JPH076426A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ６００ｎｍ以下の波長に対応した高記録密度
の光磁気記録媒体を提供することを目的とする。 【構成】 基板上に少なくとも、光磁気記録層、反射層
を有する光磁気記録媒体において、光磁気記録層をキュ
リー温度が２２０℃以上のものとし、かつ反射層を以下
の元素群の中の少なくとも１種を含有するＡｇ合金とし
たことを特徴とする光磁気記録媒体。 元素群：Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は熱磁気記録と磁気光学効
果を用いて光により情報の記録・再生を行う光磁気記録
媒体、及びそれを用いた光情報記録再生方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報量の飛躍的な増大に伴い、情
報記録媒体に対する記録密度向上の要求が高まってい
る。光ディスクは記録密度が高い上に、ランダムアクセ
ス性、可搬性に優れている。特に光磁気ディスクは繰り
返し記録が可能で、信頼性にも優れるため、コンピュー
タ用外部記憶装置、録音装置の記録媒体として既に商品
化されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】現在商品化されている
光磁気ディスクの記憶容量は直径５．２５インチのディ
スク片面当り３００メガバイト（ＭＢｙｔｅ）程度であ
る。これを１ギガバイト（ＧＢｙｔｅ）程度まで高める
ために、トラックピッチを短くすることや記録信号の変
調方式を変更することが提案されており、実用化の目処
が立ちつつある。

【０００４】しかしながら、現行技術の範囲内で記録密
度を更に向上させるのは、記録密度が既に理論的な限界
に近づいていることから不可能であると言わざるを得な
い。光ディスクにおける記録密度の理論的限界を決定す
るのは記録再生に使われるレーザ光の集光スポットの大
きさである。従って更に記録密度を高めるためにはレー
ザ光のスポットをより小さく絞ることが不可欠である。

【０００５】レーザ光のスポット径ｄは使用するレーザ
光の波長λと対物レンズの開口数ＮＡにより次式（１）
で表される。ただし、ｋはレンズの開口形状、入射光束
の強度分布によって決まる定数である。

【０００６】

【数１】ｄ＝ｋ・λ／ＮＡ ・・・（１） レーザ光のスポット径ｄを小さくするためには、波長λ
の短い光源を用いること、及び開口数ＮＡの大きな対物
レンズを用いることが必要である。レンズの開口数を大
きくすると、焦点深度が浅くなり、またディスクの傾き
や基板の厚みむらに対する許容度が急激に低下してしま
うため、光ヘッドのサーボ能力が低下してしまう。

【０００７】従って、レンズの開口数は現行の０．５５
程度よりさほど大きくすることはできない。よって、レ
ーザ光のスポット径を小さくして記録密度を向上させる
ためには、光ヘッドの光源として現行の８３０ｎｍ、７
８０ｎｍよりも短い波長の光源を使用することが不可欠
である。光磁気ディスクの再生信号の品質を支配するの
は反射率と磁気カー回転角であり、より具体的には反射
率の平方根と磁気カー回転角との積という形で表され
る。これを性能係数と呼ぶこととする。

【０００８】現在商品化されている光磁気ディスクの記
録層としては、ＴｂＦｅＣｏに代表される重希土類−遷
移金属アモルファス合金が使われている。これら合金の
性能係数は現行光磁気ディスクドライブのレーザ光の波
長８００ｎｍ程度では比較的大きな値を示すが、光の波
長が短くなって６００ｎｍ以下になると急激に減少して
しまう。

【０００９】またドライブの信号検出に使われている光
検出素子のフォトダイオードの検出感度も、８００ｎｍ
付近では高いが６００ｎｍ以下になると急激に低下して
しまう。これらの事実は現行の技術では短波長側で再生
信号の強度が極端に低下してしまい、記録信号の安定し
た再生が不可能になることを意味している。述べてきた
ように、記録密度の向上を狙った短波長光源を用いた光
磁気記録再生システムを実現するには、短波長側での再
生信号強度の低下が問題となっている。

