JPH0784409B2 - シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体 - Google Patents
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体Info
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- JPH0784409B2 JPH0784409B2 JP61041690A JP4169086A JPH0784409B2 JP H0784409 B2 JPH0784409 B2 JP H0784409B2 JP 61041690 A JP61041690 A JP 61041690A JP 4169086 A JP4169086 A JP 4169086A JP H0784409 B2 JPH0784409 B2 JP H0784409B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は下記一般式(I) 〔式中、R1はCO2R3基(基中、R3は水素原子又は炭素数
1〜12の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基を表わす。)を
表わし、Aは −CH2CH2CH2− −CH2CH2CH2CH2− 又は −CH=CHCH2CH2− であり、R2は水素原子、トリメチルシリル基、トリエチ
ルシリル基、トリベンジルシリル基、t−ブチルジメチ
ルシリル基、ジフェニル−t−ブチルシリル基、p−メ
トキシベンジル基、1−メチル−1−メトキシエチル
基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキ
シエチル基又はメトキシメチル基を表わす。尚、Aで表
わされる置換基中の二重結合は、E又はZ又はそれらの
混合物である〕。で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノネン誘導体に関する。前記一般式(I)で表わさ
れるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体はプロスタ
サイクリン類縁体の有用な中間体となりうる。
1〜12の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基を表わす。)を
表わし、Aは −CH2CH2CH2− −CH2CH2CH2CH2− 又は −CH=CHCH2CH2− であり、R2は水素原子、トリメチルシリル基、トリエチ
ルシリル基、トリベンジルシリル基、t−ブチルジメチ
ルシリル基、ジフェニル−t−ブチルシリル基、p−メ
トキシベンジル基、1−メチル−1−メトキシエチル
基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキ
シエチル基又はメトキシメチル基を表わす。尚、Aで表
わされる置換基中の二重結合は、E又はZ又はそれらの
混合物である〕。で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノネン誘導体に関する。前記一般式(I)で表わさ
れるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体はプロスタ
サイクリン類縁体の有用な中間体となりうる。
プロスタサイクリン(以下PGI2と記す。)は天然生理活
性物質として知られ、次式により示される構造を有し、 その化学名は(5Z,13E)−(9α,11α,15S)−6,9−エ
ポキシ−11,15−ジヒドロキシプロスタ−5,13−ジエン
酸である。PGI2は動脈壁中に存在し、強力な血小板凝集
抑制作用および末梢動脈平滑筋弛緩作用を有している
〔ネイチャー(Nature),263,663(1976)〕。かかる
作用を示すPGI2は血小板凝集の亢進、さらには血栓性傾
向の増大により誘発される脳血栓、心筋梗塞、急性狭心
症の予防および治療に有用であり、動脈硬化性疾患の予
防および治療に応用できるものと期待され、いわゆる血
流改善薬としての開発が期待される。
性物質として知られ、次式により示される構造を有し、 その化学名は(5Z,13E)−(9α,11α,15S)−6,9−エ
ポキシ−11,15−ジヒドロキシプロスタ−5,13−ジエン
酸である。PGI2は動脈壁中に存在し、強力な血小板凝集
抑制作用および末梢動脈平滑筋弛緩作用を有している
〔ネイチャー(Nature),263,663(1976)〕。かかる
作用を示すPGI2は血小板凝集の亢進、さらには血栓性傾
向の増大により誘発される脳血栓、心筋梗塞、急性狭心
症の予防および治療に有用であり、動脈硬化性疾患の予
防および治療に応用できるものと期待され、いわゆる血
流改善薬としての開発が期待される。
またPGI2を含むプロスタグランジン類には、胃粘膜保護
作用および胃粘膜血流増加作用が知られでおり〔′83炎
症セミナー「プロスタグランジン」予稿集50ページ(日
本炎症学界主催)〕、かかる作用を示すPGI2は胃潰瘍に
代表される消化管潰瘍の予防および治療に応用できるも
のと期待される。
作用および胃粘膜血流増加作用が知られでおり〔′83炎
症セミナー「プロスタグランジン」予稿集50ページ(日
本炎症学界主催)〕、かかる作用を示すPGI2は胃潰瘍に
代表される消化管潰瘍の予防および治療に応用できるも
のと期待される。
しかしながら、PGI2は非常に不安定な物質であり、この
ことは医薬品としての実用化に対し障害となっている。
ことは医薬品としての実用化に対し障害となっている。
かかる障害を解決すべくPGI2の6,9位炭素間の酸素原子
を炭素原子に置き換えた安定類縁体の研究が行われてき
た。OP−41483〔特開昭54−130543〕に代表される、一
般式(III)で示されるカルバサイクル系化合物〔特開
昭54−130543〕化学式(IV)で示される9(O)−メタ
ノ−△6−PGI1〔特開昭56−32436〕はいずれも化学的
に安定なPGI2類縁化合物である。また9(O)−メタノ
プロスタサイクリン(カルバサイクリン)の5位二重結
合を6(9α)位に移した9(O)−メタノ−△
6(9α)−PGI1(イソカルバサイクリン、化学式
(V))も化学的に十分安定であり、強力な生理活性を
有するPGI2類縁化合物として報告されている〔特開昭59
−137445〕。
を炭素原子に置き換えた安定類縁体の研究が行われてき
た。OP−41483〔特開昭54−130543〕に代表される、一
般式(III)で示されるカルバサイクル系化合物〔特開
昭54−130543〕化学式(IV)で示される9(O)−メタ
ノ−△6−PGI1〔特開昭56−32436〕はいずれも化学的
に安定なPGI2類縁化合物である。また9(O)−メタノ
プロスタサイクリン(カルバサイクリン)の5位二重結
合を6(9α)位に移した9(O)−メタノ−△
6(9α)−PGI1(イソカルバサイクリン、化学式
(V))も化学的に十分安定であり、強力な生理活性を
有するPGI2類縁化合物として報告されている〔特開昭59
−137445〕。
このように化学的に安定なPGI2類縁化合物を合成するた
めの鍵中間体としては、下記一般式(VIやVII)で表わ
される化合物が使用されている。
めの鍵中間体としては、下記一般式(VIやVII)で表わ
される化合物が使用されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは、室温においてほとんど分解が起らない安
定で且つ優れた薬理的性質を有するプロスタサイクリン
類の提供を目的として幅広い研究を行なった結果、前記
一般式(I)で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ネン誘導体が優れた安定プロスタサイクリン類縁体を合
成するための重要中間体になり得ることを見い出し、本
発明を完成した。
定で且つ優れた薬理的性質を有するプロスタサイクリン
類の提供を目的として幅広い研究を行なった結果、前記
一般式(I)で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ネン誘導体が優れた安定プロスタサイクリン類縁体を合
成するための重要中間体になり得ることを見い出し、本
発明を完成した。
本発明は前記一般式(I)で表わされるシス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノネン誘導体である。
〔4.3.0〕ノネン誘導体である。
本発明におけるR1としては、カルボキシル基、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシ
カルボニル基等を例示することができ、R2の水酸基の保
護としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリベンジルシリル基、t−ブチルメチルシリル基、ジ
フェニル−t−ブチルシリル基、p−メトキシベンジル
基、1−メチル−1−メトキシエチル基、ベンジンル
基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキリエチル基、
メトキシメチル基等を例示することができる。前記一般
式(I)で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン
誘導体は、一級水酸基をアルデヒドへ酸化後Witting反
応によりω−チェインを導入し、高い生理活性を有する
新規安定プロスタサイクリン類縁体へ導くことができる
(下記参考例参照)。
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシ
カルボニル基等を例示することができ、R2の水酸基の保
護としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、
トリベンジルシリル基、t−ブチルメチルシリル基、ジ
フェニル−t−ブチルシリル基、p−メトキシベンジル
基、1−メチル−1−メトキシエチル基、ベンジンル
基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキリエチル基、
メトキシメチル基等を例示することができる。前記一般
式(I)で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン
誘導体は、一級水酸基をアルデヒドへ酸化後Witting反
応によりω−チェインを導入し、高い生理活性を有する
新規安定プロスタサイクリン類縁体へ導くことができる
(下記参考例参照)。
本発明の前記一般式(I)で表わされるシス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノネン誘導体は下記の反応式に従い製造する
ことができる。
〔4.3.0〕ノネン誘導体は下記の反応式に従い製造する
ことができる。
下記式中のR8は水酸基の保護基であり、R8の水酸基の保
護基としてはt−ブチルジメチルシリル基、トリエチル
シリル基、トリメチルシリル基、ジフェニル−t−ブチ
ルシリル基、トリベンジルシリル基、p−メトキシベン
ジル基、1−メチル−1−メトキシエチル基、ベンジル
基等を例示することができる。
護基としてはt−ブチルジメチルシリル基、トリエチル
シリル基、トリメチルシリル基、ジフェニル−t−ブチ
ルシリル基、トリベンジルシリル基、p−メトキシベン
ジル基、1−メチル−1−メトキシエチル基、ベンジル
基等を例示することができる。
〔第1工程〕 本工程は前記一般式(VII)で表わされるラクトール体
をWittig反応に付すことにより、前記一般式(IX)で表
わされるα,β−不飽和エステル誘導体を製造するもの
である。尚、前記一般式(VIII)で表わされるラクトー
ル体は、コーリーラクトンの還元により容易に得ること
ができる(下記参考例参照)。本工程のWittig反応は、
トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素中メトキシカル
ボニルメチレントリフェニルホスホランやエトキシカル
ボニルメチレントリフェニルホスホランの如き安定イリ
ドを用いて行われる。安定イリドの使用量は通常1〜2
当量であり、反応は50℃〜130℃にて円滑に進行する。
をWittig反応に付すことにより、前記一般式(IX)で表
わされるα,β−不飽和エステル誘導体を製造するもの
である。尚、前記一般式(VIII)で表わされるラクトー
ル体は、コーリーラクトンの還元により容易に得ること
ができる(下記参考例参照)。本工程のWittig反応は、
トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素中メトキシカル
ボニルメチレントリフェニルホスホランやエトキシカル
ボニルメチレントリフェニルホスホランの如き安定イリ
ドを用いて行われる。安定イリドの使用量は通常1〜2
当量であり、反応は50℃〜130℃にて円滑に進行する。
〔第2工程〕 本工程は、前記第1工程で得られた前記一般式(IX)で
表わされるα,β−不飽和エステル誘導体を還元して前
記一般式(X)で表わされるヒドロキシ−エステル体を
製造するものである。本還元反応は、5%パラジウム/
炭素・10%パラジウム/炭素,ウイルキンソン錯体の存
在下1気圧の水素下に行うことができる。溶媒として
は、エタノール、メタノール、ベンゼン、酢酸エチルエ
ステル等を使用可能であり、これらの溶媒の存在下、還
元反応は0℃〜50℃で容易に進行する。
表わされるα,β−不飽和エステル誘導体を還元して前
記一般式(X)で表わされるヒドロキシ−エステル体を
製造するものである。本還元反応は、5%パラジウム/
炭素・10%パラジウム/炭素,ウイルキンソン錯体の存
在下1気圧の水素下に行うことができる。溶媒として
は、エタノール、メタノール、ベンゼン、酢酸エチルエ
ステル等を使用可能であり、これらの溶媒の存在下、還
元反応は0℃〜50℃で容易に進行する。
〔第3工程〕 本工程は、前記第2工程で得られた前記一般式(X)で
表わされるヒドロキシ−エステル体を酸化して前記一般
式(IX)で表わされるシクロペンタノン誘導体を製造す
るものである。本酸化反応は、メチレンクロリドの如き
