JPH0745655A - 半導体素子の封止構造 - Google Patents

半導体素子の封止構造

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JPH0745655A
JPH0745655A JP5192542A JP19254293A JPH0745655A JP H0745655 A JPH0745655 A JP H0745655A JP 5192542 A JP5192542 A JP 5192542A JP 19254293 A JP19254293 A JP 19254293A JP H0745655 A JPH0745655 A JP H0745655A
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semiconductor element
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tcp
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/701—Tape-automated bond [TAB] connectors

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  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】TAB方式の実装形態(TCP)を樹脂から成
るモールド封止材を使用したトランスファーモールドよ
り封止した場合のパッケージの重量を低減する。 【構成】半導体素子と外部回路との電気的接合部のみ
を、トランスファーモールドにより樹脂封止する。半導
体素子1とTABテープのインナーリード4とのバンプ
3を介して接合を行いTCPにした後、半導体素子の回
路構成面で開口部としたい部分に、耐熱性のある透明な
シリコーン等の樹脂を板状にして、紫外線硬化型の接着
剤で接着する。この後、トランスファーモールドにより
樹脂封止する。成形後のパッケージの接着材に紫外線を
照射する事で接着材の粘着力を低下させ、板状の樹脂を
剥離する。あるいは半導体素子1と外部回路との電気的
接合部並びに能動面のみを開口部なしで、トランスファ
ーモールドにより樹脂封止する等。 【効果】UVEPROMやCCD、光半導体素子をTC
Pのパッケージにできる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の収納容器
の構造に関し、更に詳しくは、TAB方式の形態を取る
半導体素子の封止構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の、TAB方式の実装形態(以下、
「TCP」と呼ぶ。)を取った半導体素子の封止構造
(以下、「パッケージ」と呼ぶ。)の断面図を図3に示
す。
【0003】図3において、ポリイミド等から成るキャ
リアテープ5の表面に銅等の導電性のある材料により回
路パターンを形成し、「TABテープ」と呼ばれる回路
基板を構成する。このTABテープの回路パターンと外
部回路とを接続する部分6をアウターリードと呼称し、
TABテープの回路パターンと半導体素子とを接続する
部分4をインナーリードと呼称する。半導体素子1は、
外部回路との電気的及び機械的接合性を向上させるため
の金等からなるバンプ3を介してTABテープのインナ
ーリード4に、ギャングボンディングと呼ばれる熱圧着
で他のインナーリードとともに一括して電気的及び機械
的に接合することでTCPとなる。この後、接続部及び
半導体素子の保護のために、アウターリードを残して樹
脂等からなるモールド封止材2でトランスファーモール
ドにより封止することでパッケージとなる。この場合、
保護する必要のある半導体素子の回路構成面(以下、
「能動面」と呼ぶ。)及びTABテープのインナーリー
ドとの電気的接合部以外の部分については必要以上の封
止樹脂が存在することになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、使用する機器
に対する軽薄短小への要求から半導体素子は高集積化が
進み半導体素子の外形は大きくなり、パッケージの外形
も従来に比べ大きくなる一方である。従って、外形の大
きい半導体素子を従来のようにパッケージにすると、半
導体素子の厚みだけは従来と同じであるため、封止に使
用するモールド樹脂の量が多くなることから、部品とし
てのパッケージの重量が半導体素子の大きさに比例して
重くなるという問題点を有することとなった。また、紫
外線消去書換え可能読みだし専用メモリー(以下、「U
VEPROM」と呼ぶ)や電荷結合素子(以下、「CC
D」と呼ぶ。)等の半導体素子の回路構成面、あるいは
光半導体素子の光学的接合部をモールド封止することが
できない半導体素子についてはTCPにした場合、トラ
ンスファーモールドによるパッケージ化が困難であると
いう問題点も有することとなった。
【0005】本発明の目的は、TCPを樹脂から成るモ
ールド封止材を使用したトランスファーモールドより封
止した場合のパッケージの重量を、従来に比べ低減する
こと、また、UVEPROM、CCD等の半導体素子の
能動面がモールド封止できない半導体素子をTCPにし
た場合にトランスファーモールドによりパッケージ化を
可能にすることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため下記の手段をとる。
【0007】(手段1)半導体素子と外部回路との電気
的接合部並びに能動面のみを、トランスファーモールド
より樹脂封止する。
【0008】(手段2)半導体素子と外部回路との電気
的接合部のみを、トランスファーモールドより樹脂封止
する。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1、図2、図4、
図5及び図6により説明する。(手段1)に基づきTC
Pに本発明を実施した例の断面図を図1に示す。図1に
示すように、TABテープのインナーリード4と半導体
素子2を例えばギャングボンディングによりバンプ3を
介して接合し、TCPにする。次に、半導体素子とTA
Bのインナーリードの接合部、並びに半導体素子の能動
面のみをトランスファーモールドにより樹脂封止する。
トランスファーモールドでは、図6に示す様に上下或い
は左右に分割可能なモールド金型9の分割面に、樹脂を
注入することで形成するキャビティー10と呼ばれる空
洞が設けられており、このキャビティーに封止しようと
するTABに接続された半導体素子2を挟み込み、金型
を閉じキャビティーに樹脂を注入し硬化させパッケージ
を形成している。本発明のよれば、半導体素子の樹脂に
より封止する部分を、図1に示すように半導体素子の回
路構成面を平面とした場合の外周部分より外側へはみ出
すことがないようにするため、モールド金型9上のキャ
ビティー10の構造において、キャビティー10と半導
体素子2の両者の側面の境界を、封止樹脂が入り込まな
い10μm以下程度の間隔になるようキャビティーの側
面部分を製作し、このキャビティーに半導体素子をはめ
込み樹脂成形することで、図1に示すようにTABテー
プと半導体素子の接続部並びに半導体素子の能動面だけ
を樹脂封止する事ができる。
【0010】また、(手段2)による本発明の一実施例
を図2、図4及び図5を用いて説明する。図2は本発明
の実施例の断面図で、図4及び図5は図2に示す本発明
の実施例の製造方法の一例を示す図である。
【0011】図4に示すように、半導体素子1とTAB
テープのインナーリード4とのバンプ3を介して接合を
行いTCPにした後、半導体素子の回路構成面で露光等
のために開口部としたい部分に、例えば耐熱性のある透
明なシリコーン等の樹脂7を、半導体素子の回路構成面
を平面とした場合の、樹脂により封止しようとする断面
に於ける厚さと等しくなるように板状にして、例えば紫
外線硬化型の接着剤8で接着する。この後、手段1と同
じくトランスファーモールドにより樹脂封止する。図5
に示すような成形後のパッケージの接着材8に紫外線を
照射する事で接着材の粘着力を低下させ、板状の樹脂7
は剥離する。以上の方法で図2に示すようなパッケージ
が完成する。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、従来のTCPと比較し
て、封止樹脂2の占有する体積が、従来の例を示す図3
の封止樹脂2の体積に比べ20%程度まで抑えることが
でき、TCPの軽量化及び小型化を実現することが可能
となる。また、従来トランスファーモールドTCP化が
困難であったUVEPROMやCCD、光半導体素子等
の受光、発光を機能に持つ素子をTCP化する事がで
き、かつ、半導体素子と封止樹脂の線膨張率の違いによ
るパッケージの反りが発生しないという効果がある。ま
た、従来の製造工程と比較して、トランスファーモール
ド工程に於いて使用するモールド金型の形状が異なるだ
けで、本発明を実施する上での生産工程への影響が非常
に少ないという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の手段1に基づく一実施例の断面図。
【図2】本発明の手段2に基づく一実施例の断面図。
【図3】従来のTCPの断面図。
【図4】本発明の手段2に基づく一実施例の形成過程を
示す断面図。
【図5】本発明の手段2に基づく一実施例の形成過程を
示す断面図。
【図6】本発明の手段1に基づく一実施例の形成過程を
示す断面図。
【符号の説明】
1 半導体素子 2 封止樹脂 3 バンプ 4 インナーリード 5 キャリアテープ 6 アウターリード 7 耐熱性のある樹脂 8 紫外線硬化型の接着剤 9 モールド金型 10 キャビティー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29L 31:34

