JPH0748453A - ビニルエーテル官能性シロキサンの製造方法及びビニルエーテル官能性シロキサン含有組成物 - Google Patents
ビニルエーテル官能性シロキサンの製造方法及びビニルエーテル官能性シロキサン含有組成物Info
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 52
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 38
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 30
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- -1 vinyl ether compound Chemical class 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 36
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 21
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 19
- 229930195733 hydrocarbon Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000004215 Carbon black (E152) Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 7
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 125000000449 nitro group Chemical class [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 6
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 claims description 5
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 3
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical group [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 claims description 3
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 claims description 3
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims description 2
- 125000006502 nitrobenzyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract description 29
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 13
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 abstract 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- IZJVVXCHJIQVOL-UHFFFAOYSA-N nitro(phenyl)methanesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C([N+]([O-])=O)C1=CC=CC=C1 IZJVVXCHJIQVOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGPCETMNRYMFJR-UHFFFAOYSA-L [7,7-dimethyloctanoyloxy(dimethyl)stannyl] 7,7-dimethyloctanoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)O[Sn](C)(C)OC(=O)CCCCCC(C)(C)C FGPCETMNRYMFJR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OAJHWYJGCSAOTQ-UHFFFAOYSA-N [Zr].CCCCCCCCO.CCCCCCCCO.CCCCCCCCO.CCCCCCCCO Chemical compound [Zr].CCCCCCCCO.CCCCCCCCO.CCCCCCCCO.CCCCCCCCO OAJHWYJGCSAOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L [dodecanoyloxy(dioctyl)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC XQBCVRSTVUHIGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-carbamoylpyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound NC(=O)C1CCCN1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- MADOXCFISYCULS-UHFFFAOYSA-N octyl 2-sulfanylacetate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CS MADOXCFISYCULS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- WSFQLUVWDKCYSW-UHFFFAOYSA-M sodium;2-hydroxy-3-morpholin-4-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN1CCOCC1 WSFQLUVWDKCYSW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紙の剥離に適当な紫外線又は電子線硬化性の
オルガノポリシロキサンの調製方法と、このシロキサン
を含む組成物を提供する。 【構成】 本発明の製造方法では、(A)式(RO)x
SiR1 4-xを有し、分子中にケイ素と結合した水素原子
を少なくとも一つ有するシラン、(B)(i)H 2 C=
CHOR2 OCH=CH2 、(ii)(H2 C=CHOR
2 )y CR3 4-y、及び(iii )それらの混合物から選ば
れたビニルエーテル化合物、並びに(C)ヒドロシリル
化触媒から反応混合物を作り、この反応生成物に、式H
OSiR4 2O(R4 2SiO)n SiR4 2OHを有するポ
リジオルガノシロキサンを加え、そしてこの混合物に縮
合触媒を加える(上記の式中の記号は明細書に記載され
ているとおりである)。
オルガノポリシロキサンの調製方法と、このシロキサン
を含む組成物を提供する。 【構成】 本発明の製造方法では、(A)式(RO)x
SiR1 4-xを有し、分子中にケイ素と結合した水素原子
を少なくとも一つ有するシラン、(B)(i)H 2 C=
CHOR2 OCH=CH2 、(ii)(H2 C=CHOR
2 )y CR3 4-y、及び(iii )それらの混合物から選ば
れたビニルエーテル化合物、並びに(C)ヒドロシリル
化触媒から反応混合物を作り、この反応生成物に、式H
OSiR4 2O(R4 2SiO)n SiR4 2OHを有するポ
リジオルガノシロキサンを加え、そしてこの混合物に縮
合触媒を加える(上記の式中の記号は明細書に記載され
ているとおりである)。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビニルエーテル官能性
シリコーンを含有してなる組成物と、それらの調製及び
用途に関する。シリコーンビニルエーテルは、光開裂性
の(photocleavable)酸の添加と紫外線又は電子線放射
への暴露により硬化可能である。
シリコーンを含有してなる組成物と、それらの調製及び
用途に関する。シリコーンビニルエーテルは、光開裂性
の(photocleavable)酸の添加と紫外線又は電子線放射
への暴露により硬化可能である。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アルケ
ニルエーテル官能性の有機ケイ素化合物は、当該技術分
野の文献に記載されているものである。例えば、米国特
許第4617238号明細書には、各SiH原子団ごと
にただ一つのみのビニルエーテル基を任意の所定の時点
でシロキサン分子へ取り入れることができる光重合可能
な組成物が開示されている。このほかのアルケニルオキ
シ官能性有機ケイ素化合物は、米国特許第470750
3号、同第5057549号、同第5039176号、
及びヨーロッパ特許第0462389号各明細書に記載
されている。
ニルエーテル官能性の有機ケイ素化合物は、当該技術分
野の文献に記載されているものである。例えば、米国特
許第4617238号明細書には、各SiH原子団ごと
にただ一つのみのビニルエーテル基を任意の所定の時点
でシロキサン分子へ取り入れることができる光重合可能
な組成物が開示されている。このほかのアルケニルオキ
シ官能性有機ケイ素化合物は、米国特許第470750
3号、同第5057549号、同第5039176号、
及びヨーロッパ特許第0462389号各明細書に記載
されている。
【0003】これらの文献の方法は、同一化合物内のビ
ニルエーテル基と他のアルケニル基との競合に依存して
いて、SiHがビニルエーテルに定量的に転化すること
にはならない。対照的に、本発明の方法は、ヒドリドシ
ラン又はシロキサンを好ましい放射線感受性原子団のビ
ニルエーテルへ定量的に転化させる。
ニルエーテル基と他のアルケニル基との競合に依存して
いて、SiHがビニルエーテルに定量的に転化すること
にはならない。対照的に、本発明の方法は、ヒドリドシ
ラン又はシロキサンを好ましい放射線感受性原子団のビ
ニルエーテルへ定量的に転化させる。
【0004】
【課題を解決するための手段及び作用効果】本発明は、
ビニルエーテル官能性シロキサンを製造するための方法
を提供するものであり、この方法は、(I)シラン、ビ
ニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合して
反応生成物を作る工程、(II)工程(I)の反応生成物
にポリジオルガノシロキサンを加える工程、そして(II
I )工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程、を含
むものである。もう一つの態様において、本発明は、上
記の工程(I)〜(III )を含み、次に(IV)工程(II
I )の混合物に光開裂性の酸を加え、工程(IV)から得
られた混合物を固体基材に適用してコーティングを形成
し、そしてこのコーティングを化学放射線又は化学放射
線と熱との組み合わせに暴露することを含む方法を含
む。本発明は更に、ビニルエーテル官能性ポリシロキサ
ン化合物と、このポリシロキサンを光開裂性の酸と一緒
に含んでなる硬化性組成物を提供する。
ビニルエーテル官能性シロキサンを製造するための方法
を提供するものであり、この方法は、(I)シラン、ビ
ニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合して
反応生成物を作る工程、(II)工程(I)の反応生成物
にポリジオルガノシロキサンを加える工程、そして(II
I )工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程、を含
むものである。もう一つの態様において、本発明は、上
記の工程(I)〜(III )を含み、次に(IV)工程(II
I )の混合物に光開裂性の酸を加え、工程(IV)から得
られた混合物を固体基材に適用してコーティングを形成
し、そしてこのコーティングを化学放射線又は化学放射
線と熱との組み合わせに暴露することを含む方法を含
む。本発明は更に、ビニルエーテル官能性ポリシロキサ
ン化合物と、このポリシロキサンを光開裂性の酸と一緒
に含んでなる硬化性組成物を提供する。
【0005】本発明の目的は、紙の剥離用途に適当な紫
外線(UV)又は電子線(EB)硬化性のオルガノポリ
シロキサンを調製する新しい方法を提供することであ
る。光開裂性酸の添加と紫外線又は電子線の放射への暴
露とにより硬化可能なシリコーンビニルエーテルコポリ
マー又はオリゴマーを製造することも、本発明の目的で
ある。本発明の更に別の目的は、種々の硬化触媒により
特に急速な硬化速度で触媒することができる紫外線硬化
性シリコーン組成物を提供することである。
外線(UV)又は電子線(EB)硬化性のオルガノポリ
シロキサンを調製する新しい方法を提供することであ
る。光開裂性酸の添加と紫外線又は電子線の放射への暴
露とにより硬化可能なシリコーンビニルエーテルコポリ
マー又はオリゴマーを製造することも、本発明の目的で
ある。本発明の更に別の目的は、種々の硬化触媒により
特に急速な硬化速度で触媒することができる紫外線硬化
性シリコーン組成物を提供することである。
【0006】このように、ビニルエーテル官能性シロキ
サンを製造する方法は、(I)(A)式(RO)x Si
R1 4-xを有し、分子中にケイ素と結合した水素原子を少
なくとも一つ有するシラン、(B)(i)H2 C=CH
OR2 OCH=CH2 、(ii)(H2 C=CHOR2 )
y CR3 4-y、及び(iii )それらの混合物から選ばれた
ビニルエーテル化合物、並びに(C)ヒドロシリル化触
媒を、ビニルオキシ基を含有する分子のケイ素と結合し
た水素原子に対するモル比を1.0より大きくして混合
(上記の式中のRは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素
基又はハロ炭化水素基であり、R1 は水素原子又はRで
あり、R2 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素基又
はハロ炭化水素基であり、R3 は炭素原子数1〜20の
一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素原子
であり、xの値は1〜3、yの値は3又は4である)し
て、反応生成物を作る工程、(II)式HOSiR4 2O
(R 4 2SiO)n SiR4 2OHを有するポリジオルガノ
シロキサン(この式のR4 はRとR1 から選ばれる)を
工程(I)の反応生成物に加える工程、そして(III)
工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程、を含む。
サンを製造する方法は、(I)(A)式(RO)x Si
R1 4-xを有し、分子中にケイ素と結合した水素原子を少
なくとも一つ有するシラン、(B)(i)H2 C=CH
OR2 OCH=CH2 、(ii)(H2 C=CHOR2 )
y CR3 4-y、及び(iii )それらの混合物から選ばれた
ビニルエーテル化合物、並びに(C)ヒドロシリル化触
媒を、ビニルオキシ基を含有する分子のケイ素と結合し
た水素原子に対するモル比を1.0より大きくして混合
(上記の式中のRは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素
基又はハロ炭化水素基であり、R1 は水素原子又はRで
あり、R2 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素基又
はハロ炭化水素基であり、R3 は炭素原子数1〜20の
一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素原子
であり、xの値は1〜3、yの値は3又は4である)し
て、反応生成物を作る工程、(II)式HOSiR4 2O
(R 4 2SiO)n SiR4 2OHを有するポリジオルガノ
シロキサン(この式のR4 はRとR1 から選ばれる)を
工程(I)の反応生成物に加える工程、そして(III)
工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程、を含む。
【0007】本発明の工程(I)は、シラン、ビニルエ
ーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合することを
含む。このシランは、式(RO)x SiR1 4-xを有し、
この式のRは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素基又は
ハロ炭化水素基であり、R1は水素原子又はRであり、
そしてxの値は1〜3である。このシランは、その分子
中にケイ素と結合した水素原子を少なくとも一つ有する
ことも必要とされる。
ーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合することを
含む。このシランは、式(RO)x SiR1 4-xを有し、
この式のRは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素基又は
ハロ炭化水素基であり、R1は水素原子又はRであり、
そしてxの値は1〜3である。このシランは、その分子
中にケイ素と結合した水素原子を少なくとも一つ有する
ことも必要とされる。
【0008】各Rは、炭素原子数1〜8の一価の炭化水
素基を表す。一価の炭化水素基には、アルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基及びオクチル基といったようなものや、脂環式基、
例えばシクロヘキシル基の如きものや、アリール基、例
えばフェニル基、トリル基及びキシリル基といったよう
なものや、アラルキル基、例えばベンジル基及びフェニ
ルエチル基の如きものや、オレフィン列炭化水素基、例
えばビニル基、アリル基、メタリル基、ブテニル基、ヘ
キセニル基、オクテニル基のようなものや、シクロヘキ
セニル基及びスチリル基が含められる。アルケニル基は
好ましくは末端に不飽和のあるものである。このシラン
にとって非常に好ましい一価の炭化水素基は、メチル
基、フェニル基、ビニル基及び5−ヘキセニル基であ
る。脂肪族不飽和のない一価のハロ炭化水素基には、脂
肪族不飽和結合がなく、且つ水素原子のうちの少なくと
も一つがフッ素、塩素又は臭素のようなハロゲンで置換
されている上記のいずれの一価炭化水素基も含められ
る。好ましい一価のハロ炭化水素基は、式Cn F2n+1C
H 2 CH2 −(この式のnの値は1〜8である)を有
し、例えばCF3 CH2 CH 2 −やC4 F9 CH2 CH
2 −のようなものである。いくつかのR基は同じもので
も異なるものでもよい。R1 は水素原子、あるいは上述
のRである。
素基を表す。一価の炭化水素基には、アルキル基、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基及びオクチル基といったようなものや、脂環式基、
例えばシクロヘキシル基の如きものや、アリール基、例
えばフェニル基、トリル基及びキシリル基といったよう
なものや、アラルキル基、例えばベンジル基及びフェニ
ルエチル基の如きものや、オレフィン列炭化水素基、例
えばビニル基、アリル基、メタリル基、ブテニル基、ヘ
キセニル基、オクテニル基のようなものや、シクロヘキ
セニル基及びスチリル基が含められる。アルケニル基は
好ましくは末端に不飽和のあるものである。このシラン
にとって非常に好ましい一価の炭化水素基は、メチル
基、フェニル基、ビニル基及び5−ヘキセニル基であ
る。脂肪族不飽和のない一価のハロ炭化水素基には、脂
肪族不飽和結合がなく、且つ水素原子のうちの少なくと
も一つがフッ素、塩素又は臭素のようなハロゲンで置換
されている上記のいずれの一価炭化水素基も含められ
る。好ましい一価のハロ炭化水素基は、式Cn F2n+1C
H 2 CH2 −(この式のnの値は1〜8である)を有
し、例えばCF3 CH2 CH 2 −やC4 F9 CH2 CH
2 −のようなものである。いくつかのR基は同じもので
も異なるものでもよい。R1 は水素原子、あるいは上述
のRである。
【0009】本発明で使用されるシランの量は、使用さ
れるビニルエーテル化合物とヒドロシリル化触媒の量に
応じて変わる。2〜25重量%のシランを使用するのが
好ましく、3〜15重量%を使用するのが非常に好まし
い。これらの重量%は組成物の総重量を基にしている。
れるビニルエーテル化合物とヒドロシリル化触媒の量に
応じて変わる。2〜25重量%のシランを使用するのが
好ましく、3〜15重量%を使用するのが非常に好まし
い。これらの重量%は組成物の総重量を基にしている。
【0010】本発明の工程(I)におけるビニルエーテ
ル化合物は、(i)H2 C=CHOR2 OCH=CH2