ハロゲン化炭化水素溶媒中、コリンズ試薬やピリジウム
クロロクロメートを用いることにより容易に進行する。
実験操作上より簡便な反応としてSwern酸化反応も使用
可能である。Swern酸化反応は、メチレンクロリド中2
〜3当量のオキザリルクロリド、4〜5当量のDMSO,10
〜15当量のトリエチルアミンを用いて行うことができ
る。尚、反応温度は−78℃〜室温の範囲を選択すること
ができる。
表わされるヒドロキシ−エステル体を酸化して前記一般
式(IX)で表わされるシクロペンタノン誘導体を製造す
るものである。本酸化反応は、メチレンクロリドの如き
ハロゲン化炭化水素溶媒中、コリンズ試薬やピリジウム
クロロクロメートを用いることにより容易に進行する。
実験操作上より簡便な反応としてSwern酸化反応も使用
可能である。Swern酸化反応は、メチレンクロリド中2
〜3当量のオキザリルクロリド、4〜5当量のDMSO,10
〜15当量のトリエチルアミンを用いて行うことができ
る。尚、反応温度は−78℃〜室温の範囲を選択すること
ができる。
〔第4工程〕 本工程は、前記第3工程で得られた前記一般式(XI)で
表わされるシクロペンタノン誘導体をメチレン化するこ
とにより前記一般式(XII)で表わされるエキソ−メチ
レン体を製造するものである。本メチレン化反応には、
テトラヒドロフラン中亜鉛−メチレンブロミド−四塩化
チタンより調製された試剤を用いる。メチレン化反応
は、メチレンクロリドの如きハロゲン化炭化水素溶媒中
行うものであり、反応温度は0℃〜50℃の範囲を選択す
ることができる。
表わされるシクロペンタノン誘導体をメチレン化するこ
とにより前記一般式(XII)で表わされるエキソ−メチ
レン体を製造するものである。本メチレン化反応には、
テトラヒドロフラン中亜鉛−メチレンブロミド−四塩化
チタンより調製された試剤を用いる。メチレン化反応
は、メチレンクロリドの如きハロゲン化炭化水素溶媒中
行うものであり、反応温度は0℃〜50℃の範囲を選択す
ることができる。
〔第5工程〕 本工程は、前記第5工程で得られた前記一般式(XII)
で表わされるエキソ−メチレン誘導体を水和反応させる
ことにより前記一般式(XIII)で表わされるヒドロキシ
メチルシクロペンタン誘導体を製造するものである。本
工程の水和反応は、ヒドロホウ素化し、酸化することに
より行なわれる。ヒドロホウ素化にあたっては、例えば
9−BBN(9−ボラビシクロ〔3.3.1〕ノナン)、テキシ
ルボラン等のヒドロホウ素化試剤を用いることができ
る。ヒドロホウ素化試剤の使用量は通常1〜1.5当量用
いる。反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ま
しく、例えばテトラヒドロフラン、ジグライム、ジエチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒を用いることができる。
反応は−25℃〜室温にて円滑に進行する。更に本工程
は、ヒドロホウ素化に続き生成物を単離することなく酸
化を行うものである。酸化にあたっては、例えば過酸化
水素等の酸化剤を用いることができる。過酸化水素を用
いて酸化を行う場合には、例えば水酸化ナトリウム等の
塩基性の状態で使用することが好ましい。酸化剤の使用
量は、5〜15当量であり、反応は室温〜60℃で円滑に進
行する。
で表わされるエキソ−メチレン誘導体を水和反応させる
ことにより前記一般式(XIII)で表わされるヒドロキシ
メチルシクロペンタン誘導体を製造するものである。本
工程の水和反応は、ヒドロホウ素化し、酸化することに
より行なわれる。ヒドロホウ素化にあたっては、例えば
9−BBN(9−ボラビシクロ〔3.3.1〕ノナン)、テキシ
ルボラン等のヒドロホウ素化試剤を用いることができ
る。ヒドロホウ素化試剤の使用量は通常1〜1.5当量用
いる。反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ま
しく、例えばテトラヒドロフラン、ジグライム、ジエチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒を用いることができる。
反応は−25℃〜室温にて円滑に進行する。更に本工程
は、ヒドロホウ素化に続き生成物を単離することなく酸
化を行うものである。酸化にあたっては、例えば過酸化
水素等の酸化剤を用いることができる。過酸化水素を用
いて酸化を行う場合には、例えば水酸化ナトリウム等の
塩基性の状態で使用することが好ましい。酸化剤の使用
量は、5〜15当量であり、反応は室温〜60℃で円滑に進
行する。
〔第6工程〕 本工程は、前記第5工程で得られた前記一般式(XII)
で表わされるヒドロキシメチルシクロペンタン誘導体を
還元して前記一般式(XIV)で表わされるジオール体を
製造するものである。還元反応は、テトラヒドロフラン
やエーテル等のエーテル系溶媒中リチウムアルミナムヒ
ドリドの如き還元剤を用いて行うことができる。反応温
度は0℃〜40℃の範囲を選択することができる。
で表わされるヒドロキシメチルシクロペンタン誘導体を
還元して前記一般式(XIV)で表わされるジオール体を
製造するものである。還元反応は、テトラヒドロフラン
やエーテル等のエーテル系溶媒中リチウムアルミナムヒ
ドリドの如き還元剤を用いて行うことができる。反応温
度は0℃〜40℃の範囲を選択することができる。
〔第7工程〕 本工程は、前記第6工程で得られた前記一般式(XIV)
で表わされるジオール体を酸化、続いて脱水を伴うアル
ドール縮合に付すことにより、前記一般式(XV)で表わ
される6員環エナールを製造するものである。
で表わされるジオール体を酸化、続いて脱水を伴うアル
ドール縮合に付すことにより、前記一般式(XV)で表わ
される6員環エナールを製造するものである。
酸化にあたっては、例えばジメチルスルホキシド−オキ
ザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−三酸化イオウ
のピリジン錯体等を使用することができる。酸化剤の使
用量は通常1〜5当量用いればよい。
ザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−三酸化イオウ
のピリジン錯体等を使用することができる。酸化剤の使
用量は通常1〜5当量用いればよい。
反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素等を用いる
ことができる。
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素等を用いる
ことができる。
反応は酸化剤の種類によっても異なるが−70℃〜室温に
て円滑に進行する。
て円滑に進行する。
本工程での酸化生成物を得るには、反応物中にトリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミ
ンを加え−70℃〜室温にて処理することにより行なわれ
る。
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミ
ンを加え−70℃〜室温にて処理することにより行なわれ
る。
酸化反応終了後は生成物を単離することなく次の脱水反
応に付した。
応に付した。
脱水反応は前記酸化反応で得られた生成物を酸性触媒の
存在下に加熱することにより行うものである。酸性触媒
としては、酸−アンモニウム塩を使用することができ
る。酸−アンモニウム塩触媒は酸とアミンとから形成す
ることができる。使用できる酸としてはトリフルオロ酢
酸、トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、酢酸
等を例示することができる。又、使用できるアミンとし
てはジベンジルアミン、ジエチルアミン、ジメチルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン、ピロリジン、
ピペラジン等を例示することができる。これらの酸とア
ミンは適宜選択し、組み合わせ使用することができる
が、とりわけトリフルオロ酢酸とジベンジルアミンを組
み合わせた触媒が収率よく目的物を得ることができる点
で好ましい。触媒の使用量は0.2当量程度でよいが、反
応を速やかに進行させるためには1当量程度用いること
が好ましい。
存在下に加熱することにより行うものである。酸性触媒
としては、酸−アンモニウム塩を使用することができ
る。酸−アンモニウム塩触媒は酸とアミンとから形成す
ることができる。使用できる酸としてはトリフルオロ酢
酸、トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、酢酸
等を例示することができる。又、使用できるアミンとし
てはジベンジルアミン、ジエチルアミン、ジメチルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン、ピロリジン、
ピペラジン等を例示することができる。これらの酸とア
ミンは適宜選択し、組み合わせ使用することができる
が、とりわけトリフルオロ酢酸とジベンジルアミンを組
み合わせた触媒が収率よく目的物を得ることができる点
で好ましい。触媒の使用量は0.2当量程度でよいが、反
応を速やかに進行させるためには1当量程度用いること
が好ましい。
反応を行うにあたっては溶媒の使用が望ましく、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を用いるこ
とができる。
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を用いるこ
とができる。
反応温度は室温〜100℃を選ぶことができるが、反応を
円滑に行うには50℃〜70℃の範囲で行うことが好まし
い。
円滑に行うには50℃〜70℃の範囲で行うことが好まし
い。
前記一般式(XV)で示される6員環エナールから前記一
般式(I)で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネ
ン誘導体は二つの経路で製造される。
般式(I)で表わされるシス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネ
ン誘導体は二つの経路で製造される。
〔第8工程〕 本工程は、前記一般式(XV)で表わされる6員環エナー
ルをメチレン化することにより、前記一般式(XVI)で
表わされる共役ジエンを製造するものである。メチレン
化反応は、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒
中、メチルトリフェニルホスホニウムブロミドとt−ブ
チルアルコールのカリウム塩のような塩基で調製される
イリドを用いて行うことができる。反応温度は、0℃〜
50℃を選択することができる。
ルをメチレン化することにより、前記一般式(XVI)で
表わされる共役ジエンを製造するものである。メチレン
化反応は、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒
中、メチルトリフェニルホスホニウムブロミドとt−ブ
チルアルコールのカリウム塩のような塩基で調製される
イリドを用いて行うことができる。反応温度は、0℃〜
50℃を選択することができる。
〔第9工程〕 本工程は、前記第8工程で得られた前記一般式(XVI)
で表わされる共役ジエンを選択的にヒドロホウ素化続い
て酸化反応を行うことにより前記一般式(XVII)で表わ
される一級アルコールを製造するものである。本ヒドロ
ホウ素化には、ジシアミルボランや9−BBNのごときヒ
ドロホウ素化剤を用いることができる。反応を行うにあ
たっては溶媒中で行うことが望ましく、例えばテトラヒ
ドロフラン、ジグライム、ジエチルエーテル等のエーテ
ル系溶媒を用いることができる。ヒドロホウ素化後の酸
化にあたつては、例えば過酸化水素等の酸化剤を塩基性
条件下使用することができる。
で表わされる共役ジエンを選択的にヒドロホウ素化続い
て酸化反応を行うことにより前記一般式(XVII)で表わ
される一級アルコールを製造するものである。本ヒドロ
ホウ素化には、ジシアミルボランや9−BBNのごときヒ
ドロホウ素化剤を用いることができる。反応を行うにあ
たっては溶媒中で行うことが望ましく、例えばテトラヒ
ドロフラン、ジグライム、ジエチルエーテル等のエーテ
ル系溶媒を用いることができる。ヒドロホウ素化後の酸
化にあたつては、例えば過酸化水素等の酸化剤を塩基性
条件下使用することができる。
〔第10工程〕 本工程は、前記第9工程で得られた前記一般式(XVII)
で表わされる一級アルコールを酸化することにより前記
一般式(XVIII)で表わされるアルデヒドを製造するも
のである。本酸化反応はメチレンクロリドのごときハロ
ゲン化炭化水素溶媒を用いて、コリンズ試薬、ピリジウ
ムクロロクロメート、Swern酸化等を用いることができ
る。反応温度は、−78℃〜50℃を選択することができ
る。
で表わされる一級アルコールを酸化することにより前記
一般式(XVIII)で表わされるアルデヒドを製造するも
のである。本酸化反応はメチレンクロリドのごときハロ
ゲン化炭化水素溶媒を用いて、コリンズ試薬、ピリジウ
ムクロロクロメート、Swern酸化等を用いることができ
る。反応温度は、−78℃〜50℃を選択することができ
る。
〔第11工程〕 本工程は、前記第10工程で得られた前記一般式(XVII
I)で表わされるアルデヒドをWittig反応に付すことに
より前記一般式(XIX)で表わされるα,β−不飽和エ
ステルを製造するものである。
I)で表わされるアルデヒドをWittig反応に付すことに
より前記一般式(XIX)で表わされるα,β−不飽和エ
ステルを製造するものである。
本Wittig反応は、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水
素中、カルボメトキシメチレントリフェニルホスホラン
やカルボエトキシメチレントリフェニルホスホランの如
き安定イリドを用いて行われる。安定イリドの使用量
は、通常1〜2当量であり、反応は50℃〜130℃にて円
滑に進行する。
素中、カルボメトキシメチレントリフェニルホスホラン
やカルボエトキシメチレントリフェニルホスホランの如
き安定イリドを用いて行われる。安定イリドの使用量
