JPH0754867Y2 - 表面汚染拭取装置 - Google Patents
表面汚染拭取装置Info
- Publication number
- JPH0754867Y2 JPH0754867Y2 JP9614489U JP9614489U JPH0754867Y2 JP H0754867 Y2 JPH0754867 Y2 JP H0754867Y2 JP 9614489 U JP9614489 U JP 9614489U JP 9614489 U JP9614489 U JP 9614489U JP H0754867 Y2 JPH0754867 Y2 JP H0754867Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter paper
- cylindrical container
- wiping
- surface contamination
- movement mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【考案の詳細な説明】 〔考案の目的〕 （産業上の利用分野） 本考案は、放射性廃棄物を充填したドラム缶等の円筒容
器の表面汚染を検査するため表面を拭き取る装置に関す
る。
器の表面汚染を検査するため表面を拭き取る装置に関す
る。
（従来の技術） 原子力発電所や再処理施設等の放射性物質取扱い施設か
ら生じる廃棄物は、ドラム缶等の円筒容器に封入固化さ
れて貯蔵保管される。この際の管理上から表面汚染の測
定が必要であり、容器の表面をろ紙で拭き取り付着した
放射性物質を検出器で測定する方法をスミヤ法と言う。
ら生じる廃棄物は、ドラム缶等の円筒容器に封入固化さ
れて貯蔵保管される。この際の管理上から表面汚染の測
定が必要であり、容器の表面をろ紙で拭き取り付着した
放射性物質を検出器で測定する方法をスミヤ法と言う。
従来の表面汚染拭取装置を第４図（ａ）、（ｂ）に示
す。ろ紙（１）はばね（２）により円筒容器（３）に押
付けられる。回転機構（４）により円筒容器（３）を回
転させながら上下移動機構（５）によりろ紙（１）を移
動させることにより容器表面を拭き取ることができる。
す。ろ紙（１）はばね（２）により円筒容器（３）に押
付けられる。回転機構（４）により円筒容器（３）を回
転させながら上下移動機構（５）によりろ紙（１）を移
動させることにより容器表面を拭き取ることができる。
（考案が解決しようとする課題） 上記従来装置では、円筒容器（３）とろ紙（１）の接触
は局部的である。そのためろ紙表面が飽和状態にやり易
く、円筒容器（３）全体を均一に拭き取ることが困難で
あった。また、飽和状態のまま拭き取りを継続してしま
い、汚染物質が脱落飛散し汚染が拡がる不都合を招く欠
点もあった。
は局部的である。そのためろ紙表面が飽和状態にやり易
く、円筒容器（３）全体を均一に拭き取ることが困難で
あった。また、飽和状態のまま拭き取りを継続してしま
い、汚染物質が脱落飛散し汚染が拡がる不都合を招く欠
点もあった。
そこで本考案は、従来と同様のろ紙を用いながら局部的
な飽和状態の発生を無くし、円筒容器表面を広範囲にわ
たって均一に拭き取ると共に、汚染物質の飛散を防止で
きる表面汚染拭取装置を実現することを課題とし、本考
案の目的もそこにある。
な飽和状態の発生を無くし、円筒容器表面を広範囲にわ
たって均一に拭き取ると共に、汚染物質の飛散を防止で
きる表面汚染拭取装置を実現することを課題とし、本考
案の目的もそこにある。
（課題を解決するための手段） 本考案の表面汚染拭取装置は、円筒容器を回転させなが
らその表面に押し付けたろ紙を移動させる際、上下方向
移動に加えて水平方向にも移動させる２種の移動機構を
具備するように構成される。
らその表面に押し付けたろ紙を移動させる際、上下方向
移動に加えて水平方向にも移動させる２種の移動機構を
具備するように構成される。
（作用） 本考案の表面汚染拭取装置においては、ろ紙は水平方向
に移動することにより円筒容器表面との接触箇所がろ紙
の１端から他端へと水平方向に移動することになり、ろ
紙全面を順次接触させて拭取を行なうことができ、局部
的な飽和状態の発生が無く、汚染物質の飛散を防止でき
る。
に移動することにより円筒容器表面との接触箇所がろ紙
の１端から他端へと水平方向に移動することになり、ろ
紙全面を順次接触させて拭取を行なうことができ、局部
的な飽和状態の発生が無く、汚染物質の飛散を防止でき
る。
（実施例） 以下、図面に示した実施例に基いて本考案を詳細に説明
する。
する。
第１図（ａ）、（ｂ）に本考案一実施例の表面汚染拭取
装置を示す。円筒容器（３）を載せて回転させる回転機
構（４）は従来装置と変らない。上下移動機構（５）に
よって上下方向に移動される昇降部（６）は水平移動機
構（７）を備えており、この水平移動機構（７）によっ
て、ろ紙（１）をその紙面を鉛直にして保持し且つばね
（２）によって円筒容器に押し付けるろ紙ヘッド（８）