と(ii)(H2 C=CHOR2 )y CR3 4-yから選ばれ
た式を有するビニルエーテル化合物であり、これらの式
におけるR2 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素基
又はハロ炭化水素基であり、R3 は炭素原子数1〜20
の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素原
子であり、yの値は3又は4である。R2 として適当な
二価の炭化水素基はアルキレン基、例としてメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、2−メチルトリメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、3−エ
チルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、−CH
2 (CH3 )CH−、−(CH2 )4 −、−CH2 CH
(CH3 )CH 2 −及び−(CH2 )18−の如きもの
や、シクロヘキシレン基のようなシクロアルキレン基
や、フェニレン基のようなアリーレン基や、ベンジレン
基すなわち−C6 H4 CH2 −の如き二価の炭化水素基
を組み合わせたものである。
ル化合物は、(i)H2 C=CHOR2 OCH=CH2
と(ii)(H2 C=CHOR2 )y CR3 4-yから選ばれ
た式を有するビニルエーテル化合物であり、これらの式
におけるR2 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素基
又はハロ炭化水素基であり、R3 は炭素原子数1〜20
の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素原
子であり、yの値は3又は4である。R2 として適当な
二価の炭化水素基はアルキレン基、例としてメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、2−メチルトリメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、3−エ
チルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、−CH
2 (CH3 )CH−、−(CH2 )4 −、−CH2 CH
(CH3 )CH 2 −及び−(CH2 )18−の如きもの
や、シクロヘキシレン基のようなシクロアルキレン基
や、フェニレン基のようなアリーレン基や、ベンジレン
基すなわち−C6 H4 CH2 −の如き二価の炭化水素基
を組み合わせたものである。
【0011】適当な二価のハロ炭化水素基の例には、1
又は2以上の水素原子がフッ素、塩素又は臭素といった
ようなハロゲンで置換されている任意の二価の炭化水素
基が含まれる。好ましくは、二価のハロ炭化水素基は式
−CH2 CH2 Cn F2nCH 2 CH2 −(この式のnの
値は1〜10である)を有し、例えば−CH2 CH2C
F2 CF2 CH2 CH2 −の如きものである。好ましく
は、式(i)におけるR2 は炭素原子数6〜8のアルキ
レン基であり、そして式(i)のR2 はヘキシレン基と
シクロヘキシルジメチレン基から選ばれるのが非常に好
ましい。好ましくは、式(ii)のR2 はメチレン基であ
る。
又は2以上の水素原子がフッ素、塩素又は臭素といった
ようなハロゲンで置換されている任意の二価の炭化水素
基が含まれる。好ましくは、二価のハロ炭化水素基は式
−CH2 CH2 Cn F2nCH 2 CH2 −(この式のnの
値は1〜10である)を有し、例えば−CH2 CH2C
F2 CF2 CH2 CH2 −の如きものである。好ましく
は、式(i)におけるR2 は炭素原子数6〜8のアルキ
レン基であり、そして式(i)のR2 はヘキシレン基と
シクロヘキシルジメチレン基から選ばれるのが非常に好
ましい。好ましくは、式(ii)のR2 はメチレン基であ
る。
【0012】式(ii)のR3 の一価の炭化水素基には、
好ましい例を含めて上記のシロキサンについて述べたと
おりの一価の炭化水素基又はハロ炭化水素基が含められ
る。本発明においては、R3 はメチル基であるのが非常
に好ましい。ビニルオキシ基を含有している分子のケイ
素と結合した水素原子に対するモル比は1.0より大き
く、このモル比は3〜10であることが非常に好まし
い。
好ましい例を含めて上記のシロキサンについて述べたと
おりの一価の炭化水素基又はハロ炭化水素基が含められ
る。本発明においては、R3 はメチル基であるのが非常
に好ましい。ビニルオキシ基を含有している分子のケイ
素と結合した水素原子に対するモル比は1.0より大き
く、このモル比は3〜10であることが非常に好まし
い。
【0013】本発明で使用されるビニルエーテル化合物
の量は、使用されるシラン又はシロキサンとヒドロシリ
ル化触媒の量に応じて変わる。25〜98重量%のビニ
ルエーテルを使用するのが好ましく、そして50〜95
重量%を使用するのが非常に好ましい。これらの重量%
は組成物の総重量を基にしている。
の量は、使用されるシラン又はシロキサンとヒドロシリ
ル化触媒の量に応じて変わる。25〜98重量%のビニ
ルエーテルを使用するのが好ましく、そして50〜95
重量%を使用するのが非常に好ましい。これらの重量%
は組成物の総重量を基にしている。
【0014】ヒドロシリル化触媒は、シランのケイ素と
結合した水素原子とビニルエーテル化合物との反応を促
進する、白金族金属を含有するいずれの触媒化合物でも
よい。白金族というのは、ここでは、鉄、コバルト、ニ
ッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム及び白金を意味する。工程(I)の混合
物にこの触媒を加えると、混合物あるいは反応生成物が
できる。
結合した水素原子とビニルエーテル化合物との反応を促
進する、白金族金属を含有するいずれの触媒化合物でも
よい。白金族というのは、ここでは、鉄、コバルト、ニ
ッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム及び白金を意味する。工程(I)の混合
物にこの触媒を加えると、混合物あるいは反応生成物が
できる。
【0015】触媒は、好ましくは、白金を含有する触媒
化合物である。と言うのは、それらは最も広く使用され
ているものであり、入手が可能だからである。それらは
また、ポットライフ及び/又は硬化時間が改善されると
いう点から、本発明の方法にとってより好都合な結果を
もたらす。白金含有触媒は、金属の白金でよく、これは
任意的に、シリカゲル又は粉末木炭のような担体に付着
したものでよく、あるいは白金族金属の化合物又は錯体
でもよい。好ましい白金含有触媒は、米国特許第282
3218号明細書により教示されたように、一般に入手
可能な六水和物かあるいは無水物としての塩化白金酸の
形をしたものである。特に有効な形態の塩化白金酸は、
米国特許第3419593号明細書に開示されているよ
うに、それをジビニルテトラメチルジシロキサンのよう
な脂肪族不飽和のあるオルガノシロキサン化合物と反応
させると得られる。と言うのは、それは有機ケイ素の系
に容易に分散するからである。本発明において有効であ
ると思われるこのほかの白金触媒は、米国特許第315
9601号、第3159602号、第3220972
号、第3296291号、第3516946号、第38
14730号及び第3928629号各明細書に開示さ
れている。本発明で使用される白金触媒の量は、シラン
のケイ素と結合した水素原子とビニルエーテル化合物と
の室温での反応を促進するのに十分な量がある限りは、
狭く制限されない。触媒の正確な量は、用いられる特定
の触媒に依存し、容易には予測できない。とは言うもの
の、白金含有触媒について言えば、その量は全組成物の
100万重量部当たり1重量部の白金ほどの少量でよ
い。好ましくは、この量は同じ基準で少なくとも10重
量部である。
化合物である。と言うのは、それらは最も広く使用され
ているものであり、入手が可能だからである。それらは
また、ポットライフ及び/又は硬化時間が改善されると
いう点から、本発明の方法にとってより好都合な結果を
もたらす。白金含有触媒は、金属の白金でよく、これは
任意的に、シリカゲル又は粉末木炭のような担体に付着
したものでよく、あるいは白金族金属の化合物又は錯体
でもよい。好ましい白金含有触媒は、米国特許第282
3218号明細書により教示されたように、一般に入手
可能な六水和物かあるいは無水物としての塩化白金酸の
形をしたものである。特に有効な形態の塩化白金酸は、
米国特許第3419593号明細書に開示されているよ
うに、それをジビニルテトラメチルジシロキサンのよう
な脂肪族不飽和のあるオルガノシロキサン化合物と反応
させると得られる。と言うのは、それは有機ケイ素の系
に容易に分散するからである。本発明において有効であ
ると思われるこのほかの白金触媒は、米国特許第315
9601号、第3159602号、第3220972
号、第3296291号、第3516946号、第38
14730号及び第3928629号各明細書に開示さ
れている。本発明で使用される白金触媒の量は、シラン
のケイ素と結合した水素原子とビニルエーテル化合物と
の室温での反応を促進するのに十分な量がある限りは、
狭く制限されない。触媒の正確な量は、用いられる特定
の触媒に依存し、容易には予測できない。とは言うもの
の、白金含有触媒について言えば、その量は全組成物の
100万重量部当たり1重量部の白金ほどの少量でよ
い。好ましくは、この量は同じ基準で少なくとも10重
量部である。
【0016】本発明の方法の工程(II)は、工程(I)
の反応生成物にポリジオルガノシロキサンを加えること
を含むものである。好ましくは、このポリジオルガノシ
ロキサンは、式HOSiR4 2O(R4 2SiO)n SiR
4 2OHを有し、この式のR4は炭素原子数1〜8の一価
の炭化水素又はハロ炭化水素基と水素原子から選ばれ、
nの値は1〜300である。R4 として適当な一価の炭
化水素基は、工程(I)におけるRについて先に記載し
たとおりである。
の反応生成物にポリジオルガノシロキサンを加えること
を含むものである。好ましくは、このポリジオルガノシ
ロキサンは、式HOSiR4 2O(R4 2SiO)n SiR
4 2OHを有し、この式のR4は炭素原子数1〜8の一価
の炭化水素又はハロ炭化水素基と水素原子から選ばれ、
nの値は1〜300である。R4 として適当な一価の炭
