル,イソプロピル,イソブチル,n−ヘキ
シル等である。
グルタチオンモノエステル硫酸塩を化学的に製造する際
の出発物質であるグルタチオンはどのような方法で製造
されたものであってもよい。すなわち天然物から抽出単
離されたものでも,化学的に合成されたものであって
も,あるいは遺伝子工学的手法によって得られたもので
あってもよい。
の出発物質であるグルタチオンはどのような方法で製造
されたものであってもよい。すなわち天然物から抽出単
離されたものでも,化学的に合成されたものであって
も,あるいは遺伝子工学的手法によって得られたもので
あってもよい。
グルタチオンモノエステル硫酸塩は,グルタチオンに硫
酸の存在下でアルコールを作用させてグルタチオンのグ
リシンカルボキシ基をエステル化することにより製造で
きる。
酸の存在下でアルコールを作用させてグルタチオンのグ
リシンカルボキシ基をエステル化することにより製造で
きる。
本発明の製造法を反応式で示すとつぎの通りである。
この工程の反応は,グルタチオンと反応対応量乃至過剰
量のアルコール(R-OH)との混合液中に,攪拌しながら
硫酸を添加することにより行う。硫酸は,比較的高濃度
のものが使用され,濃硫酸として市販されているものを
そのまま使用できる。硫酸の添加量は,グルタチオンに
対し,2〜4当量が適当であり,イソプロピルエルテルを
製造する場合3.5当量前後が特に好ましい。
量のアルコール(R-OH)との混合液中に,攪拌しながら
硫酸を添加することにより行う。硫酸は,比較的高濃度
のものが使用され,濃硫酸として市販されているものを
そのまま使用できる。硫酸の添加量は,グルタチオンに
対し,2〜4当量が適当であり,イソプロピルエルテルを
製造する場合3.5当量前後が特に好ましい。
反応は室温で容易に進行する。反応中に発熱を伴うこと
があるが冷却の必要はない。反応は1時間程度で均一な
溶液となりそのまま攪拌を続けるとグルタチオンモノエ
ステルの硫酸塩が結晶として析出する。反応生成物の単
離は,この析出結晶を取すればよい。
があるが冷却の必要はない。反応は1時間程度で均一な
溶液となりそのまま攪拌を続けるとグルタチオンモノエ
ステルの硫酸塩が結晶として析出する。反応生成物の単
離は,この析出結晶を取すればよい。
この工程の生成物は,グルタチオンのグリシンカルボキ
シ基に関するモノエステルの硫酸塩であり,ジエステル
体の夾雑はほとんど認められない。
シ基に関するモノエステルの硫酸塩であり,ジエステル
体の夾雑はほとんど認められない。
なお,本工程のモノエステル化に使用できるアルコール
は,特に制限はないが,好ましくは炭素数1乃至10の直
鎖または分枝を有するアルキルアルコールであり,代表
的なものとしては,メチルアルコール,エチルアルコー
ル,イソプロピルアルコール,プロピルアルコール,ブ
チルアルコール,ヘキシルアルコール等を挙げることが
できる。
は,特に制限はないが,好ましくは炭素数1乃至10の直
鎖または分枝を有するアルキルアルコールであり,代表
的なものとしては,メチルアルコール,エチルアルコー
ル,イソプロピルアルコール,プロピルアルコール,ブ
チルアルコール,ヘキシルアルコール等を挙げることが
できる。
グルタチオンモノエステル硫酸塩は中和剤の存在下にお
いてそのまま人体に適用できるほか,脱塩処理を施して
遊離形とした後に投与することも可能である。遊離形の
グルタチオンモノエステルに導くには,イオン交換樹脂
によるのが便利である。イオン交換樹脂としては,HP-20
(商品名,三菱化成工業K.K.)が好適である。すなわ
ち,硫塩酸をHP-20を充填したカラムにチャージさせ,
該カラムを先ず水で処理して硫酸を流出させ,ついで50
%メタノール(またはエタノール)水溶液で処理してグ
ルタチオンモノエステルを流出させる。この場合,グル
タチオンモノエステルは,特定の流出帯域に高純度に集
中して流出してくるから,収集フラクションが少量です
み,後の流出後の濃縮処理を効率良く行うことができ
る。
いてそのまま人体に適用できるほか,脱塩処理を施して
遊離形とした後に投与することも可能である。遊離形の
グルタチオンモノエステルに導くには,イオン交換樹脂
によるのが便利である。イオン交換樹脂としては,HP-20