は、通常1〜2当量であり、反応は50℃〜130℃にて円
滑に進行する。
〔第12工程〕 本工程は、前記第11工程で得られた前記一般式(XIX)
で示されるα,β−不飽和エステルを選択的に還元して
前記一般式(XX)で表わされるエステルを製造するもの
である。本還元反応は、テトラヒドロフランの如きエー
テル系溶媒中リチウムトリ−sec−ブチルボロヒドリド
やコッパー(I)ヒドリドのような還元剤を用いて行う
ことができる。反応温度は−78℃〜0℃を選択すること
ができる。
で示されるα,β−不飽和エステルを選択的に還元して
前記一般式(XX)で表わされるエステルを製造するもの
である。本還元反応は、テトラヒドロフランの如きエー
テル系溶媒中リチウムトリ−sec−ブチルボロヒドリド
やコッパー(I)ヒドリドのような還元剤を用いて行う
ことができる。反応温度は−78℃〜0℃を選択すること
ができる。
〔第13工程〕 本工程は、前記第12工程で得られた前記一般式(XX)で
表わされるエステルの一級水酸基の保護基を選択的に脱
保護して、前記一般式(I)で表わされるω−チェイン
−一級アルコール製造するものである。本脱保護反応の
反応条件はR8の種類により異なるが、R8がt−ブチルジ
メチルシリルの如きトリアルキルシリル基でR2がテトラ
ヒドロピラニル基の如きアセタール型保護基の場合に
は、テトラヒドロフラン中テトラ−n−ブチルアンモニ
ウムフルオリドという条件を用いることができる。
表わされるエステルの一級水酸基の保護基を選択的に脱
保護して、前記一般式(I)で表わされるω−チェイン
−一級アルコール製造するものである。本脱保護反応の
反応条件はR8の種類により異なるが、R8がt−ブチルジ
メチルシリルの如きトリアルキルシリル基でR2がテトラ
ヒドロピラニル基の如きアセタール型保護基の場合に
は、テトラヒドロフラン中テトラ−n−ブチルアンモニ
ウムフルオリドという条件を用いることができる。
〔第14工程〕 本工程は、前記一般式(XV)で表わされる6員環エナー
ルにWittig反応をほどこし、続いてカルボキシル基を保
護して前記一般式(XXI)で表わされる1,3−ジエンを製
造するものである。
ルにWittig反応をほどこし、続いてカルボキシル基を保
護して前記一般式(XXI)で表わされる1,3−ジエンを製
造するものである。
本Wittig反応には、3−カルボキシプロピルトリフェニ
ルホスホニウムプロミドとt−ブチルアルコールのカリ
ウム塩とから調製されるイリドを用いることができる。
反応溶媒は、テトラヒドロフランの如きエーテル系溶媒
が使用可能であり、反応温度は−78℃〜50℃を選択する
ことができる。本工程は、続いてWittig反応により得ら
れた生成物をエステル化するものである。R3がメチルの
場合は、エーテル中ジアゾメタンという条件やアセトン
中炭酸カリウム−ヨウ化メチルという反応条件を用いる
ことができる。
ルホスホニウムプロミドとt−ブチルアルコールのカリ
ウム塩とから調製されるイリドを用いることができる。
反応溶媒は、テトラヒドロフランの如きエーテル系溶媒
が使用可能であり、反応温度は−78℃〜50℃を選択する
ことができる。本工程は、続いてWittig反応により得ら
れた生成物をエステル化するものである。R3がメチルの
場合は、エーテル中ジアゾメタンという条件やアセトン
中炭酸カリウム−ヨウ化メチルという反応条件を用いる
ことができる。
〔第15工程〕 本工程は、前記一般式(XXI)で表わされる1,3−ジエン
を選択的に還元して、前記一般式(XXI)で示されるモ
ノエンを製造するものである。本選択的還元は、接触還
元反応を用いるものであり、接触還元反応に使用する水
素圧は通常1気圧である。還元触媒としては、5%パラ
ジウム/炭素・10%パラジウム/炭素,ウルキンソン錯
体を用いることができる。還元用溶媒は、メタノール、
エタノール、ベンゼン、酢酸エチル等幅広く選択するこ
とができ、同様に反応温度も−78℃〜50℃と幅広い選択
が可能である。
を選択的に還元して、前記一般式(XXI)で示されるモ
ノエンを製造するものである。本選択的還元は、接触還
元反応を用いるものであり、接触還元反応に使用する水
素圧は通常1気圧である。還元触媒としては、5%パラ
ジウム/炭素・10%パラジウム/炭素,ウルキンソン錯
体を用いることができる。還元用溶媒は、メタノール、
エタノール、ベンゼン、酢酸エチル等幅広く選択するこ
とができ、同様に反応温度も−78℃〜50℃と幅広い選択
が可能である。
〔第16工程〕 本工程は、前記第15工程で得られた前記一般式(XXII)
で表わされるモノエンの一級水酸基の保護基を選択的に
脱保護して、前記一般式(I)で表わされるω′−チェ
イン−一級アルコールを製造するものである。本脱保護
反応の反応条件はR8の種類により異なるが、R8がt−ブ
チルジメチルシリルの如きトリアルキルシリル基で、R2
がテトラヒドロピラニル基の如きアセタール型保護基の
場合には、テトラヒドロフラン中テトラ−n−ブチルア
ンモニウムフルオリドという条件を用いることができ
る。
で表わされるモノエンの一級水酸基の保護基を選択的に
脱保護して、前記一般式(I)で表わされるω′−チェ
イン−一級アルコールを製造するものである。本脱保護
反応の反応条件はR8の種類により異なるが、R8がt−ブ
チルジメチルシリルの如きトリアルキルシリル基で、R2
がテトラヒドロピラニル基の如きアセタール型保護基の
場合には、テトラヒドロフラン中テトラ−n−ブチルア
ンモニウムフルオリドという条件を用いることができ
る。
〔第17工程〕 本工程は、前記第14工程で得られた前記一般式(XXI)
で表わされる1,3−ジエンの一級水酸基の保護基を選択
的に脱保護して、前記一般式(I)で表わされるω′−
チェイン−一級アルコールを製造するものである。本脱
保護反応の反応条件はR8の種類により異なるが、R8がt
−ブチルジメチルシリルの如きトリアルキルシリル基
で、R2がテトラヒドロピラニル基の如きアセタール型保
護基の場合には、テトラヒドロフラン中テトラ−n−ブ
チルアンモニウムフルオリドという条件を用いることが
できる。
で表わされる1,3−ジエンの一級水酸基の保護基を選択
的に脱保護して、前記一般式(I)で表わされるω′−
チェイン−一級アルコールを製造するものである。本脱
保護反応の反応条件はR8の種類により異なるが、R8がt
−ブチルジメチルシリルの如きトリアルキルシリル基
で、R2がテトラヒドロピラニル基の如きアセタール型保
護基の場合には、テトラヒドロフラン中テトラ−n−ブ
チルアンモニウムフルオリドという条件を用いることが
できる。
以下、実施例、参考例及び試験例により本発明を更に詳
細に説明する。
細に説明する。
参考例 1 アルゴン雰囲気下、〔2−オキサ−3−オキソ−6−エ
キソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクタン〕(10g,27mmol)をトルエン(80m
l)に溶解し、−78℃に冷却した。水素化ジイソブチル
アルミニウム(1Mトルエン溶液 40.5ml,40.5mmol)を
加え−78℃で60分間攪拌した。−78℃で水素の発生が認
められなくなるまでメタノールを加え、室温まで温度を
上げた。飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し〔2−オキサ−
3−ヒドロキシ−6−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−7−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕(10.1g,100
%)を得た。
キソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクタン〕(10g,27mmol)をトルエン(80m
l)に溶解し、−78℃に冷却した。水素化ジイソブチル
アルミニウム(1Mトルエン溶液 40.5ml,40.5mmol)を
加え−78℃で60分間攪拌した。−78℃で水素の発生が認
められなくなるまでメタノールを加え、室温まで温度を
上げた。飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し〔2−オキサ−
3−ヒドロキシ−6−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−7−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕(10.1g,100
%)を得た。
IR(neat):3430,2950,2860,835cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.70−5.30(m,1H),4.85−4.55(m,2
H),4.40−3.25(m,5H),0.90(s,9H). Mass m/z(%):213(5),159(17),85(100),75
(19),73(13). 参考例 2 アルゴン雰囲気下、〔2−オキサ−3−ヒドロキシ−6
−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクタン〕(10.1g,27mmol)をトルエン(1
00ml)に溶解した。(メトキシカルボニルメチレン)ト
リフェニルホスホラン(11.7g,35mmol)を加え60℃にて
12時間撹拌した。冷後、溶媒を留去して得られる残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−
ヘキサン=1:2)により精製し、〔2α−(3−メトキ
シカルボニル−2−プロペニル)−3β−t−ブチルジ
メチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−1α−シクロペンタノール〕(10.9g,94%)
を得た。
H),4.40−3.25(m,5H),0.90(s,9H). Mass m/z(%):213(5),159(17),85(100),75
(19),73(13). 参考例 2 アルゴン雰囲気下、〔2−オキサ−3−ヒドロキシ−6
−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔3.3.0〕オクタン〕(10.1g,27mmol)をトルエン(1
00ml)に溶解した。(メトキシカルボニルメチレン)ト
リフェニルホスホラン(11.7g,35mmol)を加え60℃にて
12時間撹拌した。冷後、溶媒を留去して得られる残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−
ヘキサン=1:2)により精製し、〔2α−(3−メトキ
シカルボニル−2−プロペニル)−3β−t−ブチルジ
メチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−1α−シクロペンタノール〕(10.9g,94%)
を得た。
IR(neat):3530,2960,2875,1730,1660,840cm-1. NMR(CDCl3)δ:7.06(m,1H),5.95(d,J=15Hz,1H),
4.66(bs,1H),3.70(s,3H),0.90(s,9H),0.05(s,6
H). Mass m/z(%):211(1),159(37),85(100),75
(26),73(18),43(9). 参考例 3 〔2α−(3−メトキシカルボニル−2−プロペニル)
−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α
−テトラヒドロピラニルオキシ−1α−シクロペンタノ
ール〕(7.0g,16.4mmol)をメタノール(50ml)に溶解
した。10%パラジウム/炭素(700mg)を加え、水素雰
囲気下、室温で1時間撹拌した。触媒を濾別し、濾液の
溶媒を留去し〔2α−(3−メトキシカルボニルプロピ
ル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−
4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1α−シクロペン
タノール〕(6.5g,93%)を得た。
4.66(bs,1H),3.70(s,3H),0.90(s,9H),0.05(s,6
H). Mass m/z(%):211(1),159(37),85(100),75
(26),73(18),43(9). 参考例 3 〔2α−(3−メトキシカルボニル−2−プロペニル)
−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α
−テトラヒドロピラニルオキシ−1α−シクロペンタノ
ール〕(7.0g,16.4mmol)をメタノール(50ml)に溶解
した。10%パラジウム/炭素(700mg)を加え、水素雰
囲気下、室温で1時間撹拌した。触媒を濾別し、濾液の
溶媒を留去し〔2α−(3−メトキシカルボニルプロピ
ル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−
4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1α−シクロペン
タノール〕(6.5g,93%)を得た。
IR(neat):3530,2940,2850,1738,830cm-1. NMR(CDCl3)δ:4.76(bs,1H),3.66(s,3H),0.90(s,
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):257(10),211(1),165(29),159
(62),119(11),85(100),75(28),73(22),43(1
2). 参考例 4 アルゴン雰囲気下、オキザリルクロリド(3.8ml,43.5mm
ol)を塩化メチルン(30ml)に溶解した。−78℃でジメ
チルスルホキシド(6.5ml,90.6mmol)の塩化メチレン溶
液(30ml)を加えた。−78℃で30分間撹拌後、〔2α−
(3−メトキシカルボニルプロピル)−3β−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−1α−シクロペンタノール〕(6.5g,15.