化水素基は、工程(I)におけるRについて先に記載し
たとおりである。
【0017】本発明の好ましい態様では、工程(II)の
ポリジオルガノシロキサンは式HOMe2 SiO(Me
2 SiO)n SiMe2 OHを有し、式中のnの値が1
0〜60である、末端をヒドロキシル基でブロックされ
たポリジメチルシロキサンである。
ポリジオルガノシロキサンは式HOMe2 SiO(Me
2 SiO)n SiMe2 OHを有し、式中のnの値が1
0〜60である、末端をヒドロキシル基でブロックされ
たポリジメチルシロキサンである。
【0018】工程(II)のポリオルガノシロキサンはシ
リコーン技術の分野でよく知られており、ここに詳しく
記載する必要はない。適当な末端をヒドロキシル基でブ
ロックされたポリジオルガノシロキサンは、米国特許第
2807601号、第2985545号、第39006
17号、第4190688号、第4293671号、第
4476241号、第4559396号、第45620
96号、第4587136号及び第4609574号各
明細書に開示されている。工程(II)の末端をヒドロキ
シル基でブロックされたポリジオルガノシロキサンは1
0〜80重量%を使用するのが好ましく、そして25〜
50重量%の末端をヒドロキシル基でブロックされたポ
リジオルガノシロキサンを使用するのが非常に好まし
い。これらの重量%は組成物の総重量を基にしている。
リコーン技術の分野でよく知られており、ここに詳しく
記載する必要はない。適当な末端をヒドロキシル基でブ
ロックされたポリジオルガノシロキサンは、米国特許第
2807601号、第2985545号、第39006
17号、第4190688号、第4293671号、第
4476241号、第4559396号、第45620
96号、第4587136号及び第4609574号各
明細書に開示されている。工程(II)の末端をヒドロキ
シル基でブロックされたポリジオルガノシロキサンは1
0〜80重量%を使用するのが好ましく、そして25〜
50重量%の末端をヒドロキシル基でブロックされたポ
リジオルガノシロキサンを使用するのが非常に好まし
い。これらの重量%は組成物の総重量を基にしている。
【0019】本発明の工程(III )は、工程(II)の混
合物に縮合触媒を加えることを含むものである。この縮
合触媒は、SiOH原子団とSiH原子団との反応を促
進することが知られている化合物のいずれかである。縮
合触媒の例には、ジメチルスズネオデカノエート、ジブ
チルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、ジ
オクチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクトエー
ト、亜鉛ナフテネート、コバルトナフテネート、亜鉛オ
クチレート、スズオクチレート、コバルトオクチレー
ト、ジイソオクチルメルカプトアセテート、ジルコニウ
ムナフテネート、ジルコニウムオクチレート、テトラブ
チルオルトチタネート、オクタン酸第一スズ、及び他の
有機金属触媒が含められる。この触媒は、テトラブチル
オルトチタネート、オクタン酸第一スズ及びジブチルス
ズジラウレートから選ばれるのが好ましい。縮合触媒の
必要量は、熟練した技術者により日常的な実験によって
決められる。典型的には、この成分は0.1〜10重量
%のレベルで、好ましくは0.5〜5重量%のレベルで
使用される。これらの重量%は組成物の総重量を基にし
ている。
合物に縮合触媒を加えることを含むものである。この縮
合触媒は、SiOH原子団とSiH原子団との反応を促
進することが知られている化合物のいずれかである。縮
合触媒の例には、ジメチルスズネオデカノエート、ジブ
チルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、ジ
オクチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクトエー
ト、亜鉛ナフテネート、コバルトナフテネート、亜鉛オ
クチレート、スズオクチレート、コバルトオクチレー
ト、ジイソオクチルメルカプトアセテート、ジルコニウ
ムナフテネート、ジルコニウムオクチレート、テトラブ
チルオルトチタネート、オクタン酸第一スズ、及び他の
有機金属触媒が含められる。この触媒は、テトラブチル
オルトチタネート、オクタン酸第一スズ及びジブチルス
ズジラウレートから選ばれるのが好ましい。縮合触媒の
必要量は、熟練した技術者により日常的な実験によって
決められる。典型的には、この成分は0.1〜10重量
%のレベルで、好ましくは0.5〜5重量%のレベルで
使用される。これらの重量%は組成物の総重量を基にし
ている。
【0020】本発明の方法は更に、工程(I)の後に混
合物を加熱することを含むことができる。加熱というの
は、赤外線放射、熱風、あるいはマイクロ波の放射を意
味する。工程(I)の結果得られた混合物は室温から1
50℃以下の温度まで加熱するのが好ましく、またこの
混合物は50〜70℃の温度で加熱するのが非常に好ま
しい。
合物を加熱することを含むことができる。加熱というの
は、赤外線放射、熱風、あるいはマイクロ波の放射を意
味する。工程(I)の結果得られた混合物は室温から1
50℃以下の温度まで加熱するのが好ましく、またこの
混合物は50〜70℃の温度で加熱するのが非常に好ま
しい。
【0021】本発明の方法は更に、工程(I)の後に過
剰の有機ビニルエーテルとアルコールを取り除くことを
含むことができる。揮発性成分を取り除く方法は当該技
術分野で知られているものであり、ここで詳しく説明す
る必要はない。揮発性成分を除去するいずれの方法を使
用してもよく、そのような方法の例を挙げると、分子蒸
留器、回転蒸発器、ワイパー式薄膜蒸発器を使用するも
のであり、好ましい方法はワイパー式薄膜蒸発器を使用
するものである。
剰の有機ビニルエーテルとアルコールを取り除くことを
含むことができる。揮発性成分を取り除く方法は当該技
術分野で知られているものであり、ここで詳しく説明す
る必要はない。揮発性成分を除去するいずれの方法を使
用してもよく、そのような方法の例を挙げると、分子蒸
留器、回転蒸発器、ワイパー式薄膜蒸発器を使用するも
のであり、好ましい方法はワイパー式薄膜蒸発器を使用
するものである。
【0022】本発明は更に、硬化性コーティング組成物
を製造する方法であって、(I)(A)式(RO)x S
iR1 4-xを有し、分子中にケイ素と結合した水素原子を
少なくとも一つ有するシラン、(B)(i)H2 C=C
HOR2 OCH=CH2 、(ii)(H2 C=CHO
R2 )y CR3 4-y、及び(iii )それらの混合物から選
ばれたビニルエーテル化合物、並びに(C)ヒドロシリ
ル化触媒を、ビニルオキシ基を含有する分子のケイ素と
結合した水素原子に対するモル比を1.0より大きくし
て混合(上記の式中のRは炭素原子数1〜8の一価の炭
化水素基又はハロ炭化水素基であり、R1 は水素原子又
はRであり、R2 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基であり、R3 は炭素原子数1〜
20の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水
素原子であり、xの値は1〜3、yの値は3又は4であ
る)して、反応生成物を作る工程、(II)式HOSiR
4 2(R 4 2SiO)n OSiR4 2OHを有するポリジオル
ガノシロキサン(この式のR4はRとR1 から選ばれ
る)を工程(I)の反応生成物に加える工程、(III )
工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程、(IV)工
程(III )の混合物に光開裂性の酸を加える工程、
(V)工程(IV)から得られた混合物を固体基材に適用
してコーティングを形成する工程、そして(VI)このコ
ーティングを、(a)化学放射線と(b)熱と組み合わ
せた化学放射線から選ばれた、当該コーティングを硬化
させるのに十分な量のエネルギー源にさらす工程、を含
む方法に関する。この方法では、工程(I)のシラン、
ビニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒は、それ
らの量と好ましい例を含めて、本発明のビニルエーテル
官能性シロキサンを製造するために先に説明したとおり
である。工程(II)のポリジオルガノシロキサンと工程
(III )の縮合触媒も、それらの量と好ましい例を含め
て、先に説明したとおりである。
を製造する方法であって、(I)(A)式(RO)x S
iR1 4-xを有し、分子中にケイ素と結合した水素原子を
少なくとも一つ有するシラン、(B)(i)H2 C=C
HOR2 OCH=CH2 、(ii)(H2 C=CHO
R2 )y CR3 4-y、及び(iii )それらの混合物から選
ばれたビニルエーテル化合物、並びに(C)ヒドロシリ
ル化触媒を、ビニルオキシ基を含有する分子のケイ素と
結合した水素原子に対するモル比を1.0より大きくし
て混合(上記の式中のRは炭素原子数1〜8の一価の炭
化水素基又はハロ炭化水素基であり、R1 は水素原子又
はRであり、R2 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基であり、R3 は炭素原子数1〜
20の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水
素原子であり、xの値は1〜3、yの値は3又は4であ
る)して、反応生成物を作る工程、(II)式HOSiR
4 2(R 4 2SiO)n OSiR4 2OHを有するポリジオル
ガノシロキサン(この式のR4はRとR1 から選ばれ
る)を工程(I)の反応生成物に加える工程、(III )
工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程、(IV)工
程(III )の混合物に光開裂性の酸を加える工程、
(V)工程(IV)から得られた混合物を固体基材に適用
してコーティングを形成する工程、そして(VI)このコ
ーティングを、(a)化学放射線と(b)熱と組み合わ
せた化学放射線から選ばれた、当該コーティングを硬化
させるのに十分な量のエネルギー源にさらす工程、を含
む方法に関する。この方法では、工程(I)のシラン、
ビニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒は、それ
らの量と好ましい例を含めて、本発明のビニルエーテル
官能性シロキサンを製造するために先に説明したとおり
