JPH0748244B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0748244B2 JPH0748244B2 JP27913988A JP27913988A JPH0748244B2 JP H0748244 B2 JPH0748244 B2 JP H0748244B2 JP 27913988 A JP27913988 A JP 27913988A JP 27913988 A JP27913988 A JP 27913988A JP H0748244 B2 JPH0748244 B2 JP H0748244B2
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- Japan
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- glass
- gap facing
- facing surface
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- oxide magnetic
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度記録再生を行うための磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
従来の磁気ヘッドの製造方法を第３図に基づいて説明す
る。
る。
まず、第３図（ａ）に示すように、高透磁率を有する酸
化物磁性材料21に外部巻線溝22、内部巻線溝23、補強溝
24及びトラック溝25…を形成する。酸化物磁性材料21に
各溝22〜25が形成されると、第３図（ｂ）に示すよう
に、この酸化物磁性材料21のギャップ対向面26上及び各
溝23〜25内にガラス27をモールドする。そして、第３図
（ｃ）に示すように、このギャップ対向面26を鏡面状に
研磨すると共に、内部巻線溝23内のガラス27の一部を切
削削除する。
化物磁性材料21に外部巻線溝22、内部巻線溝23、補強溝
24及びトラック溝25…を形成する。酸化物磁性材料21に
各溝22〜25が形成されると、第３図（ｂ）に示すよう
に、この酸化物磁性材料21のギャップ対向面26上及び各
溝23〜25内にガラス27をモールドする。そして、第３図
（ｃ）に示すように、このギャップ対向面26を鏡面状に
研磨すると共に、内部巻線溝23内のガラス27の一部を切
削削除する。
次に、上記酸化物磁性材料21をフッ酸〔HF〕中に約30秒
間浸漬してエッチングを行う。このフッ酸によるエッチ
ング工程では、ギャップ対向面26側に露出するガラス27
の表面が約８μｍ程度溶解される。従って、このエッチ
ング工程が完了すると、第３図（ｄ）に示すように、ガ
ラス27の表面がギャップ対向面26より僅かに後退し段差
を生じる。また、このエッチング工程の際には、酸化物
磁性材料21のギャップ対向面26も約800〜1000Å程度溶
解され、ギャップ対向面26上の加工変質層が除去され
る。なお、図面では、ガラス27の表面とギャップ対向面
26との段差を拡大して示している。
間浸漬してエッチングを行う。このフッ酸によるエッチ
ング工程では、ギャップ対向面26側に露出するガラス27
の表面が約８μｍ程度溶解される。従って、このエッチ
ング工程が完了すると、第３図（ｄ）に示すように、ガ
ラス27の表面がギャップ対向面26より僅かに後退し段差
を生じる。また、このエッチング工程の際には、酸化物
磁性材料21のギャップ対向面26も約800〜1000Å程度溶
解され、ギャップ対向面26上の加工変質層が除去され
る。なお、図面では、ガラス27の表面とギャップ対向面
26との段差を拡大して示している。
上記エッチング工程が完了すると、ギャップ対向面26上
にSiO2等の図示しない非磁性膜を約0.15μｍ形成する。
この非磁性膜は、後に磁気ヘッドの磁気ギャップを構成
することになる。
にSiO2等の図示しない非磁性膜を約0.15μｍ形成する。
この非磁性膜は、後に磁気ヘッドの磁気ギャップを構成
することになる。
そして、第３図（ｅ）に示すように、この酸化物磁性材
料21と、同様に形成された他の酸化物磁性材料28とをギ
ャップ対向面26同士を突き合わせて固定し、その状態で
加熱する。すると、第３図（ｆ）に示すように、各溝23
〜25内のガラス27が溶融して、酸化物磁性材料21と酸化
物磁性材料28とが溶着される。この際、上記フッ酸によ
るエッチング工程によりガラス27の表面に段差を設けて
いたので、ギャップ対向面26同士を突き合わせたときに
僅かな隙間が生じ、溶融するガラス27の内部に気泡が混