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】TAB方式の実装形態をとった半導体素子
    の封止方法に関し、半導体素子と外部回路との電気的接
    合部並びに回路構成面のみに、樹脂等からなるモールド
    封止材によってトランスファーモールドを施すことを特
    徴とする半導体素子の封止構造。
  2. 【請求項2】TAB方式の実装形態をとった半導体素子
    の封止方法に関し、半導体素子と外部回路との電気的接
    合部のみに、樹脂等からなるモールド封止材によってト
    ランスファーモールドを施すことを特徴とする半導体素
    子の封止構造。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08306899A (ja) * 1995-04-27 1996-11-22 Lg Semicon Co Ltd 固体撮像素子用パッケージ及びその製造方法
JPH11168154A (ja) * 1997-08-25 1999-06-22 Motorola Inc 半導体素子および製造方法
US6476507B1 (en) 1999-08-10 2002-11-05 Towa Corporation Resin sealing method and resin sealing apparatus
KR100494666B1 (ko) * 2001-12-28 2005-06-13 동부아남반도체 주식회사 씨시디이미지센서장착 씨에스피 반도체
US8865022B2 (en) 2011-01-06 2014-10-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphor particles and making method
US9617469B2 (en) 2011-01-06 2017-04-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphor particles, making method, and light-emitting diode

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08306899A (ja) * 1995-04-27 1996-11-22 Lg Semicon Co Ltd 固体撮像素子用パッケージ及びその製造方法
JPH11168154A (ja) * 1997-08-25 1999-06-22 Motorola Inc 半導体素子および製造方法
US6476507B1 (en) 1999-08-10 2002-11-05 Towa Corporation Resin sealing method and resin sealing apparatus
KR100494666B1 (ko) * 2001-12-28 2005-06-13 동부아남반도체 주식회사 씨시디이미지센서장착 씨에스피 반도체
US8865022B2 (en) 2011-01-06 2014-10-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphor particles and making method
US9617469B2 (en) 2011-01-06 2017-04-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphor particles, making method, and light-emitting diode

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