JPH0761925B2

JPH0761925B2 - 除草剤組成物

Info

Publication number: JPH0761925B2
Application number: JP61249196A
Authority: JP
Inventors: 正成中島; 達哉池部; 雅弘宮崎; 義文水野; 邦昭清水; 昇一川上
Original assignee: Ihara Chemical Industry Co Ltd; Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Ihara Chemical Industry Co Ltd; Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1986-10-20
Filing date: 1986-10-20
Publication date: 1995-07-05
Anticipated expiration: 2010-07-05
Also published as: JPS63104903A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、新しい除草剤組成物に関するものであり、雑
草と作物との間に高い選択性を有する除草剤を提供する
ことにある。

（従来の技術）除草剤は近縁の高等植物間における選択毒性を利用する
ものであり、通常の使用条件下で使用されている場合に
は作物に対する薬害は生じることはない。しかし、例え
ば水稲栽培において特殊の条件下、すなわち、土壌条
件、気象条件、水稲の生理条件、除草剤の散布上の悪条
件、その他の悪条件が組み合わさった場合に往々にして
水稲に薬害を与えることがある。水田入水後に未分解の
有機物が残るような多量の未熟有機物の施用、透水及び
通気の不良、水田の老朽化、水田入水後の異常昇温など
が関与すると水田土壌の強還元化が惹起され、この様な
還元状態では薬剤の植物体内での分解能も弱まり、除草
剤の多量散布、またはむらまきにより水稲に薬害を与え
ることがある。本発明に係わるＳ−（４−クロロベンジ
ル）N,N−ジエチルチオカルバマート（以下ベンチオカ
ーブと云う）も、これら悪条件では稲に薬害を与えるこ
とがある。

稲に対するベンチオカーブの有害作用を防ぐ物質はすで
に提供されている（特開昭58−105904号明細書、同58−
116403号明細書及び同58−128305号明細書）。

しかしながら、従来の解毒剤は、気象条件、とりわけ異
常高温や豪雨等又は土壌条件の性質等によって限定され
た作用領域を有するものであり、必らずしも十分な効果
を挙げることができなかった、この理由は例えば解毒剤
の物理化学的性質に起因するものと考えられる。

（発明が解決しようとする問題点）本発明者らは、これら悪条件においても薬害を生ずるこ
とのない除草剤を得るべく鋭意研究した結果、ベンチオ
カーブに特定のクロロメタンスルホン酸置換フェニルエ
ステル誘導体を配合することにより薬害を生ずることな
く、雑草と作物との間に高い選択性を有する除草剤が得
られることを見出し、本発明を完成したものである。

（問題点を解決するための手段）本発明の除草剤組成物は、ベンチオカーブと一般式（式中、Ｘは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シ
クロアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ア
シルアルキル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、チアゾアゾリル基、水酸基、
アルコキシアルコキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキ
シ基、アルケニル基、メチルチオ基、（式中、ＲとR₁はメチル基またはフェニル基を示
す。）、（式中、R₂とR₃は水素原子またはメチル基を示し、R₄は
水素原子またはクロロメタンスルホニルオキシ基を示
す。）、または（式中、R₅はフェニル基またはメチル置換ピペリジニル
基を示す。）を示す。ｎは１〜５の整数を示す。また、
Xnはベンゼン環上の２位と３位または３位と４位の相隣
る炭素原子を中心に酸素原子または窒素原子を含んでも
よい５員環または６員環を形成することもできる。）に
て示されるクロロメタンスルホン酸置換フェニルエステ
ル誘導体とを含有してなる。

次に本発明化合物を第１表に例示する。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物は（１）一般式（式中Ｘ及びｎは前記と同一の意味を示す。）にて示さ
れるフェノール類とクロロメタンスルホニルハライド、
またはクロロメタンスルホン酸無水物とを脱ハロゲン化
水素剤、例えば苛性ソーダ、苛性カリ等の水酸化アルカ
リ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム
等の炭酸アルカリ、トリエチルアミン、ジメチルアニリ
ン、ピリジン等の第３級アミン等の有機または無機の塩
基の存在下または非存在下、アセトン、メチルエチルケ
トン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム、四
塩化炭酸等の反応溶媒の存在下または非存在下−20℃〜
150℃の反応温度で反応を１〜20時間行うことによって
収率良く得られる。また、（２）一般式で示されるクロロメタンスルホニルオキシフェノールと一般式 RY （式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基、Ｙはハロゲン
原子を示す。）にて示されるハロゲン化物とを、脱ハロ
ゲン化水素剤、例えば苛性ソーダ、苛性カリ等の水酸化
アルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナト
リウム等の炭酸アルカリ、トリエチルアミン、ジメチル
アニリン、ピリジン等の第３級アミン等の有機または無
機の塩基の存在下または非存在下、アセトン、メチルエ
チルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等の反応溶媒の存在下−20℃〜150℃の
反応温度で反応を１〜20時間行えば一般式（式中、Ｒはアルキル基、アラルキル基を示す。）にて
示されるクロロメタンスルホン酸フェニルエステル誘導
体を得ることができる。