である。工程(II)のポリジオルガノシロキサンと工程
(III )の縮合触媒も、それらの量と好ましい例を含め
て、先に説明したとおりである。
【0023】工程(IV)は、工程(III )の混合物に光
開裂性の酸を加えることを含むのである。適当な光開裂
性の酸は、オニウム塩と一定のニトロベンジルスルホネ
ートエステルである。好ましいものは、式R2 I+ MX
n - 、R3 S+ MXn - 、R 3 Se+ MXn - 、R4 P
+ MXn - 、及びR4 N+ MXn - を有するオニウム塩
であり、これらの式のRは炭素原子数が1〜30の同一
の又は異なる有機基であって、炭素原子数6〜20の芳
香族炭素環式基を含み、これらは、炭素原子数1〜8の
アルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルキル基、ニトロ
基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシ基、メ
ルカプト基、並びに、ピリジル基、チオフェニル基ピラ
ニル基を含めた芳香族複素環式基より選ばれた、1〜4
の一価の炭化水素基で置換することができる。記号Mは
金属又はメタロイドを表すものであって、これらには、
Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ga、In、Ti、Z
r、Sc、V、Cr、Mn、Cs等のような遷移金属
や、ランタニド類Cd、Pr及びNd等の如き希土類金
属や、B、P及びAs等のようなメタロイドが含められ
る。MXn - は非塩基性の、非求核性アニオンであっ
て、例えばBF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6
- 、SbCl6 - 、HSO4 - 、ClO4 - 、FeCl
4 = 、SnCl6 - 及びBiCl5 = といったようなも
のである。
開裂性の酸を加えることを含むのである。適当な光開裂
性の酸は、オニウム塩と一定のニトロベンジルスルホネ
ートエステルである。好ましいものは、式R2 I+ MX
n - 、R3 S+ MXn - 、R 3 Se+ MXn - 、R4 P
+ MXn - 、及びR4 N+ MXn - を有するオニウム塩
であり、これらの式のRは炭素原子数が1〜30の同一
の又は異なる有機基であって、炭素原子数6〜20の芳
香族炭素環式基を含み、これらは、炭素原子数1〜8の
アルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルキル基、ニトロ
基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシ基、メ
ルカプト基、並びに、ピリジル基、チオフェニル基ピラ
ニル基を含めた芳香族複素環式基より選ばれた、1〜4
の一価の炭化水素基で置換することができる。記号Mは
金属又はメタロイドを表すものであって、これらには、
Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ga、In、Ti、Z
r、Sc、V、Cr、Mn、Cs等のような遷移金属
や、ランタニド類Cd、Pr及びNd等の如き希土類金
属や、B、P及びAs等のようなメタロイドが含められ
る。MXn - は非塩基性の、非求核性アニオンであっ
て、例えばBF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6
- 、SbCl6 - 、HSO4 - 、ClO4 - 、FeCl
4 = 、SnCl6 - 及びBiCl5 = といったようなも
のである。
【0024】ビスジアリールヨードニウム塩、例えばビ
ス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロア
ルセネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート及びジアルキルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が好まし
い。
ス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロア
ルセネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート及びジアルキルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が好まし
い。
【0025】本発明において光開裂性酸として有効なニ
トロベンジルスルホネートエステルは、次の一般式
トロベンジルスルホネートエステルは、次の一般式
【化3】 を有し、この式におけるZは、アルキル基、アリール
基、アルキルアリール基、ハロゲン置換されたアルキル
基、ハロゲン置換されたアリール基、ハロゲン置換され
たアルキルアリール基、ニトロ置換されたアリール基、
ニトロ置換されたアルキルアリール基、ニトロ置換基と
ハロゲン置換基を有するアリール基、ニトロ置換基とハ
ロゲン置換基を有するアルキルアリール基、及び式C6
H4 SO3 CHR’C6 H4-m Qm (NO)2 を有する
基より選択される。R’は水素原子、メチル基及びニト
ロ置換されたアリール基から選ばれ、各Qは炭化水素
基、ヒドロカルボノキシ基、NO2 、ハロゲン原子及び
有機ケイ素基から独立に選ばれ、mの値は0、1又は2
であり、但しQは酸性の基ではない。これらのニトロベ
ンジルスルホネート光開裂性酸は、1991年11月1
4日出願の英国特許出願第9124422.8号明細書
に記載されている。本発明にとって好ましいニトロベン
ジル誘導体は、mの値が1であり、Qが−CHR’OS
(O)2 Z基に関してオルトの位置にあるNO2 基を表
し、そしてZがニトロフェニル基を表し、このニトロ基
はスルホン酸基に関してパラの位置にありものであり、
あるいはZがフェニルメチル基又はトリフルオロプロピ
ルメチルフェニル基を表すものである。
基、アルキルアリール基、ハロゲン置換されたアルキル
基、ハロゲン置換されたアリール基、ハロゲン置換され
たアルキルアリール基、ニトロ置換されたアリール基、
ニトロ置換されたアルキルアリール基、ニトロ置換基と
ハロゲン置換基を有するアリール基、ニトロ置換基とハ
ロゲン置換基を有するアルキルアリール基、及び式C6
H4 SO3 CHR’C6 H4-m Qm (NO)2 を有する
基より選択される。R’は水素原子、メチル基及びニト
ロ置換されたアリール基から選ばれ、各Qは炭化水素
基、ヒドロカルボノキシ基、NO2 、ハロゲン原子及び
有機ケイ素基から独立に選ばれ、mの値は0、1又は2
であり、但しQは酸性の基ではない。これらのニトロベ
ンジルスルホネート光開裂性酸は、1991年11月1
4日出願の英国特許出願第9124422.8号明細書
に記載されている。本発明にとって好ましいニトロベン
ジル誘導体は、mの値が1であり、Qが−CHR’OS
(O)2 Z基に関してオルトの位置にあるNO2 基を表
し、そしてZがニトロフェニル基を表し、このニトロ基
はスルホン酸基に関してパラの位置にありものであり、
あるいはZがフェニルメチル基又はトリフルオロプロピ
ルメチルフェニル基を表すものである。
【0026】光開裂性の酸は、本発明の方法において硬
化を生じさせる任意の割合で存在することができる。好
ましくは、光開裂性酸の量は当該組成物の総重量を基に
して0.1〜10重量%であり、当該組成物の総重量を
基にして1〜5重量%を使用するのが大変に好ましい。
化を生じさせる任意の割合で存在することができる。好
ましくは、光開裂性酸の量は当該組成物の総重量を基に
して0.1〜10重量%であり、当該組成物の総重量を
基にして1〜5重量%を使用するのが大変に好ましい。
【0027】本発明の工程(V)は、工程(IV)からの
混合物を固体基材に適用してコーティングを形成するこ
とを含むものである。好ましい態様では、固体基材は、
例えば紙、ポリオレフィンフィルム、及びポリオレフィ
ンでコーティングした紙又は箔といったような、柔軟性
のシート材料である。本発明によりコーティングするこ
とができるこのほかの固体基材には、他のセルロース系
材料、例えば木材、厚紙又は綿の如きものや、金属材
料、例えばアルミニウム、銅、鋼及び銀の如きものや、
ケイ素系材料、例えばガラス及び石の如きものや、合成
ポリマー材料、例えばポリオレフィン、ポリアミド、ポ
リエステル及びポリアクリレートの如きものが含まれ
る。固体基材は、感圧接着剤のための可剥性の剥離ライ
ナーのような実質的にシート状のもの、布帛又は箔、あ
るいは実質的に三次元的な形態のものでよい。
混合物を固体基材に適用してコーティングを形成するこ
とを含むものである。好ましい態様では、固体基材は、
例えば紙、ポリオレフィンフィルム、及びポリオレフィ
ンでコーティングした紙又は箔といったような、柔軟性
のシート材料である。本発明によりコーティングするこ
とができるこのほかの固体基材には、他のセルロース系
材料、例えば木材、厚紙又は綿の如きものや、金属材
料、例えばアルミニウム、銅、鋼及び銀の如きものや、
ケイ素系材料、例えばガラス及び石の如きものや、合成
ポリマー材料、例えばポリオレフィン、ポリアミド、ポ
リエステル及びポリアクリレートの如きものが含まれ
る。固体基材は、感圧接着剤のための可剥性の剥離ライ
ナーのような実質的にシート状のもの、布帛又は箔、あ
るいは実質的に三次元的な形態のものでよい。
【0028】工程(VI)は、(i)化学放射線又は(i
i)熱と組み合わされた化学放射線から選ばれた、コー
ティングを硬化させるのに十分な量のエネルギー源にコ
ーティングをさらすことを含むものである。化学放射線
というのは、紫外線、電子ビーム、α線、β線、γ線及
びX線を意味するものである。熱というのは、赤外線放
射、熱風及びマイクロ波の放射を意味するものである。
もちろん、化学放射線はしばしば熱を伴うものであっ
て、これらの二つの組み合わせを用いることは本発明の
範囲と精神のうちに入るものである。
i)熱と組み合わされた化学放射線から選ばれた、コー
ティングを硬化させるのに十分な量のエネルギー源にコ
ーティングをさらすことを含むものである。化学放射線
というのは、紫外線、電子ビーム、α線、β線、γ線及
びX線を意味するものである。熱というのは、赤外線放
射、熱風及びマイクロ波の放射を意味するものである。
もちろん、化学放射線はしばしば熱を伴うものであっ
て、これらの二つの組み合わせを用いることは本発明の
範囲と精神のうちに入るものである。
【0029】この明細書における「硬化」という用語