(商品名,三菱化成工業K.K.)が好適である。すなわ
ち,硫塩酸をHP-20を充填したカラムにチャージさせ,
該カラムを先ず水で処理して硫酸を流出させ,ついで50
%メタノール(またはエタノール)水溶液で処理してグ
ルタチオンモノエステルを流出させる。この場合,グル
タチオンモノエステルは,特定の流出帯域に高純度に集
中して流出してくるから,収集フラクションが少量です
み,後の流出後の濃縮処理を効率良く行うことができ
る。
このようにして得られたグルタチオンモノエステル硫酸
塩は,中和剤の存在下に水又は生理食塩水に溶解して注
射剤としてもよいし,また経口剤として用いてもよい。
さらに医薬として許容される担体と混合して製剤として
もよい。担体としては,水あるいはラクトース等が用い
られる。
塩は,中和剤の存在下に水又は生理食塩水に溶解して注
射剤としてもよいし,また経口剤として用いてもよい。
さらに医薬として許容される担体と混合して製剤として
もよい。担体としては,水あるいはラクトース等が用い
られる。
グルタチオンモノエステル硫酸塩の投与量は,遊離形に
換算して体重kg当り,1マイクロモル〜1ミリモル,好ま
しくは10〜100マイクロモル程度であって,これを1日
1〜6回に分けて投与するとよい。グルタチオンモノエ
ステルの毒性は非常に低く,マウスの腹腔内注射でグル
タチオンイソプロピルエステルのLD50は13ミリモル/kg
程度である。
換算して体重kg当り,1マイクロモル〜1ミリモル,好ま
しくは10〜100マイクロモル程度であって,これを1日
1〜6回に分けて投与するとよい。グルタチオンモノエ
ステルの毒性は非常に低く,マウスの腹腔内注射でグル
タチオンイソプロピルエステルのLD50は13ミリモル/kg
程度である。
(発明の効果) 本発明に依れば,塩酸の存在下でエステル化する従来の
グルタチオンモノエステル塩酸塩の製造法の場合と異な
り,グルタチオンジエステル体の生成がほとんど認めら
れない。また,反応液からほぼ純粋なグルタチオンモノ
エステルの硫酸塩が単離できるから,中和剤での処理,
あるいは脱塩処理を施すだけで治療および予防医薬とし
て重要な純粋な遊離形グルタチオンが得られる。
グルタチオンモノエステル塩酸塩の製造法の場合と異な
り,グルタチオンジエステル体の生成がほとんど認めら
れない。また,反応液からほぼ純粋なグルタチオンモノ
エステルの硫酸塩が単離できるから,中和剤での処理,
あるいは脱塩処理を施すだけで治療および予防医薬とし
て重要な純粋な遊離形グルタチオンが得られる。
実施例1 イソプロピルアルコール800mlにグルタチオン124gを加
え,攪拌下95%硫酸42mlを滴下する。発熱するが特に冷
却の必要はない。約1時間後に均一な溶液となり,ほぼ
24時間後にグルタチオンモノイソプロピルエステル(イ
ソプロピルγ−L−グルタミル−L−システイニルグリ
シネート)の硫酸塩の結晶が析出し始めるが,さらに一
夜攪拌を続ける。結晶を取し,イソプロピルアルコー
ル200mlで先滌し,減圧乾燥すると,粗硫酸塩88.5gを得
る。
え,攪拌下95%硫酸42mlを滴下する。発熱するが特に冷
却の必要はない。約1時間後に均一な溶液となり,ほぼ
24時間後にグルタチオンモノイソプロピルエステル(イ
ソプロピルγ−L−グルタミル−L−システイニルグリ
シネート)の硫酸塩の結晶が析出し始めるが,さらに一
夜攪拌を続ける。結晶を取し,イソプロピルアルコー
ル200mlで先滌し,減圧乾燥すると,粗硫酸塩88.5gを得
る。
(1)このものの一部を水−イソプロピルアルコール混
液(混合比1:5)で再結晶して精製し,分析用試料とし
た。
液(混合比1:5)で再結晶して精製し,分析用試料とし
た。
融点145〜150℃ C H N S 計算値(%) 38.32 6.18 10.31 11.80 実測値(%) 38.11 6.34 10.32 12.10 (2)粗硫酸塩5.0gを水−エタノール混液(混合比1:
1)20mlに81℃で5分間加温,溶解して過後氷冷す
る。60分後に析出晶を取,エタノール10mlで先滌し,
減圧下乾燥して純品の硫酸塩4.4gを得る。
1)20mlに81℃で5分間加温,溶解して過後氷冷す
る。60分後に析出晶を取,エタノール10mlで先滌し,