次に実施例を挙げて具体的な製造法を説明する。

実施例１クロロメタンスルホン酸４−イソプロピル
フェニル（化合物10）の製造４−イソプロピルフェノール6.8g（0.05モル）をトルエ
ン80mlに溶かし、これにトリエチルアミン10g（0.1モ
ル）を加え０℃付近に冷却し攪拌下、クロロメタンスル
ホニルクロライド8.9g（0.06モル）を徐々に滴下した。
滴下後室温で１時間攪拌した。反応液を飽和食塩水で洗
浄し、さらに10％苛性ソーダ水溶液で洗浄、水洗後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで濾過し、濾液を濃
縮し得られた残渣を減圧蒸留した。クロロメタンスルホ
ン酸４−イソプロフェニルを沸点126〜128℃/0.08mmH
gの留分に淡黄色液体として9.3g（収率75％）得た。

実施例２クロロメタンスルホン酸 2,4−ジメチルフ
ェニル（化合物26）の製造 2,4−ジメチルフェノール10g（0.08モル）とトリエチル
アミン10.1g（0.1モル）を塩化メチレン100mlに溶かし
室温で攪拌下、クロロメタンスルホニルクロライド12.4
g（0.08モル）を徐々に滴下した。滴下後さらに30分間
攪拌を続けたのち、反応液を10％塩酸、10％苛性ソーダ
水溶液で洗浄し、さらに水洗した。有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥したのち、濾過し、濾液を濃縮した。得
られた残渣をヘキサン−酢酸エチル（2:1）を溶媒でカ
ラムクロマト精製を行いクロロメタンスルホン酸 2,4
−ジメチルフェニルを淡黄色透明液体として18.6g（収
率97％）得た（屈折率▲ｎ²⁰ _D▼1.5250）。

実施例３クロロメタンスルホン酸４−（１−エトキ
シカルボニル）イソブチルフェニルの製造（化合物39）４−（１−エトキシカルボニル）イソブチルフェノール
10g（0.045モル）とトリエチルアミン7.1g（0.07モル）
を酢酸エチル200mlに溶かし室温で攪拌下クロロメタン
スルホニルクロライド7.8g（0.052モル）を徐々に滴下
した。滴下後さらに30分間攪拌を続けた。反応液を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで濾過し、濾
液を濃縮し得られた残渣を減圧蒸留し、クロロメタンス
ルホン酸４−（１−エトキシカルボニル）イソブチル
フェニルを沸点156〜159℃/0.03mmHgの留分に淡黄色透
明粘調液体として13.7g（収率91％）を得た。

実施例４クロロメタンスルホン酸４−フルオロフェ
ニル（化合部52）の製造４−フルオロフェノール10g（0.09モル）とトリエチル
アミン14g（0.14モル）をトルエン100mlに溶かし０℃付
近に冷却し攪拌下クロロメタンスルホニルクロラド14g
（0.094モル）を徐々に滴下した。滴下後室温で１時間
攪拌を続けた。反応液を10％苛性ソーダ水溶液で洗浄、
さらに水洗し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで濾
過し、濾液を濃縮し得られた残渣を減圧蒸留し、クロロ
メタンスルホン酸４−フルオロフェニルを沸点98〜10
1℃/0.09mmHgの留分に無色粘調液体として14.5g（収率7
3％）を得た。

実施例５クロロメタンスルホン酸４−イソプロポキ
シフェニル（化合物73）の製造４−クロロメタンスルホニルオキシフェノール3.3g（0.
015モル）をアセトニトリル50mlに溶かし炭酸カリウム
2.8g（0.02モル）を加え室温で攪拌下、ヨウ化イソプロ
ピル3.4g（0.02モル）を徐々に滴下した。滴下後浴温90
℃付近で５時間攪拌を行い放冷後、反応液を濾過し、濾
液を濃縮した。得られた残渣をベンゼン50mlに溶かし10
％苛性ソーダ水溶液で洗浄、さらに水洗後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。次いで濾過し、濾液を濃縮し得ら
れた残渣を減圧蒸留しクロロメタンスルホン酸４−イ
ソプロポキシフェニルを沸点143〜145℃/0.19mmHgの留
分に微黄色液体として2.0g（収率50％）を得た。