が水平方向に動かされるように構成されている。そし
て、水平移動機構（７）によるろ紙ヘッド（８）の移動
量は、ろ紙（１）の水平方向の長さとほぼ等しくなって
いる。
装置を示す。円筒容器（３）を載せて回転させる回転機
構（４）は従来装置と変らない。上下移動機構（５）に
よって上下方向に移動される昇降部（６）は水平移動機
構（７）を備えており、この水平移動機構（７）によっ
て、ろ紙（１）をその紙面を鉛直にして保持し且つばね
（２）によって円筒容器に押し付けるろ紙ヘッド（８）
が水平方向に動かされるように構成されている。そし
て、水平移動機構（７）によるろ紙ヘッド（８）の移動
量は、ろ紙（１）の水平方向の長さとほぼ等しくなって
いる。
上記のように構成された本考案一実施例の表面汚染拭取
装置では、円筒容器（３）を回転機構（４）に載せて回
転させる。そして、第１図（ａ）に示すＡ位置からＢ位
置へとろ紙（１）を上下移動機構（５）によって移動さ
せる際、昇降部（６）の水平移動機構（７）によってろ
紙ヘッド（８）を第１図（ｂ）に示す矢印方向へ水平移
動させてろ紙（１）の容器表面への接触箇所をＣ点から
Ｄ点へと移動させる。これにより、ろ紙（１）の異なる
箇所を順次接触させて行きろ紙全面による拭き取りが実
現されるので、局部的な飽和状態が生じることが無く、
拭き取り効率が向上し、円筒容器（３）の表面を均一に
拭き取ることができる。局部的な飽和状態が生じないた
め、汚染物質の脱落飛散も防止できる。
装置では、円筒容器（３）を回転機構（４）に載せて回
転させる。そして、第１図（ａ）に示すＡ位置からＢ位
置へとろ紙（１）を上下移動機構（５）によって移動さ
せる際、昇降部（６）の水平移動機構（７）によってろ
紙ヘッド（８）を第１図（ｂ）に示す矢印方向へ水平移
動させてろ紙（１）の容器表面への接触箇所をＣ点から
Ｄ点へと移動させる。これにより、ろ紙（１）の異なる
箇所を順次接触させて行きろ紙全面による拭き取りが実
現されるので、局部的な飽和状態が生じることが無く、
拭き取り効率が向上し、円筒容器（３）の表面を均一に
拭き取ることができる。局部的な飽和状態が生じないた
め、汚染物質の脱落飛散も防止できる。
次に、本考案の他の実施例を説明する。第２図に示すよ
うに、上下移動機構（５）によって上下方向に移動され
る昇降部（6A）に、ろ紙ヘッド（8A）を水平面内で回転
移動させる回転移動機構（９）を設ける。そして、昇降
部（6A）が円筒容器（３）の上部から下部へと移動する
間に、ろ紙ヘッド（8A）を図示実線位置から図示鎖線位
置へと回転移動させることにより、ろ紙（１）の容器表
面への接触箇所が水平方向に移動し、第１図（ａ）、
（ｂ）の実施例と同様な効果を得ることができる。
うに、上下移動機構（５）によって上下方向に移動され
る昇降部（6A）に、ろ紙ヘッド（8A）を水平面内で回転
移動させる回転移動機構（９）を設ける。そして、昇降
部（6A）が円筒容器（３）の上部から下部へと移動する
間に、ろ紙ヘッド（8A）を図示実線位置から図示鎖線位
置へと回転移動させることにより、ろ紙（１）の容器表
面への接触箇所が水平方向に移動し、第１図（ａ）、
（ｂ）の実施例と同様な効果を得ることができる。
さらに、第３図（ａ）、（ｂ）に示すように、上下移動
機構（5A）の昇降部（6B）の向きを案内するガイド（1
0）を、円筒容器の回転軸線と上下移動機構（5A）の駆
動ねじ（11）の軸線とを含む鉛直面（この面を鉛直面Ａ
と呼ぶ）と直角でガイド（10）の軸線を含む鉛直面内
で、且つガイド（10）の軸線が上下移動範囲の中央の位
置で前記鉛直面Ａと交わるように、図示の如く所要角度
だけ鉛直から傾斜させて設けてやる。このように構成し
た上下移動機構（5A）を備えた表面汚染拭取装置では、
昇降部（6B）を上から下へと移動させると、傾斜したガ
イド（10）に案内されて昇降部（6B）が向きを変え、上
部で図示斜め左を向いたろ紙（１）の面が、中間点で正
面を向いて円筒容器側面に正対し、下部では図示斜め右
を向くという回転移動を行なう。したがって、この実施
例の表面汚染拭取装置においても第１図（ａ）、（ｂ）
の実施例と同様な効果を得ることができる。
機構（5A）の昇降部（6B）の向きを案内するガイド（1
0）を、円筒容器の回転軸線と上下移動機構（5A）の駆
動ねじ（11）の軸線とを含む鉛直面（この面を鉛直面Ａ
と呼ぶ）と直角でガイド（10）の軸線を含む鉛直面内
で、且つガイド（10）の軸線が上下移動範囲の中央の位
置で前記鉛直面Ａと交わるように、図示の如く所要角度
だけ鉛直から傾斜させて設けてやる。このように構成し
た上下移動機構（5A）を備えた表面汚染拭取装置では、
昇降部（6B）を上から下へと移動させると、傾斜したガ
イド（10）に案内されて昇降部（6B）が向きを変え、上
部で図示斜め左を向いたろ紙（１）の面が、中間点で正
面を向いて円筒容器側面に正対し、下部では図示斜め右
を向くという回転移動を行なう。したがって、この実施
