JPH076318A - 浮上型磁気ヘッド - Google Patents
浮上型磁気ヘッドInfo
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- JPH076318A JPH076318A JP16962493A JP16962493A JPH076318A JP H076318 A JPH076318 A JP H076318A JP 16962493 A JP16962493 A JP 16962493A JP 16962493 A JP16962493 A JP 16962493A JP H076318 A JPH076318 A JP H076318A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 浮上型磁気ヘッドを用いるＨＤＤにおいて、
使用に伴なう経時的な再生出力の低下を防ぐ。 【構成】 ＭＩＧヘッド、積層ヘッド、薄膜ヘッド等の
軟磁性金属薄膜を有する誘導型磁気ヘッドの媒体対向面
において、コア４表面またはスライダ表面に対して軟磁
性金属薄膜２表面を５〜３０nm凹ませておく。磁気抵抗
効果型ヘッドでは、媒体対向面において、磁気抵抗効果
膜や磁気シールド膜の表面をスライダ表面に対して凹ま
せておく。
使用に伴なう経時的な再生出力の低下を防ぐ。 【構成】 ＭＩＧヘッド、積層ヘッド、薄膜ヘッド等の
軟磁性金属薄膜を有する誘導型磁気ヘッドの媒体対向面
において、コア４表面またはスライダ表面に対して軟磁
性金属薄膜２表面を５〜３０nm凹ませておく。磁気抵抗
効果型ヘッドでは、媒体対向面において、磁気抵抗効果
膜や磁気シールド膜の表面をスライダ表面に対して凹ま
せておく。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、誘導型の電磁変換部を
有する浮上型磁気ヘッドおよび磁気抵抗効果型の電磁変
換部を有する浮上型磁気ヘッドに関する。
有する浮上型磁気ヘッドおよび磁気抵抗効果型の電磁変
換部を有する浮上型磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】浮上型磁気ヘッドを用いるハードディス
クドライブ（ＨＤＤ）では記録密度が著しく向上してい
る。
クドライブ（ＨＤＤ）では記録密度が著しく向上してい
る。
【０００３】高記録密度化が進むにつれ、フェライトコ
アのヘッドギャップ対向面に高飽和磁束密度の軟磁性金
属薄膜を設けたメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型ヘ
ッドや、軟磁性金属薄膜と非磁性絶縁薄膜とを積層して
コアを形成した積層型ヘッド、軟磁性金属薄膜の磁極や
コイルをスパッタ法などで形成した薄膜型ヘッドなどが
利用されるようになってきている。コンタクト・スター
ト・ストップ（ＣＳＳ）方式で使用される浮上型磁気ヘ
ッドでは、磁気ディスクの回転開始時および停止時に磁
気ヘッドが磁気ディスク表面と接触する。上記したＭＩ
Ｇ型や積層型、薄膜型の磁気ヘッドでは、耐摩耗性の低
い軟磁性金属の薄膜が媒体対向面に露出しているので、
長期間使用した場合には軟磁性金属薄膜の摩耗が生じる
ことがある。
アのヘッドギャップ対向面に高飽和磁束密度の軟磁性金
属薄膜を設けたメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型ヘ
ッドや、軟磁性金属薄膜と非磁性絶縁薄膜とを積層して
コアを形成した積層型ヘッド、軟磁性金属薄膜の磁極や
コイルをスパッタ法などで形成した薄膜型ヘッドなどが
利用されるようになってきている。コンタクト・スター
ト・ストップ（ＣＳＳ）方式で使用される浮上型磁気ヘ
ッドでは、磁気ディスクの回転開始時および停止時に磁
気ヘッドが磁気ディスク表面と接触する。上記したＭＩ
Ｇ型や積層型、薄膜型の磁気ヘッドでは、耐摩耗性の低
い軟磁性金属の薄膜が媒体対向面に露出しているので、
長期間使用した場合には軟磁性金属薄膜の摩耗が生じる
ことがある。
【０００４】従来、ＨＤＤ用磁気ヘッドの軟磁性金属薄
膜の摩耗は問題とされていなかったが、高記録密度化に
伴なって浮上型磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離（フ
ライングハイト）が著しく小さくなっているため、摩耗
の進行が著しく速くなっている。すなわち、フライング
ハイトが著しく小さい場合には、磁気ディスクの回転開
始時および停止時以外でも、磁気ヘッドの媒体対向面が
磁気ディスク表面の微小な凹凸と頻繁に接触することに
なり、摩耗が進行してしまう。軟磁性金属薄膜が摩耗す
るとスペーシングロスが増大して再生出力が低下するた
め、フライングハイトが小さいと短期間の使用で再生出
力が低下してしまうことになる。
膜の摩耗は問題とされていなかったが、高記録密度化に
伴なって浮上型磁気ヘッドと磁気ディスクとの距離（フ
ライングハイト）が著しく小さくなっているため、摩耗
の進行が著しく速くなっている。すなわち、フライング
ハイトが著しく小さい場合には、磁気ディスクの回転開
始時および停止時以外でも、磁気ヘッドの媒体対向面が
磁気ディスク表面の微小な凹凸と頻繁に接触することに
なり、摩耗が進行してしまう。軟磁性金属薄膜が摩耗す
るとスペーシングロスが増大して再生出力が低下するた
め、フライングハイトが小さいと短期間の使用で再生出
力が低下してしまうことになる。
【０００５】このような問題は、誘導型磁気ヘッドに限
らず磁気抵抗効果を利用する浮上型の再生ヘッドにおい
ても生じる。このヘッドでは、磁気抵抗効果膜としてパ
ーマロイ等の軟磁性金属薄膜を用いるので、上記と同様
にして摩耗が生じる。磁気抵抗効果膜が摩耗した場合も
スペーシングロスにより再生感度が低下してしまう。ま
た、記録密度が高い場合には、分解能を上げ良好な高周
波特性を得るために磁気抵抗効果膜の両側に磁気シール
ド膜を設けるが、軟磁性金属薄膜からなる磁気シールド
膜では上記と同様に摩耗が生じて磁気シールド効果が減
少するため、再生出力が経時的に低下してしまう。
らず磁気抵抗効果を利用する浮上型の再生ヘッドにおい
ても生じる。このヘッドでは、磁気抵抗効果膜としてパ
ーマロイ等の軟磁性金属薄膜を用いるので、上記と同様
にして摩耗が生じる。磁気抵抗効果膜が摩耗した場合も
スペーシングロスにより再生感度が低下してしまう。ま
た、記録密度が高い場合には、分解能を上げ良好な高周
波特性を得るために磁気抵抗効果膜の両側に磁気シール
ド膜を設けるが、軟磁性金属薄膜からなる磁気シールド
膜では上記と同様に摩耗が生じて磁気シールド効果が減
少するため、再生出力が経時的に低下してしまう。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、浮上型磁気
ヘッドを用いるＨＤＤにおいて、使用に伴なう経時的な
再生出力の低下を防ぐことを主な目的とする。
ヘッドを用いるＨＤＤにおいて、使用に伴なう経時的な
再生出力の低下を防ぐことを主な目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１２）の本発明により達成される。 （１）ヘッドギャップに隣接して軟磁性金属薄膜を少な
くとも一つ有し、媒体対向面において、少なくとも一つ
の軟磁性金属薄膜の表面がスライダ表面またはコア表面
に対し凹んでおり、スライダ表面またはコア表面に対す