実施例６クロロメタンスルホン酸 3,4−メチレンジ
オキシフェニル（化合物83）の製造 3,4−メチレンジオキシフェノール5.5g（0.04モル）を
トルエン60mlに溶かし、これにトリエチルアミン8.1g
（0.08モル）を加え０℃付近に冷却し攪拌下クロロメタ
ンスルホニルクロライド8.9g（0.06モル）を徐々に滴下
した。滴下後２時間室温で攪拌した。反応液を水洗し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで濾過し、濾液を
濃縮し得られた残渣を減圧蒸留し、クロロメタンスルホ
ン酸 3,4−メチレンジオキシフェニルを沸点144〜146
℃/0.1mmHgの留分に黄色粘調液体として4.8（収率48
％）を得た。

次に本発明の除草剤組成物はベンチオカーブと前記一般
式（Ｉ）で示される化合物の１種とを含有し、通常は担
体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して常法
により、例えば、粒剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粉
剤に製剤する。好適な担体としては、例えば、タルク、
ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカ
ーボン、バーミキュライト、消石灰、珪砂、硫安、尿素
等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シ
クロヘキサノン等の液体担体等が挙げられる。

界面活性剤及び分散剤としては、例えば、アルコール硫
酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、リグニンスルホ
ン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等
が挙げられる。

これらの製剤を適宜な濃度に希釈して散布するか、また
は直接施用する。

ベンチオカーブと前記一般式（Ｉ）で示されるクロロメ
タンスルホン酸置換フェニルエステル誘導体との配合比
は重量で前者10に対し後者が10〜0.1の範囲内であるこ
とが好ましい。

本発明の除草剤組成物はベンチオカーブに換算して10ア
ール当り50g〜1000gを施用する。

次に実施例を挙げて、具体的に説明する。下記実施例中
の％は重量百分率を意味する。

実施例８（粒剤）ベントナイト40％、クレー56.5％、アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム３％及びポリビニールアルコール0.
5％を適当量の水で練り合わせ、押し出し式造粒機にて
造粒後乾燥して14〜32メッシュに整粒した後、出来上が
った造粒体89.9％にベンチオカーブ10％と化合物（６）
0.1％を攪拌しながら吸着せしめて粒剤とする。

実施例９（粒剤）実施例８構成物中の造粒体89.9％を89％とし化合物
（６）0.1％を１％とすることにより目的の配合比を有
する除草剤組成物を製造することが出来る。

実施例10 （粒剤）実施例８構成物中の造粒体89.9％を80％とした化合物
（６）0.1％を10％とすることにより目的の配合比を有
する除草剤組成物を製造することが出来る。

実施例11 （粒剤）ベンチオカーブ10％、化合物（10）0.1％、リグニンス
ルホン酸ナトリウム２％、ホワイトカーボン５％、ベン
トナイト57.9％及びタルク25％を均一に粉砕混合して適
当量の水を加えて練り合わせ、押し出し式造粒機にて造
粒後乾燥して14〜32メッシュに整粒して製剤とした。

実施例12 （粒剤）実施例11構成物中の化合物（10）0.1％を１％とし、ベ
ントナイト57.9％を57％とすることにより目的の配合比
を有する除草剤組成物を製造することが出来る。

実施例13 （水和剤）ベンチオカーブ10％、化物（34）0.1％、ジナフチルメ
タンスルホン酸ナトリウム２％、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル１％及び珪藻土86.9％を混合
し、均一に粉砕して水和剤とする。

実施例14 （水和剤）実施例13構成物中の化合物（34）0.1％を１％とし、珪
藻土86.9％を86％とすることにより目的の配合比の有す
る除草剤組成物を製造することが出来る。

実施例15 （水和剤）実施例13構成物中の化合物（34）0.1％を10％とし、珪
藻土86.9％を77％とすることにより目的の配合比を有す
る除草剤組成物を製造することができる。

実施例16 （乳剤）ベンチオカーブ30％、化合物（67）３％、シクロヘキサ
ノン20％、ホリオキシエチレンアルキルアリールエーテ
ル11％、アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム４％及
びメチルナフタリン32％を均一に溶解して乳剤とした。

実施例17 （粉剤）ベンチオカーブ３％、化合物（72）0.3％、珪藻土５％
及びクレー91.7％を均一に混合粉砕して粉剤とした。

本発明の除草剤組成物は、稲の発芽時から５〜６葉期に
適用でき直播栽培、稚苗移植栽培、成苗移植栽培等に使
用できるものである。

（発明の効果）本発明の前記一般式（Ｉ）で示される化合物は、未熟有
機物の多量施用等やその他の異常環境要因等により水田
が強還元状態となるような特殊な水田においてベンチオ
カーブによって稲に与えられる可能性のある有害作用を
防止することができる。