減圧下乾燥して純品の硫酸塩4.4gを得る。
i)融点 148〜150℃ ii)比旋光度▲[α]20 D▼−15.5(C=1.0,H2O) C H N S 計算値(%) 38.32 6.18 10.31 11.80 実測値(%) 38.37 6.06 10.14 11.78 iv)Mass FAB:350 v)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 1.20(6H,d,J=6Hz), 1.76〜2.16(2H,m), 2.20〜2.48(2H,m), 2.60〜2.96(2H,m), 3.48〜3.72(1H,m), 3.78(2H,d,J=6Hz), 4.24〜4.56(1H,m), 4.72〜6.12(1H,m) 実施例2 エタノール400mlにグルタチオン99.2gを加えて氷冷・攪
拌下95%硫酸24mlを15分間で滴下する。さらに45分間攪
拌を続け,室温で一夜攪拌する。次いで氷室で一夜攪拌
し,析出晶を取し,エタノール200mlで先滌し,減圧
下乾燥して粗グルタチオンモノエチルエステル(エチル
γ−L−グルタミル−L−システイニルグリシネート)
硫酸塩結晶50.3gを得る。
拌下95%硫酸24mlを15分間で滴下する。さらに45分間攪
拌を続け,室温で一夜攪拌する。次いで氷室で一夜攪拌
し,析出晶を取し,エタノール200mlで先滌し,減圧
下乾燥して粗グルタチオンモノエチルエステル(エチル
γ−L−グルタミル−L−システイニルグリシネート)
硫酸塩結晶50.3gを得る。
粗硫酸塩45.3gを水−エタノール(混合比1:1)100mlに8
0℃で15分間加温溶解し,過後氷冷する。60分後に析
出晶を取,エタノール70mlで先滌し,減圧下乾燥して
純品の硫酸塩34.1gを得る。
0℃で15分間加温溶解し,過後氷冷する。60分後に析
出晶を取,エタノール70mlで先滌し,減圧下乾燥して
純品の硫酸塩34.1gを得る。
i)融点 135〜138℃ ii)比旋光度▲[α]25 D▼−16.1(C=1.0,H2O) C H N S 計算値(%) 36.63 5.89 10.68 12.23 実測値(%) 36.57 6.09 10.61 12.21 iv)Mass FAB:336 v)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 1.20(3H,t,J=7Hz), 1.80〜2.16(2H,m), 2.20〜2.48(2H,m), 2.60〜2.96(2H,m), 3.48〜3.72(1H,m), 3.82(2H,d,J=6Hz), 4.10(2H,q,J=7Hz), 4.24〜4.56(1H,m), 参考例1(脱塩工程) 実施例1で得た未精製の硫酸塩50.0gを水1.2lに溶解し,
HP-20 1.5lにチャージし,水で流出し,次いでメタノー
ル−水混液(混合比1:1)で流出し,目的物質を含むフ
ラクション2.5lを得る。このフラクションを濃縮後,凍
結乾燥を行いグルタチオンモノイソプロピルエステル3
3.8gを得る。
HP-20 1.5lにチャージし,水で流出し,次いでメタノー
ル−水混液(混合比1:1)で流出し,目的物質を含むフ
ラクション2.5lを得る。このフラクションを濃縮後,凍
結乾燥を行いグルタチオンモノイソプロピルエステル3
3.8gを得る。
(i)融点 184〜186℃ (ii)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1730,1635,1525,1400,1370, 1205,1100 (iii)比旋光度▲[α]21 D▼−31.0(c=1.0,水) (iv)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 1.20(6H,d,J=6Hz), 1.72〜2.16(2H,m), 2.20〜2.40(2H,m), 2.64〜2.86(2H,m), 3.20〜3.56(1H,m), 3.80(2H,s), 4.20〜4.60(1H,m), 4.68〜5.08(1H,m) 参考例2〜5 参考例1と同様にして次のグルタチオンモノエステルが
製造できる。
製造できる。
参考例2 グルタチオンモノメチルエステル(メチルγ−L−グル