は、組成物を液体から固体に変える化学変化を一般に表
すものである。硬化は、コーティングした基材を放射
源、例えばUVランプの下を予め決められた速度で進ま
せること、そして完全にコーティングした基材を予め決
められた時間必要とされるエネルギー源にさらすことに
より放射線にさらすことを含めて、知られているやり方
のうちのいずれでもって達成してもよい。
は、組成物を液体から固体に変える化学変化を一般に表
すものである。硬化は、コーティングした基材を放射
源、例えばUVランプの下を予め決められた速度で進ま
せること、そして完全にコーティングした基材を予め決
められた時間必要とされるエネルギー源にさらすことに
より放射線にさらすことを含めて、知られているやり方
のうちのいずれでもって達成してもよい。
【0030】本発明は更に、工程(I)の後に混合物を
加熱することを含むことができる。加熱とは、赤外線放
射、熱風及びマイクロ波の放射によるものを意味するも
のである。工程(I)から得られた混合物は、室温から
150℃又はそれ未満まで加熱するの好ましく、50〜
70℃に加熱するのが非常に好ましい。
加熱することを含むことができる。加熱とは、赤外線放
射、熱風及びマイクロ波の放射によるものを意味するも
のである。工程(I)から得られた混合物は、室温から
150℃又はそれ未満まで加熱するの好ましく、50〜
70℃に加熱するのが非常に好ましい。
【0031】本発明の方法は更に、工程(I)の後に過
剰の有機ビニルエーテル化合物とアルコールを取り除く
ことを含むことができる。揮発性成分を取り除く方法は
当該技術分野で知られているものであり、ここで詳しく
説明する必要はない。いずれの方法を使用してもよく、
そのような方法の例を挙げると、分子蒸留器、回転蒸発
器、及びワイパー式薄膜蒸発器を使用するものであり、
好ましい方法はワイパー式薄膜蒸発器を使用するもので
ある。
剰の有機ビニルエーテル化合物とアルコールを取り除く
ことを含むことができる。揮発性成分を取り除く方法は
当該技術分野で知られているものであり、ここで詳しく
説明する必要はない。いずれの方法を使用してもよく、
そのような方法の例を挙げると、分子蒸留器、回転蒸発
器、及びワイパー式薄膜蒸発器を使用するものであり、
好ましい方法はワイパー式薄膜蒸発器を使用するもので
ある。
【0032】もう一つの好ましい態様では、紙、金属箔
又はテープストックといったような柔軟性シート材料を
液状の硬化性組成物の薄いコーティングで、好ましくは
連続式に、被覆し、次いでこうして被覆した材料を加熱
し及び/又はそれに放射線を照射してコーティングを急
速に硬化させて、少なくとも片面に接着剤を剥離するコ
ーティングを有するシート状材料を提供する。この接着
剤を剥離するコーティングは、その後感圧接着剤と、好
ましくはインライン式に、接触させて、可剥性の、すな
わち剥離可能な接着剤/コーティング界面を有する物品
を形成する。そのような物品の例には、可剥性の基材を
有する粘着ラベル、ロール巻きした形態の接着テープ、
及びはぎ取ることのできる入れ物に包装された接着剤が
含まれる。感圧接着剤は、非シリコーン系の接着剤、例
えば周知のアクリル系又はゴムタイプの接着剤でもよ
く、あるいはシリコーン系の接着剤、例えば過酸化物も
しくは白金で硬化可能なポリジオルガノシロキサン系の
接着剤の如きものでもよい。
又はテープストックといったような柔軟性シート材料を
液状の硬化性組成物の薄いコーティングで、好ましくは
連続式に、被覆し、次いでこうして被覆した材料を加熱
し及び/又はそれに放射線を照射してコーティングを急
速に硬化させて、少なくとも片面に接着剤を剥離するコ
ーティングを有するシート状材料を提供する。この接着
剤を剥離するコーティングは、その後感圧接着剤と、好
ましくはインライン式に、接触させて、可剥性の、すな
わち剥離可能な接着剤/コーティング界面を有する物品
を形成する。そのような物品の例には、可剥性の基材を
有する粘着ラベル、ロール巻きした形態の接着テープ、
及びはぎ取ることのできる入れ物に包装された接着剤が
含まれる。感圧接着剤は、非シリコーン系の接着剤、例
えば周知のアクリル系又はゴムタイプの接着剤でもよ
く、あるいはシリコーン系の接着剤、例えば過酸化物も
しくは白金で硬化可能なポリジオルガノシロキサン系の
接着剤の如きものでもよい。
【0033】本発明は更に、次の一般式
【化4】 を有するビニルエーテル官能性オルガノポリシロキサン
化合物に関するものである。この式のR5 は、炭素原子
数1〜20の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基
又は炭素原子数1〜8のアルコキシ基であり、R6 は、
R5 、又は少なくとも一つのビニルエーテル基を有する
炭化水素基もしくはハロ炭化水素基であり、aの値は0
〜1000、bの値は0〜200であり、但し分子中に
はビニルエーテル基が少なくとも一つ存在している。R
5 の一価の炭化水素基又はハロ炭化水素基には、好まし
い例を含めて先に説明した一価の炭化水素基又はハロ炭
化水素基が含まれる。R5 は、炭素原子数1〜8のアル
コキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基又はブトキシ基のようなものでもよい。R5 はメチル
基あるいはメトキシ基であることが非常に好ましい。
化合物に関するものである。この式のR5 は、炭素原子
数1〜20の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基
又は炭素原子数1〜8のアルコキシ基であり、R6 は、
R5 、又は少なくとも一つのビニルエーテル基を有する
炭化水素基もしくはハロ炭化水素基であり、aの値は0
〜1000、bの値は0〜200であり、但し分子中に
はビニルエーテル基が少なくとも一つ存在している。R
5 の一価の炭化水素基又はハロ炭化水素基には、好まし
い例を含めて先に説明した一価の炭化水素基又はハロ炭
化水素基が含まれる。R5 は、炭素原子数1〜8のアル
コキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基又はブトキシ基のようなものでもよい。R5 はメチル
基あるいはメトキシ基であることが非常に好ましい。
【0034】やはり好ましくは、R6 は、(i)−CH
2 CH2 OR7 OCH=CH2 又は(ii)(H2 C=C
HOR7 )z CR8 4-zから選ばれた式を有するビニルエ
ーテル基である。これらの式中のR7 は炭素原子数1〜
20の二価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、R
8 は炭素原子数1〜20の一価の炭化水素基もしくはハ
ロ炭化水素基又は水素であり、zの値は1又は2であ
る。R7 として適当な二価の炭化水素基の例を挙げる
と、アルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、ト
リメチレン基、2−メチルトリメチレン基、ペンタメチ
レン基、ヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン
基、オクタメチレン基、−CH2 (CH3 )CH−、−
(CH2 )4 −、−CH2 CH(CH3 )CH2 −及び
−(CH2 ) 18−の如きものや、シクロヘキシレン基の
ようなシクロアルキレン基や、フェニレン基のようなア
リーレン基や、ベンジレン基すなわち−C6 H4 CH2
−の如き二価の炭化水素基を組み合わせたものである。
2 CH2 OR7 OCH=CH2 又は(ii)(H2 C=C
HOR7 )z CR8 4-zから選ばれた式を有するビニルエ
ーテル基である。これらの式中のR7 は炭素原子数1〜
20の二価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、R
8 は炭素原子数1〜20の一価の炭化水素基もしくはハ
ロ炭化水素基又は水素であり、zの値は1又は2であ
る。R7 として適当な二価の炭化水素基の例を挙げる
と、アルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、ト
リメチレン基、2−メチルトリメチレン基、ペンタメチ
レン基、ヘキサメチレン基、3−エチルヘキサメチレン
基、オクタメチレン基、−CH2 (CH3 )CH−、−
(CH2 )4 −、−CH2 CH(CH3 )CH2 −及び
−(CH2 ) 18−の如きものや、シクロヘキシレン基の
ようなシクロアルキレン基や、フェニレン基のようなア
リーレン基や、ベンジレン基すなわち−C6 H4 CH2
−の如き二価の炭化水素基を組み合わせたものである。
【0035】R7 として適当な二価のハロ炭化水素基の
例には、1又は2以上の水素原子がフッ素、塩素又は臭
素といったようなハロゲンで置換されている任意の二価
の炭化水素基が含まれる。好ましくは、二価のハロ炭化
水素基は式−CH2 CH2 C n F2nCH2 CH2 −(こ
の式のnの値は1〜10である)を有し、例えば−CH
2 CH2 CF2 CF2 CH2 CH2 −といったようなも
のである。好ましくは、式(i)のR7 は炭素原子数6
〜8のアルキレン基であり、そしてR7 はヘキシレン基
とシクロヘキシルジメチレン基から選ばれるのが非常に
好ましい。好ましくは、式(ii)のR7 はメチレン基で
ある。式(ii)のR8 の一価の炭化水素基又はハロ炭化
水素基には、好ましい例を含めて、上述の一価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基が含まれる。R8 はメチル基で
あることが非常に好ましいい。
例には、1又は2以上の水素原子がフッ素、塩素又は臭
素といったようなハロゲンで置換されている任意の二価
の炭化水素基が含まれる。好ましくは、二価のハロ炭化
水素基は式−CH2 CH2 C n F2nCH2 CH2 −(こ
の式のnの値は1〜10である)を有し、例えば−CH
2 CH2 CF2 CF2 CH2 CH2 −といったようなも
のである。好ましくは、式(i)のR7 は炭素原子数6
〜8のアルキレン基であり、そしてR7 はヘキシレン基
とシクロヘキシルジメチレン基から選ばれるのが非常に
好ましい。好ましくは、式(ii)のR7 はメチレン基で
ある。式(ii)のR8 の一価の炭化水素基又はハロ炭化
水素基には、好ましい例を含めて、上述の一価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基が含まれる。R8 はメチル基で
あることが非常に好ましいい。