【００１０】先に述べたように、大きな再生信号を得る
ためには記録媒体の性能係数を大きくすることと光検出
素子の感度を向上させる事が重要である。光磁気ディス
クドライブで用いられている光検出素子、フォトダイオ
ードにおける光の検出は、光がｐｎ接合付近の電子を伝
導帯に励起し、伝導帯の電子がｐｎ接合を移動し、フォ
トダイオードを電流が流れることによりなされる。

【００１１】フォトダイオードを構成するＳｉ半導体の
光吸収係数は短波長側で大きくなるため、短波長の光は
フォトダイオード表面近傍で吸収されてしまい、ｐｎ接
合付近まで到達しにくくなる。その結果ｐｎ接合付近で
励起される電子の数が減少するため、光の検出感度が低
下してしまう。よって短波長側で光検出素子の検出感度
を向上させるのは理論的に困難であり、短波長側で大き
な再生信号を得るためには記録媒体の性能係数を大きく
することが重要である。

【００１２】光磁気記録媒体は一般的には、透明基板上
に、光磁気記録層、光干渉層、光反射層、保護層等、複
数の層を設けることにより構成される。再生信号強度を
支配する性能係数はこれらの全ての層を総合して考慮し
なければならない。本発明は全ての層を構成する材料、
層厚、及び層構成を最適化し、光磁気ディスクの６００
ｎｍ以下の波長での性能係数を高めた光磁気記録媒体を
提供するとともに、それと６００ｎｍ以下の短波長光を
用いた光情報記録再生システムを提供することを目的と
する。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは高記録密度
光磁気記録再生システムを提供すべく鋭意検討した結
果、基板上に少なくとも、光磁気記録層および反射層を
有する光磁気記録媒体において、光磁気記録層をキュリ
ー温度が２２０℃以上のものとし、かつ反射層として少
なくとも元素群Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕの中から選ばれ
る１元素を含むＡｇ合金を用いることにより６００ｎｍ
以下の波長で優れた再生特性と耐食性を示す光磁気記録
媒体が提供可能となるり、高密度の光情報記録再生が実
現できることが明らかになった。

【００１４】本発明は、基板上に少なくとも、光磁気記
録層、反射層を有する光磁気記録媒体において、磁性層
のキュリー温度を２２０℃以上とし、かつ反射層として
少なくとも元素群Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕの中から選ば
れる１元素を含むＡｇ合金を用いることを特徴とする光
磁気記録媒体、及びその媒体に波長６００ｎｍ以下のレ
ーザ光を用いて情報の記録再生を行うことを特徴とする
光情報記録再生方法である。

【００１５】以下に本発明をさらに詳しく説明する。本
発明にて用いられる光磁気記録媒体の基板としては、ガ
ラス、ポリカーボネート等のプラスチック、あるいはガ
ラス上に光ヘッド案内用の溝付き樹脂を形成した基板な
どが挙げられる。溝の深さ、及び間隔は使用する波長に
合わせて最適化、つまり波長が短くなるほど溝を浅く
し、間隔を細かくするのが好ましい。

【００１６】このような基板の複屈折は、光磁気信の品
質を損なわないよう極力小さいことが望ましい。また基
板の厚みは１〜２ｍｍ程度が一般的である。本発明の光
磁気記録層は波長６００ｎｍ以下のレーザ光を集光させ
てキューリー点まで加熱し、外部磁気ヘッドを用いて熱
磁気記録を行う層である。記録が行われるためには、磁
化軸が膜面に対して垂直に向かなければならないので、
光磁気記録層としては垂直磁気異方性の大きいことが望
ましい。

【００１７】再生は、波長６００ｎｍ以下のレーザ光
（記録時のレーザ光より弱い光）を用いてカー効果によ
り行うものであるが、再生光の波長が短くなって集光ス
ポット径が小さくなると、単位面積当りの光のエネルギ
ー密度が高くなるため、再生光を照射したときの光磁気
記録層の温度は従来の８００ｎｍ程度の波長の場合より
も高くなりやすい。