る軟磁性金属薄膜表面の最大凹み量が５〜３０nmである
ことを特徴とする浮上型磁気ヘッド。 （２）ヘッドギャップを挟んで一対のコアを有し、少な
くとも一方のコアとヘッドギャップとの間に軟磁性金属
薄膜を有するメタル・イン・ギャップ型磁気ヘッドであ
る上記（１）の浮上型磁気ヘッド。 （３）軟磁性金属薄膜と非磁性絶縁薄膜との積層体およ
びこの積層体を挟む一対の非磁性絶縁基体をコアとして
有し、軟磁性金属薄膜にほぼ垂直なヘッドギャップを有
する積層型磁気ヘッドである上記（１）の浮上型磁気ヘ
ッド。 （４）ヘッドギャップを挟む一対の軟磁性金属薄膜を磁
極として有する薄膜型磁気ヘッドである上記（１）の浮
上型磁気ヘッド。 （５）軟磁性金属薄膜表面のスライダ表面またはコア表
面に対する凹みが、媒体対向面の研磨により形成された
ものである上記（１）ないし（４）のいずれかの浮上型
磁気ヘッド。 （６）媒体対向面に少なくとも一つの軟磁性金属薄膜と
非磁性絶縁層とが露出している磁気抵抗効果型の浮上型
磁気ヘッドであって、媒体対向面において、少なくとも
一つの軟磁性金属薄膜表面がスライダ表面に対し凹んで
おり、スライダ表面に対する軟磁性金属薄膜表面の最大
凹み量が５〜３０nmであることを特徴とする浮上型磁気
ヘッド。 （７）軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜が媒体対
向面に露出している上記（６）の浮上型磁気ヘッド。 （８）それぞれ軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
とリーディング側の磁気シールド膜とトレーリング側の
磁気シールド膜とが媒体対向面に露出している上記
（６）の浮上型磁気ヘッド。 （９）それぞれ軟磁性金属薄膜からなり、それぞれ磁気
抵抗効果膜に接続されているリーディング側のヨーク層
とトレーリング側のヨーク層とが媒体対向面に露出して
いる上記（６）の浮上型磁気ヘッド。 （１０）それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーディング
側の磁気シールド膜とトレーリング側の磁気シールド膜
と、それぞれ軟磁性金属薄膜からなり、それぞれ磁気抵
抗効果膜に接続されているリーディング側のヨーク層と
トレーリング側のヨーク層とが媒体対向面に露出してい
る上記（６）の浮上型磁気ヘッド。 （１１）軟磁性金属薄膜表面のスライダ表面に対する凹
みが媒体対向面の研磨により形成されたものである上記
（６）ないし（１０）のいずれかの浮上型磁気ヘッド。 （１２）フライングハイト０．０４〜０．１μm で使用
される上記（１）ないし（１１）のいずれかの浮上型磁
気ヘッド。
（１）〜（１２）の本発明により達成される。 （１）ヘッドギャップに隣接して軟磁性金属薄膜を少な
くとも一つ有し、媒体対向面において、少なくとも一つ
の軟磁性金属薄膜の表面がスライダ表面またはコア表面
に対し凹んでおり、スライダ表面またはコア表面に対す
る軟磁性金属薄膜表面の最大凹み量が５〜３０nmである
ことを特徴とする浮上型磁気ヘッド。 （２）ヘッドギャップを挟んで一対のコアを有し、少な
くとも一方のコアとヘッドギャップとの間に軟磁性金属
薄膜を有するメタル・イン・ギャップ型磁気ヘッドであ
る上記（１）の浮上型磁気ヘッド。 （３）軟磁性金属薄膜と非磁性絶縁薄膜との積層体およ
びこの積層体を挟む一対の非磁性絶縁基体をコアとして
有し、軟磁性金属薄膜にほぼ垂直なヘッドギャップを有
する積層型磁気ヘッドである上記（１）の浮上型磁気ヘ
ッド。 （４）ヘッドギャップを挟む一対の軟磁性金属薄膜を磁
極として有する薄膜型磁気ヘッドである上記（１）の浮
上型磁気ヘッド。 （５）軟磁性金属薄膜表面のスライダ表面またはコア表
面に対する凹みが、媒体対向面の研磨により形成された
ものである上記（１）ないし（４）のいずれかの浮上型
磁気ヘッド。 （６）媒体対向面に少なくとも一つの軟磁性金属薄膜と
非磁性絶縁層とが露出している磁気抵抗効果型の浮上型
磁気ヘッドであって、媒体対向面において、少なくとも
一つの軟磁性金属薄膜表面がスライダ表面に対し凹んで
おり、スライダ表面に対する軟磁性金属薄膜表面の最大
凹み量が５〜３０nmであることを特徴とする浮上型磁気
ヘッド。 （７）軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜が媒体対
向面に露出している上記（６）の浮上型磁気ヘッド。 （８）それぞれ軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
とリーディング側の磁気シールド膜とトレーリング側の
磁気シールド膜とが媒体対向面に露出している上記
（６）の浮上型磁気ヘッド。 （９）それぞれ軟磁性金属薄膜からなり、それぞれ磁気
抵抗効果膜に接続されているリーディング側のヨーク層
とトレーリング側のヨーク層とが媒体対向面に露出して
いる上記（６）の浮上型磁気ヘッド。 （１０）それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーディング
側の磁気シールド膜とトレーリング側の磁気シールド膜
と、それぞれ軟磁性金属薄膜からなり、それぞれ磁気抵
抗効果膜に接続されているリーディング側のヨーク層と
トレーリング側のヨーク層とが媒体対向面に露出してい
る上記（６）の浮上型磁気ヘッド。 （１１）軟磁性金属薄膜表面のスライダ表面に対する凹
みが媒体対向面の研磨により形成されたものである上記
（６）ないし（１０）のいずれかの浮上型磁気ヘッド。 （１２）フライングハイト０．０４〜０．１μm で使用
される上記（１）ないし（１１）のいずれかの浮上型磁
気ヘッド。
【０００８】
【作用および効果】本発明が適用される誘導型磁気ヘッ
ドの代表例は、図１に示されるようなメタル・イン・ギ
ャップ（ＭＩＧ）型磁気ヘッド、図２に示されるような
積層型磁気ヘッド、図３に示されるような薄膜型磁気ヘ
ッドである。
ドの代表例は、図１に示されるようなメタル・イン・ギ
ャップ（ＭＩＧ）型磁気ヘッド、図２に示されるような
積層型磁気ヘッド、図３に示されるような薄膜型磁気ヘ
ッドである。
【０００９】本発明の磁気ヘッドでは、媒体対向面に露
出している軟磁性金属薄膜２表面をコア４表面またはス
ライダ６表面に対し予め凹ませてある。このため、磁気
ディスクとの接触による軟磁性金属薄膜２表面の摩耗は
殆ど認められず、再生出力の低下が殆どない。しかも、
軟磁性金属薄膜２の断面形状はヘッドギャップ３表面と
滑らかに連続する凹状となっているため、ヘッドギャッ
プ３近傍では軟磁性金属薄膜２表面と磁気ディスクとの
距離がヘッドギャップ表面と磁気ディスクとの距離とほ
ぼ同じとなり、凹みを設けたことによるスペーシングロ
スの影響は少ない。
出している軟磁性金属薄膜２表面をコア４表面またはス
ライダ６表面に対し予め凹ませてある。このため、磁気
ディスクとの接触による軟磁性金属薄膜２表面の摩耗は
殆ど認められず、再生出力の低下が殆どない。しかも、
軟磁性金属薄膜２の断面形状はヘッドギャップ３表面と
滑らかに連続する凹状となっているため、ヘッドギャッ
プ３近傍では軟磁性金属薄膜２表面と磁気ディスクとの
距離がヘッドギャップ表面と磁気ディスクとの距離とほ
ぼ同じとなり、凹みを設けたことによるスペーシングロ
スの影響は少ない。
【００１０】軟磁性薄膜表面のこのような凹みは、磁気
ヘッドの媒体対向面を研磨することにより形成すること