【0036】aは15〜90の平均値を有すること、そ
してbは0.5〜20の平均値を有することが好まし
い。aは70と90の間の平均値を有し、bは5と15
の間の平均値を有することが特に好ましい。
してbは0.5〜20の平均値を有することが好まし
い。aは70と90の間の平均値を有し、bは5と15
の間の平均値を有することが特に好ましい。
【0037】本発明は更に、(A)ビニルエーテル官能
性ポリシロキサン化合物と(B)光開裂性の酸とを含ん
でなる硬化性コーティング組成物に関する。ビニルエー
テル官能性ポリシロキサン化合物は、それらの好ましい
態様を含めて既に説明されている。本発明の硬化性コー
ティング組成物では95〜99.5重量%のビニルエー
テル官能性ポリシロキサンを使用するのが好ましく、そ
して97〜99.5重量%を使用するのが非常に好まし
い。これらの重量%は組成物の総重量を基にしている。
光開裂性の酸もやはり、それらの好ましい量と態様を含
めて既に説明されている。
性ポリシロキサン化合物と(B)光開裂性の酸とを含ん
でなる硬化性コーティング組成物に関する。ビニルエー
テル官能性ポリシロキサン化合物は、それらの好ましい
態様を含めて既に説明されている。本発明の硬化性コー
ティング組成物では95〜99.5重量%のビニルエー
テル官能性ポリシロキサンを使用するのが好ましく、そ
して97〜99.5重量%を使用するのが非常に好まし
い。これらの重量%は組成物の総重量を基にしている。
光開裂性の酸もやはり、それらの好ましい量と態様を含
めて既に説明されている。
【0038】本発明の硬化性コーティング組成物は更
に、(C)反応性希釈剤を含むことができる。本発明に
とっては、反応性希釈剤は式(CH2 =CHOR9 )d
CR10 4-d を有する有機ビニルエーテル化合物(この式
のR9 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素基又はハ
ロ炭化水素基であり、R10は炭素原子数1〜20の一価
の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素原子であ
り、dの値は1〜3である)であることが好ましい。二
価の炭化水素基とハロ炭化水素基は、それらの好ましい
態様を含めて既に説明されている。一価の炭化水素基と
ハロ炭化水素基は、それらの好ましい態様を含めて既に
説明されている。
に、(C)反応性希釈剤を含むことができる。本発明に
とっては、反応性希釈剤は式(CH2 =CHOR9 )d
CR10 4-d を有する有機ビニルエーテル化合物(この式
のR9 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素基又はハ
ロ炭化水素基であり、R10は炭素原子数1〜20の一価
の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素原子であ
り、dの値は1〜3である)であることが好ましい。二
価の炭化水素基とハロ炭化水素基は、それらの好ましい
態様を含めて既に説明されている。一価の炭化水素基と
ハロ炭化水素基は、それらの好ましい態様を含めて既に
説明されている。
【0039】本発明については、反応性希釈剤の量は組
成物の総重量を基にして0.1〜10重量%である。こ
の希釈剤は、組成物の総重量を基にして1〜5重量%を
使用するの非常に好ましい。
成物の総重量を基にして0.1〜10重量%である。こ
の希釈剤は、組成物の総重量を基にして1〜5重量%を
使用するの非常に好ましい。
【0040】本発明の方法と組成物は、感圧接着剤以外
の接着性物質にも応用可能である。例を挙げると、それ
らには食料品、アスファルト及びガムポリマーが含めら
れる。本発明の組成物は、感圧接着剤のための剥離コー
ティングとして、また保護コーティングや装飾コーティ
ングとして有用である。
の接着性物質にも応用可能である。例を挙げると、それ
らには食料品、アスファルト及びガムポリマーが含めら
れる。本発明の組成物は、感圧接着剤のための剥離コー
ティングとして、また保護コーティングや装飾コーティ
ングとして有用である。
【0041】本発明の方法でもって調製された組成物と
本発明の硬化性コーティング組成物は、例えば光増感
剤、高性能剥離添加剤、補強用充填剤、増量用充填剤、
脂肪族不飽和のない炭化水素及びハロ炭化水素、着色
剤、染料、保存剤、芳香剤、安定剤、接着力調節剤及び
接着剤剥離調節剤といったような、いずれの任意的な成
分を含有することもできる。好ましくは、任意的な成分
によって占められるのは全組成物の25重量%以下であ
るべきである。
本発明の硬化性コーティング組成物は、例えば光増感
剤、高性能剥離添加剤、補強用充填剤、増量用充填剤、
脂肪族不飽和のない炭化水素及びハロ炭化水素、着色
剤、染料、保存剤、芳香剤、安定剤、接着力調節剤及び
接着剤剥離調節剤といったような、いずれの任意的な成
分を含有することもできる。好ましくは、任意的な成分
によって占められるのは全組成物の25重量%以下であ
るべきである。
【0042】本発明の方法は、上記の材料といずれかの
任意の成分とを上記の順番に、いずれかの適当な混合手
段、例えばへら、ドラムローラー、機械式攪拌機、三本
ロール機、シグマブレードミキサー、ブレッドドウミキ
サー及び二本ロール機といったようなものを使って、混
ぜ合わせることにより完了することができる。コーティ
ング方法は、当該技術分野で知られている任意の適当な
やり方で、例えば展着(spreading )、はけ塗り、押し
出し、吹きつけ、グラビア塗布、キスロール塗布及びエ
アナイフ塗布等により実施することができる。
任意の成分とを上記の順番に、いずれかの適当な混合手
段、例えばへら、ドラムローラー、機械式攪拌機、三本
ロール機、シグマブレードミキサー、ブレッドドウミキ
サー及び二本ロール機といったようなものを使って、混
ぜ合わせることにより完了することができる。コーティ
ング方法は、当該技術分野で知られている任意の適当な
やり方で、例えば展着(spreading )、はけ塗り、押し
出し、吹きつけ、グラビア塗布、キスロール塗布及びエ
アナイフ塗布等により実施することができる。
【0043】
【実施例】以下に掲げる例は、特許請求の範囲に正確に
記載されている本発明を更に説明するために開示するも
のである。全ての量(部数及び百分率)は、特別に指示
がなければ重量によるものである。
記載されている本発明を更に説明するために開示するも
のである。全ての量(部数及び百分率)は、特別に指示
がなければ重量によるものである。
【0044】例1 1オンス(約30ml)の壜で、1.61gの(CH3 C
H2 O)3 SiH、3.90gの下式を有するビニルエ
ーテル化合物、
H2 O)3 SiH、3.90gの下式を有するビニルエ
ーテル化合物、
【化5】 及び0.05gの白金触媒(塩化白金酸とジビニルテト
ラメチルジシロキサンから生成された、白金を0.67
%含有している可溶性の白金錯体)を混ぜ合わせた。次
いで、この混合物を22℃で2時間、そして40℃で
1.5時間、反応が完了するまで加熱した。次にこの混
合物を熱源から遠ざけて冷却させた。冷却後に、この混
合物に式HOSiMe2 O(Me2 SiO)10SiMe
2 OHを有するポリジオルガノシロキサン4.35g
と、5滴のジブチルスズジオクトエートを加えた。黄色
ががった麦わら色の生成物が得られた。次いで、この混
合物を40℃で10分間加熱した。冷却後、得られたポ
リマーに0.2gの(C12H25Ph)2 I+ SbF6 -
(この式のPhはフェニル基を表す)を加え、そしてこ
の混合物を十分にかき混ぜた。次に、この物質の1〜2
μmの薄いフィルムをマイラー(Mylar、商標)タ
イプAのフィルム上へ塗り広げた。このフィルムを、F
usion UVプロセッサーにより単一の11.8ワ
ット/mm(300W/インチ)のHバルブ(H bulb)に
6.1m/min (20ft/min)で暴露した。暴露後に、こ
の液体コーティングは硬化して不粘着性(tack-free )
のフィルムになった。
ラメチルジシロキサンから生成された、白金を0.67
%含有している可溶性の白金錯体)を混ぜ合わせた。次
いで、この混合物を22℃で2時間、そして40℃で
1.5時間、反応が完了するまで加熱した。次にこの混
合物を熱源から遠ざけて冷却させた。冷却後に、この混
合物に式HOSiMe2 O(Me2 SiO)10SiMe
2 OHを有するポリジオルガノシロキサン4.35g
と、5滴のジブチルスズジオクトエートを加えた。黄色
ががった麦わら色の生成物が得られた。次いで、この混
合物を40℃で10分間加熱した。冷却後、得られたポ
リマーに0.2gの(C12H25Ph)2 I+ SbF6 -
(この式のPhはフェニル基を表す)を加え、そしてこ
の混合物を十分にかき混ぜた。次に、この物質の1〜2
μmの薄いフィルムをマイラー(Mylar、商標)タ
イプAのフィルム上へ塗り広げた。このフィルムを、F
usion UVプロセッサーにより単一の11.8ワ
ット/mm(300W/インチ)のHバルブ(H bulb)に
6.1m/min (20ft/min)で暴露した。暴露後に、こ
の液体コーティングは硬化して不粘着性(tack-free )
のフィルムになった。
Claims (22)
- 【請求項1】 下記の工程(I)〜(III )を含む、ビ
ニルエーテル官能性シロキサンの製造方法。 (I)(A)式(RO)x SiR1 4-xを有し、分子中に
ケイ素と結合した水素原子を少なくとも一つ有するシラ
ン、(B)(i)H2 C=CHOR2 OCH=CH2 、
(ii)(H2 C=CHOR2 )y CR3 4-y、及び(iii
)それらの混合物から選ばれたビニルエーテル化合
物、並びに(C)ヒドロシリル化触媒、(上記の式中の
Rは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素基又はハロ炭化
水素基であり、R1 は水素原子又はRであり、R2 は炭
素原子数1〜20の二価の炭化水素基又はハロ炭化水素
基であり、R3 は炭素原子数1〜20の一価の炭化水素
基もしくはハロ炭化水素基又は水素であり、xの値は1
〜3、yの値は3又は4である)を、CH2 =CHO−
基を含有する分子のケイ素と結合した水素原子に対する
モル比を1.0より大きくして混合して反応生成物を作
る工程 (II)工程(I)の反応生成物に、下式 HOSiR4 2O(R4 2SiO)n SiR4 2OH を有するポリジオルガノシロキサン(この式のR4 は炭
素原子数1〜8の一価の炭化水素基又は水素原子から選