1m−mol)の塩化メチレン溶媒(50ml)を加えた。−78
℃で30分間撹拌後、トリエチルアミン(31.3ml,226.5mm
ol)を加え、室温まで温度を上昇させた。水を加え塩化
メチレンで抽出、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテ
ル:n−ヘキサン=1:2)より精製し〔2α−(3−メト
キシカルボニルプロピル)−3β−t−ブチルジメチル
シリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキ
シ−1−シクロペンタノール〕(6.2g,95%)を得た。
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):257(10),211(1),165(29),159
(62),119(11),85(100),75(28),73(22),43(1
2). 参考例 4 アルゴン雰囲気下、オキザリルクロリド(3.8ml,43.5mm
ol)を塩化メチルン(30ml)に溶解した。−78℃でジメ
チルスルホキシド(6.5ml,90.6mmol)の塩化メチレン溶
液(30ml)を加えた。−78℃で30分間撹拌後、〔2α−
(3−メトキシカルボニルプロピル)−3β−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−1α−シクロペンタノール〕(6.5g,15.
1m−mol)の塩化メチレン溶媒(50ml)を加えた。−78
℃で30分間撹拌後、トリエチルアミン(31.3ml,226.5mm
ol)を加え、室温まで温度を上昇させた。水を加え塩化
メチレンで抽出、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテ
ル:n−ヘキサン=1:2)より精製し〔2α−(3−メト
キシカルボニルプロピル)−3β−t−ブチルジメチル
シリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキ
シ−1−シクロペンタノール〕(6.2g,95%)を得た。
IR(neat):2900,2810,1730,820cm-1. NMR(CDCl3)δ:4.63(bs,1H),3.66(s,3H),0.90(s,
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):209(2),159(28),85(100),75
(29),73(29),43(3),41(22). 参考例 5 アルゴン雰囲気下、〔2α−(3−メトキシカルボニル
プロピル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロ
ベンタノン〕(10g,23mmol)を塩化メチレン(100ml)
に溶解し、室温で亜鉛−メチレンブロミド−四塩化チタ
ン試薬〔(Zn−CH2Br2−TiCl4)/THF〕をTLCにて原料が
消失するまで加えた。反応液を飽和重曹水(500ml)と
エーテル(500ml)の混合液中にあけた。この混合液を
加えセライトにて濾過した。エーテル層を分取後、水層
はさらにエーテルで抽出した。エーテル層を合わせ飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(エーテル:n−ヘキサン=1:6)により精製し〔2
α−(3−メトキシカルボニルプロピル)−3β−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒド
ロピラニルオキシ−1−シクロペンチリデン〕(7.6g,7
6%)を得た。
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):209(2),159(28),85(100),75
(29),73(29),43(3),41(22). 参考例 5 アルゴン雰囲気下、〔2α−(3−メトキシカルボニル
プロピル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロ
ベンタノン〕(10g,23mmol)を塩化メチレン(100ml)
に溶解し、室温で亜鉛−メチレンブロミド−四塩化チタ
ン試薬〔(Zn−CH2Br2−TiCl4)/THF〕をTLCにて原料が
消失するまで加えた。反応液を飽和重曹水(500ml)と
エーテル(500ml)の混合液中にあけた。この混合液を
加えセライトにて濾過した。エーテル層を分取後、水層
はさらにエーテルで抽出した。エーテル層を合わせ飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(エーテル:n−ヘキサン=1:6)により精製し〔2
α−(3−メトキシカルボニルプロピル)−3β−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒド
ロピラニルオキシ−1−シクロペンチリデン〕(7.6g,7
6%)を得た。
IR(neat):2900,2800,1730,1645,1240,820cm-1. NMR(CDCl3)δ:4.83(d,2H),4.63(bs,1H),3.80(s,
3H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):193(18),159(41),85(100),75
(37),73(31),43(15). 参考例 6 アルゴン雰囲気下、〔2α−(3−メトキシカルボニル
プロピル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロ
ペンチリデン〕(7.5g,17.6mmol)をTHF(70ml)に溶解
した。0℃にて、ジサイアミルボランのTHF溶液(0.9M,
43ml,38.7mmol)を滴下した。0℃にて1時間撹拌した
後、6N水酸化ナトリウム水溶液(25.5ml,153mmol)及び
30%過酸化水素水(22ml,194mmol)を加えた。室温にて
1時間撹拌した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層
は、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し〔1
α−ヒドロキシメチル−2α−(3−メトキシカルボニ
ルプロピル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシ
メチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロペン
タン〕(7.8g,100%)を得た。
3H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):193(18),159(41),85(100),75
(37),73(31),43(15). 参考例 6 アルゴン雰囲気下、〔2α−(3−メトキシカルボニル
プロピル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロ
ペンチリデン〕(7.5g,17.6mmol)をTHF(70ml)に溶解
した。0℃にて、ジサイアミルボランのTHF溶液(0.9M,
43ml,38.7mmol)を滴下した。0℃にて1時間撹拌した
後、6N水酸化ナトリウム水溶液(25.5ml,153mmol)及び
30%過酸化水素水(22ml,194mmol)を加えた。室温にて
1時間撹拌した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層
は、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し〔1
α−ヒドロキシメチル−2α−(3−メトキシカルボニ
ルプロピル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシ
メチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロペン
タン〕(7.8g,100%)を得た。
IR(neat):3450,2930,2850,835cm-1. NMR(CDCl3)δ:4.66(bs,1H),3.66(s,3H),0.90(s,
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):285(15),255(9),193(30),159
(54),85(100),57(100),43(52). 参考例 7 アルゴン雰囲気下、リチウムアルミニウムハイドライド
(3.34g,88mmol)をTHF(70ml)に懸濁した。氷冷下、
〔1α−ヒドロキシメチル−2α−(3−メトキシカル
ボニルプロピル)−3α−t−ブチルメチルシリルオキ
シメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロペ
ンタン〕(7.8g,17.6mmol)のTHF溶液(100ml)を滴下
した。氷冷下、30分間撹拌した後、硫酸ナトリウム・10
水和物を加え、セライト濾過した。溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル)
により精製し〔1α−ヒドロキシメチル−2α−(4−
ヒドロキシブチル)−3β−t−ブチルメチルシリルオ
キシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロ
ペンタン〕(6.8g,93%)を得た。
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):285(15),255(9),193(30),159
(54),85(100),57(100),43(52). 参考例 7 アルゴン雰囲気下、リチウムアルミニウムハイドライド
(3.34g,88mmol)をTHF(70ml)に懸濁した。氷冷下、
〔1α−ヒドロキシメチル−2α−(3−メトキシカル
ボニルプロピル)−3α−t−ブチルメチルシリルオキ
シメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロペ
ンタン〕(7.8g,17.6mmol)のTHF溶液(100ml)を滴下
した。氷冷下、30分間撹拌した後、硫酸ナトリウム・10
水和物を加え、セライト濾過した。溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル)
により精製し〔1α−ヒドロキシメチル−2α−(4−
ヒドロキシブチル)−3β−t−ブチルメチルシリルオ
キシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロ
ペンタン〕(6.8g,93%)を得た。
IR(neat):3420,2935,2850,1730,830cm-1. NMR(CDCl3)δ:4.63(bs,1H),4.10(m,1H),0.90(s,
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):331(M+−85,3),275(4),183
(8),159(35),85(100),41(31). 参考例 8 アルゴン雰囲気下、オキザリルクロリド(9ml,105.6mmo
l)を塩化メチレン(70ml)に溶解した。−78℃で、ジ
メチルスルホキシド(16.2ml,228.8mmol)の塩化メチレ
ン(40ml)を加えた。−78℃で30分間撹拌後、〔1α−
ヒドロキシメチル−2α−(4−ヒドロキシブチル)−
3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−
テトラヒドロピラニルオキシシクロペンタン〕(6.8g,1
6.4mmol)の塩化メチレン溶液(40ml)を加えた。−78
℃で30分間撹拌後、トリエチルアミン(73ml,528mmol)
を加え、室温まで温度を上昇させた。塩化メチレンを留
去した。アルゴン雰囲気下、ベンゼン(150ml)及びジ
ベンジルアンモニウムトリフルオロアセテート(51g,1
6.4mmol)を加え、60℃で5時間撹拌した。放冷後、水
を加え、エーテルで抽出した。エーテル層を飽和塩化ア
ンモニウム水溶液、飽和重曹水、及び水で洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−
ヘキサン=1:4)により精製し〔3−ホルミル−7−エ
キソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(3g、46%)を得た。
9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):331(M+−85,3),275(4),183
(8),159(35),85(100),41(31). 参考例 8 アルゴン雰囲気下、オキザリルクロリド(9ml,105.6mmo
l)を塩化メチレン(70ml)に溶解した。−78℃で、ジ
メチルスルホキシド(16.2ml,228.8mmol)の塩化メチレ
ン(40ml)を加えた。−78℃で30分間撹拌後、〔1α−
ヒドロキシメチル−2α−(4−ヒドロキシブチル)−
3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−
テトラヒドロピラニルオキシシクロペンタン〕(6.8g,1
6.4mmol)の塩化メチレン溶液(40ml)を加えた。−78
℃で30分間撹拌後、トリエチルアミン(73ml,528mmol)
を加え、室温まで温度を上昇させた。塩化メチレンを留
去した。アルゴン雰囲気下、ベンゼン(150ml)及びジ
ベンジルアンモニウムトリフルオロアセテート(51g,1
6.4mmol)を加え、60℃で5時間撹拌した。放冷後、水
を加え、エーテルで抽出した。エーテル層を飽和塩化ア
ンモニウム水溶液、飽和重曹水、及び水で洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−
ヘキサン=1:4)により精製し〔3−ホルミル−7−エ
キソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(3g、46%)を得た。
IR(neat):2950,2870,1680,1630,835cm-1. NMR(CDCl3)δ:9.43(s,1H),6.70(bs,1H),4.63(b
s,1H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):309(M+−85,trace),159(33),85
(100),75(26),73(10),57(14). 参考例 9 アルゴン雰囲気下、予め100℃で減圧下、十分に乾燥し
たメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド(449mg,
1.14mmol)をTHF(5ml)に懸濁させた。これに、t−ブ
トキシカリウム(140mg,1.14mmol)のTHF溶液(2ml)を
室温にて加えた。10分間撹拌した後、〔3−ホルミル−
7−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(150mg,0.38mmol)のT
HF溶液(2ml)を加え室温で30分間撹拌した。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加えた後、エーテルで抽出した。
エーテル層を飽和食塩水にて洗浄して、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:
15)により精製し、〔3−エテニル−7−エキソ−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド−テト
ラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エン〕(139mg,93%)を得た。
s,1H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):309(M+−85,trace),159(33),85
(100),75(26),73(10),57(14). 参考例 9 アルゴン雰囲気下、予め100℃で減圧下、十分に乾燥し
たメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド(449mg,
1.14mmol)をTHF(5ml)に懸濁させた。これに、t−ブ
トキシカリウム(140mg,1.14mmol)のTHF溶液(2ml)を
室温にて加えた。10分間撹拌した後、〔3−ホルミル−
7−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(150mg,0.38mmol)のT
HF溶液(2ml)を加え室温で30分間撹拌した。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加えた後、エーテルで抽出した。
エーテル層を飽和食塩水にて洗浄して、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:
15)により精製し、〔3−エテニル−7−エキソ−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド−テト
ラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エン〕(139mg,93%)を得た。
IR(neat):2950,2875,1640,1605,1475,1260,1200,840,
780cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.33(dd,J=11.6Hz,1H),5.66(bs,1
H),5.03(d,J=20Hz,1H),4.88(d,J=11.6Hz,1H),4.