【００１８】光磁気記録層の温度が高くなると磁気カー
回転角が減少し、再生信号の出力が低下するが、低下の
割合は光磁気記録層のキュリー温度が低いほど著しい。
このため、光磁気記録層の物性を適切に調整する必要が
生ずる。従来の８００ｎｍ程度の波長用の光磁気記録層
のキュリー温度は１７０℃程度であるが、この媒体に４
８８ｎｍの波長の光源で記録再生を行ったところ、記録
感度が極端に向上し、Ｃ／Ｎが低下する。

【００１９】記録層の組成であるＴｂ−Ｆｅ−ＣｏのＣ
ｏ濃度を増すことによってキュリー温度は上昇するが、
キュリー温度を２２０℃前後にすると記録感度が低下
し、Ｃ／Ｎが向上することが分かった。よって６００ｎ
ｍ以下の波長の光を用いて記録再生を行うための光磁気
記録層の材料のキュリー温度としては２２０℃以上であ
ることが必須となる。

【００２０】このような条件を満たす光磁気記録層とし
ては、光磁気記録層中の３ｄ遷移金属中のＣｏ濃度が１
５原子％以上のＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金、あるいは
３ｄ遷移金属中のＣｏ濃度が３５原子％以上のＮｄ−Ｔ
ｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金等が挙げられる。３ｄ遷移金
属中のＣｏ濃度の上限は６０原子％程度が望ましい。光
磁気記録層の膜厚は、レーザ光のパワーに対する記録感
度、性能係数等を考慮して使用する波長、及び反射層の
光学定数に合わせて決定されなければならず、６００ｎ
ｍ以下の波長、Ａｇを主体とする反射層に合わせると光
磁気記録層の膜厚は３０ｎｍ以下が好適である。

【００２１】反射層は光磁気記録層を透過した光を反射
して再び光磁気記録層に戻す役割を担う。これにより光
の利用効率を高めると共に、反射率と磁気カー回転角が
増大し、性能係数が増大する。また、反射膜の組成は光
磁気記録媒体の熱伝導性に影響を与える。現在商品化さ
れている８００ｎｍ程度の波長に対応する光磁気ディス
クの反射層としてはアルミニウムあるいはアルミニウム
合金が使用されているのに対し、本発明では特定の元素
を含むＡｇ合金からなる反射層が使用されるのが特徴的
である。

【００２２】反射層として、従来のアルミニウム、アル
ミニウム合金、あるいは金を用いると６００ｎｍ以下の
波長で充分な性能係数を得ることができないが、Ａｇを
主体とする反射層を用い、先に述べた２２０℃以上のキ
ュリー温度を持つ光磁気記録層と組み合わせることによ
り、はじめて良好な性能係数を得ることが可能になるこ
とが分かった。

【００２３】これまでにも反射率の高い金属に着目し、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌを光磁気記録媒体の反射層に用
いるという特許が出願されている。（特開昭５８−８３
３６４号、特開昭５９−１３２４３４号、特開昭５９−
８１５０号、特開昭５９−３８７８１号等） これらの特許の中で着目されている反射層の反射率は、
空気から直接反射層に光を入射した際の反射率である。

【００２４】しかしながら、このような反射率が性能係
数にとって本質的でないことは次の点から明かである。
即ち、光磁気記録媒体の反射層における光の反射は光磁
気記録層と反射層の界面、あるいは、光磁気記録層と反
射層との間に設けた断熱層（干渉層）と反射層の界面
で、両者の光学定数の違いにより起こっており、空気と
反射層の界面での反射とは全く異なるからである。

【００２５】また、Ａｇ合金反射層の果たす役割につい
て詳細に検討した結果、Ａｇ合金反射層によってもたら
される効果は高反射率を得ることよりは、むしろ光磁気
記録層のカー回転角を増大させる役割が大きいことが分
かった。例えば、従来のＡｌ合金からなる反射層を使用
した場合と、本発明のＡｇ合金を用いた場合の反射率、
カー回転角、性能係数を比較すると以下の表−１のよう
になり、Ａｇ合金を用いたメリットは反射率ではなく、
むしろカー回転角であることが分かる。測定波長は５０
０ｎｍである。