ができる。すなわち、フェライト製のコア４や、セラミ
ックス製のスライダ６、酸化ケイ素などからなるヘッド
ギャップ３は軟磁性金属薄膜２よりも硬いため、研磨に
より図示例のような断面形状を有する凹みを形成するこ
とができる。
ヘッドの媒体対向面を研磨することにより形成すること
ができる。すなわち、フェライト製のコア４や、セラミ
ックス製のスライダ６、酸化ケイ素などからなるヘッド
ギャップ３は軟磁性金属薄膜２よりも硬いため、研磨に
より図示例のような断面形状を有する凹みを形成するこ
とができる。
【００１１】これらの誘導型の磁気ヘッドの他、本発明
は図４〜図７にそれぞれ示されるような磁気抵抗効果型
の浮上型磁気ヘッドに適用することもできる。これらの
磁気ヘッドでは、それぞれ軟磁性金属薄膜からなる磁気
抵抗効果膜８や磁気シールド膜９、ヨーク層１０の表面
を、スライダ６の媒体対向面に対して予め凹んだ状態と
することにより、磁気ディスクとの接触による軟磁性金
属薄膜の摩耗を防ぐことができ、再生出力の低下を抑え
ることができる。
は図４〜図７にそれぞれ示されるような磁気抵抗効果型
の浮上型磁気ヘッドに適用することもできる。これらの
磁気ヘッドでは、それぞれ軟磁性金属薄膜からなる磁気
抵抗効果膜８や磁気シールド膜９、ヨーク層１０の表面
を、スライダ６の媒体対向面に対して予め凹んだ状態と
することにより、磁気ディスクとの接触による軟磁性金
属薄膜の摩耗を防ぐことができ、再生出力の低下を抑え
ることができる。
【００１２】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
に説明する。
【００１３】本発明が適用される誘導型の浮上型磁気ヘ
ッドは、ヘッドギャップに隣接して軟磁性金属薄膜を少
なくとも一つ有し、媒体対向面において、少なくとも一
つの軟磁性金属薄膜の表面がコア表面またはスライダ表
面に対し凹んでいる。本発明が適用される誘導型の浮上
型磁気ヘッドの具体例を、図１〜図３に示す。
ッドは、ヘッドギャップに隣接して軟磁性金属薄膜を少
なくとも一つ有し、媒体対向面において、少なくとも一
つの軟磁性金属薄膜の表面がコア表面またはスライダ表
面に対し凹んでいる。本発明が適用される誘導型の浮上
型磁気ヘッドの具体例を、図１〜図３に示す。
【００１４】図１のＭＩＧ型磁気ヘッドは、ヘッドギャ
ップ３を挟んで一対のコア４を有し、コア４とヘッドギ
ャップ３との間に軟磁性金属薄膜２を有する。図示例で
は軟磁性金属薄膜２を各コアとヘッドギャップとの間に
設けているが、一方のコアとヘッドギャップとの間にだ
け軟磁性金属薄膜を設けた構成であってもよい。
ップ３を挟んで一対のコア４を有し、コア４とヘッドギ
ャップ３との間に軟磁性金属薄膜２を有する。図示例で
は軟磁性金属薄膜２を各コアとヘッドギャップとの間に
設けているが、一方のコアとヘッドギャップとの間にだ
け軟磁性金属薄膜を設けた構成であってもよい。
【００１５】ＭＩＧ型磁気ヘッドにおいてヘッドギャッ
プの両側に軟磁性金属薄膜を設ける場合、両方の軟磁性
金属薄膜をコアよりも飽和磁束密度（ＢS ）の高い材質
で構成してもよく、一方をコアよりもＢS の高い材質で
構成し、他方をコアよりもＢS の低い材質で構成して、
いわゆるエンハンスト・デュアル・ギャップ・レングス
（ＥＤＧ）型の磁気ヘッドとしてもよい。また、ヘッド
ギャップの一方の側にだけ軟磁性金属薄膜を設ける場
合、コアよりもＢS の低い材質を用いて、いわゆるデュ
アル・ギャップ・レングス（ＤＧＬ）型の磁気ヘッドと
してもよく、コアよりもＢS の高い材質を用いてもよ
い。軟磁性金属薄膜の組成は特に限定されないが、通
常、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉから選ばれる１種以上を含有
する結晶質や非晶質の合金、例えば、Ｆｅ系、Ｆｅ−Ｃ
ｏ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｓｉ
−Ａｌ系等の各種合金から適宜選択される。軟磁性金属
薄膜は単一組成の膜であってもよく、組成の相異なる２
種以上の膜を積層した多層構成であってもよい。多層構
成とする場合、軟磁性の金属薄膜と非磁性絶縁薄膜との
積層構造としてもよい。軟磁性金属薄膜の厚さは、一般
に０．２〜１０μm 、好ましくは０．５〜５μm であ
る。軟磁性金属薄膜は、通常、スパッタ法や蒸着法など
により形成する。ＭＩＧ型磁気ヘッドのコアは、Ｍｎ−
Ｚｎ系やＮｉ−Ｚｎ系の軟磁性フェライトから構成され
ることが好ましい。フェライトは軟磁性金属薄膜よりも
硬度が高いため、後述するように媒体対向面を研磨する
ことにより、軟磁性金属薄膜だけを選択的に多く取り除
いて凹みを形成することが可能となる。ヘッドギャップ
の材質は特に限定されないが、媒体対向面の研磨により
軟磁性金属薄膜を選択的に取り除くためには、軟磁性金
属薄膜よりも硬度の高い材質、例えば酸化ケイ素などを
用いることが好ましい。ヘッドギャップの形成方法は特
に限定されないが、通常、スパッタ法により形成する。
ギャップ長は、記録や再生の条件を考慮して適宜決定す
ればよいが、通常、０．２〜２．０μm 程度とする。Ｍ
ＩＧ型磁気ヘッドは、モノリシック型としてもコンポジ
ット型としてもよい。モノリシック型は、一方のコアが
ヘッドスライダを兼ねる構造であり、コンポジット型
は、非磁性セラミックスなどから構成されるヘッドスラ
イダとコアとを接着した構造である。
プの両側に軟磁性金属薄膜を設ける場合、両方の軟磁性
金属薄膜をコアよりも飽和磁束密度（ＢS ）の高い材質
で構成してもよく、一方をコアよりもＢS の高い材質で
構成し、他方をコアよりもＢS の低い材質で構成して、
いわゆるエンハンスト・デュアル・ギャップ・レングス
（ＥＤＧ）型の磁気ヘッドとしてもよい。また、ヘッド
ギャップの一方の側にだけ軟磁性金属薄膜を設ける場
合、コアよりもＢS の低い材質を用いて、いわゆるデュ
アル・ギャップ・レングス（ＤＧＬ）型の磁気ヘッドと
してもよく、コアよりもＢS の高い材質を用いてもよ
い。軟磁性金属薄膜の組成は特に限定されないが、通
常、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉから選ばれる１種以上を含有
する結晶質や非晶質の合金、例えば、Ｆｅ系、Ｆｅ−Ｃ
ｏ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｓｉ
−Ａｌ系等の各種合金から適宜選択される。軟磁性金属
薄膜は単一組成の膜であってもよく、組成の相異なる２
種以上の膜を積層した多層構成であってもよい。多層構
成とする場合、軟磁性の金属薄膜と非磁性絶縁薄膜との
積層構造としてもよい。軟磁性金属薄膜の厚さは、一般
に０．２〜１０μm 、好ましくは０．５〜５μm であ
る。軟磁性金属薄膜は、通常、スパッタ法や蒸着法など
により形成する。ＭＩＧ型磁気ヘッドのコアは、Ｍｎ−
Ｚｎ系やＮｉ−Ｚｎ系の軟磁性フェライトから構成され
ることが好ましい。フェライトは軟磁性金属薄膜よりも
硬度が高いため、後述するように媒体対向面を研磨する
ことにより、軟磁性金属薄膜だけを選択的に多く取り除
いて凹みを形成することが可能となる。ヘッドギャップ
の材質は特に限定されないが、媒体対向面の研磨により
軟磁性金属薄膜を選択的に取り除くためには、軟磁性金
属薄膜よりも硬度の高い材質、例えば酸化ケイ素などを