60(bs,1H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):374(M+−H2O,trace),308(7),251
(18),205(3),159(77),85(100),57(19). 参考例 10 アルゴン雰囲気下、〔3−エテニル−7−エキソ−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド−テト
ラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エン〕(245mg,0.63mmol)をTHF(4ml)に溶解
し、0℃にてジサイアミルボランのTHF溶液(0.91M,1.7
ml,1.58mmol)を滴下し0℃にて1時間撹拌した。0℃
にて6N水酸化ナトリウム溶液(1.13ml,6.78mmol)及び3
0%過酸化水素水(0.94ml,8.29mol)を加えた後、室温
にて、1時間撹拌した。水を加えた後、酢酸エチルにて
抽出した。有機層は、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:3)より精製し
〔3−(2−ヒドロキシエチル)−7−エキソ−t−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ
−2−エン〕(259mg,100%)を得た。
780cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.33(dd,J=11.6Hz,1H),5.66(bs,1
H),5.03(d,J=20Hz,1H),4.88(d,J=11.6Hz,1H),4.
60(bs,1H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):374(M+−H2O,trace),308(7),251
(18),205(3),159(77),85(100),57(19). 参考例 10 アルゴン雰囲気下、〔3−エテニル−7−エキソ−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド−テト
ラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エン〕(245mg,0.63mmol)をTHF(4ml)に溶解
し、0℃にてジサイアミルボランのTHF溶液(0.91M,1.7
ml,1.58mmol)を滴下し0℃にて1時間撹拌した。0℃
にて6N水酸化ナトリウム溶液(1.13ml,6.78mmol)及び3
0%過酸化水素水(0.94ml,8.29mol)を加えた後、室温
にて、1時間撹拌した。水を加えた後、酢酸エチルにて
抽出した。有機層は、チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:3)より精製し
〔3−(2−ヒドロキシエチル)−7−エキソ−t−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ
−2−エン〕(259mg,100%)を得た。
IR(neat):3450,2930,2860,1475,1255,1200,835,775cm
-1. NMR(CDCl3)δ:5.40(bs,1H),4.56(bs,1H),0.90
(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):410(M+,trace),326(7),269
(9),177(44),159(91),85(100),41(30). 参考例 11 アルゴン雰囲気下、クロム酸(610mg,6.1mmol)を塩化
メチレン(10ml)に懸濁しピリジン(1ml,12.2mmol)を
滴下した。室温で15分間撹拌した後、〔3−(2−ヒド
ロキシエチル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(259
mg、0.61mmol)の塩化メチレン溶液(10ml)を加え、室
温で15分間撹拌した。反応液をエーテルで希釈し、フロ
ーリジルカラムクロマトグラフィー(エーテル)にて反
応液を濾過しエーテルで洗浄した。溶媒を留去した後、
真空ポンプにてピリジンを十分に留去した。シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:
5)により精製し〔3−(1−ホルミルメチル)−7−
エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−
エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(180mg,73%)を得た。
-1. NMR(CDCl3)δ:5.40(bs,1H),4.56(bs,1H),0.90
(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):410(M+,trace),326(7),269
(9),177(44),159(91),85(100),41(30). 参考例 11 アルゴン雰囲気下、クロム酸(610mg,6.1mmol)を塩化
メチレン(10ml)に懸濁しピリジン(1ml,12.2mmol)を
滴下した。室温で15分間撹拌した後、〔3−(2−ヒド
ロキシエチル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(259
mg、0.61mmol)の塩化メチレン溶液(10ml)を加え、室
温で15分間撹拌した。反応液をエーテルで希釈し、フロ
ーリジルカラムクロマトグラフィー(エーテル)にて反
応液を濾過しエーテルで洗浄した。溶媒を留去した後、
真空ポンプにてピリジンを十分に留去した。シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:
5)により精製し〔3−(1−ホルミルメチル)−7−
エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−
エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(180mg,73%)を得た。
IR(neat):2950,2850,1730,1475,1255,1200,835,775cm
-1. NMR(CDCl3)δ:9.56(t,1H),5.50(bs,1H),4.55(b
s,1H),2.94(d,1H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):324(M+−84,4),267(27),249(1
3),159(100),85(100). 参考例 12 アルゴン雰囲気下、〔3−(1−ホルミルメチル)−7
−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(180mg,0.44mmol)をト
ルエン(1.5ml)に溶解した。(メトキシカルボニルメ
チレン)トリフェニルホスホラン(220mg,0.66mmol)を
加え60℃にて4時間撹拌した。溶媒を留去し、残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘ
キサン=1:4)により精製し〔3−(3−メトキシカル
ボニル−2−プロペニル)−7−エキソ−t−ブチルジ
メチルシリルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−
エン〕(201mg,98%)を得た。
-1. NMR(CDCl3)δ:9.56(t,1H),5.50(bs,1H),4.55(b
s,1H),2.94(d,1H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):324(M+−84,4),267(27),249(1
3),159(100),85(100). 参考例 12 アルゴン雰囲気下、〔3−(1−ホルミルメチル)−7
−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(180mg,0.44mmol)をト
ルエン(1.5ml)に溶解した。(メトキシカルボニルメ
チレン)トリフェニルホスホラン(220mg,0.66mmol)を
加え60℃にて4時間撹拌した。溶媒を留去し、残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘ
キサン=1:4)により精製し〔3−(3−メトキシカル
ボニル−2−プロペニル)−7−エキソ−t−ブチルジ
メチルシリルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−
エン〕(201mg,98%)を得た。
IR(neat):2910,2840,1720,1640,1455,1420,1190,825,
765cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.60(dt,J=16.7Hz,1H),5.84(d,J=
16.7Hz,1H),5.42(bs,1H),4.60(bs,1H),3.71(s,3
H),2.80(d,2H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):380(M+−84,13),323(24),231(3
4),199(8),159(100),85(100),57(33). 参考例 13 アルゴン雰囲気下、臭化第一銅(1g,7mmol)をTHF(3m
l)に懸濁した。−20℃でビドライド(70%トルエン溶
液、1.97ml,14mmol)を滴下し30分間撹拌した。−78℃
にて2−ブタノール(1.4ml,15.8mmol)及び〔3−(3
−メトキシカルボニル−2−プロペニル)−7−エキソ
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(201mg,0.43mmol)のTHF溶液(8m
l)を加えた。−20℃で1時間30分撹拌した。反応液に
水及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加えエーテルにて
希釈した。室温にて水層が青色を呈するまで撹拌した
後、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテ
ル:n−ヘキサン=1:5)にて精製し〔3−(3−メトキ
シカルボニルプロピル)−7−エキソ−t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(200mg,100%)を得た。
765cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.60(dt,J=16.7Hz,1H),5.84(d,J=
16.7Hz,1H),5.42(bs,1H),4.60(bs,1H),3.71(s,3
H),2.80(d,2H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):380(M+−84,13),323(24),231(3
4),199(8),159(100),85(100),57(33). 参考例 13 アルゴン雰囲気下、臭化第一銅(1g,7mmol)をTHF(3m
l)に懸濁した。−20℃でビドライド(70%トルエン溶
液、1.97ml,14mmol)を滴下し30分間撹拌した。−78℃
にて2−ブタノール(1.4ml,15.8mmol)及び〔3−(3
−メトキシカルボニル−2−プロペニル)−7−エキソ
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(201mg,0.43mmol)のTHF溶液(8m
l)を加えた。−20℃で1時間30分撹拌した。反応液に
水及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加えエーテルにて
希釈した。室温にて水層が青色を呈するまで撹拌した
後、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテ
ル:n−ヘキサン=1:5)にて精製し〔3−(3−メトキ
シカルボニルプロピル)−7−エキソ−t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(200mg,100%)を得た。
IR(neat):2900,2830,1735,1455,1425,1225,1195,830,
775cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.30(bs,1H),4.62(bs,1H),3.56
(s,3H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):466(M+,trance),382(2),325
(7),233(13),201(12),159(34),85(100),28
(23). 実施例 1 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(200mg,0.4
3mmol)をTHF(2.5ml)に溶解した。テトラ−n−ブチ
ルアンモニウムフルオリド(1MTHF溶液、0.86ml,0.86mm
ol)を加え室温にて一昼夜撹拌した。飽和食塩水を加え
た後、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=3:1)にて精製
し〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エ
キソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(154mg,100%)を得た。
775cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.30(bs,1H),4.62(bs,1H),3.56
(s,3H),0.90(s,9H),0.05(s,6H). Mass m/z(%):466(M+,trance),382(2),325
(7),233(13),201(12),159(34),85(100),28
(23). 実施例 1 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(200mg,0.4
3mmol)をTHF(2.5ml)に溶解した。テトラ−n−ブチ
ルアンモニウムフルオリド(1MTHF溶液、0.86ml,0.86mm
ol)を加え室温にて一昼夜撹拌した。飽和食塩水を加え
た後、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=3:1)にて精製
し〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エ
キソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(154mg,100%)を得た。
IR(neat):3500,2950,2870,1740,1440,1200cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.32(bs,1H),4.62(bs,1H),3.65
(s,3H). Mass m/z(%):352(M+,trance),268(7),219(1
1),131(9),85(100),41(16). 参考例 14 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(60mg,0.17mmol)をジメチルスル
ホキシド(2ml)に溶解した。トリエチルアミン(0.11m
l,1.02mmol)及び三酸化イオウ・ピリジン錯体(162mg,
1.02mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)を加え
室温にて1時間撹拌した。氷水を加え、酢酸エチルで抽
出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、〔3−(3−メトキシカ
ルボニルプロピル)−7−エキソ−ホルミル−8−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エン〕(57mg,96%)を得た。
(s,3H). Mass m/z(%):352(M+,trance),268(7),219(1
1),131(9),85(100),41(16). 参考例 14 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(60mg,0.17mmol)をジメチルスル
ホキシド(2ml)に溶解した。トリエチルアミン(0.11m
l,1.02mmol)及び三酸化イオウ・ピリジン錯体(162mg,
1.02mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)を加え
室温にて1時間撹拌した。氷水を加え、酢酸エチルで抽
出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、〔3−(3−メトキシカ
ルボニルプロピル)−7−エキソ−ホルミル−8−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エン〕(57mg,96%)を得た。
一方、水素化ナトリウム(油状60%、16mg,0.4mmol)を
アルゴン雰囲気下、ペンタンで洗浄し、THF(2ml)に懸
濁させた。ジメチル(2−オキソヘプチル)ホスホネー
ト(118mg,0.48mmol)のTHF溶液(10ml)を加え、室温
で40分間撹拌した。〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−ホルミル−8−エンド−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ
−2−エン〕(57mg)のTHF溶液(3ml)を加え室温にて
1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた
後、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して
得られる残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(エーテル:n−ヘキサン=1:2)により精製し〔3−
(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキソ−
(3−オキソ−トランス−1−オクテニル)−8−エン
ド−テトロヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エン〕(62mg,84%)を得た。
アルゴン雰囲気下、ペンタンで洗浄し、THF(2ml)に懸
濁させた。ジメチル(2−オキソヘプチル)ホスホネー
ト(118mg,0.48mmol)のTHF溶液(10ml)を加え、室温
で40分間撹拌した。〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−ホルミル−8−エンド−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ
−2−エン〕(57mg)のTHF溶液(3ml)を加え室温にて