【００２６】

【表２】 Ａｇ合金を反射層に用いた場合に、カー回転角の増大が
著しく、結果として良好な性能係数が得られる理由は、
Ａｇの屈折率ｎが６００ｎｍ以下の波長においても０．
５以下の小さな値を示すためであることが光学定数を用
いたシミュレーションにより判明した。

【００２７】また、他の高反射率金属である、Ａｕ、Ｃ
ｕにおいては、屈折率ｎが波長８００ｎｍ付近では小さ
くＡｇと同等であるが、波長６００ｎｍ以下の波長領域
ではＡｇよりもかなり大きくなり、０．５を超えるよう
になることが、光学定数の測定から判明した。更に、各
種金属、半導体の光学定数を測定したところ、６００ｎ
ｍ以下の短波長領域で屈折率が０．５以下の小さい値を
示す元素はＡｇだけであることが分かった。

【００２８】即ち、８００ｎｍ程度の波長ではＡｇ以外
のＡｕ、Ｃｕ、Ａｌ等を主体とする反射層を用いても良
好な特性が得られるが、６００ｎｍ以下の波長ではＡｇ
を主体とする反射層を用いないと良好な特性が得られな
いということになる。また、Ａｇを主体とする反射層は
２２０℃以上のキュリー温度を持つ光磁気記録層と組み
合わせることにより、はじめて６００ｎｍ以下の波長で
良好な特性を示す。８００ｎｍ程度の波長に対応する光
磁気媒体は、記録感度を良好にする為に２００℃以下、
一般的には１７０℃程度のキュリー温度を持つ光磁気記
録層を用いている。このような光磁気記録層とＡｇを主
体とする反射層を組み合わせても、光磁気記録層が本来
備える磁気光学効果が小さいために、６００ｎｍ以下の
波長で優れた性能係数を得ることが出来ない。

【００２９】ところで、Ａｇ単体は耐食性に問題があ
り、反射層にそのまま応用するのは困難である。そこで
Ａｇの耐食性改善を鋭意検討した結果、少なくとも元素
群Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕの中から選ばれる１元素を含
むＡｇ合金において、６００ｎｍ以下の波長における屈
折率が０．５以下と充分小さいこと、及び耐食性に優れ
ることが同時に実現することを見いだした。

【００３０】また、各元素の添加濃度には最適範囲があ
ることも見いだした。即ち、添加元素濃度が高過ぎると
屈折率が増加し、０．５を超えてしまうことが分かっ
た。これらの元素は極微量の添加でもＡｇ合金の耐食性
を向上させる効果がある。各元素のＡｇ合金中の添加範
囲（濃度範囲）を以下に示す。

【００３１】

【表３】 添加元素の濃度範囲 Ｒｈ：０．１原子％以上、４．７
原子％以下 Ｐｄ：０．１原子％以上、５．１原子％以下 Ｐｔ：０．１原子％以上、７．０原子％以下 Ａｕ：０．１原子％以上、２８．８原子％以下 反射層には前記元素群の中から２元素以上を選択して添
加してもよいし、前記元素群以外の元素を更に添加して
もよいが、屈折率を０．５以下に保つためにはＡｇ合金
中のＡｇ濃度を７０原子％以上にしなければならない。
反射層の膜厚としては３０ｎｍ〜１００ｎｍが好まし
い。

【００３２】干渉層は誘電体からなり、光を干渉させる
層である。一般的には基板と光磁気記録層との間に設け
られ、基板と光磁気記録層との間で光を多重反射させ、
見かけ上の磁気カー回転角を増大させる役割、干渉効果
を担う。その厚みは使用する光の波長に合わせて変化さ
せなければ、充分な干渉効果が得られない。４００ｎｍ
〜６００ｎｍの波長を考えると干渉層の厚みは２０ｎｍ
〜５５ｎｍとするのが好適である。これは一次干渉点を
利用する場合であるが、二次干渉点を利用して干渉層の
厚みを１２０ｎｍ〜２００ｎｍとすることもできる。