用いることが好ましい。ヘッドギャップの形成方法は特
に限定されないが、通常、スパッタ法により形成する。
ギャップ長は、記録や再生の条件を考慮して適宜決定す
ればよいが、通常、０．２〜２．０μm 程度とする。Ｍ
ＩＧ型磁気ヘッドは、モノリシック型としてもコンポジ
ット型としてもよい。モノリシック型は、一方のコアが
ヘッドスライダを兼ねる構造であり、コンポジット型
は、非磁性セラミックスなどから構成されるヘッドスラ
イダとコアとを接着した構造である。
【００１６】図２の積層型磁気ヘッドは、軟磁性金属薄
膜２と非磁性絶縁薄膜５との積層体およびこの積層体を
挟む一対の非磁性絶縁基体をコアとして有し、軟磁性金
属薄膜にほぼ垂直なヘッドギャップ３を有する。軟磁性
金属薄膜およびヘッドギャップには、例えばＭＩＧ型磁
気ヘッドの説明において挙げた各種材質を適宜選択して
用いればよい。非磁性絶縁薄膜には、酸化ケイ素等の各
種非磁性材質を用いればよい。非磁性絶縁基体には、Ｃ
ａＯ−ＴｉＯ2 等の非磁性セラミックスを用いればよ
い。一般に、軟磁性金属薄膜１層の厚さは１〜１０μm
程度、非磁性絶縁薄膜１層の厚さは０．０５〜０．５μ
m 程度とし、軟磁性金属薄膜の積層数は２〜３０程度と
する。軟磁性金属薄膜および非磁性絶縁薄膜は、スパッ
タ法などの薄膜形成法により積層される。このような構
成の積層型磁気ヘッドは、コンポジット型であってもモ
ノリシック型であってもよい。このような積層型磁気ヘ
ッドの媒体対向面を研磨すると、非磁性絶縁基体、ヘッ
ドギャップ３および非磁性絶縁薄膜５に対し軟磁性金属
薄膜２の研削量が相対的に多くなり、図示例のような凹
みを形成することができる。ただし、ヘッドギャップ３
や非磁性絶縁薄膜５の厚さや材質、あるいは研磨方法に
よっては、これらの研削量が非磁性絶縁基体に比べて多
くなることがある。その場合、コア表面に対する軟磁性
金属薄膜２の凹み量は、非磁性絶縁基体の媒体対向面か
らの凹み量となる。
膜２と非磁性絶縁薄膜５との積層体およびこの積層体を
挟む一対の非磁性絶縁基体をコアとして有し、軟磁性金
属薄膜にほぼ垂直なヘッドギャップ３を有する。軟磁性
金属薄膜およびヘッドギャップには、例えばＭＩＧ型磁
気ヘッドの説明において挙げた各種材質を適宜選択して
用いればよい。非磁性絶縁薄膜には、酸化ケイ素等の各
種非磁性材質を用いればよい。非磁性絶縁基体には、Ｃ
ａＯ−ＴｉＯ2 等の非磁性セラミックスを用いればよ
い。一般に、軟磁性金属薄膜１層の厚さは１〜１０μm
程度、非磁性絶縁薄膜１層の厚さは０．０５〜０．５μ
m 程度とし、軟磁性金属薄膜の積層数は２〜３０程度と
する。軟磁性金属薄膜および非磁性絶縁薄膜は、スパッ
タ法などの薄膜形成法により積層される。このような構
成の積層型磁気ヘッドは、コンポジット型であってもモ
ノリシック型であってもよい。このような積層型磁気ヘ
ッドの媒体対向面を研磨すると、非磁性絶縁基体、ヘッ
ドギャップ３および非磁性絶縁薄膜５に対し軟磁性金属
薄膜２の研削量が相対的に多くなり、図示例のような凹
みを形成することができる。ただし、ヘッドギャップ３
や非磁性絶縁薄膜５の厚さや材質、あるいは研磨方法に
よっては、これらの研削量が非磁性絶縁基体に比べて多
くなることがある。その場合、コア表面に対する軟磁性
金属薄膜２の凹み量は、非磁性絶縁基体の媒体対向面か
らの凹み量となる。
【００１７】図３の薄膜型磁気ヘッドは、スライダ６の
トレーリング側に、ヘッドギャップ３を挟んで一対の軟
磁性金属薄膜２を有する。ヘッドギャップ３とトレーリ
ング側の軟磁性金属薄膜２との間には、非磁性絶縁層７
を介してコイル層１１が設けられており、リーディング
側の軟磁性金属薄膜２とスライダ６との間およびトレー
リング側の軟磁性金属薄膜２のトレーリング側には、非
磁性絶縁層７が設けられている。媒体対向面においてヘ
ッドギャップ３を挟んでいる一対の軟磁性金属薄膜２
は、磁極としてはたらく。軟磁性金属薄膜およびヘッド
ギャップの材質は、上記したＭＩＧ型磁気ヘッドと同様
である。軟磁性金属薄膜の厚さは、一般に１〜５μm 程
度とする。スライダは各種のセラミックスなどから構成
される。スライダの形状やサイズ等は特に限定されず、
用途に応じ適宜選択される。非磁性絶縁層には、通常、
ＳｉＯ2 、ガラス、Ａｌ2 Ｏ3 などが用いられる。非磁
性絶縁層の厚さは、一般に５〜４０μm 程度とする。コ
イル層には、通常、Ａｌ、Ｃｕ等の金属が用いられる。
トレーリング側最外層の非磁性絶縁層は保護層としては
たらき、これにはＡｌ2 Ｏ3 などが用いられる。保護層
の厚さは、一般に１０〜５０μm 程度とする。これらの
膜や層は、真空蒸着法、スパッタ法、めっき法等により
形成される。また、これらのパターニングには、選択エ
ッチングや選択デポジションが用いられる。このような
薄膜型磁気ヘッドの媒体対向面を研磨すると、軟磁性金
属薄膜２の研削量がスライダ６や他の各層に比べ相対的
に多くなり、図示例のような凹みを形成することができ
る。なお、ヘッドギャップ３や非磁性絶縁層７は、厚さ
や材質、あるいは研磨方法によってはスライダ６よりも
研削量が多くなることがある。
トレーリング側に、ヘッドギャップ３を挟んで一対の軟
磁性金属薄膜２を有する。ヘッドギャップ３とトレーリ
ング側の軟磁性金属薄膜２との間には、非磁性絶縁層７
を介してコイル層１１が設けられており、リーディング
側の軟磁性金属薄膜２とスライダ６との間およびトレー
リング側の軟磁性金属薄膜２のトレーリング側には、非
磁性絶縁層７が設けられている。媒体対向面においてヘ
ッドギャップ３を挟んでいる一対の軟磁性金属薄膜２
は、磁極としてはたらく。軟磁性金属薄膜およびヘッド
ギャップの材質は、上記したＭＩＧ型磁気ヘッドと同様
である。軟磁性金属薄膜の厚さは、一般に１〜５μm 程
度とする。スライダは各種のセラミックスなどから構成
される。スライダの形状やサイズ等は特に限定されず、
用途に応じ適宜選択される。非磁性絶縁層には、通常、
ＳｉＯ2 、ガラス、Ａｌ2 Ｏ3 などが用いられる。非磁
性絶縁層の厚さは、一般に５〜４０μm 程度とする。コ
イル層には、通常、Ａｌ、Ｃｕ等の金属が用いられる。
トレーリング側最外層の非磁性絶縁層は保護層としては
たらき、これにはＡｌ2 Ｏ3 などが用いられる。保護層
の厚さは、一般に１０〜５０μm 程度とする。これらの
膜や層は、真空蒸着法、スパッタ法、めっき法等により
形成される。また、これらのパターニングには、選択エ
ッチングや選択デポジションが用いられる。このような
薄膜型磁気ヘッドの媒体対向面を研磨すると、軟磁性金
属薄膜２の研削量がスライダ６や他の各層に比べ相対的
に多くなり、図示例のような凹みを形成することができ
る。なお、ヘッドギャップ３や非磁性絶縁層７は、厚さ
や材質、あるいは研磨方法によってはスライダ６よりも
研削量が多くなることがある。
【００１８】本発明が適用される磁気抵抗効果型の浮上
型磁気ヘッドでは、媒体対向面に少なくとも一つの軟磁
性金属薄膜と非磁性絶縁層とが露出しており、媒体対向
面において、軟磁性金属薄膜表面がスライダ表面に対し
凹んでいる。図４〜図７に、磁気抵抗効果を利用した再
生用の浮上型磁気ヘッドを示す。
型磁気ヘッドでは、媒体対向面に少なくとも一つの軟磁
性金属薄膜と非磁性絶縁層とが露出しており、媒体対向
面において、軟磁性金属薄膜表面がスライダ表面に対し
凹んでいる。図４〜図７に、磁気抵抗効果を利用した再
生用の浮上型磁気ヘッドを示す。