1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた
後、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して
得られる残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(エーテル:n−ヘキサン=1:2)により精製し〔3−
(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキソ−
(3−オキソ−トランス−1−オクテニル)−8−エン
ド−テトロヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エン〕(62mg,84%)を得た。
IR(neat):2930,2860,1740,1690,1670,1620,1430,120
0,1025,865,730cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.80(m,1H),6.16(dd,J=16.7Hz,1
H),5.33(bs,1H),4.60(m,1H),3,65(s,3H),0.90
(t,3H). Mass m/z(%):344(13),318(8),248(7),166
(36),85(100),57(21). 参考例 15 参考例14と同様の方法で、ジメチル(2−オキソ−3,7
−ジメチル−5−ヘプチニル)ホスホネートとの反応に
より〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−
エキソ−(3−オキソ−4−メチル−トランス−1−ノ
ネン−6−イニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(84%)を合成した。そのスペクトルデータを示す。
0,1025,865,730cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.80(m,1H),6.16(dd,J=16.7Hz,1
H),5.33(bs,1H),4.60(m,1H),3,65(s,3H),0.90
(t,3H). Mass m/z(%):344(13),318(8),248(7),166
(36),85(100),57(21). 参考例 15 参考例14と同様の方法で、ジメチル(2−オキソ−3,7
−ジメチル−5−ヘプチニル)ホスホネートとの反応に
より〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−
エキソ−(3−オキソ−4−メチル−トランス−1−ノ
ネン−6−イニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(84%)を合成した。そのスペクトルデータを示す。
IR(neat):2950,2900,1740,1700,1675,1630,1440,121
0,1040cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.63(m,1H),6.23(dd,J=16.7,4Hz,1
H),5.30(bs,1H),4.56(m,1H),3,63(s,3H),1.23−
1.00(m,6H). 参考例 16 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス−1−
オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロキシ−シス−
ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(46mg,0.14mmol)
をメタノール(3ml)に溶解した。−25℃に冷却し、過
剰の水素化ホウ素ナトリウムを加えた。−25℃で20分間
撹拌後、過剰のアセトンを加えた。室温にもどした後、
飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減圧下、メタノー
ル及びアセトンを留去した。残留水層を酢酸エチルで抽
出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して
〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキ
ソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(47mg,100%)を得
た。
0,1040cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.63(m,1H),6.23(dd,J=16.7,4Hz,1
H),5.30(bs,1H),4.56(m,1H),3,63(s,3H),1.23−
1.00(m,6H). 参考例 16 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス−1−
オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロキシ−シス−
ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(46mg,0.14mmol)
をメタノール(3ml)に溶解した。−25℃に冷却し、過
剰の水素化ホウ素ナトリウムを加えた。−25℃で20分間
撹拌後、過剰のアセトンを加えた。室温にもどした後、
飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減圧下、メタノー
ル及びアセトンを留去した。残留水層を酢酸エチルで抽
出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して
〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキ
ソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(47mg,100%)を得
た。
IR(neat):3450,2930,2860,1740,1200,1030,910,730cm
-1. NMR(CDCl3)δ:5.60(m,2H),5.30(bs,1H),4.66(b
s,1H),3.33(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):346(7),302(22),279(3),149
(21),85(100),57(21). 参考例 17 参考例16と同様の方法で〔3−(3−メトキシカルボニ
ルプロピル)−7−エキソ−(3−ヒドロキシ−4−メ
チル−トランス−1−ノネン−6−イニル)−8−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エン〕(78.1%)を合成した。そのス
ペクトルデータを示す。
-1. NMR(CDCl3)δ:5.60(m,2H),5.30(bs,1H),4.66(b
s,1H),3.33(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):346(7),302(22),279(3),149
(21),85(100),57(21). 参考例 17 参考例16と同様の方法で〔3−(3−メトキシカルボニ
ルプロピル)−7−エキソ−(3−ヒドロキシ−4−メ
チル−トランス−1−ノネン−6−イニル)−8−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エン〕(78.1%)を合成した。そのス
ペクトルデータを示す。
IR(neat):3400,2950,2900,1750,1200,1020cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.60(m,2H),5.33(bs,1H),4.63(b
s,1H),3.33(s,3H),1.33−0.96(m,6H). 参考例 18 〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキ
ソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
7−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(45mg,0.1mmol)を酢
酸:THF:水(0.7ml)(3:1:1,容積比)混合液に溶解し、
50℃にて2時間撹拌した。冷却後、酢酸エチルにて希釈
飽和重曹水で中和した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄後、無水酢酸マグネシウムデ乾燥した。溶媒を留去し
て得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(エーテル:n−ヘキサン=5:1)にて精製し、極性の
より高いフラクションとして〔3−(3−メトキシカル
ボニルプロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−
トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(9mg,25
%)及び極性のより低いフフクションとして〔3−(3
−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキソ−(3β
−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8−エン
ド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−
エン〕(12mg,25%)をそれぞれ得た。α−エピマー体
のスペクトルデータを以下に示す。β−エピマー体のス
ペクトルも同様である。
s,1H),3.33(s,3H),1.33−0.96(m,6H). 参考例 18 〔3−(3−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキ
ソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
7−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(45mg,0.1mmol)を酢
酸:THF:水(0.7ml)(3:1:1,容積比)混合液に溶解し、
50℃にて2時間撹拌した。冷却後、酢酸エチルにて希釈
飽和重曹水で中和した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄後、無水酢酸マグネシウムデ乾燥した。溶媒を留去し
て得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(エーテル:n−ヘキサン=5:1)にて精製し、極性の
より高いフラクションとして〔3−(3−メトキシカル
ボニルプロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−
トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(9mg,25
%)及び極性のより低いフフクションとして〔3−(3
−メトキシカルボニルプロピル)−7−エキソ−(3β
−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8−エン
ド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−
エン〕(12mg,25%)をそれぞれ得た。α−エピマー体
のスペクトルデータを以下に示す。β−エピマー体のス
ペクトルも同様である。
IR(neat):3410,2980,2940,1742cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.57(m,2H),5.36(bs,1H),3.69(s,
3H),0.89(m,3H). Mass m/z(%):346(M+−H2O,13),302(36),149,
(100),79(12),43(86). 参考例 19 参考例18と同様の方法で〔3−(3−メトキシカルボニ
ルプロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−4−
メチル−トランス−1−ノネン−6−イニル)−8−エ
ンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2
−エン〕(44%)及びそのβ−エピマー体(31%)を合
成した。α−エピマー体のスペクトルデータを示す。β
−エピマー体のスペクトルも同様である。
3H),0.89(m,3H). Mass m/z(%):346(M+−H2O,13),302(36),149,
(100),79(12),43(86). 参考例 19 参考例18と同様の方法で〔3−(3−メトキシカルボニ
ルプロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−4−
メチル−トランス−1−ノネン−6−イニル)−8−エ
ンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2
−エン〕(44%)及びそのβ−エピマー体(31%)を合
成した。α−エピマー体のスペクトルデータを示す。β
−エピマー体のスペクトルも同様である。
IR(neat):3400,2930,2870,1740cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.63(m,2H),5.30(bs,1H),3.30(s,
3H),1.23−0.88(m,6H). 参考例 20 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−
ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(9mg,0.025mmol)
をメタノール(0.2ml)に溶解した。0℃で、10%水酸
化ナトリウム水溶液(0.2ml)を加え、一昼夜撹拌し
た。0℃で、1N塩酸溶液にて中和した後、メタノールを
留去し、残留水層を1N塩酸溶液でpH4とした。酢酸エチ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して〔3−(3−カルボキシ
プロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トラン
ス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(8.9mg,100%)を得た。
3H),1.23−0.88(m,6H). 参考例 20 アルゴン雰囲気下、〔3−(3−メトキシカルボニルプ
ロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−
ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(9mg,0.025mmol)
をメタノール(0.2ml)に溶解した。0℃で、10%水酸
化ナトリウム水溶液(0.2ml)を加え、一昼夜撹拌し
た。0℃で、1N塩酸溶液にて中和した後、メタノールを
留去し、残留水層を1N塩酸溶液でpH4とした。酢酸エチ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して〔3−(3−カルボキシ
プロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トラン
ス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(8.9mg,100%)を得た。
IR(neat):3375,2970,2860,1720,1125cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.60(m,2H),5.35(bs,1H),0.90(t,
3H). Mass m/z(%):332(M+−H2O,10),288(18),218(1
0),208(13),138(50),91(53),43(100). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、〔3−(3−
カルボキシプロピル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキ
シ−トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕を得
た。スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)は〔3−(3−
カルボキシプロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキ
シ−トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕のデ
ータと同様である。
3H). Mass m/z(%):332(M+−H2O,10),288(18),218(1
0),208(13),138(50),91(53),43(100). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、〔3−(3−
カルボキシプロピル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキ
シ−トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕を得
た。スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)は〔3−(3−
カルボキシプロピル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキ
シ−トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕のデ
ータと同様である。
参考例 21 参考例20と同様の方法で〔3−(3−カルボキシプロピ
ル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−4−メチル−
トランス−1−ノネン−6−イニル)−8−エンド−ヒ
ドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(97%)及びそのβ−エピマー体(98%)を合成した。
α−エピマー体のスペクトルデータを示す。β−エピマ
ー体のスペクトルも同様である。
ル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−4−メチル−
トランス−1−ノネン−6−イニル)−8−エンド−ヒ
ドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(97%)及びそのβ−エピマー体(98%)を合成した。
α−エピマー体のスペクトルデータを示す。β−エピマ
ー体のスペクトルも同様である。
IR(neat):3370,2940,2850,1710,1450cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.60(m,2H),5.30(bs,1H),1.03−0.