入するのを防止することができる。
料21と、同様に形成された他の酸化物磁性材料28とをギ
ャップ対向面26同士を突き合わせて固定し、その状態で
加熱する。すると、第３図（ｆ）に示すように、各溝23
〜25内のガラス27が溶融して、酸化物磁性材料21と酸化
物磁性材料28とが溶着される。この際、上記フッ酸によ
るエッチング工程によりガラス27の表面に段差を設けて
いたので、ギャップ対向面26同士を突き合わせたときに
僅かな隙間が生じ、溶融するガラス27の内部に気泡が混
入するのを防止することができる。
このようにして酸化物磁性材料21・28が溶着されると、
テープ摺動面29を所定の曲率となるように研磨する。そ
して、この酸化物磁性材料21・28のブロックを第３図
（ｆ）の１点鎖線に沿って切断すれば、それぞれ第３図
（ｇ）に示すような磁気ヘッドチップ30が完成する。こ
の磁気ヘッドチップ30は、後の工程で内部巻線溝23と外
部巻線溝22との間にコイルを巻回することにより、磁気
ヘッドとなるものである。
テープ摺動面29を所定の曲率となるように研磨する。そ
して、この酸化物磁性材料21・28のブロックを第３図
（ｆ）の１点鎖線に沿って切断すれば、それぞれ第３図
（ｇ）に示すような磁気ヘッドチップ30が完成する。こ
の磁気ヘッドチップ30は、後の工程で内部巻線溝23と外
部巻線溝22との間にコイルを巻回することにより、磁気
ヘッドとなるものである。
ところが、ガラス27の内部に気泡が混入するのを防止す
るために、上記のようにフッ酸を用いてエッチングを行
うと、酸化物磁性材料21・28のギャップ対向面26の表面
粗さが粗くなり、このギャップ対向面26の直線性が損な
われる。また、このフッ酸によるエッチングでは、深さ
500〜700μｍに達するスクラッチと呼ばれる深い溝を生
じるおそれがある。
るために、上記のようにフッ酸を用いてエッチングを行
うと、酸化物磁性材料21・28のギャップ対向面26の表面
粗さが粗くなり、このギャップ対向面26の直線性が損な
われる。また、このフッ酸によるエッチングでは、深さ
500〜700μｍに達するスクラッチと呼ばれる深い溝を生
じるおそれがある。
従って、従来の磁気ヘッドの製造方法では、エッチング
工程でフッ酸を用いたことが磁気ヘッドの磁気特性を劣
化させる原因になるという問題点を生じていた。
工程でフッ酸を用いたことが磁気ヘッドの磁気特性を劣
化させる原因になるという問題点を生じていた。
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記課題を解決
するために、ガラスをモールドした２個の酸化物磁性材
料を互いのギャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融
着する前に、モールドされたガラスの表面をエッチング
してギャップ対向面よりも後退させる磁気ヘッドの製造
方法において、このガラスのエッチングをヘキサフルオ
ロけい酸を用いて行うことを特徴としている。
するために、ガラスをモールドした２個の酸化物磁性材
料を互いのギャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融
着する前に、モールドされたガラスの表面をエッチング
してギャップ対向面よりも後退させる磁気ヘッドの製造
方法において、このガラスのエッチングをヘキサフルオ
ロけい酸を用いて行うことを特徴としている。
ガラスの表面をエッチングによりギャップ対向面よりも
後退させ段差を形成しておくと、後に酸化物磁性材料を
互いのギャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融着す
る際に、このガラスの内部に気泡が混入するのを防止す
ることができる。
後退させ段差を形成しておくと、後に酸化物磁性材料を
互いのギャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融着す
る際に、このガラスの内部に気泡が混入するのを防止す
ることができる。
そして、本発明では、ヘキサフルオロけい酸（ケイフッ
化水素酸〔H2SiF6〕）をエッチャントとして、このエッ
チングを行っている。具体的には、ガラスをモールドし
た酸化物磁性材料をこのヘキサフルオロけい酸中に例え
ば２〜３分間浸漬して、このガラスの表面を約８μｍ程
度溶解する。すると、このガラスの表面が酸化物磁性材
料の表面によって構成されるギャップ対向面よりも後退
して段差が形成されることになる。
化水素酸〔H2SiF6〕）をエッチャントとして、このエッ
チングを行っている。具体的には、ガラスをモールドし