ばれ、nの値は1〜300である)を加える工程 (III )工程(II)の混合物に縮合触媒を加える工程 - 【請求項2】 工程(I)の後に当該混合物を加熱する
ことを更に含む、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 工程(I)の後に過剰の有機ビニルエー
テルとアルコールを取り除くことを更に含む、請求項1
記載の方法。 - 【請求項4】 Rが炭素原子数1〜3のアルキル基であ
る、請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 R及びR4 がメチル基である、請求項1
記載の方法。 - 【請求項6】 Rがメチル基であり、(i)のR2 が炭
素原子数6〜8のアルキレン基であり、(ii)のR2 が
メチレン基である、請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 (i)のR2 がヘキシレン基とシクロヘ
キシルジメチレン基から選ばれる、請求項6記載の方
法。 - 【請求項8】 Rがメチル基であり、R1 が水素原子で
ある、請求項1記載の方法。 - 【請求項9】 前記ヒドロシリル化触媒が白金含有触媒
である、請求項1記載の方法。 - 【請求項10】 前記白金含有触媒が塩化白金酸のビニ
ル−シロキサン錯体である、請求項9記載の方法。 - 【請求項11】 R4 がメチル基であり、nの値が10
〜60である、請求項1記載の方法。 - 【請求項12】 前記縮合触媒がテトラブチルオルトチ
タネート、オクタン酸第一スズ及びジブチルスズジラウ
レートから選ばれる、請求項1記載の方法。 - 【請求項13】 次の工程(I)〜(IV)を含む、硬化
性コーティング組成物の製造方法。 (I)請求項1のビニルエーテル官能性シロキサンを調
製する工程 (II)光開裂性の酸(photocleavable acid )を加える
工程 (III )工程(II)から得られた混合物を固体基材に適
用してその上でコーティングを形成する工程 (IV)このコーティングを、(i)化学放射線、及び
(ii)熱と組み合わされた化学放射線からなる群より選
ばれた、当該コーティングを硬化させるのに十分な量の
エネルギー源にさらす工程 - 【請求項14】 当該硬化したコーティングに感圧接着
剤組成物を剥離可能なように付着させることを更に含
む、請求項13記載の方法。 - 【請求項15】 前記光開裂性の酸が、R2 I+ MXn
- 、R3 S+ MXn - 、R3 Se+ MXn - 、R4 P+
MXn - 及びR4 N+ MXn - から選ばれた式を有する
オニウム塩(これらの式の各Rは独立に、炭素原子数が
1〜30の有機基であり、MXn - は非塩基性の非求核
性アニオンである)である、請求項13記載の方法。 - 【請求項16】 前記非塩基性の非求核性アニオンが、
BF4 - 、PF6 -、AsF6 - 、SbF6 - 、SbC
l6 - 、HSO4 - 、ClO4 - 、FeCl 4 = 、Sn
Cl6 - 及びBiCl5 = から選ばれる、請求項15記
載の方法。 - 【請求項17】 前記オニウム塩が、ビス(ドデシルフ
ェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビ
ス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロア
ンチモネート及びジアルキルフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロアンチモネートから選ばれる、請求項15記
載の方法。 - 【請求項18】 前記光開裂性の酸が次の一般式 【化1】 (この式のZは、アルキル基、アリール基、アルキルア
リール基、ハロゲン置換されたアルキル基、ハロゲン置
換されたアリール基、ハロゲン置換されたアルキルアリ
ール基、ニトロ置換されたアリール基、ニトロ置換され
たアルキルアリール基、ニトロ置換基とハロゲン置換基
を有するアリール基、ニトロ置換基とハロゲン置換基を
有するアルキルアリール基、及び式C6 H4 SO3 CH
R’C6 H 4-m Qm (NO)2 を有する基からえらば
れ、R’は水素原子、メチル基及びニトロ置換されたア
リール基から選ばれ、各Qは炭化水素基、ヒドロカルボ
ノキシ基、NO2 、ハロゲン原子及び有機ケイ素基から
独立に選ばれ、mの値は0、1又は2であり、但しQは
酸性の基ではない)を有するニトロベンジルスルホネー
トエステルである、請求項13記載の方法。 - 【請求項19】 次の一般式を有する化合物。 【化2】 (この式のR5 は、炭素原子数1〜20の一価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基と炭素原子数1〜8のアルコキ
シ基より選ばれ、R6 は、R5 、又は(i)−CH2 C
H2 OR7 OCH=CH2 もしくは(ii)(H2 C=C
HOR7 )z CR 8 4-zから選ばれた式を有する基(これ
らの式中のR7 は炭素原子数1〜20の二価の炭化水素
基又はハロ炭化水素基であり、R8 は炭素原子数1〜2
0の一価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素
であり、zの値は1又は2である)であり、aの値は0
〜1000、bの値は0〜200であり、但し当該化合
物中には(i)−CH2 CH2 OR7 OCH=CH2 と
(ii)(H2 C=CHOR7)z CR8 4-zから選ばれた
式を有する基が少なくとも一つ存在している) - 【請求項20】 (A)請求項19の化合物と、(B)
光開裂性の酸とを含んでなる硬化性コーティング組成
物。 - 【請求項21】 (C)反応性希釈剤を更に含む、請求
項20記載の組成物。 - 【請求項22】 前記反応性希釈剤が、式(CH2 =C
HOR9 )d CR10 4-d (この式のR9 は炭素原子数1
〜20の二価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、
R10は炭素原子数1〜20の一価の炭化水素基もしくは
ハロ炭化水素基又は水素原子であり、dの値は1〜3で
ある)を有する有機ビニルエーテル化合物である、請求
項21記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US6347993A | 1993-05-18 | 1993-05-18 | |
| US063479 | 1993-05-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0748453A true JPH0748453A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=22049482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10386394A Withdrawn JPH0748453A (ja) | 1993-05-18 | 1994-05-18 | ビニルエーテル官能性シロキサンの製造方法及びビニルエーテル官能性シロキサン含有組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0625534A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0748453A (ja) |
| AU (1) | AU6311794A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6377441B1 (en) | 1998-07-31 | 2002-04-23 | Masako Ohya | Electric double-layer capacitor with collectors of two or more stacked collector sheets |
| JP2004059934A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Aeg Elektrofotografie Gmbh | 導電性コーティング、特にトナー転写ドラム用導電性コーティング |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4009889C1 (ja) * | 1990-03-28 | 1991-06-13 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | |
| US5110970A (en) * | 1991-03-29 | 1992-05-05 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Process for the manufacture of certain new silicone polyether copolymers for polyurethane foam manufacture |
-
1994
- 1994-05-11 EP EP94303384A patent/EP0625534A1/en not_active Withdrawn
- 1994-05-16 AU AU63117/94A patent/AU6311794A/en not_active Abandoned
- 1994-05-18 JP JP10386394A patent/JPH0748453A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6377441B1 (en) | 1998-07-31 | 2002-04-23 | Masako Ohya | Electric double-layer capacitor with collectors of two or more stacked collector sheets |
| JP2004059934A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Aeg Elektrofotografie Gmbh | 導電性コーティング、特にトナー転写ドラム用導電性コーティング |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU6311794A (en) | 1994-11-24 |
| EP0625534A1 (en) | 1994-11-23 |
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