88(t,6H). 参考例 22 アルゴン雰囲気下、3−カルボキシプロピルトリフェニ
ルホスホニウムブロミド(1.1g,2.5mmol)をTHF(10m
l)に懸濁した。t−ブトキシカリウム(560mg,5mmol)
のTHF溶液(10ml)を加え、室温で20分間撹拌した。そ
こへ〔3−ホルミル−7−エキソ−t−ブチルジメチル
シリルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(200mg,0.5mmol)のTHF溶液(5ml)を滴下し、室温で3
0分間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、
反応液を10%塩酸水溶液にてpH5〜4に調整し、酢酸エ
チルにより抽出した。有機層は、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去した。残留物にエーテルを加え、
0℃にてジアゾメタンのエーテル溶液を加えた。薄層ク
ロマトグラフィーにより〔3−(4−カルボキシ−1−
ブテニル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオ
キシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕のスポッ
トの消失を確認後、少量のギ酸を加え、ただちに飽和重
曹水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後溶媒を留去して得られた残留物を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:
4)により精製し、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブチニル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(210
mg,88%)を得た。(Z)−体及び(E)−体の異性体
比は2:1であった。
88(t,6H). 参考例 22 アルゴン雰囲気下、3−カルボキシプロピルトリフェニ
ルホスホニウムブロミド(1.1g,2.5mmol)をTHF(10m
l)に懸濁した。t−ブトキシカリウム(560mg,5mmol)
のTHF溶液(10ml)を加え、室温で20分間撹拌した。そ
こへ〔3−ホルミル−7−エキソ−t−ブチルジメチル
シリルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(200mg,0.5mmol)のTHF溶液(5ml)を滴下し、室温で3
0分間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、
反応液を10%塩酸水溶液にてpH5〜4に調整し、酢酸エ
チルにより抽出した。有機層は、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去した。残留物にエーテルを加え、
0℃にてジアゾメタンのエーテル溶液を加えた。薄層ク
ロマトグラフィーにより〔3−(4−カルボキシ−1−
ブテニル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオ
キシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕のスポッ
トの消失を確認後、少量のギ酸を加え、ただちに飽和重
曹水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後溶媒を留去して得られた残留物を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:
4)により精製し、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブチニル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(210
mg,88%)を得た。(Z)−体及び(E)−体の異性体
比は2:1であった。
IR(neat):2950,2860,1740,1430,1255,1200,1030,835c
m-1. NMR(CDCl3)δ:6.12(d,J=16.5Hz,1/3H,trans),5.96
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.63(bs,1H),5.30(m,1H),
4.65(bs,1H),3.70(s,3H),0.90(s,9H). Mass m/z(%):479(M+−1,trace),337(12),245
(14),213(9),159(34),85(100),57(17). 実施例 2 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(160
mg,0.33mmol)をTHF(0.5ml)に溶解した。テトラ−n
−ブチルアンモニウムフルオリド(1MTHF溶液、0.68ml,
0.68mmol)を加え室温にて一昼夜撹拌した。飽和食塩水
を加えた後、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:1)に
て精製し〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニ
ル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−テ
トラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕
ノナ−2−エン〕(108mg,90%)を得た。
m-1. NMR(CDCl3)δ:6.12(d,J=16.5Hz,1/3H,trans),5.96
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.63(bs,1H),5.30(m,1H),
4.65(bs,1H),3.70(s,3H),0.90(s,9H). Mass m/z(%):479(M+−1,trace),337(12),245
(14),213(9),159(34),85(100),57(17). 実施例 2 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(160
mg,0.33mmol)をTHF(0.5ml)に溶解した。テトラ−n
−ブチルアンモニウムフルオリド(1MTHF溶液、0.68ml,
0.68mmol)を加え室温にて一昼夜撹拌した。飽和食塩水
を加えた後、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:1)に
て精製し〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニ
ル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−テ
トラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕
ノナ−2−エン〕(108mg,90%)を得た。
IR(neat):3490,2950,2880,1740,1435,1200,1020,865c
m-1. NMR(CDCl3)δ:6.30(d,J=16.5Hz,1/3H,trans),5.83
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.60(bs,1H),5.30(m,1H),
4.68(m,1H),3.70(s,3H). Mass m/z(%):364(M+trace),280(15),199
(5),117(11),85(100),28(29). 参考例 23 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−
エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(108mg,0.3mmol)をジメチ
ルスルホキシド(2ml)に溶解した。トリエチルアミン
(0.25ml,1.8mmol)及び三酸化イオウ・ピリジン錯体
(286mg,1.8mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)
を加え、室温にて1時間10分撹拌した。氷水を加え、酢
酸エチルで抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、〔3−(4
−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7−エキソ−
ホルミル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(106mg,100
%)を得た。一方、水素化ナトリウム(油状60%,18mg,
0.45mmol)を、アルゴン雰囲気下、ペンタンで洗浄し、
THF(5ml)に懸濁させた。ジメチル(2−オキソヘプチ
ル)ホスホネート(133mg,0.6mmol)のTHF溶液(5ml)
を加え、室温で40分間撹拌した。〔3−(4−メトキシ
カルボニル−1−ブテニル)−7−エキソ−ホルミル−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(106mg)のTHF溶液(5
ml)を加え、室温で40分間撹拌した。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えた後、エーテルで抽出し、エーテル層
を飽和食塩水洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去して得られた残留物を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:3)
により精製し〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブ
テニル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス−1−
オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキ
シ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(112m
g,84%)を得た。
m-1. NMR(CDCl3)δ:6.30(d,J=16.5Hz,1/3H,trans),5.83
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.60(bs,1H),5.30(m,1H),
4.68(m,1H),3.70(s,3H). Mass m/z(%):364(M+trace),280(15),199
(5),117(11),85(100),28(29). 参考例 23 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−
エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(108mg,0.3mmol)をジメチ
ルスルホキシド(2ml)に溶解した。トリエチルアミン
(0.25ml,1.8mmol)及び三酸化イオウ・ピリジン錯体
(286mg,1.8mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)
を加え、室温にて1時間10分撹拌した。氷水を加え、酢
酸エチルで抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、〔3−(4
−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7−エキソ−
ホルミル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(106mg,100
%)を得た。一方、水素化ナトリウム(油状60%,18mg,
0.45mmol)を、アルゴン雰囲気下、ペンタンで洗浄し、
THF(5ml)に懸濁させた。ジメチル(2−オキソヘプチ
ル)ホスホネート(133mg,0.6mmol)のTHF溶液(5ml)
を加え、室温で40分間撹拌した。〔3−(4−メトキシ
カルボニル−1−ブテニル)−7−エキソ−ホルミル−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(106mg)のTHF溶液(5
ml)を加え、室温で40分間撹拌した。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えた後、エーテルで抽出し、エーテル層
を飽和食塩水洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去して得られた残留物を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:3)
により精製し〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブ
テニル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス−1−
オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキ
シ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(112m
g,84%)を得た。
IR(neat):2940,2880,1740,1700,1675,1625,1430,120
0,1030cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.81(m,1H),6.22(dd,J=16.5,3Hz,1
H),6.08(d,J=15Hz,1/3H trans),5.82(d,J=12Hz,
2/3H cis),5.56(bs,1H),5.30(m,1H),4.62(m,1
H),3.70(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):376(8),332(12),85(100),57
(18),55(13),41(2). 参考例 24 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−(3−オキサ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(110mg,0.24mmol)をメタノール(2ml)に溶解した。
−25℃に冷却し、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを加え
た。−25℃で30分間撹拌後少量のアセトン及び飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え、減圧下、メタノール及びア
セトンを留去した。残留水層を酢酸エチルで抽出し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して〔3−
(4−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7−エキ
ソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(112mg,100%)を得
た。
0,1030cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.81(m,1H),6.22(dd,J=16.5,3Hz,1
H),6.08(d,J=15Hz,1/3H trans),5.82(d,J=12Hz,
2/3H cis),5.56(bs,1H),5.30(m,1H),4.62(m,1
H),3.70(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):376(8),332(12),85(100),57
(18),55(13),41(2). 参考例 24 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−(3−オキサ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕
(110mg,0.24mmol)をメタノール(2ml)に溶解した。
−25℃に冷却し、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを加え
た。−25℃で30分間撹拌後少量のアセトン及び飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え、減圧下、メタノール及びア
セトンを留去した。残留水層を酢酸エチルで抽出し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して〔3−
(4−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7−エキ
ソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(112mg,100%)を得
た。
IR(neat):3450,2900,2850,1738,1430,1200,1020cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.11(d,J=16.5Hz,1/3H,trans),5.82
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.58(m,3H),5.25(m,1H),
4.68(bs,1H),3.70(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):422(M+−H2O,trace),358(10),314
(11),234(31),150(21),85(100),41(42). 参考例 25 〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7
−エキソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニ
ル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス
−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン(112mg,0.24mmo
l)を酢酸:水:THF(2ml)(3:1:1,容積比)混合液に溶
解し、50℃にて4時間30分撹拌した。冷後酢酸エチルに
て希釈後飽和重曹水で中和した。酢酸エチル層を飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(エーテル:n−ヘキサン=5:1)にて精製
し、極性のよい高いフラクションとして〔3−(4−メ
トキシカルボニル−1−ブテニル)−7−エキソ−(3
α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8−エ
ンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2
−エン〕(34mg,38%)及び極性のよい低いフラクショ
ンとして〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニ
ル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキシ−トランス−1
−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(26mg,26%)をそれぞ
れ得た。α−エピマー体のスペクトルデータを以下に示
す。β−エピマー体のスペクトルも同様である。
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.58(m,3H),5.25(m,1H),
4.68(bs,1H),3.70(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):422(M+−H2O,trace),358(10),314
(11),234(31),150(21),85(100),41(42). 参考例 25 〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7
−エキソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニ
ル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス
−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン(112mg,0.24mmo
l)を酢酸:水:THF(2ml)(3:1:1,容積比)混合液に溶
解し、50℃にて4時間30分撹拌した。冷後酢酸エチルに
て希釈後飽和重曹水で中和した。酢酸エチル層を飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(エーテル:n−ヘキサン=5:1)にて精製
し、極性のよい高いフラクションとして〔3−(4−メ
トキシカルボニル−1−ブテニル)−7−エキソ−(3
α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8−エ
ンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2
−エン〕(34mg,38%)及び極性のよい低いフラクショ
ンとして〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニ
ル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキシ−トランス−1
−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(26mg,26%)をそれぞ
れ得た。α−エピマー体のスペクトルデータを以下に示
す。β−エピマー体のスペクトルも同様である。
IR(neat):3400,2950,2880,1745,1440,740cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.06(d,J=16Hz,1/3H,trans),5.81
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.53(m,3H),5.25(m,1H),
3.70(s,3H),0.86(t,3H). Mass m/z(%):358(M+−H2O,19),314(11),244,
(28),227(9),117(45)91(59),43(100). 参考例 26 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−ト
ランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(30mg,0.08
mmo)をメタノール(0.7ml)に溶解した。0℃で、10%
水酸化ナトリウム水溶液(0.7ml)を加え、一昼夜撹拌
した。0℃で、1N塩酸溶液にて中和した後、メタノール
を留去し、残留水層を1N塩酸溶液でpH4とした。酢酸エ
チルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去して〔3−(4−カルボキシ
−1−ブテニル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−
トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(28mg,97
%)を得た。
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.53(m,3H),5.25(m,1H),
3.70(s,3H),0.86(t,3H). Mass m/z(%):358(M+−H2O,19),314(11),244,
(28),227(9),117(45)91(59),43(100). 参考例 26 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニル−
1−ブテニル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−ト
ランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−
シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(30mg,0.08
mmo)をメタノール(0.7ml)に溶解した。0℃で、10%
水酸化ナトリウム水溶液(0.7ml)を加え、一昼夜撹拌
した。0℃で、1N塩酸溶液にて中和した後、メタノール
を留去し、残留水層を1N塩酸溶液でpH4とした。酢酸エ
チルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去して〔3−(4−カルボキシ
−1−ブテニル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−
トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(28mg,97
%)を得た。
IR(neat):3375,2950,2870,1720,1440,1120,965cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.10(d,J=16Hz,1/3H,trans),5.85
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.63(m,3H),5.40−5.13(m,
3H),0.90(t,3H). Mass m/z(%):344(M+−H2O,12),300(12),230(1
2),220(15),150(48),91(56),43(100). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、〔3−(4−
カルボキシ−1−ブテニル)−7−エキソ−(3β−ヒ
ドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8−エンド−
ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕を得た。スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)は、
〔3−(4−カルボキシ−1−ブテニル)−7−エキソ
−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エン〕のデータと同様である。
(d,J=12Hz,2/3H,cis),5.63(m,3H),5.40−5.13(m,
3H),0.90(t,3H). Mass m/z(%):344(M+−H2O,12),300(12),230(1
2),220(15),150(48),91(56),43(100). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、〔3−(4−
カルボキシ−1−ブテニル)−7−エキソ−(3β−ヒ
ドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8−エンド−
ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕を得た。スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)は、
〔3−(4−カルボキシ−1−ブテニル)−7−エキソ
−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エン〕のデータと同様である。
参考例 27 〔3−(4−メトキシカルボニル−1−ブテニル)−7
−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(190mg,0.4mmol)をメタ
ノール(5ml)に溶解した。10%パラジウム/炭素(60m
g)のメタノール溶液(5ml)を加え、水素雰囲気下、室
温で1時間30分撹拌した。触媒を濾別し、濾液の溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(エ
ーテル:n−ヘキサン=1:8)により精製し、〔3−(4
−メトキシカルボニルブチル)−7−エキソ−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−8−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(187mg,97%)を得た。
−エキソ−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−8
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(190mg,0.4mmol)をメタ
ノール(5ml)に溶解した。10%パラジウム/炭素(60m
g)のメタノール溶液(5ml)を加え、水素雰囲気下、室
温で1時間30分撹拌した。触媒を濾別し、濾液の溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(エ
ーテル:n−ヘキサン=1:8)により精製し、〔3−(4
−メトキシカルボニルブチル)−7−エキソ−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−8−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(187mg,97%)を得た。
IR(neat):2930,2850,1740,1200,835cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.35(bs,1H),4.63(bs,1H),3.66
(s,3H),0.90(s,9H). Mass m/z(%):339(8),247(12),159(28),85
(100),75(17). 実施例 3 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−t−ブチルシメチルシリルオキシ
メチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シ
ス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(93mg,0.19mm
ol)をTHF(3ml)に溶解した。テトラ−n−ブチルアン
モニウムフルオリド(1M THF溶解、0.48ml,0.48mmol)
を加え、室温で13時間撹拌した。飽和食塩水を加えた
後、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=3:1)にて精製
し〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−7−エキ
ソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(62mg,89%)を得た。
(s,3H),0.90(s,9H). Mass m/z(%):339(8),247(12),159(28),85
(100),75(17). 実施例 3 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−t−ブチルシメチルシリルオキシ
メチル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シ
ス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(93mg,0.19mm
ol)をTHF(3ml)に溶解した。テトラ−n−ブチルアン
モニウムフルオリド(1M THF溶解、0.48ml,0.48mmol)
を加え、室温で13時間撹拌した。飽和食塩水を加えた
後、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=3:1)にて精製
し〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−7−エキ
ソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(62mg,89%)を得た。
IR(neat):3450,2930,2850,1740,1020cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.35(bs,1H),4.65(bs,1H),3.66
(s,3H). Mass m/z(%):366(M+,trace),282(5),85(10
0),65(11),57(10),41(11). 参考例 28 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−
テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(51mg,0.14mmol)をジメチルスル
ホキシド(3ml)に溶解した。トリエチルアミン(0.12m
l,0.84mmol)及び三酸化イオウ・ピリジン錯体(133mg,
0.84mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)を加え
室温にて1時間撹拌した。氷水を加え、酢酸エチルで抽
出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、〔3−(4−メトキシカ
ルボニルブチル)−7−エキソ−ホルミル−8−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(53mg,100%)を得た。
(s,3H). Mass m/z(%):366(M+,trace),282(5),85(10
0),65(11),57(10),41(11). 参考例 28 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−ヒドロキシメチル−8−エンド−
テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(51mg,0.14mmol)をジメチルスル
ホキシド(3ml)に溶解した。トリエチルアミン(0.12m
l,0.84mmol)及び三酸化イオウ・ピリジン錯体(133mg,
0.84mmol)のジメチルスルホキシド溶液(2ml)を加え
室温にて1時間撹拌した。氷水を加え、酢酸エチルで抽
出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、〔3−(4−メトキシカ
ルボニルブチル)−7−エキソ−ホルミル−8−エンド
−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.