タミル−L−システイニル グリシネート) (i)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1740,1635,1520,1400,1210, (ii)比旋光度▲[α]25 D▼−32.0(c=1.0,水) (iii)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6+CD3OD,δ) 1.72〜2.04(2H,m), 2.20〜2.40(2H,m), 2.64〜2.88(2H,m), 3.16〜3.40(1H,m), 3.60(3H,s), 3.80(2H,s), 4.20〜4.60(1H,m) 参考例3 グルタチオンモノエチルエステル(エチルγ−L−グル
タミル−L−システイニルグリシネート) (i)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1735,1635,1520,1400,1200 (ii)比旋光度▲[α]21 D▼−27.2(c=1.0,水) (iii)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 1.16(3H,t,J=7), 1.70〜2.04(2H,m) 2.16〜2.40(2H,m), 2.60〜2.82(2H,m), 3.16〜3.40(1H,m), 3.80(2H,s), 4.04(2H,q,J=7), 4.20〜4.48(1H,m) 参考例4 グルタチオンモノイソブチルエステル(イソブチルγ−
L−グルタミル−L−システイニルグリシネート) (i)融点 188〜190℃ (ii)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1740,1635,1530,1400,1200, 1095 (iii)比旋光度(▲[α]26 D▼) −24.5(c=1.0,水) (iv)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 0.88(6H,d,J=6Hz) 1.60〜2.12(3H,m) 2.12〜2.44(2H,m) 2.60〜3.00(2H,m) 3.16〜3.44(1H,m) 3.60〜4.04(3H,m) 4.20〜4.60(1H,m) 参考例5 グルタチオン モノn−ヘキシルエステル(n−ヘキシ
ル γ−L−グルタミル−L−システイニル グリシネ
ート) (i)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1740,1635,1520,1400,1340, 1300,1200,1090 (ii)比旋光度(▲[α]26 D▼) −25.2(c=1.0,メタノール) (iii)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 0.60〜1.04(3H,m) 1.04〜1.76(8H,m) 1.76〜2.16(2H,m) 2.16〜2.48(2H,m) 2.60〜3.04(2H,m) 3.20〜3.56(1H,m) 3.82(2H,s) 3.92〜4.20(2H,m) 4.20〜4.60(1H,m) 参考例6−注射剤の処方例− グルタチオンモノイソプロピルエステル硫酸塩を45mg/m
lの濃度で精製水に懸濁させ5℃以下に冷却する。エス
テル硫酸塩に対し約2倍モルの炭酸水素ナトリウムを加
えてエステル硫酸塩を溶解し,溶液をPH4に調製した
後,濃度を40mg/mlとし,無菌過する。バイアル瓶に
各25mlの溶液を入れ凍結乾燥する。
タミル−L−システイニル グリシネート) (i)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1740,1635,1520,1400,1210, (ii)比旋光度▲[α]25 D▼−32.0(c=1.0,水) (iii)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6+CD3OD,δ) 1.72〜2.04(2H,m), 2.20〜2.40(2H,m), 2.64〜2.88(2H,m), 3.16〜3.40(1H,m), 3.60(3H,s), 3.80(2H,s), 4.20〜4.60(1H,m) 参考例3 グルタチオンモノエチルエステル(エチルγ−L−グル