た酸化物磁性材料をこのヘキサフルオロけい酸中に例え
ば２〜３分間浸漬して、このガラスの表面を約８μｍ程
度溶解する。すると、このガラスの表面が酸化物磁性材
料の表面によって構成されるギャップ対向面よりも後退
して段差が形成されることになる。
ここで、ヘキサフルオロけい酸によるエッチング工程の
際にも、フッ酸を用いた場合と同様に、酸化物磁性材料
のギャップ対向面がある程度溶解され、このギャップ対
向面上の加工変質層が除去される。ただし、このヘキサ
フルオロけい酸によってエッチングを行うと、従来のフ
ッ酸によって同量のエッチングを行った場合に比べ、エ
ッチング後のギャップ対向面の表面粗さが著しく改善さ
れる。
際にも、フッ酸を用いた場合と同様に、酸化物磁性材料
のギャップ対向面がある程度溶解され、このギャップ対
向面上の加工変質層が除去される。ただし、このヘキサ
フルオロけい酸によってエッチングを行うと、従来のフ
ッ酸によって同量のエッチングを行った場合に比べ、エ
ッチング後のギャップ対向面の表面粗さが著しく改善さ
れる。
従って、このエッチング後にギャップ対向面に非磁性膜
を形成し酸化物磁性材料を融着させれば、ガラス内部へ
の気泡の混入を防止するだけでなく、ギャップ精度の向
上を図ることもできる。
を形成し酸化物磁性材料を融着させれば、ガラス内部へ
の気泡の混入を防止するだけでなく、ギャップ精度の向
上を図ることもできる。
本発明の一実施例を第１図及び第２図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。
れば、以下の通りである。
本実施例の磁気ヘッドの製造方法は、まず、第１図
（ａ）に示すように、酸化物磁性材料１に外部巻線溝
２、内部巻線溝３、補強溝４及びトラック溝５…を形成
する。酸化物磁性材料１は、フェライト等の高透磁率を
有する酸化物磁性体からなる。外部巻線溝２及び内部巻
線溝３は、後の工程でコイルを巻回するための溝であ
る。補強溝４は、後に示す酸化物磁性材料１の溶着を強
固にするために、ガラス７を充填する溝である。トラッ
ク溝５…は、磁気ヘッドのギャップ幅を規制するための
溝である。
（ａ）に示すように、酸化物磁性材料１に外部巻線溝
２、内部巻線溝３、補強溝４及びトラック溝５…を形成
する。酸化物磁性材料１は、フェライト等の高透磁率を
有する酸化物磁性体からなる。外部巻線溝２及び内部巻
線溝３は、後の工程でコイルを巻回するための溝であ
る。補強溝４は、後に示す酸化物磁性材料１の溶着を強
固にするために、ガラス７を充填する溝である。トラッ
ク溝５…は、磁気ヘッドのギャップ幅を規制するための
溝である。
酸化物磁性材料１に各溝２〜５が形成されると、第１図
（ｂ）に示すように、この酸化物磁性材料１のギャップ
対向面６上及び各溝３〜５内にガラス７をモールドす
る。そして、第１図（ｃ）に示すように、このギャップ
対向面６を鏡面状に研磨する。これにより、各溝３〜５
内のガラス７の表面は、鏡面状に研磨されたギャップ対
向面６と面一になる。また、この研磨の際に、内部巻線
溝３内のガラス７の一部を切削削除して、後にコイルを
巻回するための空間を確保する。
（ｂ）に示すように、この酸化物磁性材料１のギャップ
対向面６上及び各溝３〜５内にガラス７をモールドす
る。そして、第１図（ｃ）に示すように、このギャップ
対向面６を鏡面状に研磨する。これにより、各溝３〜５
内のガラス７の表面は、鏡面状に研磨されたギャップ対
向面６と面一になる。また、この研磨の際に、内部巻線
溝３内のガラス７の一部を切削削除して、後にコイルを
巻回するための空間を確保する。
次に、上記酸化物磁性材料１をヘキサフルオロけい酸
〔H2SiF6〕中に約２〜３分間浸漬してエッチングを行
う。このヘキサフルオロけい酸をエッチャントとするエ
ッチング工程では、ギャップ対向面６側に露出するガラ
ス７の表面が約８μｍ程度溶解される。従って、このエ
ッチング工程が完了すると、第１図（ｄ）に示すよう
に、ガラス７の表面がギャップ対向面６より僅かに後退
し段差を生じる。
〔H2SiF6〕中に約２〜３分間浸漬してエッチングを行
う。このヘキサフルオロけい酸をエッチャントとするエ
ッチング工程では、ギャップ対向面６側に露出するガラ
ス７の表面が約８μｍ程度溶解される。従って、このエ
ッチング工程が完了すると、第１図（ｄ）に示すよう
に、ガラス７の表面がギャップ対向面６より僅かに後退
し段差を生じる。
また、このエッチング工程の際には、酸化物磁性材料１
のギャップ対向面６も約800〜1000Å程度溶解され、ギ
ャップ対向面６上の加工変質層が除去される。この加工
変質層は、酸化物磁性材料１の表層部が加工歪みにより
非磁性となった部分である。ただし、本実施例により加