0〕ノナ−2−エン〕(53mg,100%)を得た。
一方、水素化ナトリウム(油状60%、9.2mg,0.23mmol)
をペンタンで洗浄し、THF(2ml)に懸濁した。ジメチル
(2−オキソへプチル)ホスホネート(62mg,0.28mmo
l)のTHF溶液(3ml)を加え、室温40分間撹拌した。
〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−7−エキソ
−ホルミル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(53mg)
のTHF溶液(3ml)を加え室温にて1時間撹拌した。飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、エーテルで抽出
し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去して得られる残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキ
サン=1:3)により精製し、〔3−(4−メトキシカル
ボニルブチル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(51mg,80%)を得た。
をペンタンで洗浄し、THF(2ml)に懸濁した。ジメチル
(2−オキソへプチル)ホスホネート(62mg,0.28mmo
l)のTHF溶液(3ml)を加え、室温40分間撹拌した。
〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−7−エキソ
−ホルミル−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(53mg)
のTHF溶液(3ml)を加え室温にて1時間撹拌した。飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、エーテルで抽出
し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を留去して得られる残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキ
サン=1:3)により精製し、〔3−(4−メトキシカル
ボニルブチル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニ
ルオキシ−シス−ビシシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エ
ン〕(51mg,80%)を得た。
IR(neat):2930,2880,1740,1700,1675,1625,1200,1030
cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.83(m,1H),6.20(dd,J=15,3.5Hz,1
H),5.33(bs,1H),4.65(m,1H),3.70(s,3H). Mass m/z(%):376(10),312(13),85(100),67
(16),57(20),43(21),41(20). 参考例 29 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス−1−オ
クテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(120mg,
0.26mmol)をメタノール(5ml)に溶解した。−25℃に
冷却し、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを加えた。−25
℃で30分間撹拌した後、過剰のアセトンを加えた。室温
にもどした後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減
圧下、メタノール及びアセトンを留去した。残留水層を
酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去して〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−7−エキソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−
オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(118
mg,98%)を得た。
cm-1. NMR(CDCl3)δ:6.83(m,1H),6.20(dd,J=15,3.5Hz,1
H),5.33(bs,1H),4.65(m,1H),3.70(s,3H). Mass m/z(%):376(10),312(13),85(100),67
(16),57(20),43(21),41(20). 参考例 29 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−(3−オキソ−トランス−1−オ
クテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(120mg,
0.26mmol)をメタノール(5ml)に溶解した。−25℃に
冷却し、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを加えた。−25
℃で30分間撹拌した後、過剰のアセトンを加えた。室温
にもどした後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、減
圧下、メタノール及びアセトンを留去した。残留水層を
酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を留去して〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−7−エキソ−(3−ヒドロキシ−トランス−1−
オクテニル)−8−エンド−テトラヒドロピラニルオオ
キシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(118
mg,98%)を得た。
IR(neat):3450,2930,2850,1740,1020cm-1. NMR(CDCl3)δ:5.58(m,2H),5.31(bs,1H),4.67(b
s,1H),3.66(s,3H),0.86(t,3H). Mass m/z(%):444(M+−H2O,trace),316(13),85
(100),67(12),57(18),55(10),43(17),41(2
0). 参考例 30 〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−7−エキソ
−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(115mg,0.25mmol)を酢
酸:水:THF(2.5ml)(3:1:1,容積比)混合液に溶解
し、50−55℃で4時間撹拌した。冷後酢酸エチルにて希
釈後、飽和重曹水で中和した。酢酸エチル層に飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(エーテル)にて精製し、極性のより高いフラ
クションとして〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1
−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(42mg,44%)及び極性
のより低いフラクションとして〔3−(4−メトキシカ
ルボニルブチル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキシ−
トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(29mg,31
%)をそれぞれ得た。α−エピマー体のスペクトルデー
タを以下に示す。β−エピマー体のスペクトルも同様で
ある。
s,1H),3.66(s,3H),0.86(t,3H). Mass m/z(%):444(M+−H2O,trace),316(13),85
(100),67(12),57(18),55(10),43(17),41(2
0). 参考例 30 〔3−(4−メトキシカルボニルブチル)−7−エキソ
−(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−8
−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシク
ロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(115mg,0.25mmol)を酢
酸:水:THF(2.5ml)(3:1:1,容積比)混合液に溶解
し、50−55℃で4時間撹拌した。冷後酢酸エチルにて希
釈後、飽和重曹水で中和した。酢酸エチル層に飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(エーテル)にて精製し、極性のより高いフラ
クションとして〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1
−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシ
クロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(42mg,44%)及び極性
のより低いフラクションとして〔3−(4−メトキシカ
ルボニルブチル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキシ−
トランス−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ
−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(29mg,31
%)をそれぞれ得た。α−エピマー体のスペクトルデー
タを以下に示す。β−エピマー体のスペクトルも同様で
ある。
IR(neat):3400,2940,2870,1740cm-1. NMR(CDCl3):5.56(m,2H),5.33(bs,1H),4.10(m,1
H),3.68(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):358(M+−H2O,21),342(18),329
(9),316(75),289(15),261(11),246(32),199
(17),193(20),179(27). 参考例 31 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−
1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビ
シクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(38mg,0.1mmol)を
メタノール(1ml)に溶解した。0℃で、10%水酸化ナ
トリウム水溶液(1ml)を加え、一昼夜撹拌した。0℃
で、1N塩酸溶液にて中和した後、メタノールを留去し、
残留水層を1N塩酸溶液でpH4とした。酢酸エチルで抽出
し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去して〔3−(4−カルボキシブチル)
−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オ
クテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(35mg,96%)を得た。
H),3.68(s,3H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):358(M+−H2O,21),342(18),329
(9),316(75),289(15),261(11),246(32),199
(17),193(20),179(27). 参考例 31 アルゴン雰囲気下、〔3−(4−メトキシカルボニルブ
チル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−
1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビ
シクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(38mg,0.1mmol)を
メタノール(1ml)に溶解した。0℃で、10%水酸化ナ
トリウム水溶液(1ml)を加え、一昼夜撹拌した。0℃
で、1N塩酸溶液にて中和した後、メタノールを留去し、
残留水層を1N塩酸溶液でpH4とした。酢酸エチルで抽出
し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を留去して〔3−(4−カルボキシブチル)
−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オ
クテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕(35mg,96%)を得た。
IR(neat):3350,2950,2850,1720,1450cm-1. NMR(CDCl3):5.60(m,2H),5.33(bs,1H),3.73(s,3
H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):346(M+−H2O,10),302(17),232(1
4),91(50),43(100). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、〔3−(4−
カルボキシブチル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキシ
−トランス−1−オクテニル)−8−ヒドロキシ−シス
−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕を得た。データ
(IR,NMR,Mass)は〔3−(4−カルボキシブチル)−
7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オク
テニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エンのデータと同様である。
H),0.88(t,3H). Mass m/z(%):346(M+−H2O,10),302(17),232(1
4),91(50),43(100). 同様に、15β−エピマー体も加水分解し、〔3−(4−
カルボキシブチル)−7−エキソ−(3β−ヒドロキシ
−トランス−1−オクテニル)−8−ヒドロキシ−シス
−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン〕を得た。データ
(IR,NMR,Mass)は〔3−(4−カルボキシブチル)−
7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オク
テニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ
〔4.3.0〕ノナ−2−エンのデータと同様である。
試 験 例 以上の方法で合成された3−(4−カルボキシ−1−ブ
テニル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−
ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン、3−(3−カルボ
キシプロピル)−7−エキソ−3−(3α−ヒドロキシ
−4−メチル−トランス−1−ノネン−6−イニル)−
8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エンの及び3−(4−カルボキシブチル)−7
−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテ
ニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エンは以下に示すうさぎ血小板凝集抑
制作用を示す。
テニル)−7−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス
−1−オクテニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−
ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−2−エン、3−(3−カルボ
キシプロピル)−7−エキソ−3−(3α−ヒドロキシ
−4−メチル−トランス−1−ノネン−6−イニル)−
8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノ
ナ−2−エンの及び3−(4−カルボキシブチル)−7
−エキソ−(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテ
ニル)−8−エンド−ヒドロキシ−シス−ビシクロ〔4.
3.0〕ノナ−2−エンは以下に示すうさぎ血小板凝集抑
制作用を示す。
尚、血小板凝集剤としては、表1に示す如く、ADPない
しコラーゲンを用いた。
しコラーゲンを用いた。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 〔式中、R1はCO2R3基(基中、R3は水素原子又は炭素数
1〜12の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表わす。)を
表わし、Aは −CH2CH2CH2− −CH2CH2CH2CH2− 又は −CH=CHCH2CH2− であり、R2は水素原子、トリメチルシリル基、トリエチ
ルシリル基、トリベンジルシリル基、t−ブチルジメチ
ルシリル基、ジフェニル−t−ブチルシリル基、p−メ
トキシベンジル基、1−メチル−1−メトキシエチル
基、ベンジル基、テトラヒドロピラニル基、1−エトキ
シエチル基又はメトキシメチル基を表わす。尚、Aで表
わされる置換基中の二重結合は、E又はZ又はそれらの
混合物である〕。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61041690A JPH0784409B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61041690A JPH0784409B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62201841A JPS62201841A (ja) | 1987-09-05 |
| JPH0784409B2 true JPH0784409B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=12615420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61041690A Expired - Lifetime JPH0784409B2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-02-28 | シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノネン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0784409B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0134153B1 (en) * | 1983-08-19 | 1989-04-19 | Sagami Chemical Research Center | Bicyclo[3.3.0]octane derivative and preparation thereof |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP61041690A patent/JPH0784409B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62201841A (ja) | 1987-09-05 |
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