【００１９】図４の磁気ヘッドでは、スライダ６のトレ
ーリング側に、軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
８が媒体対向面に露出して設けられており、その両側に
非磁性絶縁層７が設けられている。
ーリング側に、軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
８が媒体対向面に露出して設けられており、その両側に
非磁性絶縁層７が設けられている。
【００２０】図５の磁気ヘッドでは、スライダ６のトレ
ーリング側に、それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーデ
ィング側の磁気シールド膜９とトレーリング側の磁気シ
ールド膜９とが媒体対向面に露出して設けられており、
これらの間に、軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
８が媒体対向面に露出して設けられている。各膜の両側
には非磁性絶縁層７が設けられている。
ーリング側に、それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーデ
ィング側の磁気シールド膜９とトレーリング側の磁気シ
ールド膜９とが媒体対向面に露出して設けられており、
これらの間に、軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
８が媒体対向面に露出して設けられている。各膜の両側
には非磁性絶縁層７が設けられている。
【００２１】図６の磁気ヘッドでは、スライダ６のトレ
ーリング側に、それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーデ
ィング側のヨーク層１０およびトレーリング側のヨーク
層１０が媒体対向面に露出して設けられている。両ヨー
ク層は磁気抵抗効果膜８に接続されており、各ヨーク層
の両側には非磁性絶縁層７が設けられている。
ーリング側に、それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーデ
ィング側のヨーク層１０およびトレーリング側のヨーク
層１０が媒体対向面に露出して設けられている。両ヨー
ク層は磁気抵抗効果膜８に接続されており、各ヨーク層
の両側には非磁性絶縁層７が設けられている。
【００２２】図７の磁気ヘッドでは、スライダ６のトレ
ーリング側に、それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーデ
ィング側のヨーク層１０およびトレーリング側のヨーク
層１０が媒体対向面に露出して設けられている。両ヨー
ク層は磁気抵抗効果膜８に接続されており、それぞれ軟
磁性金属薄膜からなるリーディング側の磁気シールド膜
９およびトレーリング側の磁気シールド膜９が両ヨーク
層を挟むように媒体対向面に露出して設けられている。
各膜の両側および各ヨーク層の両側には、非磁性絶縁層
７が設けられている。
ーリング側に、それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリーデ
ィング側のヨーク層１０およびトレーリング側のヨーク
層１０が媒体対向面に露出して設けられている。両ヨー
ク層は磁気抵抗効果膜８に接続されており、それぞれ軟
磁性金属薄膜からなるリーディング側の磁気シールド膜
９およびトレーリング側の磁気シールド膜９が両ヨーク
層を挟むように媒体対向面に露出して設けられている。
各膜の両側および各ヨーク層の両側には、非磁性絶縁層
７が設けられている。
【００２３】これらの磁気抵抗効果型の浮上型磁気ヘッ
ドにおいて各部に用いる材質は特に限定されず、従来か
ら用いられているものから適宜選択することができる。
例えば、磁気抵抗効果膜にはＮｉ−Ｆｅ合金（パーマロ
イ）やＮｉ−Ｃｏ合金等を用いることができる。磁気シ
ールド膜やヨーク層には、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パーマロ
イ）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダスト）、Ｃｏ系ア
モルファス合金などを用いることができる。非磁性絶縁
層には、上記した誘導型磁気ヘッドのヘッドギャップと
同様に軟磁性金属薄膜よりも耐摩耗性の良好な材質を用
いることが好ましく、例えばＡｌ2 Ｏ3 等を用いればよ
い。スライダも、誘導型磁気ヘッドのものと同様であ
る。一般に、磁気シールド膜は厚さ１〜５μm 、幅３０
〜２００μm、磁気抵抗効果膜は厚さ１００〜６００A
、幅２〜１０μm 、磁気シールド膜と磁気抵抗効果膜
との距離は０．１〜１．０μm である。
ドにおいて各部に用いる材質は特に限定されず、従来か
ら用いられているものから適宜選択することができる。
例えば、磁気抵抗効果膜にはＮｉ−Ｆｅ合金（パーマロ
イ）やＮｉ−Ｃｏ合金等を用いることができる。磁気シ
ールド膜やヨーク層には、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パーマロ
イ）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダスト）、Ｃｏ系ア
モルファス合金などを用いることができる。非磁性絶縁
層には、上記した誘導型磁気ヘッドのヘッドギャップと
同様に軟磁性金属薄膜よりも耐摩耗性の良好な材質を用
いることが好ましく、例えばＡｌ2 Ｏ3 等を用いればよ
い。スライダも、誘導型磁気ヘッドのものと同様であ
る。一般に、磁気シールド膜は厚さ１〜５μm 、幅３０
〜２００μm、磁気抵抗効果膜は厚さ１００〜６００A
、幅２〜１０μm 、磁気シールド膜と磁気抵抗効果膜
との距離は０．１〜１．０μm である。
【００２４】図１〜図３に示される誘導型磁気ヘッドで
は、媒体対向面においてコア４表面またはスライダ６表
面に対し軟磁性金属薄膜２表面が凹んでおり、図４〜図
７に示される磁気抵抗効果型磁気ヘッドでは、媒体対向
面において、スライダ６表面に対し磁気抵抗効果膜８、
磁気シールド膜９、ヨーク層１０それぞれの表面が凹ん
でいる。これらの磁気ヘッドにおいて凹み量の最大値ｄ
が小さすぎると再生出力の経時的な減少が大きくなるの
で、ｄは５nm以上、好ましくは７nm以上とする。一方、
ｄが大きすぎるとスペーシングロスの増大により初期の
再生出力が大幅に低下してしまうので、ｄは３０nm以
下、好ましくは２５nm以下とする。なお、ｄは、コア表
面の軟磁性金属薄膜近傍あるいはスライダ表面のトレー
リング側エッジ近傍を基準にして測定する。本発明の磁
気ヘッドのフライングハイトは、高密度記録のために、
通常、０．１μm 以下、好ましくは０．０８μm 以下、
より好ましくは０．０６μm 以下とされるが、このよう
な低フライングハイトで使用された場合でも、上記の凹
みを設けることにより、再生出力の経時的な低下を極め
て小さく抑えることができる。なお、フライングハイト
は、通常、０．０４μm 以上である。
は、媒体対向面においてコア４表面またはスライダ６表
面に対し軟磁性金属薄膜２表面が凹んでおり、図４〜図
７に示される磁気抵抗効果型磁気ヘッドでは、媒体対向
面において、スライダ６表面に対し磁気抵抗効果膜８、
磁気シールド膜９、ヨーク層１０それぞれの表面が凹ん
でいる。これらの磁気ヘッドにおいて凹み量の最大値ｄ