工変質層を除去した場合には、従来のフッ酸をエッチャ
ントとして用いた場合に比べ、ギャップ対向面６の表面
粗さが後に説明するように著しく改善される。なお、図
面では、ガラス７の表面とギャップ対向面６との段差を
拡大して示している。
のギャップ対向面６も約800〜1000Å程度溶解され、ギ
ャップ対向面６上の加工変質層が除去される。この加工
変質層は、酸化物磁性材料１の表層部が加工歪みにより
非磁性となった部分である。ただし、本実施例により加
工変質層を除去した場合には、従来のフッ酸をエッチャ
ントとして用いた場合に比べ、ギャップ対向面６の表面
粗さが後に説明するように著しく改善される。なお、図
面では、ガラス７の表面とギャップ対向面６との段差を
拡大して示している。
上記エッチング工程が完了すると、ギャップ対向面６上
にSiO2等の図示しない非磁性膜をスパッタリッグ法等に
より約0.15μｍ形成する。この非磁性膜は、後に磁気ヘ
ッドの磁気ギャップを構成することになる。従って、こ
の非磁性膜を形成するギャップ対向面６の表面粗さは、
ギャップ精度に大きな影響を与えることになる。
にSiO2等の図示しない非磁性膜をスパッタリッグ法等に
より約0.15μｍ形成する。この非磁性膜は、後に磁気ヘ
ッドの磁気ギャップを構成することになる。従って、こ
の非磁性膜を形成するギャップ対向面６の表面粗さは、
ギャップ精度に大きな影響を与えることになる。
ここで、上記第１図（ａ）〜（ｃ）で示した酸化物磁性
材料１と同様の工程によって他の酸化物磁性材料８も同
時に形成される。この酸化物磁性材料８は、酸化物磁性
材料１と比較して内部巻線溝３が形成されていない点が
相違する。そして、第１図（ｅ）に示すように、上記酸
化物磁性材料１とこの酸化物磁性材料８とをギャップ対
向面６同士を突き合わせて固定し、その状態で加熱す
る。すると、第１図（ｆ）に示すように、各溝３〜５内
のガラス７が溶融して、酸化物磁性材料１と酸化物磁性
材料８とが溶着される。この際、上記ヘキサフルオロけ
い酸によるエッチング工程によりガラス７の表面に段差
が設けられていたので、従来と同様に溶融するガラス７
の内部に気泡が混入するのを防止することができる。
材料１と同様の工程によって他の酸化物磁性材料８も同
時に形成される。この酸化物磁性材料８は、酸化物磁性
材料１と比較して内部巻線溝３が形成されていない点が
相違する。そして、第１図（ｅ）に示すように、上記酸
化物磁性材料１とこの酸化物磁性材料８とをギャップ対
向面６同士を突き合わせて固定し、その状態で加熱す
る。すると、第１図（ｆ）に示すように、各溝３〜５内
のガラス７が溶融して、酸化物磁性材料１と酸化物磁性
材料８とが溶着される。この際、上記ヘキサフルオロけ
い酸によるエッチング工程によりガラス７の表面に段差
が設けられていたので、従来と同様に溶融するガラス７
の内部に気泡が混入するのを防止することができる。
このようにして酸化物磁性材料１・８が溶着されると、
トラック溝５…が露出するテープ摺動面９を所定の曲率
となるように研磨する。そして、この酸化物磁性材料１
・８のブロックを第１図（ｆ）の１点鎖線に沿って切断
すれば、それぞれ第１図（ｇ）に示すような磁気ヘッド
チップ10が完成する。この磁気ヘッドチップ10は、後の
工程で内部巻線溝３と外部巻線溝２との間にコイルを巻
回することにより、磁気ヘッドとなるものである。
トラック溝５…が露出するテープ摺動面９を所定の曲率
となるように研磨する。そして、この酸化物磁性材料１
・８のブロックを第１図（ｆ）の１点鎖線に沿って切断
すれば、それぞれ第１図（ｇ）に示すような磁気ヘッド
チップ10が完成する。この磁気ヘッドチップ10は、後の
工程で内部巻線溝３と外部巻線溝２との間にコイルを巻
回することにより、磁気ヘッドとなるものである。
上記ヘキサフルオロけい酸によるエッチング後にギャッ
プ対向面６の表面粗さを測定した結果を第２図に示す。
プ対向面６の表面粗さを測定した結果を第２図に示す。
この測定結果によれば、ギャップ対向面６の表面粗さ
は、60Åであった。これに対してフッ酸を用いた従来の
エッチング工程では、他の条件を同じにしてもギャップ
対向面の表面粗さは約300Åに達する。
は、60Åであった。これに対してフッ酸を用いた従来の
エッチング工程では、他の条件を同じにしてもギャップ
対向面の表面粗さは約300Åに達する。
従って、本実施例の製造方法によれば、気泡の混入を防
止するためのガラス７のエッチングに対して、及びギャ
ップ対向面６の加工変質層を除去するための酸化物磁性
材料１のエッチングに対しては、従来のフッ酸をエッチ
ャントとした場合と同等の効果を得ることができる。し