【００３３】また、基板と光磁気記録層の間に設けられ
る干渉層は基板と光磁気記録層との密着性を高める役
割、光磁気記録層と基板を断熱する役割、プラスチック
基板を通して侵入してくる水分から光磁気記録層を保護
する役割等を合わせ持つ。干渉層として用いられる材料
としては窒化シリコン、酸化タンタル、酸化シリコン、
酸化アルミニウム、酸化チタン、硫化亜鉛等やこれらの
混合物からなるアモルファス薄膜が一般的である。

【００３４】誘電体からなる干渉層は、更に光磁気記録
層と反射層の間にも設けることができる。これにより更
に光の干渉効果を高め、磁気カー回転角を増大させるこ
とが可能である。以上に述べた各層を環境から化学的、
物理的に保護する保護層としては、アクリル系の紫外線
硬化樹脂等、硬質性の材料を用いるのが好適であり、反
射層の上にスピンコート法により厚み２〜２０μｍ程度
塗布した後、紫外線照射により硬化させて形成されるの
が一般的である。

【００３５】紫外線硬化樹脂等の有機物からなる保護層
の内側（有機物からなる保護層と反射層との間）に、先
に述べたような誘電体からなる層を設けて、保護層とし
てもよい。

【００３６】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 基板としては厚さ１．２ｍｍのガラス基板を用いた。基
板上に誘電体層として、酸化タンタル薄膜を反応性スパ
ッタリング法により形成した。その後、その表面を高周
波プラズマで５分間エッチングし、表面を平滑化した。

【００３７】エッチング後の酸化タンタル層の厚みが約
３５ｎｍとなるように初期の膜厚を設定した。次にこの
酸化タンタル層の上にＴｂ₂₀Ｆｅ₆₄Ｃｏ₁₆｛数値は原子
％で成分割合を示す、３ｄ遷移金属（Ｆｅ）中のＣｏ濃
度は２０％｝のアモルファス合金を用い、直流マグネト
ロンスパッタリング法により約２０ｎｍの厚さに形成
し、光磁気記録層とした。

【００３８】Ａｇターゲット上にＲｈチップを置いて直
流マグネトロンスパッタを行い、約５０ｎｍの厚さの反
射層を設けた。分析を行った結果、反射層の組成はＲｈ
０．６原子％、Ａｇ９９．４原子％であった。反射層の
上に保護層として酸化タンタル層をスパッタにより約４
０ｎｍの厚さに設けた、スパッタ装置から取り出した
後、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、約３μｍの厚さ
の有機保護層を設け、光磁気記録媒体とした。

【００３９】紫外線硬化樹脂保護層を設けないこと以外
は上と同様の方法で作製したサンプルについて、温度を
上昇させながら磁気カーループの測定を行ったところ、
２２０℃においてもループは観測され、光磁気記録層の
キュリー温度は２２０℃以上であることが分かった。光
源として波長４８８ｎｍのＡｒレーザを用いた光磁気記
録動特性評価機により、光磁気記録媒体としての記録特
性、再生特性を評価した。記録条件、再生条件は以下の
通りである。

【００４０】記録条件 線速１０ｍ／ｓ 記録周波数２ＭＨｚ ｄｕｔｙ５０％ 記録印加磁界２４ｋＡ／ｍとし、記録レーザパワーを変
化させた 再生条件 線速１０ｍ／ｓ 再生レーザパワー１ｍＷ 記録パワーを変化させた場合のＣ／Ｎの最大値を表−２
に示した。

【００４１】実施例２ 光磁気記録層をＮｄ₁₀Ｔｂ₁₅Ｆｅ₃₈Ｃｏ₃₇｛数値は原子
％で成分割合を示す、３ｄ遷移金属（Ｆｅ）中のＣｏ濃
度は４９％｝アモルファス合金、厚さ約２０ｎｍとした
以外は実施例１と同様の方法で作製し、光磁気記録媒体
を得た。キュリー温度は２２０℃以上であった。実施例
１と同様にして光磁気記録媒体としての記録特性、再生
特性を評価した。記録パワーを変化させた場合のＣ／Ｎ
の最大値を表−２に示した。