タミル−L−システイニルグリシネート) (i)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1735,1635,1520,1400,1200 (ii)比旋光度▲[α]21 D▼−27.2(c=1.0,水) (iii)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 1.16(3H,t,J=7), 1.70〜2.04(2H,m) 2.16〜2.40(2H,m), 2.60〜2.82(2H,m), 3.16〜3.40(1H,m), 3.80(2H,s), 4.04(2H,q,J=7), 4.20〜4.48(1H,m) 参考例4 グルタチオンモノイソブチルエステル(イソブチルγ−
L−グルタミル−L−システイニルグリシネート) (i)融点 188〜190℃ (ii)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1740,1635,1530,1400,1200, 1095 (iii)比旋光度(▲[α]26 D▼) −24.5(c=1.0,水) (iv)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 0.88(6H,d,J=6Hz) 1.60〜2.12(3H,m) 2.12〜2.44(2H,m) 2.60〜3.00(2H,m) 3.16〜3.44(1H,m) 3.60〜4.04(3H,m) 4.20〜4.60(1H,m) 参考例5 グルタチオン モノn−ヘキシルエステル(n−ヘキシ
ル γ−L−グルタミル−L−システイニル グリシネ
ート) (i)赤外線吸収スペクトル(KBr,cm-1) 1740,1635,1520,1400,1340, 1300,1200,1090 (ii)比旋光度(▲[α]26 D▼) −25.2(c=1.0,メタノール) (iii)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6,δ) 0.60〜1.04(3H,m) 1.04〜1.76(8H,m) 1.76〜2.16(2H,m) 2.16〜2.48(2H,m) 2.60〜3.04(2H,m) 3.20〜3.56(1H,m) 3.82(2H,s) 3.92〜4.20(2H,m) 4.20〜4.60(1H,m) 参考例6−注射剤の処方例− グルタチオンモノイソプロピルエステル硫酸塩を45mg/m
lの濃度で精製水に懸濁させ5℃以下に冷却する。エス
テル硫酸塩に対し約2倍モルの炭酸水素ナトリウムを加
えてエステル硫酸塩を溶解し,溶液をPH4に調製した
後,濃度を40mg/mlとし,無菌過する。バイアル瓶に
各25mlの溶液を入れ凍結乾燥する。
Claims (6)
- 【請求項1】一般式: (式中,Rは炭素数1〜10のアルキル基である)で示され
るグルタチオンアルキルエステル硫酸塩。 - 【請求項2】Rが炭素数1〜4の低級アルキル基である
特許請求の範囲第1項記載のグルタチオンアルキルエス
テル硫酸塩。 - 【請求項3】Rがエチル基である特許請求の範囲第1項
記載のグルタチオンアルキルエステル硫酸塩。 - 【請求項4】Rがイソプロピル基である特許請求の範囲
第1項記載のグルタチオンアルキルエステル硫酸塩。 - 【請求項5】γ−L−グルタミル−L−システイニルグ
リシンと式;R-OH(式中Rは炭素数1〜10のアルキル基
である)で示されるアルコールとを硫酸の存在下に反応
させることを特徴とする式; (式中,Rは前記と同じ意味を有する。)で示されるグル
タチオンアルキルエステル硫酸塩の製造法。 - 【請求項6】γ−L−グルタミル−L−システイニルグ
リシンに対し,2〜4当量の硫酸の存在下でアルコールと
反応させることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載
の製造法。
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