が小さすぎると再生出力の経時的な減少が大きくなるの
で、ｄは５nm以上、好ましくは７nm以上とする。一方、
ｄが大きすぎるとスペーシングロスの増大により初期の
再生出力が大幅に低下してしまうので、ｄは３０nm以
下、好ましくは２５nm以下とする。なお、ｄは、コア表
面の軟磁性金属薄膜近傍あるいはスライダ表面のトレー
リング側エッジ近傍を基準にして測定する。本発明の磁
気ヘッドのフライングハイトは、高密度記録のために、
通常、０．１μm 以下、好ましくは０．０８μm 以下、
より好ましくは０．０６μm 以下とされるが、このよう
な低フライングハイトで使用された場合でも、上記の凹
みを設けることにより、再生出力の経時的な低下を極め
て小さく抑えることができる。なお、フライングハイト
は、通常、０．０４μm 以上である。
【００２５】図示例の磁気ヘッドでは、図４のものを除
き、媒体対向面に露出している軟磁性金属薄膜が二つ以
上存在するが、このような場合、凹みは少なくとも一つ
の軟磁性金属薄膜表面、好ましくは全ての軟磁性金属薄
膜表面に設ける。複数の軟磁性金属薄膜表面に凹みを設
ける場合、少なくとも一つの軟磁性金属薄膜表面の最大
凹み量ｄが上記範囲であればよい。
き、媒体対向面に露出している軟磁性金属薄膜が二つ以
上存在するが、このような場合、凹みは少なくとも一つ
の軟磁性金属薄膜表面、好ましくは全ての軟磁性金属薄
膜表面に設ける。複数の軟磁性金属薄膜表面に凹みを設
ける場合、少なくとも一つの軟磁性金属薄膜表面の最大
凹み量ｄが上記範囲であればよい。
【００２６】軟磁性金属薄膜表面の凹みの形成方法は特
に限定されないが、図示例のような滑らかな断面形状の
凹みが容易に形成可能で、しかも軟磁性金属薄膜の特性
への悪影響が少ないことから、媒体対向面を研磨する方
法を用いることが好ましい。浮上型磁気ヘッドでは、磁
気ディスク表面への吸着を防ぐためにスライダの摺動面
を粗面化することが好ましいが、この粗面化を研磨によ
り行ない、その際にヘッドギャップ付近や磁気抵抗効果
膜付近なども同時に研磨することにより、上記のような
凹みを設けることができる。
に限定されないが、図示例のような滑らかな断面形状の
凹みが容易に形成可能で、しかも軟磁性金属薄膜の特性
への悪影響が少ないことから、媒体対向面を研磨する方
法を用いることが好ましい。浮上型磁気ヘッドでは、磁
気ディスク表面への吸着を防ぐためにスライダの摺動面
を粗面化することが好ましいが、この粗面化を研磨によ
り行ない、その際にヘッドギャップ付近や磁気抵抗効果
膜付近なども同時に研磨することにより、上記のような
凹みを設けることができる。
【００２７】研磨法としては、ラッピング研磨が好まし
い。ラッピング研磨では、砥石定盤と被研磨面との間に
研磨剤を供給して研磨を行なう。砥石定盤は、通常、デ
ィスク状であり、その主面には、スパイラル状等のパタ
ーンの溝が形成されている。砥石定盤の材質は特に限定
されず、樹脂、セラミックス、金属等から適宜選択すれ
ばよい。ラッピング研磨は、必要に応じて被研磨面を鏡
面研磨した後に、以下の手順で行なうことが好ましい。
まず、砥石定盤に対向して、加圧シリンダー等によって
押圧でき、しかもそれ自体回転可能なリングを設ける。
そして、複数のスライダを治具にとりつけ、その被研摩
面が砥石定盤の主面と対向するように、砥石定盤上に載
置する。スライダを取り付けた治具は、リング内に収納
する。そして、押圧部材によりスライダを押圧し、スラ
イダと砥石定盤との間にスラリー状の研摩剤を供給して
ラッピング研摩を行なう。この際、スライダは、砥石定
盤の回転に従い、それ自体も回転する。研磨剤には、通
常、平均粒径０．０５〜１μm 程度のダイヤモンドや酸
化セリウム、酸化ジルコニウム等の研磨砥粒を含有する
スラリーを用いる。研磨砥粒のモース硬度は、７以上、
特に８〜１０が適当である。
い。ラッピング研磨では、砥石定盤と被研磨面との間に
研磨剤を供給して研磨を行なう。砥石定盤は、通常、デ
ィスク状であり、その主面には、スパイラル状等のパタ
ーンの溝が形成されている。砥石定盤の材質は特に限定
されず、樹脂、セラミックス、金属等から適宜選択すれ
ばよい。ラッピング研磨は、必要に応じて被研磨面を鏡
面研磨した後に、以下の手順で行なうことが好ましい。
まず、砥石定盤に対向して、加圧シリンダー等によって
押圧でき、しかもそれ自体回転可能なリングを設ける。
そして、複数のスライダを治具にとりつけ、その被研摩
面が砥石定盤の主面と対向するように、砥石定盤上に載
置する。スライダを取り付けた治具は、リング内に収納
する。そして、押圧部材によりスライダを押圧し、スラ
イダと砥石定盤との間にスラリー状の研摩剤を供給して
ラッピング研摩を行なう。この際、スライダは、砥石定
盤の回転に従い、それ自体も回転する。研磨剤には、通
常、平均粒径０．０５〜１μm 程度のダイヤモンドや酸
化セリウム、酸化ジルコニウム等の研磨砥粒を含有する
スラリーを用いる。研磨砥粒のモース硬度は、７以上、
特に８〜１０が適当である。
【００２８】ラッピング研摩の条件は、上記したような
凹みが形成できるように、目的とする凹み量、軟磁性金
属薄膜やヘッドギャップ、非磁性絶縁層等の材質、これ
らの間の硬度の差などに応じて適宜決定する必要があ
る。具体的には、砥石定盤の回転数、スライダの回転
数、押圧力、平均研摩レートなどの条件を適宜決定すれ
ばよい。
凹みが形成できるように、目的とする凹み量、軟磁性金
属薄膜やヘッドギャップ、非磁性絶縁層等の材質、これ
らの間の硬度の差などに応じて適宜決定する必要があ
る。具体的には、砥石定盤の回転数、スライダの回転
数、押圧力、平均研摩レートなどの条件を適宜決定すれ
ばよい。
【００２９】なお、軟磁性金属薄膜の凹みの形成は、ス
ライダの粗面化と別個に行なってもよい。また、スライ
ダの粗面化を行なわなくてもよい。
ライダの粗面化と別個に行なってもよい。また、スライ
ダの粗面化を行なわなくてもよい。
【００３０】このようなラッピング研磨の他、研磨テー
プを用いる方法を利用することもできる。
プを用いる方法を利用することもできる。
【００３１】また、研磨法の他、エッチング法を用いる
こともできる。エッチング法としては、Ａｒイオンなど
を用いるイオンエッチングが好ましい。スライダや、ヘ
ッドギャップ、非磁性絶縁層などは軟磁性金属薄膜より
もエッチングレートが低いため、軟磁性金属薄膜表面を
相対的に凹ませることができる。しかも、図示例のよう
に、軟磁性金属薄膜表面を滑らかな凹状にすることが可
能である。
こともできる。エッチング法としては、Ａｒイオンなど
を用いるイオンエッチングが好ましい。スライダや、ヘ
ッドギャップ、非磁性絶縁層などは軟磁性金属薄膜より
もエッチングレートが低いため、軟磁性金属薄膜表面を
相対的に凹ませることができる。しかも、図示例のよう
に、軟磁性金属薄膜表面を滑らかな凹状にすることが可
能である。
【００３２】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００３３】＜実施例１＞図３に示される構成を有する
薄膜型磁気ヘッドを作製した。スライダ６にはＡｌ2 Ｏ
3 −ＴｉＣを用いた。各層の形成にはスパッタ法を用
い、パターン形成はドライエッチングにより行なった。
各非磁性絶縁層はＡｌ2 Ｏ3 で、軟磁性金属薄膜２はＮ
ｉ−Ｆｅで、ヘッドギャップ３はＡｌ2 Ｏ3 で、コイル
層１１はＣｕで構成した。軟磁性金属薄膜２の厚さは３