かも、エッチング後のギャップ対向面６の表面粗さにつ
いては、従来の３分の１乃至５分の１程度に抑えること
ができる。
止するためのガラス７のエッチングに対して、及びギャ
ップ対向面６の加工変質層を除去するための酸化物磁性
材料１のエッチングに対しては、従来のフッ酸をエッチ
ャントとした場合と同等の効果を得ることができる。し
かも、エッチング後のギャップ対向面６の表面粗さにつ
いては、従来の３分の１乃至５分の１程度に抑えること
ができる。
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
ガラスをモールドした２個の酸化物磁性材料を互いのギ
ャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融着する前に、
モールドされたガラスの表面をエッチングしてギャップ
対向面よりも後退させる磁気ヘッドの製造方法におい
て、このガラスのエッチングをヘキサフルオロケい酸を
用いて行う構成をなしている。
ガラスをモールドした２個の酸化物磁性材料を互いのギ
ャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融着する前に、
モールドされたガラスの表面をエッチングしてギャップ
対向面よりも後退させる磁気ヘッドの製造方法におい
て、このガラスのエッチングをヘキサフルオロケい酸を
用いて行う構成をなしている。
これにより、エッチング後のギャップ対向面の表面粗さ
を改善することができる。
を改善することができる。
従って、本発明は、磁気ヘッドのギャップ精度を向上さ
せることができるので、ガラス内部への気泡の混入を防
止するために磁気ヘッドの磁気特性が犠牲になるのを防
止することができるという効果を奏する。
せることができるので、ガラス内部への気泡の混入を防
止するために磁気ヘッドの磁気特性が犠牲になるのを防
止することができるという効果を奏する。
第１図及び第２図は本発明の一実施例を示すものであっ
て、第１図（ａ）〜（ｇ）はそれぞれ磁気ヘッドの各製
造過程を示す斜視図、第２図はエッチング後のギャップ
対向面の表面粗さを示すグラフである。第３図は従来例
を示すものであって、同図（ａ）〜（ｇ）はそれぞれ磁
気ヘッドの各製造過程を示す斜視図である。 １・８は酸化物磁性材料、６はギャップ対向面、７はガ
ラスである。
て、第１図（ａ）〜（ｇ）はそれぞれ磁気ヘッドの各製
造過程を示す斜視図、第２図はエッチング後のギャップ
対向面の表面粗さを示すグラフである。第３図は従来例
を示すものであって、同図（ａ）〜（ｇ）はそれぞれ磁
気ヘッドの各製造過程を示す斜視図である。 １・８は酸化物磁性材料、６はギャップ対向面、７はガ
ラスである。
Claims (1)
- 【請求項１】ガラスをモールドした２個の酸化物磁性材
料を互いのギャップ対向面を突き合わせた状態で加熱融
着する前に、モールドされたガラスの表面をエッチング
してギャップ対向面よりも後退させる磁気ヘッドの製造
方法において、このガラスのエッチングをヘキサフルオ
ロけい酸を用いて行うことを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27913988A JPH0748244B2 (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27913988A JPH0748244B2 (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02126405A JPH02126405A (ja) | 1990-05-15 |
| JPH0748244B2 true JPH0748244B2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=17606978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27913988A Expired - Lifetime JPH0748244B2 (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0748244B2 (ja) |
-
1988
- 1988-11-04 JP JP27913988A patent/JPH0748244B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02126405A (ja) | 1990-05-15 |
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