この有害作用を防ぐ物質はすでに提案されている（特開
昭58−105904号明細書、同58−116403号明細書及び同58
−128305号明細書）が、本発明の化合物はさらに極めて
低薬量で有害作用を防ぐことができる。このことは、環
境への影響がさらに小さくなるという意味からも有用性
のあるものである。また、本発明の化合物は土壌吸着性
もより向上しており、そのため、処理後の降雨等やかけ
流し等による田面水の流出が起った場面にもベンチオカ
ーブの有害作用を防ぐための効果が安定するという利点
を有している。また、本発明の化合物は土壌中で速やか
に分解され、かつ、土壌微生物への影響も極めて少ない
ことから、土壌微生物環境に及ぼす影響もなく安全な物
質である。

次に本発明の除草剤組成物の奏する効果を試験剤を挙げ
て説明する。

試験例１（水稲の薬害軽減試験）砂質壌土の水田から採取した土を1/5000アール相当のワ
グネルポットに充填し、ポット当り24gの細断稲ワラを
混入して入水、代かきを行った。

代かきの翌日に実施例13〜15に準して調整した水和剤の
所定量を水で希釈し湛水のまま散布処理した。

その直後に土壌表層から3cmまでを電動ミキサーにより
混和し、処理後５日目に水稲稚苗（品種：金南風）を１
本１株とし、ポット当り２株ずつ移植した。ポットは、
１処理につき２反復とし処理後は夜間20〜22℃、昼間29
〜31℃のガラス温室で管理した。調査は移植後40日目に
株当りの草丈と薬害指数について行い、供試４株の平均
値を示した。

尚、比較薬剤として特開昭58−105904号公報記載の下記
を化合物を供試した。

結果を第２表に示す。

薬害指数 0:正常（無処理区と同様） 1:生育抑制程度 10〜20％ 2: 〃 21〜40％ 3: 〃 41〜60％ 4: 〃 61〜80％ 5: 〃 81〜100％尚、化合物８〜87単用区（0.8〜80g/アール）における
水稲の生育抑制は、化合物１〜７と同様、全く認められ
なかった。

試験例２（除草効果試験）試験例１と同一の方法と規模でワグネルポットに土を入
れ、代かきを行い、代かき翌日に表層の水を捨てて去り
土壌表面を露出させたところにタイヌビエとホタルイ及
びコナギの種子をそれぞれポット当り約20粒ずつ播種し
た。これらの種子は秋に採取したものを冷蔵庫内に湿潤
低温下で保存し休眠打破したものを使用した。ポットを
５日ほど温室内に放置し雑草の種子類が発芽したところ
を見計らって3cmの深さに再入水し、更に５日ほど置い
て雑草が１〜２葉期に達した頃に、実施例13〜15に準じ
て調整した水和剤の所定量を水で希釈し湛水のまま散布
処理した。

薬剤処理後30日目にポット当りの雑草生育抑制程度を下
記の基準に従い調査し、結果を第３表に指数で示す。

除草効果指数 0 :生育抑制程度 0％（無処理区と同様） 0.5: 〃 1〜10％ 1 : 〃 11〜20％ 1.5: 〃 21〜30％ 2 : 〃 31〜40％ 2.5: 〃 41〜50％ 3 : 〃 51〜60％ 3.5: 〃 61〜70％ 4 : 〃 71〜80％ 4.5: 〃 81〜90％ 5 : 〃 91〜100％第３表より明らかな通り、本発明化合物はベンチオカー
ブの除草効果には、全く影響を及ぼさなかった。なお、
化合物８〜87については単用区及びベンチオカーブ混用
区とも、化合物１〜７の示した結果と同様であった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所 (Ａ０１Ｎ 47/12 43:82） (72)発明者川上昇一千葉県柏市布施新町１丁目１番７号審査官一色由美子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｓ−（４−クロロベンジル）N,N−ジエチ
ルチオカルバマートと一般式（式中、Ｘは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シ
クロアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ア
シルアルキル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、チアジアゾリル基、水酸基、
アルコキシアルコキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキ
シ基、アルケニル基、メチルチオ基、（式中、ＲとR₁はメチル基またはフェニル基を示
す。）、（式中、R₂とR₃は水素原子またはメチル基を示し、R₄は
水素原子またはクロロメタンスルホニルオキシ基を示
す。）、または（式中、R₅はフェニル基またはメチル置換ピペリジニル
基を示す。）を示す。ｎは１〜５の整数を示す。また、Xnはベンゼン環上の２位と３位または３位と４位
の相隣る炭素原子を中心に酸素原子または窒素原子を含
んでもよい５員環または６員環を形成することもでき
る。）で表わされるクロロメタンスルホン酸置換フェニ
ルエステル誘導体とを含有することを特徴とする除草剤
組成物。