μm 、ヘッドギャップ３の厚さは０．３μm とした。
薄膜型磁気ヘッドを作製した。スライダ６にはＡｌ2 Ｏ
3 −ＴｉＣを用いた。各層の形成にはスパッタ法を用
い、パターン形成はドライエッチングにより行なった。
各非磁性絶縁層はＡｌ2 Ｏ3 で、軟磁性金属薄膜２はＮ
ｉ−Ｆｅで、ヘッドギャップ３はＡｌ2 Ｏ3 で、コイル
層１１はＣｕで構成した。軟磁性金属薄膜２の厚さは３
μm 、ヘッドギャップ３の厚さは０．３μm とした。
【００３４】次いで、前述した構成のラッピング研磨装
置により、磁気ヘッドの媒体対向面を研磨した。研磨の
際に砥石定盤の回転数および押圧力を制御することによ
り、磁気ディスク対向面における軟磁性薄膜表面の凹み
量を変更した。研摩剤には、平均粒径０．１μm のダイ
ヤモンド砥粒を含有するスラリーを用いた。
置により、磁気ヘッドの媒体対向面を研磨した。研磨の
際に砥石定盤の回転数および押圧力を制御することによ
り、磁気ディスク対向面における軟磁性薄膜表面の凹み
量を変更した。研摩剤には、平均粒径０．１μm のダイ
ヤモンド砥粒を含有するスラリーを用いた。
【００３５】このようにして得られた薄膜型の浮上型磁
気ヘッドを３．５インチＨＤＤ（Ｈc １６００ Oe 、３
６００rpm ）に組み込み、フライングハイト（Ｆ／Ｈ）
０．１μm 、０．０７５μm 、０．０５μm にて２MHz
で記録を行なった。軟磁性金属薄膜の凹み量と再生出力
との関係を図８に示す。軟磁性金属薄膜の凹みは、触針
式表面粗さ計ＤＥＫＴＡＫ３０３０（ＤＥＫＴＡＫ社
製）により測定した。図８に示す凹み量は、両軟磁性金
属薄膜の凹み量の最大値である。なお、凹みの断面形状
は、図３に示されるように滑らかであった。
気ヘッドを３．５インチＨＤＤ（Ｈc １６００ Oe 、３
６００rpm ）に組み込み、フライングハイト（Ｆ／Ｈ）
０．１μm 、０．０７５μm 、０．０５μm にて２MHz
で記録を行なった。軟磁性金属薄膜の凹み量と再生出力
との関係を図８に示す。軟磁性金属薄膜の凹みは、触針
式表面粗さ計ＤＥＫＴＡＫ３０３０（ＤＥＫＴＡＫ社
製）により測定した。図８に示す凹み量は、両軟磁性金
属薄膜の凹み量の最大値である。なお、凹みの断面形状
は、図３に示されるように滑らかであった。
【００３６】図８から、凹み量が３０nm以下であれば、
凹みを設けないときの８０％以上の再生出力が得られる
ことがわかる。
凹みを設けないときの８０％以上の再生出力が得られる
ことがわかる。
【００３７】次に、軟磁性金属薄膜の凹み量とＣＳＳ後
の再生出力との関係を調べた。結果を表１に示す。この
結果は、フライングハイト０．０７５μm のときのもの
である。
の再生出力との関係を調べた。結果を表１に示す。この
結果は、フライングハイト０．０７５μm のときのもの
である。
【００３８】
【表１】
【００３９】表１から、軟磁性金属薄膜に予め５nm以上
の凹みを設けておけば、２×１０4回ものＣＳＳを繰り
返した後でも、再生出力の低下を５％以下に抑えられる
ことがわかる。
の凹みを設けておけば、２×１０4回ものＣＳＳを繰り
返した後でも、再生出力の低下を５％以下に抑えられる
ことがわかる。
【００４０】＜実施例２＞図１に示される構成を有する
ＭＩＧ型の浮上型磁気ヘッドを作製した。コア４にはＭ
ｎ−Ｚｎフェライトを用いた。軟磁性金属薄膜２は厚さ
２μm のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜とし、ヘッドギャップ３は
厚さ０．３μm のＳｉＯ2 膜とし、これらはいずれもス
パッタ法により形成した。一対のコアを溶着ガラスによ
り接着した後、コアをスライダと一体化した。スライダ
には、ＣａＯ−ＴｉＯ2 を用いた。
ＭＩＧ型の浮上型磁気ヘッドを作製した。コア４にはＭ
ｎ−Ｚｎフェライトを用いた。軟磁性金属薄膜２は厚さ
２μm のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜とし、ヘッドギャップ３は
厚さ０．３μm のＳｉＯ2 膜とし、これらはいずれもス
パッタ法により形成した。一対のコアを溶着ガラスによ
り接着した後、コアをスライダと一体化した。スライダ
には、ＣａＯ−ＴｉＯ2 を用いた。
【００４１】次いで、実施例１と同様にして磁気ヘッド
の媒体対向面をラッピング研磨した。この磁気ヘッドを
用い、実施例１と同様にして記録および再生を行なった
ところ、軟磁性金属薄膜の凹み量とＣＳＳ後の再生出力
との関係は、実施例１の結果と同様であった。
の媒体対向面をラッピング研磨した。この磁気ヘッドを
用い、実施例１と同様にして記録および再生を行なった
ところ、軟磁性金属薄膜の凹み量とＣＳＳ後の再生出力
との関係は、実施例１の結果と同様であった。
【００４２】＜実施例３＞図２に示される構成を有する
積層型の浮上型磁気ヘッドを作製した。まず、非磁性絶
縁基板（ＣａＯ−ＴｉＯ2 ）上に、厚さ２μm の軟磁性
金属薄膜（Ｃｏ系アモルファス合金膜）と厚さ０．１μ
m の非磁性絶縁薄膜（ＳｉＯ2 ）とを交互に積層した。
軟磁性金属薄膜の積層数は１０層とした。さらに、この
上に非磁性基板（ＣａＯ−ＴｉＯ2 ）を結晶化ガラスに
より接着した。これを分割して一方に舟溝加工を施し、
ＣコアおよびＩコアとした。次いで、一方のコアにヘッ
ドギャップ（ＳｉＯ2 ）を形成し、コア同士を溶着した
後、スライダに固定して磁気ヘッドとした。この磁気ヘ
ッドの媒体対向面を実施例１と同様にしてラッピング研
磨した。この磁気ヘッドを用い、実施例１と同様にして
記録および再生を行なったところ、軟磁性金属薄膜の凹
み量とＣＳＳ後の再生出力との関係は、実施例１の結果
と同様であった。
積層型の浮上型磁気ヘッドを作製した。まず、非磁性絶
縁基板（ＣａＯ−ＴｉＯ2 ）上に、厚さ２μm の軟磁性
金属薄膜（Ｃｏ系アモルファス合金膜）と厚さ０．１μ
m の非磁性絶縁薄膜（ＳｉＯ2 ）とを交互に積層した。
軟磁性金属薄膜の積層数は１０層とした。さらに、この
上に非磁性基板（ＣａＯ−ＴｉＯ2 ）を結晶化ガラスに
より接着した。これを分割して一方に舟溝加工を施し、
ＣコアおよびＩコアとした。次いで、一方のコアにヘッ
ドギャップ（ＳｉＯ2 ）を形成し、コア同士を溶着した
後、スライダに固定して磁気ヘッドとした。この磁気ヘ
ッドの媒体対向面を実施例１と同様にしてラッピング研
磨した。この磁気ヘッドを用い、実施例１と同様にして
記録および再生を行なったところ、軟磁性金属薄膜の凹
み量とＣＳＳ後の再生出力との関係は、実施例１の結果
と同様であった。
【００４３】＜実施例４＞図５に示される構成を有する
磁気抵抗効果型の磁気ヘッドを作製した。スライダ（Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）上に、非磁性絶縁層（Ａｌ2 Ｏ3 ：
厚さ１０μm ）、リーディング側磁気シールド膜（Ｆｅ
−Ｓｉ−Ａｌ：厚さ３μm ）、非磁性絶縁層（Ａｌ2 Ｏ
3 ：厚さ０．５μm ）、磁気抵抗効果膜（パーマロイ：
厚さ３００A ）、リード（Ｔａ：厚さ０．２μm ）、非
磁性絶縁層（Ａｌ2 Ｏ3 ：厚さ０．５μm ）、トレーリ
ング側磁気シールド膜（厚さ３μm ）および非磁性絶縁
層（Ａｌ2 Ｏ3 ：厚さ３０μm ）をそれぞれスパッタ法
により形成し、磁気ヘッドとした。なお、パターン形成
にはイオンミリングを用いた。次いで、実施例１と同様
にして媒体対向面をラッピング研磨した。この磁気ヘッ