例の表面汚染拭取装置においても第１図（ａ）、（ｂ）
の実施例と同様な効果を得ることができる。
以下詳述したように本考案によれば、円筒容器を回転さ
せながらその表面に押し付けたろ紙を移動させる際、上
下方向移動に加えて水平方向にも移動させる２種類の移
動機構を具備した表面汚染拭取装置を実現したことによ
り、ろ紙の円筒容器表面との接触箇所がろ紙の１端から
他端へと水平方向に移動することになり、ろ紙の異なる
箇所を順次接触させて行きろ紙全面による拭き取りが実
現されるので、局部的な飽和状態が生じることが無く、
拭き取り効率が向上し、円筒容器表面を均一に拭き取る
ことができる。また、局部的な飽和状態が生じないた
め、汚染物質の脱落飛散も防止できる。
せながらその表面に押し付けたろ紙を移動させる際、上
下方向移動に加えて水平方向にも移動させる２種類の移
動機構を具備した表面汚染拭取装置を実現したことによ
り、ろ紙の円筒容器表面との接触箇所がろ紙の１端から
他端へと水平方向に移動することになり、ろ紙の異なる
箇所を順次接触させて行きろ紙全面による拭き取りが実
現されるので、局部的な飽和状態が生じることが無く、
拭き取り効率が向上し、円筒容器表面を均一に拭き取る
ことができる。また、局部的な飽和状態が生じないた
め、汚染物質の脱落飛散も防止できる。
第１図（ａ）、（ｂ）は本考案一実施例の表面汚染拭取
装置を示し、第１図（ａ）は側面図、第１図（ｂ）は要
部上面図、第２図は本考案の他の実施例を示す要部上面
図、第３図（ａ）、（ｂ）は本考案の他の実施例を示
し、第３図（ａ）は側面図、第３図（ｂ）は上下移動機
構による昇降部の移動状態を正面から見て示す説明図、
第４図（ａ）、（ｂ）は従来の表面汚染拭取装置を示
し、第４図（ａ）は側面図、第４図（ｂ）は要部上面図
である。 １……ろ紙、２……ばね、３……円筒容器、４……回転
機構、５……上下移動機構、６……昇降部、７……水平
移動機構、８……ろ紙ヘッド
装置を示し、第１図（ａ）は側面図、第１図（ｂ）は要
部上面図、第２図は本考案の他の実施例を示す要部上面
図、第３図（ａ）、（ｂ）は本考案の他の実施例を示
し、第３図（ａ）は側面図、第３図（ｂ）は上下移動機
構による昇降部の移動状態を正面から見て示す説明図、
第４図（ａ）、（ｂ）は従来の表面汚染拭取装置を示
し、第４図（ａ）は側面図、第４図（ｂ）は要部上面図
である。 １……ろ紙、２……ばね、３……円筒容器、４……回転
機構、５……上下移動機構、６……昇降部、７……水平
移動機構、８……ろ紙ヘッド
Claims (1)
- 【請求項１】放射性廃棄物を充填した円筒容器を回転機
構により円筒軸を中心に回転させ、ろ紙ヘッドにより紙
面を鉛直に保持されたろ紙を前記円筒容器表面に押し付
け表面の汚染を拭き取る装置において、前記ろ紙ヘッド
を上下方向に移動させると同時にろ紙の容器への接触箇
所がろ紙の一端から他端へ順次移るように水平方向に移
動させる移動機構を具備したことを特徴とする表面汚染
拭取装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9614489U JPH0754867Y2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 表面汚染拭取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9614489U JPH0754867Y2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 表面汚染拭取装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0335494U JPH0335494U (ja) | 1991-04-08 |
| JPH0754867Y2 true JPH0754867Y2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=31645366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9614489U Expired - Lifetime JPH0754867Y2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 表面汚染拭取装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754867Y2 (ja) |
-
1989
- 1989-08-17 JP JP9614489U patent/JPH0754867Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0335494U (ja) | 1991-04-08 |
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