【００４２】比較例１ 光磁気記録層をＴｂ₂₀Ｆｅ₇₄Ｃｏ₆｛数値は原子％で成
分割合を示す、３ｄ遷移金属（Ｆｅ）中のＣｏ濃度は
７．５％｝アモルファス合金、厚さ約２０ｎｍとした以
外は実施例１と同様の方法で作製し、光磁気記録媒体を
得た。キュリー温度は１７０℃程度であった。実施例１
と同様にして光磁気記録媒体としての記録特性、再生特
性を評価した。記録パワーを変化させた場合のＣ／Ｎの
最大値を表−２に示した。

【００４３】比較例２ 反射層をＡｇ単体で形成した厚さ約５０ｎｍの層とした
以外は、実施例１と同様の方法で光磁気記録媒体を作製
した。実施例１と同様にして光磁気記録媒体としての記
録特性、再生特性を評価した。記録パワーを変化させた
場合のＣ／Ｎの最大値を表−２に示した。

【００４４】比較例３ 反射層をＡｌＴａ合金で形成した厚さ約５０ｎｍの層と
した以外は、実施例１と同様の方法で光磁気記録媒体を
作製した。実施例１と同様にして光磁気記録媒体として
の記録特性、再生特性を評価した。記録パワーを変化さ
せた場合のＣ／Ｎの最大値を表−２に示した。

【００４５】

【表４】 実施例、および比較例２においては良好なＣ／Ｎが得ら
れており、２２０℃以上のキュリー温度を持つ磁性層と
Ａｇを主体とする反射層の組合せが重要であることが分
かる。

【００４６】上記の実施例、比較例に用いた反射層その
ものの耐食性を調べるために、紫外線硬化樹脂保護層を
設けない以外は実施例、比較例と同様の方法で作製した
サンプルを８５℃、湿度８５％の高温高湿槽に５００時
間保存した。腐食の発生を目視により観察したところ、
比較例２に対応するサンプルのみに腐食の発生が見られ
た。Ａｇ単体の耐食性には問題があり、ＡｇへのＲｈの
添加が耐食性向上に効果的であることが分かる。

【００４７】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、現
行よりも波長の短い６００ｎｍ以下の波長に対応した高
性能の光磁気記録媒体を提供でき、６００ｎｍ以下の波
長の光を用いた高記録密度の光磁気記録システムが実現
される。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に少なくとも、光磁気記録層、反
   射層を有する光磁気記録媒体において、光磁気記録層を
   キュリー温度が２２０℃以上のものとし、かつ反射層を
   以下の元素群の中の少なくとも１種を含有するＡｇ合金
   としたことを特徴とする光磁気記録媒体。 元素群：Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ
2. 【請求項２】 Ａｇ合金に含有される元素の含有量が下
   記の範囲にあり、かつＡｇ合金中のＡｇ濃度が７０原子
   ％以上であることを特徴とする請求項１に記載の光記録
   媒体。 【表１】添加元素の濃度範囲 Ｒｈ：０．１原子％以
   上、４．７原子％以下 Ｐｄ：０．１原子％以上、５．１原子％以下 Ｐｔ：０．１原子％以上、７．０原子％以下 Ａｕ：０．１原子％以上、２８．８原子％以下
3. 【請求項３】 光磁気記録層の厚みが３０ｎｍ以下であ
   ることを特徴とする請求項２に記載の光磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 光磁気記録層の反射層が設けられた側と
   は反対の側に、厚みが２０ｎｍ以上、５５ｎｍ以下であ
   る誘電体からなる光干渉層を設けたことを特徴とする請
   求項３に記載の光磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 光磁気記録層が、３ｄ遷移金属中のＣｏ
   濃度が１５原子％以上のＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金、
   あるいは、３ｄ遷移金属中のＣｏ濃度が３５原子％以上
   のＮｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質合金であることを特徴
   とする請求項４に記載の光磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 請求項１に記載の光磁気記録媒体に、波
   長６００ｎｍ以下のレーザ光を用いて記録再生を行うこ
   とを特徴とする光情報記録再生方法。