ドを用い、実施例１と同様な条件で再生を行なったとこ
ろ、表２に示される結果が得られた。
磁気抵抗効果型の磁気ヘッドを作製した。スライダ（Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）上に、非磁性絶縁層（Ａｌ2 Ｏ3 ：
厚さ１０μm ）、リーディング側磁気シールド膜（Ｆｅ
−Ｓｉ−Ａｌ：厚さ３μm ）、非磁性絶縁層（Ａｌ2 Ｏ
3 ：厚さ０．５μm ）、磁気抵抗効果膜（パーマロイ：
厚さ３００A ）、リード（Ｔａ：厚さ０．２μm ）、非
磁性絶縁層（Ａｌ2 Ｏ3 ：厚さ０．５μm ）、トレーリ
ング側磁気シールド膜（厚さ３μm ）および非磁性絶縁
層（Ａｌ2 Ｏ3 ：厚さ３０μm ）をそれぞれスパッタ法
により形成し、磁気ヘッドとした。なお、パターン形成
にはイオンミリングを用いた。次いで、実施例１と同様
にして媒体対向面をラッピング研磨した。この磁気ヘッ
ドを用い、実施例１と同様な条件で再生を行なったとこ
ろ、表２に示される結果が得られた。
【００４４】
【表２】
【００４５】以上の実施例の結果から、本発明の効果が
明らかである。
明らかである。
【図１】ＭＩＧ型磁気ヘッドの一部を示す断面図であ
る。
る。
【図２】積層型磁気ヘッドの一部を示す断面図である。
【図３】薄膜型磁気ヘッドの一部を示す断面図である。
【図４】磁気抵抗効果型磁気ヘッドの一部を示す断面図
である。
である。
【図５】磁気シールド膜を有する磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドの一部を示す断面図である。
ッドの一部を示す断面図である。
【図６】ヨーク型の磁気抵抗効果型磁気ヘッドの一部を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図７】磁気シールド膜を有するヨーク型の磁気抵抗効
果型磁気ヘッドの一部を示す断面図である。
果型磁気ヘッドの一部を示す断面図である。
【図８】軟磁性金属薄膜の凹み量と再生出力との関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
２ 軟磁性金属薄膜 ３ ヘッドギャップ ４ コア ５ 非磁性絶縁薄膜 ６ スライダ ７ 非磁性絶縁層 ８ 磁気抵抗効果膜 ９ 磁気シールド膜 １０ ヨーク層 １１ コイル層
Claims (12)
- 【請求項１】 ヘッドギャップに隣接して軟磁性金属薄
膜を少なくとも一つ有し、媒体対向面において、少なく
とも一つの軟磁性金属薄膜の表面がスライダ表面または
コア表面に対し凹んでおり、スライダ表面またはコア表
面に対する軟磁性金属薄膜表面の最大凹み量が５〜３０
nmであることを特徴とする浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項２】 ヘッドギャップを挟んで一対のコアを有
し、少なくとも一方のコアとヘッドギャップとの間に軟
磁性金属薄膜を有するメタル・イン・ギャップ型磁気ヘ
ッドである請求項１の浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項３】 軟磁性金属薄膜と非磁性絶縁薄膜との積
層体およびこの積層体を挟む一対の非磁性絶縁基体をコ
アとして有し、軟磁性金属薄膜にほぼ垂直なヘッドギャ
ップを有する積層型磁気ヘッドである請求項１の浮上型
磁気ヘッド。 - 【請求項４】 ヘッドギャップを挟む一対の軟磁性金属
薄膜を磁極として有する薄膜型磁気ヘッドである請求項
１の浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項５】 軟磁性金属薄膜表面のスライダ表面また
はコア表面に対する凹みが、媒体対向面の研磨により形
成されたものである請求項１ないし４のいずれかの浮上
型磁気ヘッド。 - 【請求項６】 媒体対向面に少なくとも一つの軟磁性金
属薄膜と非磁性絶縁層とが露出している磁気抵抗効果型
の浮上型磁気ヘッドであって、 媒体対向面において、少なくとも一つの軟磁性金属薄膜
表面がスライダ表面に対し凹んでおり、スライダ表面に
対する軟磁性金属薄膜表面の最大凹み量が５〜３０nmで
あることを特徴とする浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項７】 軟磁性金属薄膜からなる磁気抵抗効果膜
が媒体対向面に露出している請求項６の浮上型磁気ヘッ
ド。 - 【請求項８】 それぞれ軟磁性金属薄膜からなる磁気抵
抗効果膜とリーディング側の磁気シールド膜とトレーリ
ング側の磁気シールド膜とが媒体対向面に露出している
請求項６の浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項９】 それぞれ軟磁性金属薄膜からなり、それ
ぞれ磁気抵抗効果膜に接続されているリーディング側の
ヨーク層とトレーリング側のヨーク層とが媒体対向面に
露出している請求項６の浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項１０】 それぞれ軟磁性金属薄膜からなるリー
ディング側の磁気シールド膜とトレーリング側の磁気シ
ールド膜と、それぞれ軟磁性金属薄膜からなり、それぞ
れ磁気抵抗効果膜に接続されているリーディング側のヨ
ーク層とトレーリング側のヨーク層とが媒体対向面に露
出している請求項６の浮上型磁気ヘッド。 - 【請求項１１】 軟磁性金属薄膜表面のスライダ表面に
対する凹みが媒体対向面の研磨により形成されたもので
ある請求項６ないし１０のいずれかの浮上型磁気ヘッ
ド。 - 【請求項１２】 フライングハイト０．０４〜０．１μ
m で使用される請求項１ないし１１のいずれかの浮上型
磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16962493A JPH076318A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 浮上型磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16962493A JPH076318A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 浮上型磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076318A true JPH076318A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15889959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16962493A Withdrawn JPH076318A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 浮上型磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076318A (ja) |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP16962493A patent/JPH076318A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000905 |